JP6210726B2 - Processing equipment - Google Patents
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Description
本発明は、収容カセットを載置するカセット載置台を有する加工装置に関する。 The present invention relates to a processing apparatus having a cassette mounting table for mounting a storage cassette.
半導体ウエーハ等の被加工物(ワーク)のダイシング加工を行う切削装置やレーザー加工装置、ワークの研削を行う研削装置、ワークの研磨を行う研磨装置等、ワークの加工を行う加工装置においては、ワークを複数段収容可能なカセットと呼ばれる収容カセット(例えば、特許文献1及び特許文献2参照)が使用されている。 In a processing apparatus for processing a workpiece, such as a cutting apparatus or a laser processing apparatus for dicing a workpiece (workpiece) such as a semiconductor wafer, a grinding apparatus for grinding a workpiece, or a polishing apparatus for polishing a workpiece, Is used as a cassette that can store a plurality of stages (for example, see Patent Document 1 and Patent Document 2).
収容カセットの側壁には、ガイドレールが設けられ、そのガイドレールに沿ってワークやワークがダイシングテープで支持された環状のフレームが挿入されて収容される。 A guide rail is provided on a side wall of the storage cassette, and an annular frame in which a work or a work is supported by a dicing tape is inserted and stored along the guide rail.
通常、収容カセットには、一つの開口部が設けられ、加工装置の搬送機構は、開口部に向かってまっすぐウエーハやフレームを挿入する。よって、収容カセットの置く向きに従って一つの方向からウエーハやフレームを出し入れするため、例えば、加工に用いるチャックテーブルの位置と、収容直前に行われる洗浄時に固定される洗浄テーブルとの位置が平面視においてカセットと異なる向きに配置されていても、いったんは収容カセットに向かってまっすぐ挿入できる位置にウエーハ等を搬送した後、収容カセットに収容する必要があった。このために、前述した加工装置では、スループットを向上するために、ウエーハの出し入れを効率的に行うことが望まれている。 Usually, the accommodation cassette is provided with one opening, and the transport mechanism of the processing apparatus inserts a wafer or a frame straight toward the opening. Therefore, in order to load and remove the wafer and the frame from one direction according to the direction in which the storage cassette is placed, for example, the position of the chuck table used for processing and the position of the cleaning table fixed at the time of cleaning performed immediately before storage are in plan view. Even if it is arranged in a direction different from the cassette, it has been necessary to transport the wafer or the like to a position where it can be inserted straight into the housing cassette and then accommodate it in the housing cassette. For this reason, in the processing apparatus described above, it is desired to efficiently load and unload the wafer in order to improve the throughput.
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、その目的は、収容カセットにウエーハの出し入れを効率的に行うことができる加工装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to provide a processing apparatus capable of efficiently taking a wafer into and out of a storage cassette.
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の加工装置は、板状の被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された該被加工物を加工する加工手段と、該被加工物を収容する収容カセットを載置するカセット載置台と、該カセット載置台に載置された該収容カセットから該被加工物を搬出又は搬入する搬送手段と、を備えた加工装置であって、該収容カセットから搬出されかつ該加工前の該被加工物が載置される第一の仮置き手段と、該第一の仮置き手段と別体でかつ該収容カセットに搬入前の該被加工物が載置される第二の仮置き手段と、を備え、該カセット載置台は、載置した該収容カセットを回転する回転手段を備え、該搬送手段である第一の搬送手段が、該被加工物を該収容カセットから搬出して該第一の仮置き手段に載置する際は、該第一の搬送手段及び該第一の仮置き手段に対面する向きに該回転手段を用いて該収容カセットを回転させ、該搬送手段である第二の搬送手段が、第二の仮置き手段上に載置された該被加工物を該収容カセットへ収容する際は、該第二の搬送手段及び該第二の仮置き手段に対面する向きに該回転手段を用いて該収容カセットを回転させることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems and achieve the object, a processing apparatus of the present invention includes a chuck table that holds a plate-like workpiece, and a processing means that processes the workpiece held on the chuck table. And a cassette mounting table for mounting a storage cassette for storing the workpiece, and a conveying means for unloading or loading the workpiece from the storage cassette mounted on the cassette mounting table. A first temporary placement means that is unloaded from the storage cassette and on which the workpiece to be processed is placed; and is carried separately from the first temporary placement means and loaded into the storage cassette A second temporary placement means on which the previous workpiece is placed, and the cassette placement table comprises a rotating means for rotating the placed cassette and is a first transport means. conveying means carries the workpiece from the storage holder When placed on said first temporary means rotates the accommodation cassette with said rotating means in a direction facing the conveying means and said first temporary means of the first, with conveying means When a certain second conveying means accommodates the workpiece placed on the second temporary placing means in the accommodation cassette, the second conveying means faces the second temporary placing means. The storage cassette is rotated using the rotating means in a direction to be rotated .
また、前記加工装置は、前記被加工物が、環状フレームの開口に板状物が粘着テープで支持されたウエーハユニットであることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the said processing apparatus is a wafer unit with which the said to-be-processed object was supported by the opening of the cyclic | annular flame | frame with the plate-shaped object with the adhesive tape.
本発明の加工装置は、収容カセットが回転することで、収容カセットに対する被加工物の搬出入方向を自由に設定できるため、搬出入する向きを限定することなく装置のレイアウトが設定可能であり、効率的な装置レイアウトを可能にするという効果を奏する。 Since the processing apparatus of the present invention can freely set the loading / unloading direction of the workpiece with respect to the storage cassette by rotating the storage cassette, the layout of the apparatus can be set without limiting the direction of loading / unloading, There is an effect of enabling an efficient device layout.
また、収容カセットから一つの被加工物を出し入れした後に、収容カセットを回転させて他の被加工物の出し入れを直ちに行うことができるので、スムーズな出し入れの遂行が可能となり、被加工物の出し入れを効率的に行うことができる。したがって、加工装置のスループットの向上にもつながるという効果を奏する。 In addition, since one workpiece can be taken in and out of the storage cassette, and then the other cassette can be put in and taken out immediately by rotating the storage cassette, it is possible to carry out smooth loading and unloading. Can be performed efficiently. Therefore, there is an effect that the throughput of the processing apparatus is improved.
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. The constituent elements described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the structures described below can be combined as appropriate. Various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the scope of the present invention.
〔実施形態〕
本発明の実施形態に係る加工装置を図面に基いて説明する。図1は、実施形態に係る加工装置としてのレーザー加工装置の構成例を示す図である。図2は、実施形態に係る加工装置の被加工物を搬出する収容カセットの断面図である。図3は、実施形態に係る加工装置の被加工物を搬入する収容カセットの断面図である。
Embodiment
A processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration example of a laser processing apparatus as a processing apparatus according to the embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view of a storage cassette for carrying out a workpiece of the processing apparatus according to the embodiment. FIG. 3 is a cross-sectional view of a storage cassette for carrying a workpiece of the processing apparatus according to the embodiment.
実施形態に係る加工装置としてのレーザー加工装置1は、板状の被加工物Wを保持するチャックテーブル10と、レーザー光線照射手段20とを相対移動させることで、被加工物Wにアブレーション加工を施して、被加工物Wにレーザー加工溝を形成するものである。 The laser processing apparatus 1 as the processing apparatus according to the embodiment performs ablation processing on the workpiece W by relatively moving the chuck table 10 that holds the plate-shaped workpiece W and the laser beam irradiation means 20. Thus, a laser processing groove is formed on the workpiece W.
実施形態では、被加工物Wは、環状フレームFの開口に板状物としてのウエーハWaが粘着テープTで支持されたウエーハユニットである。ここで、ウエーハWaは、各種の加工装置により加工される加工対象であり、実施形態ではシリコン、サファイア、ガリウムなどを母材とする円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハである。ウエーハWaは、表面に形成された複数のデバイスDが複数のストリートによって格子状に区画されている。ウエーハWaは、デバイスDが複数形成されている表面の反対側の裏面に粘着テープTが貼着され、粘着テープTの外縁が環状フレームFに貼着されることで、被加工物Wを構成する。 In the embodiment, the workpiece W is a wafer unit in which the wafer Wa as a plate-like object is supported by the adhesive tape T in the opening of the annular frame F. Here, the wafer Wa is an object to be processed by various processing apparatuses, and in the embodiment, is a disk-shaped semiconductor wafer or optical device wafer having a base material of silicon, sapphire, gallium or the like. In the wafer Wa, a plurality of devices D formed on the surface are partitioned in a lattice pattern by a plurality of streets. Wafer Wa constitutes work piece W by sticking adhesive tape T on the back surface opposite to the surface on which a plurality of devices D are formed, and attaching the outer edge of adhesive tape T to annular frame F. To do.
被加工物Wは、収容カセット100内に収容されて、例えば、加工装置としてのレーザー加工装置1(図1に示す)のカセット載置台60に載置される。なお、本発明では、板状物として、ウエーハWaの他に、樹脂により封止されたデバイスを複数有した矩形状のパッケージ基板等を用いても良い。さらに、本発明の収容カセット100は、板状物としてのウエーハWa等を環状フレームFで支持した被加工物Wを収容することなく、被加工物Wとして、ウエーハWaやパッケージ基板等を直接収容しても良い。
The workpiece W is accommodated in the
レーザー加工装置1は、図1に示すように、板状の被加工物Wを保持するチャックテーブル10と、チャックテーブル10に保持された被加工物Wを加工する加工手段としてのレーザー光線照射手段20と、レーザー光線照射手段20によりアブレーション加工が施された被加工物Wを洗浄する洗浄手段30と、被加工物Wを収容する収容カセット100を載置するカセット載置台60と、制御手段90とを備えている。レーザー光線照射手段 は、チャックテーブル10に保持された被加工物Wにレーザー光線を照射して、アブレーション加工するものである。
As shown in FIG. 1, the laser processing apparatus 1 includes a chuck table 10 that holds a plate-like workpiece W, and a laser
収容カセット100は、図1に示すように、コ字状に配置された三つの側壁101と、三つの側壁101の上端に固定された天井部104と、三つの側壁101の下端に固定された底部105(図2及び図3に示す)とを備えている。側壁101間には、収容カセット100に被加工物Wを出し入れ可能とする開口部106が形成されている。また、互いに対向する二つの側壁101の内側には、被加工物Wを支える複数のガイドレール108(図2及び図3に示す)が天井部104から底部105に渡り所定の間隔で形成されている。複数のガイドレール108は、表面上に被加工物Wが載置されて、被加工物Wを支えるものである。
As shown in FIG. 1, the
また、レーザー加工装置1は、チャックテーブル10とレーザー光線照射手段20とをX軸方向に相対移動させるX軸移動手段40と、チャックテーブル10とレーザー光線照射手段20とをY軸方向に相対移動させるY軸移動手段50と、チャックテーブル10とレーザー光線照射手段20とをZ軸方向に相対移動させる図示しないZ軸移動手段とを含んで構成されている。
The laser processing apparatus 1 also includes an
さらに、レーザー加工装置1は、収容カセット100から取り出されたアブレーション加工前の被加工物Wを一時的に載置する第一の仮置き手段70と、洗浄手段30により洗浄されたアブレーション加工後の被加工物Wを一時的に載置する第二の仮置き手段80とを含んで構成されている。第一の仮置き手段70は、アブレーション加工前の被加工物Wを一時的に載置する一対のレール71を含んで構成されている。第二の仮置き手段80は、洗浄後の被加工物Wを一時的に載置する一対のレール81を含んで構成されている。
Further, the laser processing apparatus 1 includes a first temporary placement means 70 for temporarily placing the workpiece W before ablation processing taken out from the
また、レーザー加工装置1は、収容カセット100からアブレーション加工前の被加工物Wを搬出して第一の仮置き手段70に載置し、第一の仮置き手段70とチャックテーブル10とに亘って被加工物Wを搬送する第一の搬送手段110と、チャックテーブル10と洗浄手段30と第二の仮置き手段80とに亘って被加工物Wを搬送し、第二の仮置き手段80に載置された被加工物Wを収容カセット100内に搬入する第二の搬送手段120を更に備えている。第一の搬送手段110及び第二の搬送手段120は、レーザー加工装置1の装置本体の天井を構成する壁などにX軸方向とY軸方向に移動自在に設けられている。
Further, the laser processing apparatus 1 unloads the workpiece W before ablation processing from the
カセット載置台60は、載置された収容カセット100をZ軸方向に昇降自在とする。また、カセット載置台60は、回転手段としての回転台61を備えている。回転台61は、カセット載置台60に載置した収容カセット100をZ軸と平行な軸心回りに回転する。回転台61は、図示しないモータなどの駆動源により軸心回りに収容カセット100を回転する。
The cassette mounting table 60 enables the mounted
制御手段90は、レーザー加工装置1を構成する上述した構成要素をそれぞれ制御するものである。制御手段90は、被加工物Wに対するアブレーション加工動作をレーザー加工装置1に行わせるものである。なお、制御手段90は、例えばCPU等で構成された演算処理装置やROM、RAM等を備える図示しないマイクロプロセッサを主体として構成されており、加工動作の状態を表示する表示手段や、オペレータが加工内容情報などを登録する際に用いる操作手段と接続されている。
The control means 90 controls each of the above-described components constituting the laser processing apparatus 1. The
次に、本実施形態に係るレーザー加工装置1の加工動作について説明する。まず、オペレータが加工内容情報を登録し、加工動作の開始指示があった場合に、加工動作を開始する。加工動作において、まず、第一の搬送手段110で被加工物Wを収容カセット100から搬出する。この際、収容カセット100の開口部106が第一の搬送手段110に対面する向きに、回転台61を用いて収容カセット100を回転させて、図2に示すように、開口部106が第一の搬送手段110に対面する位置で回転台61を停止する。そして、被加工物Wは、第一の搬送手段110により収容カセット100から第一の仮置き手段70まで搬出され、第一の仮置き手段70の一対のレール71上に載置された後、チャックテーブル10まで搬送され、チャックテーブル10に保持される。
Next, the processing operation of the laser processing apparatus 1 according to this embodiment will be described. First, when the operator registers the machining content information and receives an instruction to start the machining operation, the machining operation is started. In the processing operation, first, the workpiece W is unloaded from the
被加工物Wを保持したチャックテーブル10が、加工開始位置までX軸方向に移動した後、レーザー加工装置1は、チャックテーブル10とレーザー光線照射手段20とを相対的に移動させながら被加工物Wにアブレーション加工を施す。アブレーション加工が行われた被加工物Wは、第二の搬送手段120によりチャックテーブル10から洗浄手段30まで搬送され、洗浄手段30により洗浄された後、第二の仮置き手段80まで搬送される。そして、第二の搬送手段120で、洗浄後の被加工物Wを収容カセット100へ収容する。この際、収容カセット100の開口部106が第二の搬送手段120に対面する向きに、回転台61を用いて収容カセット100を回転させて、図3に示すように、開口部106が第二の搬送手段120に対面する位置で回転台61を停止する。そして、被加工物Wは、第二の搬送手段120により収容カセット100に収容される。
After the chuck table 10 holding the workpiece W moves in the X-axis direction to the processing start position, the laser processing apparatus 1 moves the workpiece W while relatively moving the chuck table 10 and the laser beam irradiation means 20. Ablation processing is performed on. The workpiece W subjected to the ablation processing is transported from the chuck table 10 to the
以上のように、実施形態に係るレーザー加工装置1は、収容カセット100を回転することで、収容カセット100に対する被加工物Wの搬出入方向を自由に設定できるため、搬出入する向きを限定することなく装置のレイアウトが設定可能であり、効率的な装置レイアウトを可能にするという効果を奏する。
As described above, the laser processing apparatus 1 according to the embodiment can freely set the loading / unloading direction of the workpiece W with respect to the
また、開口部106が第一の搬送手段110と第二の搬送手段120に対面する向きに回転台61を用いて、収容カセット100を回転させる。このために、開口部106を第一の搬送手段110と第二の搬送手段120とのいずれか一方に対面させて、収容カセット100から一つの被加工物Wを出し入れした後に、収容カセット100を回転させて、開口部106を他方に対面させて、他の被加工物Wの出し入れを直ちに行うことができる。したがって、スムーズな被加工物Wの収容カセット100への出し入れの遂行が可能となり、被加工物Wの出し入れを効率的に行うことができる。したがって、加工装置のスループットの向上にもつながるという効果を奏する。
Further, the
また、実施形態に係るレーザー加工装置1は、環状フレームFの開口にウエーハWaが粘着テープTで支持されたウエーハユニットを被加工物Wとするので、ウエーハWaなどを破損させることなく、出し入れすることができる。 Further, in the laser processing apparatus 1 according to the embodiment, the wafer unit in which the wafer Wa is supported by the adhesive tape T in the opening of the annular frame F is used as the workpiece W, so that the wafer Wa or the like is not damaged. be able to.
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。例えば、本発明は、レーザー加工装置1に限らず、種々の被加工物Wに研削装置や研磨装置などの種々の加工を施す加工装置であっても良い。また、本発明では、収容カセット100が被加工物Wとしてのウエーハユニットに限らず、種々の被加工物Wを収容しても良い。本発明では、搬送手段110,120をいくつ設けても良く、搬送手段110,120を如何なる箇所に配置しても良い。
The present invention is not limited to the above embodiment. That is, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. For example, the present invention is not limited to the laser processing apparatus 1 and may be a processing apparatus that performs various processes such as a grinding apparatus and a polishing apparatus on various workpieces W. In the present invention, the
また、前述した実施形態では、カセット載置台60に回転手段としての回転台61を設けているが、本発明では、回転手段がカセット載置台60自体をZ軸と平行な軸心回りに回転させても良い。さらに、回転手段が、収容カセット100の下面等に設けられても良い。この場合、収容カセット100を回転するための駆動源を収容カセット100に設けても良く、駆動源としてレーザー加工装置1に収容カセット100の外縁を押したり引っ張る手段を設けても良い。
In the above-described embodiment, the cassette mounting table 60 is provided with the rotating table 61 as a rotating unit. However, in the present invention, the rotating unit rotates the cassette mounting table 60 itself around an axis parallel to the Z axis. May be. Further, the rotating means may be provided on the lower surface of the
1 レーザー加工装置(加工装置)
10 チャックテーブル
20 レーザー光線照射手段(加工手段)
60 カセット載置台
61 回転台(回転手段)
100 収容カセット
110 第一の搬送手段
120 第二の搬送手段
F 環状フレーム
T 粘着テープ
W 被加工物(ウエーハユニット)
Wa ウエーハ(板状物)
1 Laser processing equipment (processing equipment)
10 Chuck table 20 Laser beam irradiation means (processing means)
60 cassette mounting table 61 rotating table (rotating means)
DESCRIPTION OF
Wa wafer (plate)
Claims (2)
該収容カセットから搬出されかつ該加工前の該被加工物が載置される第一の仮置き手段と、
該第一の仮置き手段と別体でかつ該収容カセットに搬入前の該被加工物が載置される第二の仮置き手段と、を備え、
該カセット載置台は、載置した該収容カセットを回転する回転手段を備え、
該搬送手段である第一の搬送手段が、該被加工物を該収容カセットから搬出して該第一の仮置き手段に載置する際は、該第一の搬送手段及び該第一の仮置き手段に対面する向きに該回転手段を用いて該収容カセットを回転させ、
該搬送手段である第二の搬送手段が、第二の仮置き手段上に載置された該被加工物を該収容カセットへ収容する際は、該第二の搬送手段及び該第二の仮置き手段に対面する向きに該回転手段を用いて該収容カセットを回転させることを特徴とする加工装置。 A chuck table for holding a plate-shaped workpiece; a processing means for processing the workpiece held on the chuck table; a cassette mounting table for mounting a storage cassette for storing the workpiece; A conveying device for carrying out or carrying in the workpiece from the accommodating cassette placed on a cassette placing table,
First temporary placement means for carrying out the workpiece before being processed from the storage cassette;
A second temporary placement means that is separate from the first temporary placement means and on which the workpiece before loading into the storage cassette is placed;
The cassette mounting table includes a rotating means for rotating the placed cassette.
When the first conveying means which is the conveying means carries the workpiece out of the storage cassette and places it on the first temporary placing means, the first conveying means and the first temporary means . Rotating the storage cassette using the rotating means in a direction facing the placing means ,
When the second conveying means, which is the conveying means, accommodates the workpiece placed on the second temporary placing means in the accommodation cassette, the second conveying means and the second temporary means. A processing apparatus for rotating the storage cassette using the rotating means in a direction facing the placing means.
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