JP2013157395A - Wafer cassette - Google Patents

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Yuji Nakanishi
優爾 中西
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wafer cassette which reduces the likelihood of the damage of wafers due to an impact applied during transportation.SOLUTION: A wafer casette (4, 4a) is used for housing multiple annular frames (F1), each of which is attached to a wafer (W1) or an adhesive tape and is integrated with the wafer. The wafer casette (4, 4a) includes: multiple housing shelves (42) formed on facing side plates (41a, 41b) and housing the wafer or the annular frame; an opening (O1) through which the wafer or the annular frame is carried in or out; a back support part (41c) supporting the wafer or the annular frame by back parts (E1, E1a, E1b); a restriction part (44) restricting the wafer or the annular frame housed in the housing shelf from being carried out; and elastic parts (43, 43a, 43b) disposed in the back support part. The wafer or the annular frame housed in the housing shelf is held by the restriction part and the elastic members.

Description

本発明は、ウェーハを収容するウェーハカセットに関し、特に、搬送時におけるウェーハの破損の恐れを低下させたウェーハカセットに関する。   The present invention relates to a wafer cassette that accommodates wafers, and more particularly to a wafer cassette that reduces the risk of wafer breakage during transport.

半導体デバイスの製造プロセスにおいては、集積回路毎にウェーハを切断分離するダイシング工程が行われる。加工対象のウェーハは、粘着テープを介して環状のフレームに固定され、搬送用のウェーハカセットに収容されて切削装置に搬送される。このウェーハカセットは、一般に、複数の水平な溝を有する一対の側板を対向させた構成を有しており(例えば、特許文献1参照)、溝の一端側の挿入口から各溝に沿ってフレームが挿入されることで、複数枚のウェーハを収容できるようになっている。   In the manufacturing process of a semiconductor device, a dicing process for cutting and separating a wafer for each integrated circuit is performed. A wafer to be processed is fixed to an annular frame via an adhesive tape, accommodated in a transfer wafer cassette, and transferred to a cutting device. This wafer cassette generally has a configuration in which a pair of side plates having a plurality of horizontal grooves are opposed to each other (see, for example, Patent Document 1), and a frame extends from an insertion opening on one end side of the groove along each groove. Is inserted so that a plurality of wafers can be accommodated.

ウェーハカセットの搬送時などにおいて溝に保持されるフレームの脱落を防止するため、ウェーハカセットにはストッパーを設けることがある。ストッパーは、例えば、フレームの搬送経路となる溝の挿入口側に設けられ、溝を塞いでフレームの搬出を規制する閉位置と、規制が解除されてフレームを搬出可能な開位置とに選択的に位置付けることができるように構成される。ウェーハカセットにフレームを収容させた後にストッパーを閉位置に位置付ければ、ウェーハカセットの搬送時におけるフレームの脱落を防止できる。   A stopper may be provided on the wafer cassette in order to prevent the frame held in the groove from falling off when the wafer cassette is transported. The stopper is provided, for example, on the insertion port side of the groove serving as a frame conveyance path, and is selectively used as a closed position that blocks the groove and restricts the frame from being unloaded, and an open position where the restriction is released and the frame can be unloaded. It is comprised so that it can be positioned. If the stopper is positioned in the closed position after the frame is accommodated in the wafer cassette, it is possible to prevent the frame from falling off during the transfer of the wafer cassette.

特開平8−80989号公報JP-A-8-80989

上述のウェーハカセットにおいては、ストッパーを閉位置に位置付けてフレームの搬送経路となる溝を塞ぐようにしているので、ウェーハカセットの搬送時に加わる外力でウェーハカセットからフレームが飛び出してウェーハが破損することはない。しかしながら、近年、ウェーハは大径化(大口径化)される傾向にあり、それに起因してフレームの飛び出しとは異なる要因によるウェーハの破損の恐れが高まっている。   In the wafer cassette described above, the stopper is positioned at the closed position so as to close the groove serving as the frame transfer path. Absent. However, in recent years, wafers have a tendency to become larger (larger diameter), and as a result, there is an increased risk of wafer breakage due to factors different from frame pop-out.

例えば、搬送時に加わる外力でフレームが移動され、ウェーハカセットの内壁面にフレームが衝突されると、ウェーハには衝撃が加わる。この衝撃の大きさは、ウェーハの重量に依存するため、大径化により重量が増大されたウェーハには非常に大きな衝撃が加わることになり、ウェーハの破損の恐れは高くなる。   For example, when the frame is moved by an external force applied at the time of conveyance and the frame collides with the inner wall surface of the wafer cassette, an impact is applied to the wafer. Since the magnitude of the impact depends on the weight of the wafer, a very large impact is applied to the wafer whose weight is increased by increasing the diameter, and the risk of damage to the wafer increases.

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、搬送時におけるウェーハの破損の恐れを低下させたウェーハカセットを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of this point, and an object of the present invention is to provide a wafer cassette in which the risk of wafer breakage during transport is reduced.

本発明のウェーハカセットは、ウェーハ又は粘着テープに貼着されウェーハが一体となった環状フレームを複数枚収容するためのウェーハカセットであって、対向する側板に複数形成されたウェーハ又は環状フレームを収容する収容棚と、ウェーハ又は環状フレームを出し入れする開口部と、ウェーハ又は環状フレームを背部で支持する背止部と、前記収容棚に収容されたウェーハ又は環状フレームの搬出を規制する規制部と、前記背止部に配設された弾性部材と、を備え、前記収容棚に収容されたウェーハ又は環状フレームは前記規制部と前記弾性部材とで挟持されることを特徴とする。   The wafer cassette of the present invention is a wafer cassette for accommodating a plurality of annular frames bonded to a wafer or an adhesive tape and integrated with the wafer, and accommodates a plurality of wafers or annular frames formed on opposing side plates. A storage shelf, an opening through which the wafer or the annular frame is taken in and out, a back stopper that supports the wafer or the annular frame at the back, and a regulation unit that regulates the unloading of the wafer or the annular frame stored in the storage shelf, An elastic member disposed on the back stopper, and the wafer or the annular frame accommodated in the accommodation shelf is sandwiched between the restricting portion and the elastic member.

この構成によれば、ウェーハ又は環状フレームを背部で支持する背止部に弾性部材を配設し、ウェーハ又は環状フレームを規制部と弾性部材とで挟持させるようにしたので、搬送時の外力などによるウェーハ又は環状フレームの動きを抑制して衝撃を緩和できる。このため、搬送時におけるウェーハの破損の恐れを低下させることができる。   According to this configuration, the elastic member is disposed on the back stop portion that supports the wafer or the annular frame with the back portion, and the wafer or the annular frame is sandwiched between the regulating portion and the elastic member. The impact can be reduced by suppressing the movement of the wafer or the annular frame. For this reason, the fear of the damage of the wafer at the time of conveyance can be reduced.

本発明のウェーハカセットにおいて、前記弾性部材には、各前記収容棚と同等の高さ位置にウェーハ又は環状フレームを支持する支持溝が形成されることが好ましい。この構成によれば、弾性部材にウェーハ又は環状フレームを支持する支持溝が形成されているので、ウェーハ又は環状フレームの撓みを抑制できる。   In the wafer cassette of the present invention, it is preferable that a support groove for supporting the wafer or the annular frame is formed in the elastic member at a height position equivalent to each of the storage shelves. According to this configuration, since the support groove for supporting the wafer or the annular frame is formed in the elastic member, the deflection of the wafer or the annular frame can be suppressed.

本発明によれば、搬送時におけるウェーハの破損の恐れを低下させたウェーハカセットを提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the wafer cassette which reduced the fear of the damage of the wafer at the time of conveyance can be provided.

実施の形態1に係るウェーハカセットが用いられる切削装置の構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example of the cutting device with which the wafer cassette which concerns on Embodiment 1 is used. 実施の形態1に係るウェーハカセットの構成例を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a configuration example of a wafer cassette according to the first embodiment. 実施の形態2に係るウェーハカセットの構成例を示す模式図である。6 is a schematic diagram illustrating a configuration example of a wafer cassette according to a second embodiment. FIG.

以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下においては、切削ブレードによってウェーハを切削加工する切削装置に本発明のウェーハカセットが適用された構成について説明するが、本発明のウェーハカセットが適用されるウェーハ処理装置は、切削装置に限定されるものではない。ウェーハ処理装置は、レーザ発振器からのレーザ光を集光してウェーハを加工するレーザ加工装置であっても良い。また、他の研削装置、研磨装置、洗浄装置、検査装置、ダイボンディング装置などであっても良い。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In the following, a configuration in which the wafer cassette of the present invention is applied to a cutting apparatus that cuts a wafer with a cutting blade will be described. However, a wafer processing apparatus to which the wafer cassette of the present invention is applied is limited to a cutting apparatus. Is not to be done. The wafer processing apparatus may be a laser processing apparatus that condenses laser light from a laser oscillator and processes the wafer. Further, other grinding apparatuses, polishing apparatuses, cleaning apparatuses, inspection apparatuses, die bonding apparatuses, and the like may be used.

(実施の形態1)
図1は、実施の形態1に係るウェーハカセットが用いられる切削装置の斜視図である。切削装置1は、ウェーハカセット4に収容されるウェーハW1を引出部51によって搬出し、切削ユニット8によって切削加工できるように構成されている。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a perspective view of a cutting apparatus in which the wafer cassette according to the first embodiment is used. The cutting apparatus 1 is configured so that the wafer W1 accommodated in the wafer cassette 4 can be unloaded by the drawing portion 51 and cut by the cutting unit 8.

切削装置1の加工対象となるウェーハW1は、略円板状の外形形状を有している。ウェーハW1の裏面側は、ダイシングテープ(粘着テープ)T1を介して円環状のフレーム(環状フレーム)F1に貼着されている。ウェーハW1の表面は、格子状に配列されたストリート(加工予定ライン)によって複数の領域に区画されている。ウェーハW1において、ストリートで区画された各領域には、デバイス(デバイスパターン)が形成されている。ウェーハW1は、各ストリートに沿って切削され、個々のデバイスに分割される。なお、切削装置1の加工対象は半導体ウェーハに限定されるものではない。   A wafer W1 to be processed by the cutting apparatus 1 has a substantially disk-shaped outer shape. The back side of the wafer W1 is attached to an annular frame (annular frame) F1 via a dicing tape (adhesive tape) T1. The surface of the wafer W1 is partitioned into a plurality of regions by streets (scheduled processing lines) arranged in a lattice pattern. In the wafer W1, a device (device pattern) is formed in each area partitioned by streets. Wafer W1 is cut along each street and divided into individual devices. Note that the processing target of the cutting apparatus 1 is not limited to a semiconductor wafer.

切削装置1は、上面形状が略平坦な基台2を有している。基台2は、略直方体状の基部21と、その一部の角部において前方に突設された突設部22とを備える。突設部22には内部空間が形成されており、この内部空間には、カセットエレベータ3が上下動可能に設けられている。カセットエレベータ3の上面には、フレームF1に保持されたウェーハW1を収容するウェーハカセット4が載置される。ウェーハカセット4の構成については後に詳述する。   The cutting apparatus 1 has a base 2 having a substantially flat top surface. The base 2 includes a base 21 having a substantially rectangular parallelepiped shape, and a projecting portion 22 projecting forward at some corners. An internal space is formed in the protruding portion 22, and the cassette elevator 3 is provided in the internal space so as to be movable up and down. On the upper surface of the cassette elevator 3, a wafer cassette 4 that houses the wafer W1 held by the frame F1 is placed. The configuration of the wafer cassette 4 will be described in detail later.

基部21の上面には、カセットエレベータ3と隣接する位置に仮置き機構5が設けられている。仮置き機構5は、引出部51と一対のレール52とを備えている。引出部51は第1方向(Y軸方向)に移動可能に構成されており、カセットエレベータ3の上下動により引出部51と同じ高さに位置付けられたウェーハW1(フレームF1)をレール52側に引き出す。レール52は略L字型の断面形状を有しており、第1方向に垂直な第2方向(X軸方向)において相互に離間接近可能に構成されている。ウェーハW1は、引出部51によってレール52上の所定位置まで引き出され、一対のレール52の相互の接近によって第2方向において挟み込まれる。これにより、ウェーハW1は、X軸方向及びY軸方向において位置合わせされる。   A temporary placement mechanism 5 is provided on the upper surface of the base 21 at a position adjacent to the cassette elevator 3. The temporary placement mechanism 5 includes a drawing portion 51 and a pair of rails 52. The drawer 51 is configured to be movable in the first direction (Y-axis direction), and the wafer W1 (frame F1) positioned at the same height as the drawer 51 is moved to the rail 52 side by the vertical movement of the cassette elevator 3. Pull out. The rails 52 have a substantially L-shaped cross-sectional shape and are configured to be separated from each other in a second direction (X-axis direction) perpendicular to the first direction. The wafer W1 is drawn to a predetermined position on the rail 52 by the drawing portion 51, and is sandwiched in the second direction by the close proximity of the pair of rails 52. Thereby, the wafer W1 is aligned in the X-axis direction and the Y-axis direction.

基部21の仮置き機構5に隣接する位置には、X軸方向に延在する開口が形成されている。開口は、テーブル移動基台6及び防水カバー61により覆われている。防水カバー61の下方には、テーブル移動基台6をX軸方向に移動可能なX軸移動機構(不図示)が設けられている。X軸移動機構は、X軸方向に平行な一対のガイドレール、ガイドレール間のX軸ボールねじ、及びX軸ボールねじを回転駆動するX軸パルスモータ(いずれも不図示)を備える。テーブル移動基台6は、ナット部(不図示)を介してX軸ボールネジと連結され、X軸ボールネジの回転によりガイドレールに沿って移動される。   An opening extending in the X-axis direction is formed at a position adjacent to the temporary placement mechanism 5 of the base portion 21. The opening is covered with a table moving base 6 and a waterproof cover 61. Below the waterproof cover 61, an X-axis moving mechanism (not shown) is provided that can move the table moving base 6 in the X-axis direction. The X-axis movement mechanism includes a pair of guide rails parallel to the X-axis direction, an X-axis ball screw between the guide rails, and an X-axis pulse motor (not shown) that rotationally drives the X-axis ball screw. The table moving base 6 is connected to the X-axis ball screw via a nut portion (not shown), and is moved along the guide rail by the rotation of the X-axis ball screw.

テーブル移動基台6上には、チャックテーブル62が設けられている。チャックテーブル62は小径の円板状に形成されており、その上面中央部分にはポーラスセラミック材による吸着面63が設けられている。吸着面63においてウェーハW1を裏面側から吸着することで、ウェーハW1はチャックテーブル62上の所定位置に保持される。チャックテーブル62は、回転機構(不図示)によりテーブル移動基台6上でZ軸周りに回転可能に支持されている。チャックテーブル62には、仮置き機構5でX軸方向及びY軸方向に位置合わせされたウェーハW1が不図示の搬送手段によって搬送される。   A chuck table 62 is provided on the table moving base 6. The chuck table 62 is formed in the shape of a small-diameter disk, and an adsorption surface 63 made of a porous ceramic material is provided at the center of the upper surface. The wafer W1 is held at a predetermined position on the chuck table 62 by sucking the wafer W1 from the back surface side on the suction surface 63. The chuck table 62 is supported so as to be rotatable around the Z axis on the table moving base 6 by a rotating mechanism (not shown). The wafer W1 aligned in the X-axis direction and the Y-axis direction by the temporary placement mechanism 5 is transferred to the chuck table 62 by transfer means (not shown).

Y軸方向においてテーブル移動基台6と隣接する位置には、テーブル基台7が配置されている。テーブル基台7には、Y軸移動機構71が設けられている。Y軸移動機構71は、Y軸方向に平行な一対のガイドレール72、ガイドレール72間のY軸ボールねじ(不図示)、及びY軸ボールねじを回転駆動するY軸パルスモータ73を備える。テーブル基台7の上面には、Y軸テーブル74が支持されている。Y軸テーブル74は、テーブル基台7に接する基部74aと、基部74aに対して立設された壁部74bとを備えている。Y軸テーブル74は、基部74aに設けたナット部(不図示)を介してY軸ボールネジと連結され、Y軸ボールネジの回転によりガイドレール72に沿って移動される。   A table base 7 is disposed at a position adjacent to the table moving base 6 in the Y-axis direction. The table base 7 is provided with a Y-axis moving mechanism 71. The Y-axis moving mechanism 71 includes a pair of guide rails 72 parallel to the Y-axis direction, a Y-axis ball screw (not shown) between the guide rails 72, and a Y-axis pulse motor 73 that rotationally drives the Y-axis ball screw. A Y-axis table 74 is supported on the upper surface of the table base 7. The Y-axis table 74 includes a base portion 74a that is in contact with the table base 7 and a wall portion 74b that is erected with respect to the base portion 74a. The Y-axis table 74 is connected to the Y-axis ball screw via a nut portion (not shown) provided in the base portion 74a, and is moved along the guide rail 72 by the rotation of the Y-axis ball screw.

Y軸テーブル74の壁部74bには、Z軸移動機構75が設けられている。Z軸移動機構75は、壁部74bの前面に配置されZ軸方向に平行な一対のガイドレール76と、ガイドレール76間のZ軸ボールねじ77と、Z軸ボールねじ77と連結されるZ軸パルスモータ78とを備える。壁部74bの前面には、Z軸テーブル79が支持されている。Z軸テーブル79は、壁部74bに接する基部79aと、基部79aの端部において前方(Y軸方向)に突設された壁部79bとを備えている。Z軸テーブル79は、基部79aに設けたナット部を介してZ軸ボールねじ77と連結され、Z軸ボールねじ77の回転によりガイドレール76に沿って移動される。   A Z-axis moving mechanism 75 is provided on the wall 74 b of the Y-axis table 74. The Z-axis moving mechanism 75 is disposed on the front surface of the wall 74 b and is parallel to the Z-axis direction, a Z-axis ball screw 77 between the guide rails 76, and a Z-axis ball screw 77. A shaft pulse motor 78 is provided. A Z-axis table 79 is supported on the front surface of the wall 74b. The Z-axis table 79 includes a base portion 79a that is in contact with the wall portion 74b, and a wall portion 79b that protrudes forward (in the Y-axis direction) at the end of the base portion 79a. The Z-axis table 79 is connected to the Z-axis ball screw 77 through a nut portion provided on the base 79 a, and is moved along the guide rail 76 by the rotation of the Z-axis ball screw 77.

Z軸テーブル79の壁部79bには、チャックテーブル62の上方の位置において切削ユニット8が支持されている。切削ユニット8は、円筒状のスピンドル81と、スピンドル81の一端部に着脱可能に装着される切削ブレード82とを備える。スピンドル81の他端部側にはモータ83が連結されており、スピンドル81に装着された切削ブレード82を回転できるようになっている。この切削ブレード82を回転させてウェーハW1に接触させることで、ウェーハW1は切削される。切削ユニット8には、切削ブレード82に隣接して撮像ユニット9が設けられている。   The cutting unit 8 is supported on the wall 79 b of the Z-axis table 79 at a position above the chuck table 62. The cutting unit 8 includes a cylindrical spindle 81 and a cutting blade 82 that is detachably attached to one end of the spindle 81. A motor 83 is connected to the other end of the spindle 81 so that the cutting blade 82 attached to the spindle 81 can rotate. The wafer W1 is cut by rotating the cutting blade 82 and bringing it into contact with the wafer W1. The cutting unit 8 is provided with an imaging unit 9 adjacent to the cutting blade 82.

切削装置1の制御部(不図示)は、撮像ユニット9で撮像された撮像画像に基づいて、X軸移動機構及びY軸移動機構71を制御して、切削ユニット8の切削ブレード82をウェーハW1のストリートに位置合わせする。切削ブレード82と位置合わせされたウェーハW1は、切削水を噴き付けられながら、回転された切削ブレード82によって切り込まれる。切削されたウェーハW1は、搬送手段(不図示)によってピックアップされて、基部21の上面に設けられた洗浄乾燥機構10に移動される。   A control unit (not shown) of the cutting apparatus 1 controls the X-axis moving mechanism and the Y-axis moving mechanism 71 based on the captured image captured by the imaging unit 9, and the cutting blade 82 of the cutting unit 8 is moved to the wafer W1. Align to the street. The wafer W1 aligned with the cutting blade 82 is cut by the rotated cutting blade 82 while spraying cutting water. The cut wafer W1 is picked up by a transfer means (not shown) and moved to the cleaning / drying mechanism 10 provided on the upper surface of the base 21.

洗浄乾燥機構10は、基台2に形成された円筒状の空間においてウェーハW1を保持するスピンナテーブル101を備えている。また、洗浄乾燥機構10は、洗浄液噴射機構及び気体噴射機構(いずれも不図示)を備えている。スピンナテーブル101の下方には、回転機構(不図示)が設けられている。回転機構は、スピンナテーブル101に対して回転力を付与するスピンナテーブルモータ(不図示)を有しており、スピンナテーブル101を所定の速度で回転できるようになっている。スピンナテーブル101にウェーハW1が保持されると、円筒状の空間内においてスピンナテーブル101は回転される。この状態において、洗浄液噴射機構から洗浄液が噴射されることでウェーハW1は洗浄される。洗浄後において、ウェーハW1は、気体噴射機構から噴射されるエアによって乾燥される。   The cleaning / drying mechanism 10 includes a spinner table 101 that holds the wafer W <b> 1 in a cylindrical space formed on the base 2. The cleaning / drying mechanism 10 includes a cleaning liquid injection mechanism and a gas injection mechanism (both not shown). A rotating mechanism (not shown) is provided below the spinner table 101. The rotation mechanism has a spinner table motor (not shown) that applies a rotational force to the spinner table 101, and can rotate the spinner table 101 at a predetermined speed. When the wafer W1 is held on the spinner table 101, the spinner table 101 is rotated in the cylindrical space. In this state, the wafer W1 is cleaned by spraying the cleaning liquid from the cleaning liquid injection mechanism. After cleaning, the wafer W1 is dried by air jetted from the gas jetting mechanism.

図2は、ウェーハカセット4の構成例を示す模式図である。なお、図2においては、説明の便宜上、構成の一部を省略するなどして模式的に示している。   FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a configuration example of the wafer cassette 4. In FIG. 2, for the sake of convenience of explanation, a part of the configuration is omitted and schematically shown.

カセット4は、対向配置された一対の側板41a,41bと、側板41a,41bの一端側に設けられた奥板(背止部)41cとを備えており、側板41a,41bの他端側において開口されている。側板41aの上端部及び下端部と、側板41bの上端部及び下端部とは、それぞれ上板41d(図2において不図示、図1参照)及び下板41eにより連結されている。また、側板41a,41bの下端部には脚部(不図示)が設けられており、カセットエレベータ3に載置された状態で側板41a,41bの下端部とカセットエレベータ3の上面との間に隙間ができるようになっている。これにより、後述するストッパー(規制部)44は、カセットエレベータ3の上面と接すること無く回動できる。   The cassette 4 includes a pair of side plates 41a and 41b arranged opposite to each other, and a back plate (back stopper) 41c provided on one end side of the side plates 41a and 41b, and on the other end side of the side plates 41a and 41b. It is open. The upper and lower ends of the side plate 41a and the upper and lower ends of the side plate 41b are connected by an upper plate 41d (not shown in FIG. 2, refer to FIG. 1) and a lower plate 41e, respectively. In addition, legs (not shown) are provided at the lower ends of the side plates 41 a and 41 b, and are placed between the lower ends of the side plates 41 a and 41 b and the upper surface of the cassette elevator 3 while being placed on the cassette elevator 3. There is a gap. As a result, a stopper (regulator) 44 described later can be rotated without contacting the upper surface of the cassette elevator 3.

側板41a,41bの内側面には、水平方向に延びる複数の横板41fが略等間隔に設けられており、隣接する横板41fの間に溝D1が形成されている。溝D1は、側板41a,41bにおいて略等しい高さにそれぞれ形成されており、対向する溝D1の組によってウェーハW1を収容する収容棚42が構成されている。   A plurality of horizontal plates 41f extending in the horizontal direction are provided at substantially equal intervals on the inner side surfaces of the side plates 41a and 41b, and a groove D1 is formed between the adjacent horizontal plates 41f. The grooves D1 are formed at substantially the same height in the side plates 41a and 41b, and a storage shelf 42 for storing the wafer W1 is configured by a set of the grooves D1 facing each other.

側板41a,41bの他端側において、収容棚42には、フレームF1(ウェーハW1が保持されたフレームF1)を搬入、又は搬出するための開口部O1が設けられている。開口部O1から溝D1に沿ってフレームF1が挿入されることで、ウェーハW1は収容棚42に収容される。奥板41cの内側面には、上下方向に延在する弾性部材43(43a,43b)が設けられている。弾性部材43は、ゴムなどの緩衝材料で構成されており、収容棚42に収容されたフレームF1の端部(背部)E1(E1a,E1b)と当接される。この弾性部材43により、フレームF1と奥板41cの内側面との接触は防止され、フレームF1に加わる衝撃は緩和される。   On the other end side of the side plates 41a and 41b, the accommodation shelf 42 is provided with an opening O1 for loading or unloading the frame F1 (the frame F1 holding the wafer W1). By inserting the frame F1 from the opening O1 along the groove D1, the wafer W1 is accommodated in the accommodation shelf 42. Elastic members 43 (43a, 43b) extending in the vertical direction are provided on the inner surface of the back plate 41c. The elastic member 43 is made of a cushioning material such as rubber, and abuts against end portions (back portions) E1 (E1a, E1b) of the frame F1 accommodated in the accommodation shelf 42. The elastic member 43 prevents contact between the frame F1 and the inner surface of the back plate 41c, and alleviates the impact applied to the frame F1.

側板41aの開口部O1側には、溝D1に対して略垂直な方向に延在するストッパー(規制部)44が設けられている。ストッパー44は、上下方向に延在する鉛直部44aと、鉛直部44aの両端部において水平方向に屈曲された一対の水平部44bとを備えている。一対の水平部44bの先端部には、側板41a側に向かって突出された突出部44cが設けられており、この突出部44cは、側板41aの上下の端部に設けられた凹部(不図示)に係合されている。これにより、ストッパー44は、突出部44cを支点に回動可能になっている。   On the side of the opening O1 of the side plate 41a, a stopper (regulating portion) 44 extending in a direction substantially perpendicular to the groove D1 is provided. The stopper 44 includes a vertical portion 44a extending in the vertical direction and a pair of horizontal portions 44b bent in the horizontal direction at both ends of the vertical portion 44a. Projecting portions 44c projecting toward the side plate 41a are provided at the tip portions of the pair of horizontal portions 44b, and the projecting portions 44c are recessed portions (not shown) provided at the upper and lower end portions of the side plate 41a. ) Is engaged. Thereby, the stopper 44 can be rotated with the protruding portion 44c as a fulcrum.

水平部44bは所定の長さを有しており、鉛直部44aと側板41aとが接触してストッパー44の回動の妨げとならないように構成されている。また、上述のように、脚部(不図示)により側板41a,41bの下端部とカセットエレベータ3の上面との間に隙間が形成されており、ストッパー44の下端はカセットエレベータ3の上面に接触しないようになっている。   The horizontal portion 44b has a predetermined length, and is configured so that the vertical portion 44a and the side plate 41a are not in contact with each other to prevent the stopper 44 from rotating. Further, as described above, a gap is formed between the lower ends of the side plates 41 a and 41 b and the upper surface of the cassette elevator 3 by the leg portions (not shown), and the lower end of the stopper 44 contacts the upper surface of the cassette elevator 3. It is supposed not to.

ストッパー44は、突出部44cを支点に回動されることで、フレームF1の搬出又は搬入が規制される閉位置P1と、規制が解除される開位置P2とに選択的に位置付けられる。閉位置P1は、ストッパー44の鉛直部44aが側板41aの内側に配置され、収容棚42に収容されたフレームF1の端部E2と鉛直部44aとが当接される位置である。ストッパー44が閉位置P1に位置付けられると、収容されたフレームF1は、ストッパー44と弾性部材43とで挟持される。このため、この状態においては、外力によるウェーハW1の動きは抑制される。また、ストッパー44が閉位置P1に位置付けられると、収容されたフレームF1は、鉛直部44aと端部E2との当接位置よりも開口部O1側に移動されなくなる。つまり、この状態においては、ウェーハW1の搬出又は搬入は規制される。   The stopper 44 is selectively positioned at the closed position P1 where the carry-out or carry-in of the frame F1 is restricted and the open position P2 where the restriction is released, by rotating around the protrusion 44c. The closed position P1 is a position where the vertical portion 44a of the stopper 44 is disposed inside the side plate 41a, and the end portion E2 of the frame F1 accommodated in the accommodation shelf 42 and the vertical portion 44a are brought into contact with each other. When the stopper 44 is positioned at the closed position P <b> 1, the accommodated frame F <b> 1 is sandwiched between the stopper 44 and the elastic member 43. For this reason, in this state, the movement of the wafer W1 due to the external force is suppressed. Further, when the stopper 44 is positioned at the closed position P1, the accommodated frame F1 is not moved to the opening O1 side from the contact position between the vertical portion 44a and the end portion E2. That is, in this state, unloading or loading of the wafer W1 is restricted.

開位置P2は、ストッパー44の鉛直部44aが側板41aの外側に配置され、フレームF1と鉛直部44aとの当接が解除される位置である。この開位置P2においては、フレームF1の搬送経路上に鉛直部44aが配置されないため、ウェーハW1を搬出又は搬入できる。   The open position P2 is a position where the vertical portion 44a of the stopper 44 is disposed outside the side plate 41a and the contact between the frame F1 and the vertical portion 44a is released. At the open position P2, the vertical portion 44a is not disposed on the transfer path of the frame F1, and thus the wafer W1 can be transferred or transferred.

側板41aの上端部には、ストッパー44の上側の水平部44bが係合される溝D2が設けられている。溝D2は、ストッパー44の閉位置P1を規定するように設けられており、上側の水平部44bが溝D2に係合されると、ストッパー44は閉位置P1に位置付けられる。ストッパー44は、付勢部材(不図示)によって常時下向きに付勢されている。このため、付勢部材の付勢力に抗する上向きの力が作用しない限り、上側の水平部44bと溝D2との係合は維持され、ストッパー44が閉位置P1に位置付けられた状態は維持される。この付勢部材は、例えば、下側の突出部(不図示)に設けられる。   At the upper end of the side plate 41a, a groove D2 is provided in which the upper horizontal portion 44b of the stopper 44 is engaged. The groove D2 is provided so as to define the closed position P1 of the stopper 44. When the upper horizontal portion 44b is engaged with the groove D2, the stopper 44 is positioned at the closed position P1. The stopper 44 is always urged downward by an urging member (not shown). Therefore, unless an upward force against the urging force of the urging member is applied, the engagement between the upper horizontal portion 44b and the groove D2 is maintained, and the state where the stopper 44 is positioned at the closed position P1 is maintained. The This urging member is provided at, for example, a lower protrusion (not shown).

このように構成されたウェーハカセット4において、開口部O1を通じて収容棚42にフレームF1が収容された後には、ストッパー44は回動されて閉位置P1に位置付けられ、フレームF1はストッパー44と弾性部材43とで挟持される。この状態では、フレームF1はストッパー44と弾性部材43との間において隙間なく保持されるため、ウェーハカセット4の搬送によりフレームF1に外力が作用しても、フレームF1の動きは抑制される。また、弾性部材43によりフレームF1への衝撃は緩和される。   In the wafer cassette 4 configured as described above, after the frame F1 is accommodated in the accommodation shelf 42 through the opening O1, the stopper 44 is rotated to be positioned at the closed position P1, and the frame F1 is disposed with the stopper 44 and the elastic member. 43. In this state, since the frame F1 is held between the stopper 44 and the elastic member 43 without any gap, even if an external force is applied to the frame F1 due to the conveyance of the wafer cassette 4, the movement of the frame F1 is suppressed. Further, the impact on the frame F1 is mitigated by the elastic member 43.

このように、本実施の形態に係るウェーハカセット4においては、フレームF1(端部(背部)E1)を支持する奥板(背止部)41cに弾性部材43を配設し、フレームF1をストッパー(規制部)44と弾性部材43とで挟持させるようにしたので、搬送時の外力などによるフレームF1の動きを抑制して衝撃を緩和できる。このため、搬送時におけるウェーハW1の破損の恐れを低下させることができる。   Thus, in the wafer cassette 4 according to the present embodiment, the elastic member 43 is disposed on the back plate (back stopper) 41c that supports the frame F1 (end (back) E1), and the frame F1 is a stopper. Since the (restricting portion) 44 and the elastic member 43 are sandwiched, the movement of the frame F1 due to an external force or the like during conveyance can be suppressed and the impact can be reduced. For this reason, the risk of damage to the wafer W1 during transfer can be reduced.

(実施の形態2)
本実施の形態では、実施の形態1とは異なる態様のウェーハカセットについて説明する。図3は、実施の形態2に係るウェーハカセット4aの構成例を示す模式図である。なお、図3において、図2と同じ構成には同じ符号を付して詳細な説明を省略する。また、図3においては、説明の便宜上、構成の一部を省略するなどして模式的に示している。
(Embodiment 2)
In the present embodiment, a wafer cassette having a mode different from that of the first embodiment will be described. FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a configuration example of the wafer cassette 4a according to the second embodiment. 3, the same components as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. Further, in FIG. 3, for the convenience of explanation, a part of the configuration is omitted and schematically shown.

ウェーハカセット4aにおいて、弾性部材43(43a,43b)には、収容棚42に対応する高さ位置に複数の溝(支持溝)D3(D3a,D3b)が設けられている。具体的には、溝D3aと溝D3bとは、側板41a,41bにおいて対向する溝D1と同じ高さ位置に設けられている。これにより、収容棚42に収容されるフレームF1の端部E1aと端部E1b(共に図2参照)とは、溝D3aと溝D3bとにより同じ高さ位置に支持される。   In the wafer cassette 4a, the elastic member 43 (43a, 43b) is provided with a plurality of grooves (support grooves) D3 (D3a, D3b) at height positions corresponding to the storage shelves 42. Specifically, the groove D3a and the groove D3b are provided at the same height position as the groove D1 facing each other in the side plates 41a and 41b. Thereby, the end E1a and the end E1b (both see FIG. 2) of the frame F1 accommodated in the accommodation shelf 42 are supported at the same height position by the groove D3a and the groove D3b.

例えば、実施の形態1のウェーハカセット4において、フレームF1は、溝D1を構成する横板41fによって支持されている。つまり、フレームF1は、横板41fの延在する方向においてのみ支持されている。このため、フレームF1は、横板41fの延在方向であるA方向において下方に撓みにくい一方で、A方向に垂直なB方向(横板41fの延在方向に垂直な方向)においては下方に撓み易くなっている。特に、大径化されたウェーハW1が用いられる場合、ウェーハW1及びフレームF1の重量によって、フレームF1は容易に撓んでしまう。   For example, in the wafer cassette 4 of the first embodiment, the frame F1 is supported by the horizontal plate 41f that forms the groove D1. That is, the frame F1 is supported only in the direction in which the horizontal plate 41f extends. For this reason, the frame F1 is difficult to bend downward in the A direction that is the extending direction of the horizontal plate 41f, but is downward in the B direction perpendicular to the A direction (the direction perpendicular to the extending direction of the horizontal plate 41f). It is easy to bend. In particular, when a wafer W1 having an increased diameter is used, the frame F1 is easily bent due to the weight of the wafer W1 and the frame F1.

これに対し、本実施の形態に係るウェーハカセット4aは、B方向においてフレームF1を支持する溝D3を備えているので、B方向におけるフレームF1の撓みを抑制できる。なお、B方向においてフレームF1が撓むと、フレームF1と側板41a,41bとの隙間が大きくなってB方向へのフレームF1の移動量は大きくなってしまう。これに対し、本実施の形態に係るウェーハカセット4aでは、フレームF1の撓みは抑制されるため、フレームF1と側板41a,41bとの隙間は大きくならず、B方向へのフレームF1の移動は抑制される。その結果、フレームF1の移動に起因するウェーハW1への衝撃を小さくできるので、ウェーハW1の破損の恐れをさらに低下させることができる。   On the other hand, since the wafer cassette 4a according to the present embodiment includes the groove D3 that supports the frame F1 in the B direction, the bending of the frame F1 in the B direction can be suppressed. If the frame F1 bends in the B direction, the gap between the frame F1 and the side plates 41a and 41b increases, and the amount of movement of the frame F1 in the B direction increases. On the other hand, in the wafer cassette 4a according to the present embodiment, since the bending of the frame F1 is suppressed, the gap between the frame F1 and the side plates 41a and 41b is not increased, and the movement of the frame F1 in the B direction is suppressed. Is done. As a result, since the impact on the wafer W1 due to the movement of the frame F1 can be reduced, the risk of damage to the wafer W1 can be further reduced.

なお、本発明は上記実施の形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。例えば、上記実施の形態においては、フレームに保持されたウェーハ(ダイシングテープに貼着されウェーハが一体となったフレーム)を収容するウェーハカセットを例示しているが、ウェーハカセットの構成はこれに限られない。ウェーハカセットは、ウェーハを直接収容するものでも良い。   In addition, this invention is not limited to description of the said embodiment, A various change can be implemented. For example, in the above-described embodiment, a wafer cassette that accommodates a wafer held in a frame (a frame in which a wafer is bonded to a dicing tape and integrated with the wafer) is illustrated, but the configuration of the wafer cassette is not limited thereto. I can't. The wafer cassette may directly contain wafers.

また、上記実施の形態においては、ストッパーが閉位置に位置付けられた状態において、フレームがストッパーと弾性部材とで隙間なく挟持されているが、フレームはストッパーと弾性部材との間において僅かな隙間を持った状態で保持されるようにしても良い。この場合、搬送時の外力などでフレームは僅かに移動されることになるが、弾性部材によりフレームへの衝撃は吸収されるため、ウェーハW1への衝撃を緩和させて破損の恐れを低下させることができる。   In the above embodiment, the frame is sandwiched between the stopper and the elastic member without any gap in the state where the stopper is positioned at the closed position, but the frame has a slight gap between the stopper and the elastic member. It may be held in a held state. In this case, the frame is slightly moved by an external force at the time of transfer, but since the impact on the frame is absorbed by the elastic member, the impact on the wafer W1 is mitigated to reduce the risk of breakage. Can do.

また、上記実施の形態においては、ゴムなどの緩衝材料で構成される弾性部材が適用されているが、フレームの衝撃を緩和できるのであれば、弾性部材の材料、形状などは特に限定されない。例えば、金属材料などで構成される板ばねなどを弾性部材として用いても良い。また、上記実施の形態においては、2個の弾性部材を備えているが、弾性部材の数量についても特に限定されない。   In the above-described embodiment, an elastic member made of a cushioning material such as rubber is applied. However, the material and shape of the elastic member are not particularly limited as long as the impact of the frame can be reduced. For example, a leaf spring made of a metal material or the like may be used as the elastic member. In the above embodiment, two elastic members are provided, but the number of elastic members is not particularly limited.

また、上記実施の形態のウェーハカセットは、側板の下部において脚部を備えているが、ストッパーが回動可能であれば脚部を備えなくとも良い。その他、上記実施の形態に係る構成、方法などは、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。   Further, the wafer cassette of the above embodiment includes the leg portion at the lower portion of the side plate. However, the leg portion may not be provided as long as the stopper is rotatable. In addition, the configurations, methods, and the like according to the above-described embodiments can be changed as appropriate without departing from the scope of the object of the present invention.

本発明は、切削装置やレーザ加工装置などにおいて処理されるウェーハを収容するためのウェーハカセットとして有用である。   The present invention is useful as a wafer cassette for accommodating a wafer to be processed in a cutting device, a laser processing device, or the like.

1 切削装置
3 カセットエレベータ
4,4a ウェーハカセット
41a,41b 側板
41c 奥板(背止部)
41d 上板
41e 下板
41f 横板
42 収容棚
43,43a,43b 弾性部材
44 ストッパー(規制部)
44a 鉛直部
44b 水平部
44c 突出部
D1,D2 溝
D3,D3a,D3b 溝(支持溝)
E1,E1a,E1b 端部(背部)
E2 端部
F1 フレーム(環状フレーム)
O1 開口部
P1 閉位置
P2 開位置
T1 ダイシングテープ(粘着テープ)
W1 ウェーハ
1 Cutting Device 3 Cassette Elevator 4, 4a Wafer Cassette 41a, 41b Side Plate 41c Back Plate (Back Stop)
41d Upper plate 41e Lower plate 41f Horizontal plate 42 Storage shelf 43, 43a, 43b Elastic member 44 Stopper (regulator)
44a Vertical portion 44b Horizontal portion 44c Protruding portion D1, D2 groove D3, D3a, D3b groove (supporting groove)
E1, E1a, E1b End (back)
E2 end F1 frame (annular frame)
O1 opening P1 closed position P2 open position T1 dicing tape (adhesive tape)
W1 wafer

Claims (2)

ウェーハ又は粘着テープに貼着されウェーハが一体となった環状フレームを複数枚収容するためのウェーハカセットであって、
対向する側板に複数形成されたウェーハ又は環状フレームを収容する収容棚と、
ウェーハ又は環状フレームを出し入れする開口部と、
ウェーハ又は環状フレームを背部で支持する背止部と、
前記収容棚に収容されたウェーハ又は環状フレームの搬出を規制する規制部と、
前記背止部に配設された弾性部材と、を備え、
前記収容棚に収容されたウェーハ又は環状フレームは前記規制部と前記弾性部材とで挟持されることを特徴とするウェーハカセット。
A wafer cassette for accommodating a plurality of annular frames bonded to a wafer or an adhesive tape and integrated with a wafer,
A storage shelf for storing a plurality of wafers or annular frames formed on opposing side plates;
An opening for taking in and out the wafer or annular frame;
A back stop that supports the wafer or annular frame at the back;
A restricting portion for restricting unloading of the wafer or the annular frame accommodated in the accommodating shelf;
An elastic member disposed on the back stopper,
The wafer cassette accommodated in the accommodation shelf or the annular frame is sandwiched between the restricting portion and the elastic member.
前記弾性部材には、各前記収容棚と同等の高さ位置にウェーハ又は環状フレームを支持する支持溝が形成されたことを特徴とする請求項1記載のウェーハカセット。
The wafer cassette according to claim 1, wherein the elastic member is formed with a support groove for supporting the wafer or the annular frame at a height position equivalent to each of the storage shelves.
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