JP2014221642A - 遮蔽体および電子線容器滅菌設備 - Google Patents

Abstract

【課題】磁気による電子ビームの軌跡変動を防止し安定して容器を滅菌する。
【解決手段】先端部に出射窓Ｅｗを有する照射ノズルＥｎを、容器Ｂの口部から挿入して、容器Ｂの内面を滅菌する容器滅菌設備に使用される遮蔽体であって、照射ノズルＥｎの周囲に複合遮蔽体Ｗｉ，Ｗｏを設置し、複合遮蔽体Ｗｉ，Ｗｏを形成する複合遮蔽体ブロック２１は、高耐食性材質からなる板状殻体２２の中空部に、磁気遮蔽体およびＸ線遮蔽体が配置され、板状殻体の一方の面と磁気遮蔽体の間、および磁気遮蔽体とＸ線遮蔽体の間、ならびにＸ線遮蔽体と板状躯体の一方の面との間に、それぞれ絶縁層が介在された。
【選択図】図３

Description

本発明は、電子線滅菌装置に用いられる遮蔽体および電子線容器滅菌設備に関する。

細胞性微生物を滅菌するために照射された電子線（陰極線）が、滅菌装置を構成する金属部品、たとえば容器を把持するステンレス製把持具などに衝突すると、減衰されるとともに、制動Ｘ線や特性Ｘ線が発生する。これらＸ線は、広範囲に拡散されて反射、回折される。Ｘ線の強度にもよるが、たとえば３〜４回程度遮蔽体に衝突すると、人体に影響を与えない程度の強度までＸ線を減衰させることができる。

ところで、電子線は磁界の作用でビーム方向が曲がることが知られている。電子線照射により容器外面を滅菌する場合、電子線発生器から電子線を広い出射窓を介して容器に向かって広範囲に照射するため、地磁気の影響を考慮する必要がない。また近年、電子線を容器の壁面を透過させて内面を滅菌する技術も実施されているが、電子線量を過大に照射すると、容器の変質や着色、臭いの発生を招くため、所定値以下に保持されている。このため、容器の壁面がかなり薄い容器にのみ適用され、電子線量を抑制している。また特許文献２には、電子線を容器の口部から導入して照射する技術が開示されているが、電子線が容器の口部周囲に照射されるのを防止するため、口部周囲に照射保護板を設けている。

さらに近年、電子線の照射ノズルを口部から容器内に挿入して、照射ノズル先端の出射窓から電子線を容器内面に照射し、滅菌する技術がたとえば特許文献１などに提案されている。照射ノズルによる内面滅菌技術では、照射ノズルの出射窓から出た電子線は広がるが、電子線量を抑制すると、滅菌域が限られているため、出射窓を容器の底部近傍まで接近させる必要がある。このため、照射ノズルの長さは容器の略高さ程度必要となり、背の高い容器の場合、照射ノズルの長さが３０〜４０cmとなる。また照射ノズルは、外径を容器の口部に遊嵌可能な外径に形成する必要があり、かつ電子線による加熱を冷却する冷却構造も必要となることから、照射ノズル内の電子線通路の内径が約１０mm程度の限られたものとなる。

このような照射ノズルに、地磁気が作用すると、電子線通路を通過する電子ビームが曲げられて出射窓の偏った部位から照射されたり、出射窓に達するまでに照射ノズルの電子線通路の内面に衝突し、正常な滅菌ができないおそれがある。

なお、実験により、一般的な0.3(Gauss)程度の地磁気の２乃至３倍の磁界が発生することによって、電子ビームが照射ノズルの内面に衝突することが判明している。また地磁気の方向や強度は、磁気嵐を含む太陽活動や地表の位置、時間により変動が大きく、またＮ極からＳ極に至る地表に平行な磁界の作用が大きい。さらに地磁気が電子ビームに及ぼす影響は、滅菌設備の容器搬送用モータの磁界の影響より充分に大きい。さらにまた、容器旋回経路に沿って旋回移動中に、容器内面を滅菌するロータリ式滅菌設備の場合、容器旋回経路上で地磁気の方向や強度が大きく変動することが判明しており、実験では、地磁気の強度が１(Gauss)程度以上変動することが認められ、照射ノズルから照射された電子線による安定した滅菌が損なわれるおそれがある。

特表２００９−５２６９７１ 特許第４８５９５１７号

しかしながら、特許文献１,２には、照射ノズルを通過する電子線に影響を与える地磁気対策については言及されていない。
本発明は上記問題点を解決して、磁気による電子ビームの軌跡変動を防止して安定して容器の滅菌が可能な遮蔽体および電子線滅菌設備を提供することを目的とする。

請求項１記載の発明は、
電子線を容器に照射して滅菌する電子線容器滅菌装置に使用される遮蔽体であって、
腐食性雰囲気から保護するための一対の耐食層の間に、磁気を遮蔽するための磁気遮蔽層と、電子線の反射、回折により発生するＸ線を遮蔽するためのＸ線遮蔽層を配置した複合遮蔽体を設け、
一方の前記耐食層および前記磁気遮蔽層の間、前記磁気遮蔽層および前記Ｘ線遮蔽層の間、前記Ｘ線遮蔽層および他方の前記耐食層の間に、それぞれ絶縁層を介在させたことを特徴とする。

請求項２記載の発明は、
電子線を容器に照射して滅菌する電子線容器滅菌装置に使用される遮蔽体であって、
遮蔽体は、複数の複合遮蔽体ブロックにより形成され、
当該複合遮蔽体ブロックは、高耐食性材質からなる板状殻体の中空部に、磁気遮蔽体およびＸ線遮蔽体が配置されるとともに、前記板状殻体の一方の面と前記磁気遮蔽体の間、および前記磁気遮蔽体と前記Ｘ線遮蔽体の間、ならびに前記Ｘ線遮蔽体と前記板状殻体の他方の面との間に、それぞれ絶縁層が介在されたことを特徴とする。

請求項３記載の発明は、
先端部に出射窓を有する電子線照射ノズルを、容器の口部から挿入して、容器の内面を滅菌する電子線容器滅菌設備であって、
前記電子線照射ノズルの周囲に遮蔽体を設置し、
前記遮蔽体を、請求項１または２記載の遮蔽体で構成したことを特徴とする。

請求項４記載の発明は、
容器をそれぞれ直立姿勢で把持して、鉛直方向の旋回軸心を中心とする容器旋回経路に沿って移動させるとともに、電子線照射ノズルを容器と同期して移動させ、電子線照射ノズルおよび容器の少なくとも一方を上方または下方に移動して、電子線照射ノズルを容器の口部に挿入し、電子線照射ノズルから照射される電子線により容器の内面を滅菌する電子線容器滅菌設備であって、
前記容器旋回経路の内周部に沿って内周遮蔽体を設けるとともに、外周部に外周遮蔽体を設け、
前記内周遮蔽体および前記外周遮蔽体を、請求項１または２記載の遮蔽体で構成したことを特徴とする。

請求項１記載の発明によれば、耐食層の間に磁気遮蔽層およびＸ線遮蔽層を配置して遮蔽層を形成したので、Ｘ線遮蔽層により、Ｘ線を遮蔽して効果的に減衰させることができ、また磁気遮蔽層により、地磁気による電子ビームの曲りを防止して、電子ビームによる安定した容器の滅菌が可能となる。さらに耐食層により、過酸化水素やオゾン雰囲気における腐食を防止することができ、さらにまた絶縁層により、異質金属の電位差によるガルバニック腐食を防止することができる。

なお、ここで、遮蔽層および耐食層の「層」とは、成型や切断された板材、部材と、塗布、溶射、蒸着などにより付着形成されるものを含み、いずれか１つ、たとえばＸ線遮蔽層を母材として、磁気遮蔽層、絶縁層、耐食層を製膜して形成した遮蔽体を含む。

請求項２記載の発明によれば、複合遮蔽体ブロックは、耐食性材料からなる板状殻体の中空部に、磁気遮蔽体およびＸ線遮蔽体が配置されるとともに、耐食層、磁気遮蔽体、Ｘ線遮蔽体の間に絶縁層が介在されたので、Ｘ線遮蔽体により、Ｘ線を遮蔽して効果的に減衰させることができ、また磁気遮蔽体により、地磁気による電子線照射ノズルにおける電子ビームの曲りを防止して、安定した容器内面の滅菌が可能となる。さらに板状殻体により、腐食性雰囲気における腐食を防止することができ、さらにまた絶縁層により、異質金属の電位差によるガルバニック腐食を防止することができる。さらに、板状殻体の中空部に、磁気遮蔽体およびＸ線遮蔽体を配置することで、容易に製造することができ、組立も容易に行うことができる。

なお、ここで、遮蔽「体」は、成型や切断された板材や部材のみを指す。
請求項３記載の発明によれば、電子線照射ノズルを口部から容器内に挿入して容器の内面を殺菌する際に、電子線照射ノズルの周囲に遮蔽体を設置したので、電子線が小径の電子線照射ノズルを通過する時に、地磁気による電子ビームの曲りを防止することができ、出射窓から安定して電子線を照射することができる。

請求項４記載の発明によれば、容器旋回経路に沿って電子線照射ノズルが旋回移動することにより、地磁気が著しく変動することがあっても、容器旋回経路を囲むように複合遮蔽体からなる内周遮蔽体および外周遮蔽体を設けたので、地磁気による電子線照射ノズルを通過する電子ビームの曲りを防止して、安定した容器内面の滅菌が可能となる。

本発明に係る複合遮蔽体を形成する複合遮蔽体ブロックの実施例を示し、（ａ）は部分拡大断面図、（ｂ）は分解斜視図である。 遮蔽体を備えた電子線滅菌設備の実施例１を示す概略平面図である。 電子線滅菌設備の側面視の断面図である。 内面殺菌室の要部部分拡大図である。 遮蔽体を備えた電子線滅菌設備の実施例２を示し、内面滅菌部の平面視の概略断面図である。 電子線滅菌設備における内面滅菌部の側面視の概略断面図である。

［実施例１］
以下、本発明に係る容器滅菌設備の実施例１を図１〜図４に基づいて説明する。
［実施例１］
図２〜図４に示すように、この容器滅菌設備は、容器Ｂの入口から出口側に沿って、外面滅菌室Ｒ１、内面滅菌室Ｒ２、第１排出室Ｒ３、第２排出室Ｒ４、トラップ室Ｒ５、リジェクト室Ｒ６を具備している。そして、各室Ｒ１〜Ｒ６にそれぞれ鉛直軸心を中心とする容器旋回経路Ｃ１ａ，Ｃ１ｂ〜Ｃ６に沿って容器Ｂを搬送するロータリ式の旋回搬送装置Ｍ１ａ，Ｍ１ｂ〜Ｍ６が設置されている。そして、各容器旋回経路Ｃ１ａ，Ｃ１ｂ〜Ｃ５が直列に接続され、またリジェクト室Ｒ６の容器旋回経路Ｃ６は、第２排出室Ｒ４の容器旋回経路Ｃ４に分岐して接続され、容器旋回経路Ｃ６に搬入された滅菌不良の容器Ｂを排出路Ｃ６ａから排出する。

外面滅菌室Ｒ１には、ネック把持装置１２により保持された容器Ｂを、容器旋回経路Ｃ１ａ，Ｃ１ｂに沿って順次搬送する２基の旋回搬送装置Ｍ１ａ，Ｍ１ｂが直列に配置されている。そして、入口側の容器旋回経路Ｃ１ａの外側に、容器Ｂの外面の略半分を滅菌する第１電子線照射装置Ｅ１が設置され、出口側の容器旋回経路Ｃ１ｂの外側に、容器Ｂの外面の残りの略半分を滅菌する第２電子線照射装置Ｅ２が設置されている。

内面滅菌室Ｒ２には、旋回搬送装置Ｍ２で旋回テーブル１１の外周部に、昇降機構１３付のネック把持装置１２が一定ピッチで設置されている。これらネック把持装置１２は、容器Ｂを容器旋回経路Ｃ２に沿って搬送中に、カム式の昇降機構１３により容器Ｂを所定範囲で昇降させる。また旋回テーブル１１の上方の天井旋回板１４に、各ネック把持装置１２に対応して第３電子線照射装置Ｅ３がそれぞれ設置されている。これら第３電子線照射装置Ｅ３は、下端部（先端）の出射窓Ｅｗから電子線を照射する照射ノズル（電子線照射ノズル）Ｅｎが垂下され、容器旋回経路Ｃ２を旋回移動中に、昇降機構１３より上昇された容器Ｂに、照射ノズルＥｎが口部から挿入されて、出射窓Ｅｗから照射される電子線により容器Ｂの内面が滅菌される。

なお、昇降機構１３は、容器Ｂを昇降させるものとしたが、照射ノズルＥｎを昇降させてもよいし、容器Ｂと照射ノズルＥｎとをそれぞれ昇降させてもよい。
第１排出室Ｒ３、第２排出室Ｒ４、トラップ室Ｒ５は、内面滅菌室Ｒ２から順次排出される容器Ｂを、旋回搬送装置Ｍ３〜Ｍ５により容器旋回経路Ｒ３〜Ｒ６に沿って旋回移動させるとともに、滅菌不良の容器Ｂをリジェクト室Ｒ６に送り出す。

これら各室Ｒ１〜Ｒ６は、第１〜第３電子線照射装置Ｅ１〜Ｅ３から照射された電子線が周辺部材に反射、回折して発生するＸ線を遮蔽するための主遮蔽壁Ｗａにより床面、天井面、外面がそれぞれ囲まれている。そして、各室Ｒ１〜Ｒ６は、それぞれＸ線を遮蔽する仕切り壁Ｗｂにより区画され、仕切り壁Ｗｂに容器Ｂを受け渡すための移送開口部１５が形成されている。また各室Ｒ１〜Ｒ６内は、滅菌中に電子が空気中の酸素と反応してオゾンが発生する。また各室Ｒ１〜Ｒ６内は、たとえば１週間に一度程度、定期的に過酸化水素や過酢酸で雑菌を殺菌する消毒が実施される。このため、過酸化水素やオゾンを多く含む腐食性雰囲気となるため、これら主遮蔽壁Ｗａおよび仕切り遮蔽壁Ｗｂには、Ｘ線遮蔽体を耐食性金属からなるカバー部材で覆ったものが使用される。たとえば、Ｘ線遮蔽体に鉛製の板体が使用され、鉛製の板体を耐食性の高い、たとえばステンレス製の金属板で覆ったものである。

ところで、内面滅菌室Ｒ２では、旋回テーブル１１と天井旋回板１４に仕切り遮蔽壁Ｗｂが組み込まれている。そして、主遮蔽壁Ｗａおよび仕切り遮蔽壁Ｗｂのうち、旋回テーブル１１から天井旋回板１４にわたって、容器旋回経路Ｃ２の内周側に沿って平面視円形の内周複合遮蔽体Ｗｉが立設配置され、また容器旋回経路Ｃ２の外周側に沿って平面視円形の外周複合遮蔽体Ｗｏが立設配置されている。そして、これら内周、外周複合遮蔽体Ｗｉ，Ｗｏは、Ｘ線遮蔽層と、磁気遮蔽層と、高耐食層を備えた複合遮蔽体である。もちろん、この複合遮蔽体を、旋回テーブル１１と天井旋回板１４に組み込むこともできる。

天井旋回板１４の上部に、第３電子線照射装置Ｅ３の外周部を覆う外側壁遮蔽体Ｗｓと、上方部を覆う天板遮蔽体Ｗｒからなる照射装置遮蔽室１６が形成されている。そして、外側壁遮蔽体Ｗｓが、Ｘ線遮蔽層と、磁気遮蔽層と、高耐食層を備えた複合遮蔽体で構成され、また天板遮蔽体Ｗｒが、Ｘ線遮蔽体を耐食性金属からなるカバー部材で覆った遮蔽体で構成されている。

すなわち、内周、外周複合遮蔽体Ｗｉ，Ｗｏを形成する複合遮蔽体ブロック２１は、図１に示すように、一対の高耐食層を形成する耐食板（耐食層）２３,２３の間に、磁気遮蔽層を形成する磁気遮蔽体２４およびＸ線遮蔽層を形成するＸ線遮蔽体２５を、それぞれ絶縁層２６を介して一体化したものである。

たとえばステンレス鋼（金属以外でも可能）からなる耐食板２３，２３により周空の板状殻体（１面が開放された箱体状）２２を形成し、この板状殻体２２の中空部に、たとえば高透磁性のMu-Metal（パーマロイ＋Mo,Mn,Cu,Crを添加したもの、78Ni-5Mo-4Cu-Feや36Ni-Feなど）や鉄・ニッケル合金（52Ni-Fe）などの高透磁性金属からなる板状の磁気遮蔽体２４と、たとえば鉛板からなるＸ線遮蔽体２５に嵌め込み、耐食板２３と磁気遮蔽体２４の間、および磁気遮蔽体２４とＸ線遮蔽体２５の間、ならびにＸ線遮蔽体２５と耐食板２３の間にそれぞれ、たとえばエポキシ樹脂やシリコン樹脂などの絶縁性接着剤からなる絶縁層２６を充填したものである。この絶縁層２６は、異質金属の電位差によるガルバニック腐食を防止するためのものである。もちろん、絶縁層２６は、中空部内の側辺部や上下辺部にも充填される。なお、絶縁層２６は、絶縁性接着剤を塗布して形成したり、絶縁性接着剤からなる粘着シートを張り付けて形成する。

ここで複合遮蔽体ブロック２１において、ステンレス鋼製の耐食板２３の厚みは０．５mm以上〜２．５mm以下の厚み、Mu-Metal製の磁気遮蔽体２４は０．３mm以上〜３mm以下の厚み、鉛製のＸ線遮蔽体２５は、Ｘ線強度により変化するが、２mm以上〜１５mm以下の厚みがそれぞれ好適である。これら複合遮蔽体ブロック２１は、作業員による取扱いが可能な大きさや重量に形成されるとともに、湾曲状に曲げることができる性質に形成され、たとえば厚みが４mm以上〜２０mm以下の範囲が好ましい。

また図１では、板状殻体２２の遮蔽面を開放したが、側辺部や上下辺部を開放して、一体に組み立ててもよい。
なお、磁気遮蔽体２４を板状に図示しているが、地磁気の遮蔽性能が確保可能であれば、短冊状やメッシュ状であってもよい。

また、上記実施例では、板状殻体２２を使用したが、複合遮蔽体ブロック２１を、Ｘ線遮蔽体２５を母材として、磁気遮蔽層、絶縁層、耐食層を塗布や溶射、蒸着などにより製膜して形成してもよい。

上記実施例によれば、板状殻体２２の中空部で耐食板２３，２３の間に磁気遮蔽体２４およびＸ線遮蔽体２５を配置して複合遮蔽体ブロック２１を形成したので、Ｘ線遮蔽体２５により、Ｘ線を遮蔽して効果的に減衰させることができ、磁気遮蔽体２４により、地磁気による電子線照射ノズルＥｎにおける電子ビームの曲りを防止して、安定した容器Ｂの内面の滅菌が可能となる。さらに耐食板２３により、過酸化水素やオゾン雰囲気における腐食を防止することができる。また絶縁層２６により、異質金属の電位差によるガルバニック腐食を防止することができる。さらに板状殻体２２の中空部に、磁気遮蔽体２４およびＸ線遮蔽体２５を配置して複合遮蔽体ブロック２１を形成することで、容易に製造することができ、組立も容易に行うことができる。

さらに、内面滅菌室Ｒ２において、容器旋回経路Ｃ２に沿って電子線照射ノズルＥｎが旋回移動することにより、地磁気の影響が著しく変動することがあっても、内周、外周複合遮蔽体Ｗｉ，Ｗｏを形成する複合遮蔽体ブロック２１に内装された磁気遮蔽体２４により、地磁気による電子線照射ノズルＥｎにおける電子ビームの曲りを防止して、安定した容器Ｂの内面の滅菌が可能となる。

さらにまた、照射装置遮蔽室１６内で第３電子線照射装置Ｅ３の外周部に設置した外側壁遮蔽体Ｗｓに、複合遮蔽体を採用したので、地磁気の変動や環境磁場の影響を受けることなく、第３電子線照射装置Ｅ３から安定して電子線を発生させることができる。

［実施例２］
図５および図６は、本発明に係る電子線滅菌設備の実施例２を示し、内面滅菌部の平面視の概略断面図および側面視の概略断面図である。なお、実施例１と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。

側壁遮蔽体Ｗｔ、底壁遮蔽体Ｗｆ、天井壁遮蔽体Ｗｈに囲まれた内面滅菌室３１に、内面滅菌室３１の容器入口３１ｉから容器出口３１ｏにわたる容器搬送経路Ｃｓに沿って、容器搬送装置の一例であるベルトコンベヤ装置３２が設置されている。このベルトコンベヤ装置３２は、一定ピッチごとに停止する間欠移動により容器Ｂを搬送する。ベルトコンベヤ装置３２の容器停止位置に対応する内面滅菌室３１に、一対のネック把持アーム３３により容器Ｂのネック部を把持して、容器Ｂを所定高さまで昇降させる容器昇降装置（図示せず）が設置されている。内面滅菌室３１を形成する側壁遮蔽体Ｗｔ、底壁遮蔽体Ｗｆ、天井壁遮蔽体Ｗｈは、電子線が反射、回折して発生するＸ線を遮蔽するためのもので、Ｘ線遮蔽体を耐食性金属からなるカバー部材で覆ったものが使用される。

天井壁遮蔽体Ｗｈ上部には、内面滅菌用の第４電子線照射装置Ｅ４が設置されており、この第４電子線照射装置Ｅ４から天井壁遮蔽体Ｗｈを貫通して、先端部（下端部）に出射窓Ｅｗを有する照射ノズル（電子線照射ノズル）Ｅｎが垂下され、容器昇降装置によりネック把持アーム３３を介して上昇された容器Ｂに、照射ノズルＥｎが口部から挿入され、出射窓Ｅｗから照射される電子線により容器Ｂの内面が滅菌される。

そして照射ノズルＥｎの外周部に、ノズル遮蔽体（複合遮蔽体）Ｗｎが設置されて、天井壁遮蔽体Ｗｈから垂下されている。また天井壁遮蔽体Ｗｈ上に、第４電子線照射装置Ｅ４を覆う照射装置遮蔽室３４が形成されている。この照射装置遮蔽室３４は、外側壁遮蔽体（複合遮蔽体）Ｗｓと天板遮蔽体Ｗｒで形成されており、そして、外側壁遮蔽体Ｗｓが、Ｘ線遮蔽層と、磁気遮蔽層と、高耐食層を備えた複合遮蔽体で構成され、また天板遮蔽体Ｗｒが、Ｘ線遮蔽体を耐食性金属からなるカバー部材で覆った遮蔽体で構成されている。

上記実施例２によれば、照射ノズルＥｎの外周部に、複合遮蔽体からなるノズル遮蔽体Ｗｎを設置したので、照射ノズルＥｎ内を通過する電子線が、地磁気の影響や地磁気の変動を受けることなく、直進させて出射窓Ｅｗから安定して照射させることができ、容器Ｂの内面を安定して殺菌することができる。

また、照射装置遮蔽室３４内で第４電子線照射装置Ｅ４の外周部に設置した外側壁遮蔽体Ｗｓに、複合遮蔽体を採用したので、地磁気や環境磁気の影響を受けることなく、第４電子線照射装置Ｅ４から安定して電子線を発生させることができる。

Ｂ 容器
Ｒ２ 内面滅菌室
Ｃ２ 容器旋回経路
Ｍ２ 旋回搬送装置
Ｅ３ 第３電子線照射装置
Ｅ４ 第４電子線照射装置
Ｅｎ 照射ノズル
Ｅｗ 出射窓
Ｗａ 主遮蔽壁
Ｗｂ 仕切り遮蔽壁
Ｗｉ 内周遮蔽体（複合遮蔽体）
Ｗｏ 外周遮蔽体（複合遮蔽体）
Ｗｓ 外側壁遮蔽体（複合遮蔽体）
Ｗｎ ノズル遮蔽体（複合遮蔽体）
１１ 旋回テーブル
１２ ネック把持装置
１３ 昇降機構
１４ 天井旋回板
１５ 移送開口部
２１ 複合遮蔽体ブロック
２２ 板状殻体
２３ 耐食板（耐食層）
２４ 磁気遮蔽体（磁気遮蔽層）
２５ Ｘ線遮蔽体（Ｘ線遮蔽層）
２６ 絶縁層
３１ 内面滅菌室

Claims (4)

1. 電子線を容器に照射して滅菌する電子線容器滅菌装置に使用される遮蔽体であって、
   腐食性雰囲気から保護するための一対の耐食層の間に、磁気を遮蔽するための磁気遮蔽層と、電子線の反射、回折により発生するＸ線を遮蔽するためのＸ線遮蔽層を配置した複合遮蔽体を設け、
   一方の前記耐食層および前記磁気遮蔽層の間、前記磁気遮蔽層および前記Ｘ線遮蔽層の間、前記Ｘ線遮蔽層および他方の前記耐食層の間に、それぞれ絶縁層を介在させた
   ことを特徴とする遮蔽体。
2. 電子線を容器に照射して滅菌する電子線容器滅菌装置に使用される遮蔽体であって、
   遮蔽体は、複数の複合遮蔽体ブロックにより形成され、
   当該複合遮蔽体ブロックは、高耐食性材質からなる板状殻体の中空部に、磁気遮蔽体およびＸ線遮蔽体が配置されるとともに、前記板状殻体の一方の面と前記磁気遮蔽体の間、および前記磁気遮蔽体と前記Ｘ線遮蔽体の間、ならびに前記Ｘ線遮蔽体と前記板状殻体の他方の面との間に、それぞれ絶縁層が介在された
   ことを特徴とする遮蔽体。
3. 先端部に出射窓を有する電子線照射ノズルを、容器の口部から挿入して、容器の内面を滅菌する電子線容器滅菌設備であって、
   前記電子線照射ノズルの周囲に遮蔽体を設置し、
   前記遮蔽体を、請求項１または２記載の遮蔽体で構成した
   ことを特徴とする電子線容器滅菌設備。
4. 容器をそれぞれ直立姿勢で把持して、鉛直方向の旋回軸心を中心とする容器旋回経路に沿って移動させるとともに、電子線照射ノズルを容器と同期して移動させ、電子線照射ノズルおよび容器の少なくとも一方を上方または下方に移動して、電子線照射ノズルを容器の口部に挿入し、電子線照射ノズルから照射される電子線により容器の内面を滅菌する電子線容器滅菌設備であって、
   前記容器旋回経路の内周部に沿って内周遮蔽体を設けるとともに、外周部に外周遮蔽体を設け、
   前記内周遮蔽体および前記外周遮蔽体を、請求項１または２記載の遮蔽体で構成した
   ことを特徴とする電子線容器滅菌設備。

Images