JP2014222747A - Housing cassette - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、板状物又は粘着テープに貼着された該板状物が一体となった環状フレームを複数枚収容するための収容カセットに関する。 The present invention relates to a storage cassette for storing a plurality of annular frames in which plate-like objects attached to a plate-like object or an adhesive tape are integrated.
半導体ウエーハ等の被加工物(ワーク)のダイシング加工を行う切削装置やレーザー加工装置、ワークの研削を行う研削装置、ワークの研磨を行う研磨装置等、ワークの加工を行う加工装置においては、ワークを複数枚収容可能なカセットと呼ばれる収容カセット(例えば、特許文献1及び特許文献2参照)が使用されている。 In a processing apparatus for processing a workpiece, such as a cutting apparatus or a laser processing apparatus for dicing a workpiece (workpiece) such as a semiconductor wafer, a grinding apparatus for grinding a workpiece, or a polishing apparatus for polishing a workpiece, A storage cassette called a cassette capable of storing a plurality of sheets (for example, see Patent Document 1 and Patent Document 2) is used.
収容カセットの側壁には、ガイドレールが設けられ、そのガイドレールに沿ってワークやワークがダイシングテープで支持された環状のフレームが挿入されて収容される。 A guide rail is provided on a side wall of the storage cassette, and an annular frame in which a work or a work is supported by a dicing tape is inserted and stored along the guide rail.
通常、収容カセットには、一つの開口部が設けられ、加工装置の搬送機構は、開口部に向かってまっすぐウエーハやフレームを挿入する。よって、収容カセットの置く向きに従って一つの方向からウエーハやフレームを出し入れするため、例えば、加工に用いるチャックテーブルの位置と、収容直前に行われる洗浄時に固定される洗浄テーブルとの位置が平面視においてカセットと異なる向きに配置されていても、いったんは収容カセットに向かってまっすぐ挿入できる位置にウエーハ等を搬送した後、収容カセットに収容する必要があった。このために、前述した加工装置では、スループットを向上するために、ウエーハの出し入れを効率的に行うことが望まれている。 Usually, the accommodation cassette is provided with one opening, and the transport mechanism of the processing apparatus inserts a wafer or a frame straight toward the opening. Therefore, in order to load and remove the wafer and the frame from one direction according to the direction in which the storage cassette is placed, for example, the position of the chuck table used for processing and the position of the cleaning table fixed at the time of cleaning performed immediately before storage are in plan view. Even if it is arranged in a direction different from the cassette, it has been necessary to transport the wafer or the like to a position where it can be inserted straight into the housing cassette and then accommodate it in the housing cassette. For this reason, in the processing apparatus described above, it is desired to efficiently load and unload the wafer in order to improve the throughput.
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、その目的は、ウエーハの出し入れを効率的に行うことができる収容カセットを提供することにある。 The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to provide a storage cassette capable of efficiently loading and unloading a wafer.
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の収容カセットは、板状の被加工物を複数枚収容するための収容カセットであって、互いに直交する第一の側壁と第二の側壁と、該第一の側壁と該第二の側壁とが交わる角部と対向し、2面の該側壁に対面する位置に設けられた支柱と、該側壁及び該支柱の上端に固定される天井部と、該側壁及び該支柱の下端に固定される底部と、該被加工物を出し入れする開口部と、を備え、該側壁の内側及び該支柱の内側には、該被加工物を支える複数のガイドレールが該天井部と該底部との間に所定の間隔で形成されており、該開口部は、該第一の側壁と該支柱との間の第一の開口部と、該第二の側壁と該支柱との間の第二の開口部と、からなることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems and achieve the object, the storage cassette of the present invention is a storage cassette for storing a plurality of plate-like workpieces, and includes a first side wall and a second side that are orthogonal to each other. The side wall of the first side wall is opposite to the corner where the first side wall and the second side wall intersect, and the column is provided at a position facing the side wall of two surfaces, and fixed to the upper end of the side wall and the column. A ceiling portion, a bottom portion fixed to the lower end of the side wall and the column, and an opening through which the workpiece is taken in and out, and the workpiece is placed inside the side wall and inside the column. A plurality of supporting guide rails are formed at a predetermined interval between the ceiling and the bottom, and the opening includes a first opening between the first side wall and the column, and And a second opening between the second side wall and the support column.
また、前記収容カセットは、前記被加工物が、環状フレームの開口に板状物が粘着テープで支持されたウエーハユニットであることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the said accommodation cassette is a wafer unit with which the said to-be-processed object was supported by the opening of the annular frame with the plate-shaped object with the adhesive tape.
また、前記収容カセットは、前記支柱の前記ガイドレールは前記側壁に向かって突出していることが好ましい。 In the storage cassette, it is preferable that the guide rail of the support column protrudes toward the side wall.
また、前記収容カセットは、前記側壁の前記ガイドレールには、挿入される前記板状物を上下から挟持しつつ保持する弾性部材が配設されていることが好ましい。 In the storage cassette, it is preferable that an elastic member for holding the inserted plate-like object from above and below is disposed on the guide rail on the side wall.
本発明の収容カセットは、搬出入できる開口部が二つあるため、ウエーハ等の被加工物を加工する加工装置に設置された際に、出し入れの位置を二つ設けることが出来、二つの開口部から同時に出し入れすることができる。したがって、スムーズな出し入れの遂行が可能となり、被加工物の出し入れを効率的に行うことができる。また、二つの開口部から同時に出し入れすることができるため、加工装置のスループットの向上にもつながるという効果を奏する。 Since the housing cassette of the present invention has two openings that can be carried in and out, when installed in a processing apparatus for processing a workpiece such as a wafer, it is possible to provide two positions for loading and unloading. Can be taken in and out at the same time. Therefore, it is possible to perform smooth loading and unloading, and the workpiece can be loaded and unloaded efficiently. Further, since the two openings can be taken in and out simultaneously, there is an effect that the throughput of the processing apparatus is improved.
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. The constituent elements described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the structures described below can be combined as appropriate. Various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the scope of the present invention.
〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係る収容カセットを図面に基いて説明する。図1は、実施形態1に係る収容カセットを設置するレーザー加工装置の構成例を示す図である。図2は、実施形態1に係る収容カセットの概略の構成を示す斜視図である。図3は、図2中のIII−III線に沿う断面図である。図4は、実施形態1に係る収容カセットがウエーハユニットを収容した状態を示す断面図である。
Embodiment 1
The accommodation cassette concerning Embodiment 1 of the present invention is explained based on a drawing. FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration example of a laser processing apparatus in which an accommodation cassette according to the first embodiment is installed. FIG. 2 is a perspective view illustrating a schematic configuration of the storage cassette according to the first embodiment. 3 is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a state in which the storage cassette according to the first embodiment stores the wafer unit.
実施形態1に係る収容カセット100(図2に示す)は、板状の被加工物Wを複数枚収容するためのものであって、被加工物Wを半導体製造工程で用いられる各種の加工装置間で搬送するためのものである。 The accommodation cassette 100 (shown in FIG. 2) according to the first embodiment is for accommodating a plurality of plate-like workpieces W, and is used for various processing apparatuses that use the workpieces W in a semiconductor manufacturing process. It is for conveying between.
実施形態1では、被加工物Wは、環状フレームFの開口部に板状物としてのウエーハWaが粘着テープTで支持されたウエーハユニットである。ここで、ウエーハWaは、各種の加工装置により加工される加工対象であり、実施形態1ではシリコン、サファイア、ガリウムなどを母材とする円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハである。ウエーハWaは、表面に形成された複数のデバイスDが複数のストリートによって格子状に区画されている。ウエーハWaは、デバイスDが複数形成されている表面の反対側の裏面に粘着テープTが貼着され、粘着テープTの外縁が環状フレームFに貼着されることで、被加工物Wを構成する。 In the first embodiment, the workpiece W is a wafer unit in which a wafer Wa as a plate-like object is supported by an adhesive tape T in an opening of an annular frame F. Here, the wafer Wa is an object to be processed by various processing apparatuses. In the first embodiment, the wafer Wa is a disk-shaped semiconductor wafer or an optical device wafer having silicon, sapphire, gallium, or the like as a base material. In the wafer Wa, a plurality of devices D formed on the surface are partitioned in a lattice pattern by a plurality of streets. Wafer Wa constitutes work piece W by sticking adhesive tape T on the back surface opposite to the surface on which a plurality of devices D are formed, and attaching the outer edge of adhesive tape T to annular frame F. To do.
被加工物Wは、収容カセット100内に収容されて、例えば、加工装置としてのレーザー加工装置1(図1に示す)のカセット載置台60に載置される。なお、本発明では、板状物として、ウエーハWaの他に、樹脂により封止されたデバイスを複数有した矩形状のパッケージ基板等を用いても良い。さらに、本発明の収容カセット100は、板状物としてのウエーハWa等を環状フレームFで支持した被加工物Wを収容することなく、被加工物Wとして、ウエーハWaやパッケージ基板等を直接収容しても良い。
The workpiece W is accommodated in the
図1に示されたレーザー加工装置1は、被加工物Wを保持するチャックテーブル10と、レーザー光線照射手段20とを相対移動させることで、被加工物Wにアブレーション加工を施して、被加工物Wにレーザー加工溝を形成するものである。レーザー加工装置1は、図1に示すように、チャックテーブル10と、チャックテーブル10に保持された被加工物Wにレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段20と、レーザー光線照射手段20によりアブレーション加工が施された被加工物Wを洗浄する洗浄手段30と、収容カセット100が載置されるカセット載置台60とを含んで構成されている。
The laser processing apparatus 1 shown in FIG. 1 performs ablation processing on the workpiece W by moving the chuck table 10 holding the workpiece W and the laser beam irradiation means 20 relative to each other. A laser processed groove is formed in W. As shown in FIG. 1, the laser processing apparatus 1 is ablated by a chuck table 10, a laser
また、レーザー加工装置1は、チャックテーブル10とレーザー光線照射手段20とをX軸方向に相対移動させるX軸移動手段40と、チャックテーブル10とレーザー光線照射手段20とをY軸方向に相対移動させるY軸移動手段50と、チャックテーブル10とレーザー光線照射手段20とをZ軸方向に相対移動させる図示しないZ軸移動手段とを含んで構成されている。
The laser processing apparatus 1 also includes an X-axis moving
さらに、レーザー加工装置1は、収容カセット100から取り出されたアブレーション加工前の被加工物Wを一時的に載置する第一の仮置き手段70と、洗浄手段30により洗浄されたアブレーション加工後の被加工物Wを一時的に載置する第二の仮置き手段80とを含んで構成されている。第一の仮置き手段70は、アブレーション加工前の被加工物Wを一時的に載置する一対のレール71を含んで構成されている。第二の仮置き手段80は、洗浄後の被加工物Wを一時的に載置する一対のレール81を含んで構成されている。また、レーザー加工装置1は、収容カセット100からアブレーション加工前の被加工物Wを取り出して第一の仮置き手段70に載置する図示しない搬出手段と、第一の仮置き手段70と、チャックテーブル10と、洗浄手段30と、第二の仮置き手段80とに亘って被加工物Wを搬送する図示しない搬送手段と、第二の仮置き手段80に載置された被加工物Wを収容カセット100内に搬入する図示しない搬入手段等を更に含んで構成されている。
Further, the laser processing apparatus 1 includes a first temporary placement means 70 for temporarily placing the workpiece W before ablation processing taken out from the
収容カセット100は、レーザー加工装置1のカセット載置台60上に載置されて、Z軸方向に昇降自在に設けられる。収容カセット100は、図2に示すように、互いに直交する第一の側壁101と第二の側壁102と、支柱103と、天井部104と、底部105と、被加工物Wを出し入れする開口部106とを備えている。
The
支柱103は、第一の側壁101と第二の側壁102とが交わる角部107と対向し、2面の側壁101,102に対面する位置に設けられている。支柱103は、Z軸と平行な棒状に形成され、図3及び図4に示すように、収容カセット100の水平方向の断面において、収容カセット100の中心を挟んで角部107と対向する位置に設けられている。また、支柱103は、収容カセット100の水平方向の断面において、側壁101,102と間隔をあけて対面する位置に設けられている。
The
天井部104は、平板状に形成され、側壁101,102及び支柱103の上端に固定されるものである。底部105は、平板状に形成され、側壁101,102及び支柱103の下端に固定されるものである。天井部104及び底部105は、X軸方向とY軸方向との双方、即ち、水平方向と平行な平板状に形成されている。
The
開口部106は、収容カセット100に被加工物Wを出し入れするものであって、収容カセット100の内外を連通している。開口部106は、第一の側壁101と支柱103との間の第一の開口部106aと、第二の側壁102と支柱103との間の第二の開口部106bとからなる。側壁101,102の内側及び支柱103の内側には、被加工物Wを支える複数のガイドレール108,109が天井部104と底部105との間に所定の間隔で形成されている。複数のガイドレール108,109は、表面上に被加工物Wが載置されて、被加工物Wを支えるものである。
The
側壁101,102に設けられた複数のガイドレール108は、側壁101,102の内面から収容カセット100の内側に突出している。また、第一の側壁101に設けられた複数のガイドレール108は、図3及び図4に示すように、第一の開口部106aから第二の側壁102に亘って設けられている。第二の側壁102に設けられた複数のガイドレール108は、図3及び図4に示すように、第二の開口部106bから第一の側壁101に亘って設けられている。第一の側壁101及び第二の側壁102に設けられた複数のガイドレール108は、一定の幅に形成され、直線状に延びている。
A plurality of
また、支柱103には、該支柱103から第一の側壁101に向かって突出して第一の開口部106aに配置されたガイドレール109と、該支柱103から第二の側壁102に向かって突出して第二の開口部106bに配置されたガイドレール109とが設けられている。即ち、支柱103のガイドレール109は、側壁101,102に向かって突出している。
Further, the
支柱103から第一の側壁101に向かって突出して第一の開口部106aに配置されたガイドレール109は、支柱103から第一の開口部106aの中央に亘って、第二の側壁102と平行に直線状に延びている。支柱103から第二の側壁102に向かって突出して第二の開口部106bに配置されたガイドレール109は、支柱103から第二の開口部106bの中央に亘って、第一の側壁101と平行に直線状に延びている。
The
前述した構成の収容カセット100は、図3に示すように、第一の開口部106aと第二の開口部106bとの双方を通して、被加工物Wが出し入れ可能である。また、収容カセット100は、図4に示すように、各ガイドレール108,109上に被加工物Wを載置して、被加工物Wを複数枚収容する。
As shown in FIG. 3, the
また、レーザー加工装置1では、収容カセット100は、第一の開口部106aが第一の仮置き手段70に対向し、第二の開口部106bが第二の仮置き手段80に対向して、カセット載置台60上に載置される。レーザー加工装置1では、主に、収容カセット100は、第一の開口部106aを通してアブレーション加工前の被加工物Wが取り出されて、第一の仮置き手段70上に載置される。収容カセット100は、第二の開口部106bを通して、第二の仮置き手段80上に載置された洗浄後の被加工物Wが収容される。
In the laser processing apparatus 1, the
前述したレーザー加工装置1は、第一の開口部106aを通してアブレーション加工前の被加工物Wを第一の仮置き手段70上に載置した後、チャックテーブル10にアブレーション加工前の被加工物Wを保持する。レーザー加工装置1は、チャックテーブル10とレーザー光線照射手段20とを相対的に移動させながら被加工物Wにアブレーション加工を施した後、洗浄手段30で洗浄し、第二の仮置き手段80上に載置する。そして、レーザー加工装置1は、第二の開口部106bを通して、アブレーション加工及び洗浄後の第二の仮置き手段80上の被加工物Wを収容カセット100内に収容する。
In the laser processing apparatus 1 described above, the workpiece W before ablation processing is placed on the first temporary placement means 70 through the
以上のように、実施形態1に係る収容カセット100は、搬出入できる開口部106a,106bが二つあるため、ウエーハWa等の被加工物Wを加工するレーザー加工装置1などの加工装置に設置された際に、出し入れの位置を二つ設けることが出来、二つの開口部106a,106bから同時に出し入れすることができる。したがって、実施形態1に係る収容カセット100は、スムーズな被加工物Wの出し入れの遂行が可能となり、被加工物Wの出し入れを効率的に行うことができる。また、実施形態1に係る収容カセット100は、二つの開口部106a,106bから同時に出し入れすることができるため、加工装置のスループットの向上にもつながるという効果を奏する。
As described above, the
また、実施形態1に係る収容カセット100は、ガイドレール109が支柱103から側壁101,102に向かって突出して開口部106a,106bの中央まで延びている。このために、収容カセット100は、被加工物Wを完全に収容した時にも、被加工物Wの外縁が円形状であっても、ガイドレール109が被加工物Wを確実に支えることができる。
In the
また、実施形態1に係る収容カセット100は、環状フレームFの開口にウエーハWaが粘着テープTで支持されたウエーハユニットを被加工物Wとして収容するので、ウエーハWaなどを破損させることなく、出し入れすることができる。
In addition, the
〔実施形態2〕
本発明の実施形態2に係る収容カセットを図面に基いて説明する。図5は、実施形態2に係る収容カセットの水平断面図である。図6は、実施形態2に係る収容カセットがウエーハユニットを出し入れする状態を示す断面図である。図7は、実施形態2に係る収容カセットがウエーハユニットを収容した状態を示す断面図である。なお、図5〜図7において、実施形態1と同一部分には、同一符号を付して説明を省略する。
[Embodiment 2]
A storage cassette according to Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 5 is a horizontal sectional view of the storage cassette according to the second embodiment. FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a state in which the housing cassette according to the second embodiment puts and removes the wafer unit. FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a state in which the storage cassette according to the second embodiment stores the wafer unit. 5 to 7, the same parts as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.
実施形態2に係る収容カセット100では、支柱103に設けられたガイドレール109aは、図5、図6及び図7に示すように、支柱103から側壁101,102同士が交わる角部107に向かって突出している。ガイドレール109aの幅は、支柱103の幅よりも大きく形成されている。ガイドレール109aの先端の側壁101,102からの距離K1(図5に示す)は、被加工物Wの中心を挟んで環状フレームFの外縁と板状物としてのウエーハWaの外縁との距離K2(図5に示す)よりも若干大きく形成されている。ガイドレール109aの先端の側壁101,102からの距離K1は、被加工物Wの中心を挟んだ幅H(図5に示す)よりも小さく形成されている。
In the
実施形態2に係る収容カセット100は、実施形態1と同様に、スムーズな被加工物Wの出し入れの遂行が可能となり、被加工物Wの出し入れを効率的に行うことができる。また、実施形態2に係る収容カセット100は、ガイドレール109aの先端の側壁101,102からの距離K1が、前記距離K2よりも大きくかつ被加工物Wの幅Hよりも小さく形成されているので、図6に示すように、ガイドレール109aが出し入れする被加工物Wを確実に支えることができ、収容した被加工物Wを確実に支えることができる。また、実施形態2に係る収容カセット100は、距離K1が距離K2よりも大きく幅Hよりも小さく形成されているので、図6及び図7に示すように、ガイドレール109aにウエーハWaが接触することを抑制できる。したがって、特に、アブレーション加工後等に、分割されたデバイスD同士に隙間がない状態のウエーハWaであっても、ガイドレール109aにウエーハWaが接触して、デバイスD同士がこすれて傷つくことを抑制できる。
Similar to the first embodiment, the
〔実施形態3〕
本発明の実施形態3に係る収容カセットを図面に基いて説明する。図8は、実施形態3に係る収容カセットがウエーハユニットを出し入れする状態を示す水平断面図である。図9は、実施形態3に係る収容カセットがウエーハユニットを収容した状態を示す断面図である。図10は、図9中のX−X線に沿う断面図である。なお、図8〜図10において、実施形態1及び実施形態2と同一部分には、同一符号を付して説明を省略する。
[Embodiment 3]
A storage cassette according to Embodiment 3 of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 8 is a horizontal cross-sectional view illustrating a state in which the housing cassette according to the third embodiment puts and removes the wafer unit. FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a state in which the storage cassette according to the third embodiment stores the wafer unit. 10 is a cross-sectional view taken along line XX in FIG. 8 to 10, the same parts as those in the first and second embodiments are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
実施形態3に係る収容カセット100では、図8、図9及び図10に示すように、側壁101,102のガイドレール108のZ軸方向の間に、これらガイドレール108間に挿入される被加工物Wを上下から挟持しつつ保持する弾性部材110が配設されている。弾性部材110は、実施形態3では、ガイドレール108の長手方向の両端部に亘って設けられている。弾性部材110は、実施形態3では、図10に示すように、断面において湾曲された板ばねで構成されている。弾性部材110は、側壁101,102から収容カセット100に向かって突出し、かつZ軸方向に重ねられた二つの凸部110aを備えている。弾性部材110は、凸部110a間に被加工物Wの外縁が挿入されることで、互いに間隔が広がるように弾性変形して、被加工物Wを上下から挟持する。
In the
実施形態3に係る収容カセット100は、実施形態1及び実施形態2と同様に、スムーズな被加工物Wの出し入れの遂行が可能となり、被加工物Wの出し入れを効率的に行うことができる。また、実施形態3に係る収容カセット100は、側壁101,102のガイドレール108間に弾性部材110を設けているので、直交する側壁101,102に設けられたガイドレール108のみでも、被加工物Wを十分支持することができる。
As in the first and second embodiments, the
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。例えば、本発明は、レーザー加工装置1に限らず、種々の被加工物Wに、研削装置や研磨装置などの種々の加工を施す加工装置に用いられても良い。また、本発明では、被加工物Wとしてウエーハユニットに限らず、種々の被加工物Wを収容しても良い。 The present invention is not limited to the above embodiment. That is, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. For example, the present invention may be used not only in the laser processing apparatus 1 but also in a processing apparatus that performs various processes such as a grinding apparatus and a polishing apparatus on various workpieces W. In the present invention, the workpiece W is not limited to the wafer unit, and various workpieces W may be accommodated.
100 収容カセット
101 第一の側壁
102 第二の側壁
103 支柱
104 天井部
105 底部
106 開口部
106a 第一の開口部
106b 第二の開口部
107 角部
108 ガイドレール
109 ガイドレール
109a ガイドレール
110 弾性部材
F 環状フレーム
T 粘着テープ
W 被加工物(ウエーハユニット)
Wa ウエーハ(板状物)
DESCRIPTION OF
Wa wafer (plate)
Claims (4)
互いに直交する第一の側壁と第二の側壁と、
該第一の側壁と該第二の側壁とが交わる角部と対向し、2面の該側壁に対面する位置に設けられた支柱と、
該側壁及び該支柱の上端に固定される天井部と、
該側壁及び該支柱の下端に固定される底部と、
該被加工物を出し入れする開口部と、を備え、
該側壁の内側及び該支柱の内側には、該被加工物を支える複数のガイドレールが該天井部と該底部との間に所定の間隔で形成されており、
該開口部は、
該第一の側壁と該支柱との間の第一の開口部と、
該第二の側壁と該支柱との間の第二の開口部と、からなる事を特徴とする収容カセット。 A storage cassette for storing a plurality of plate-shaped workpieces,
A first side wall and a second side wall orthogonal to each other;
A pillar provided at a position facing the corner where the first side wall and the second side wall meet and facing the two side walls,
A ceiling part fixed to the upper end of the side wall and the column;
A bottom portion fixed to the side wall and the lower end of the column;
An opening for taking in and out the workpiece,
A plurality of guide rails that support the workpiece are formed at predetermined intervals between the ceiling and the bottom on the inside of the side wall and the inside of the support column,
The opening is
A first opening between the first side wall and the post;
An accommodation cassette comprising: a second opening between the second side wall and the support column.
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