JP2014225362A - 集束イオンビーム装置、集束イオンビーム装置を用いた試料加工方法、及び試料加工プログラム - Google Patents
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Abstract
Description
・ 観察及び加工のための視野範囲内の、加工パターンと干渉しない試料上の位置に、所定の加工位置補正用マークを形成し、
・ 集束イオンビームを用いた加工パターンの加工開始前に、この加工位置補正用マークの位置を検出して検出用マーク位置として記憶し、
・ 加工パターンの加工途中でも、この加工位置補正用マークの位置の検出を行い、この検出したマーク位置と先に記憶されている検出用マーク位置とから試料上おける加工パターンの加工位置の位置ずれ量を算出し、
・ この位置ずれ量に応じて、加工パターンを加工する集束イオンビームのビーム照射位置を制御する、
ようになっている。
・ 大領域における加工パターンの加工開始位置を含む視野範囲内で試料加工された加工パターン又は加工パターン部分から、当該加工パターン又は当該加工パターン部分における延設方向の先端側の加工パターン部の画像を位置合わせ用の基準画像として取得し、
・ 視野範囲に、大領域内の次の加工パターン又は次の加工パターン部分の加工位置が含まれるように、予め登録された試料加工情報に基づいて試料ステージを移動させ、
・ 移動した試料上から、加工パターン又は加工パターン部分における延設方向の先端側の加工パターン部の画像を位置合わせ用の比較画像として取得し、
・ 基準画像の加工パターン又は加工パターン部分における延設方向の先端側の加工パターン部の画像と、比較画像の加工パターン又は加工パターン部分における延設方向の先端側の加工パターン部の画像とを対照して、視野範囲内における、大領域内の次の加工パターン又は次の加工パターン部分の加工位置を補正する、
ことを特徴とする。
上記した以外の、課題、構成及び効果は、以下の実施の形態の説明により明らかにされる。
本実施の形態では、試料上の大領域に高精度な連続反復加工により同一の加工パターンを繰り返し複数加工する試料加工方法について、図面とともに説明する。
図5は、加工パターンの連続反復加工による試料加工のイメージ図である。
したがって、大領域に対してのV字形状の溝パターン22の連続反復加工においては、この最初のV字形状の溝パターン22及びその近傍の画像が最初の位置合わせ用の基準画像として取得されることになる。
・ 試料加工によって作製された加工パターンを含む視野範囲で位置合わせ用の基準画像の取得、
・ 作製された加工パターンを、その加工位置から加工間隔だけ移動させて、次の加工パターンの加工位置をこの加工位置に位置させるための試料ステージの移動、
・ 加工間隔だけ移動させた後の加工パターンについて、加工パターンを含む視野範囲で位置合わせ用の比較画像の取得、
・ 位置合わせ用の基準画像と位置合わせ用の比較画像との対照に基づき、試料ステージの移動誤差(位置再現性)やビームドリフトがないかを確認し、誤差がある場合には、この誤差を解消するように試料ステージ又は加工のための視野範囲を移動、
・ 次の加工パターンの加工、
を、事前に登録した加工終了条件になるまで繰り返し実行することを特徴とする。
本実施の形態では、試料上の大領域に高精度な一連一体加工により観察又は加工のための視野範囲内に一度に収まらない大きさの加工パターンを加工する試料加工方法について、図面とともに説明する。
走査型電子顕微鏡付集束イオンビーム装置30は、真空筐体ブロック100に、FIBカラム110、試料室120に加えて、SEMカラム130が備えられ、FIB装置部31とSEM装置部32とを有する集束イオンビーム装置になっている。
図7では、所定の片長さ及び厚さの薄厚正方形板試料25の試料上に、所定の溝幅、溝深さ、溝長さを有する断面凹形状の直線溝パターン26を、試料上の所定位置から所定方向に延設してなる加工パターンを形成する場合を例に、説明する。
20 試料、 21 薄厚円板試料、 22 V字形状の溝パターン、
25 薄厚正方形板試料、 26 直線溝パターン、 27 加工断面、
30 走査型電子顕微鏡付集束イオンビーム装置、 31 FIB装置部、
32 SEM装置部、 100 真空筐体ブロック、 110 FIBカラム、
111 イオン源、 112 イオンビーム光学系、 120 試料室、
121 試料ステージ、 122 二次粒子検出器、 130 SEMカラム、
200 制御部、 211 イオン源制御部、 212 イオンビーム制御部、
221 ステージ制御部、 300 コンピュータ部、 301 画像制御部、
302 記憶部、 303 マーク検出部、 304 制御演算部、
310 表示部、 320 操作入力部、 510 位置合わせ用の基準画像、
520 位置合わせ用の比較画像、 601 大領域、
610 FIB視野範囲、 611 加工開始位置、 612 加工済部分、
620 SEM視野範囲、 621 分割点。
Claims (6)
- 試料ステージに載置された試料上をイオンビームを集束して走査して試料観察及び試料加工を行う集束イオンビーム装置を用いて、イオンビームの走査による観察又は加工のための視野範囲内に一度に収まらない試料上の大領域に対して、試料ステージを移動して、同一形状の加工パターンを繰り返し加工したり、又は、視野範囲内に一度に収まらない大きさの加工パターンを加工するための試料加工方法であって、
前記大領域における前記加工パターンの加工開始位置を含む視野範囲内で試料加工された加工パターン又は加工パターン部分から、当該加工パターン又は当該加工パターン部分における延設方向の先端側の加工パターン部の画像を位置合わせ用の基準画像として取得する基準画像取得工程、
前記視野範囲に、前記大領域内の次の加工パターン又は次の加工パターン部分の加工位置が含まれるように、予め登録された試料加工情報に基づいて前記試料ステージを移動させる試料移動工程、
前記試料移動工程の実行によって移動した試料上から、前記加工パターン又は前記加工パターン部分における延設方向の先端側の加工パターン部の画像を位置合わせ用の比較画像として取得する比較画像取得工程、
前記基準画像の前記加工パターン又は前記加工パターン部分における延設方向の先端側の加工パターン部の画像と、前記比較画像の前記加工パターン又は前記加工パターン部分における延設方向の先端側の加工パターン部の画像とを対照して、前記試料移動工程の前記視野範囲に対しての、前記大領域内の次の加工パターン又は次の加工パターン部分の加工位置を補正する位置合わせ工程、
を有することを特徴とする集束イオンビーム装置を用いた試料加工方法。 - 前記集束イオンビーム装置として、試料の断面加工のための集束イオンビーム装置部と試料の断面観察のための走査形電子顕微鏡部とを備えた集束イオンビーム装置を用いる
ことを特徴とする請求項1に記載の集束イオンビーム装置を用いた試料加工方法。 - イオンビームの走査による観察又は加工のための視野範囲内に一度に収まらない試料上の大領域に対して、試料ステージを移動して、同一形状の加工パターンを繰り返し加工する試料加工方法では、
前記比較画像取得工程では、前記視野範囲を予め登録された試料加工情報に基づいて移動させて位置合わせ用の比較画像を取得する
ことを特徴とする請求項1に記載の集束イオンビーム装置を用いた試料加工方法。 - イオンビームの走査による観察又は加工のための視野範囲内に一度に収まらない試料上の大領域に対して、視野範囲内に一度に収まらない大きさの加工パターンを加工する試料加工方法では、
前記試料移動工程では、前記視野範囲に前記加工パターン又は前記加工パターン部分における延設方向の先端側の加工パターン部が残るようにして、予め登録された試料加工情報に基づいて前記試料ステージを移動させる
ことを特徴とする請求項1に記載の集束イオンビーム装置を用いた試料加工方法。 - 試料ステージに載置された試料上をイオンビームを集束して走査して試料観察及び試料加工を行う集束イオンビーム装置であって、
イオンビームの走査による観察又は加工のための視野範囲内に一度に収まらない試料上の大領域に作製される加工パターンの、加工開始位置を含む視野範囲内で試料加工された加工パターン又は加工パターン部分から、当該加工パターン又は当該加工パターン部分における延設方向の先端側の加工パターン部の画像を位置合わせ用の基準画像として取得する基準画像取得部と、
前記視野範囲に、前記大領域内の次の加工パターン又は次の加工パターン部分の加工位置が含まれるように、予め登録された試料加工情報に基づいて前記試料ステージを移動させる試料移動部と、
前記試料移動部によって移動された試料上から、前記加工パターン又は前記加工パターン部分における延設方向の先端側の加工パターン部の画像を位置合わせ用の比較画像として取得する比較画像取得部と、
前記基準画像の前記加工パターン又は前記加工パターン部分における延設方向の先端側の加工パターン部の画像と、前記比較画像の前記加工パターン又は前記加工パターン部分における延設方向の先端側の加工パターン部の画像とを対照して、前記視野範囲に対しての、前記大領域内の次の加工パターン又は次の加工パターン部分の加工位置を補正する位置合わせ部と
を備えていることを特徴とする集束イオンビーム装置。 - コンピュータに、請求項1に記載の集束イオンビーム装置を用いた試料加工方法を実行させるためのプログラム。
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