JP2014220417A - レーザー加工方法 - Google Patents
レーザー加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014220417A JP2014220417A JP2013099423A JP2013099423A JP2014220417A JP 2014220417 A JP2014220417 A JP 2014220417A JP 2013099423 A JP2013099423 A JP 2013099423A JP 2013099423 A JP2013099423 A JP 2013099423A JP 2014220417 A JP2014220417 A JP 2014220417A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- beam irradiation
- shift amount
- region
- interval
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 66
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 9
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910009372 YVO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Dicing (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
Abstract
Description
2a 表面
2b 裏面
4 分割予定ライン(ストリート)
6 チップ
8 デバイス
10 接着フィルム
10a レーザービーム照射予定領域
10b 中心位置
12 フレーム
14 テープ
14a 基材
14b 糊層
16 撮像手段
18,18a,18b,18c,18d,18e,18f 撮像領域
20,20a,20b,20c,20d,20e,20f 撮像画像
22 外周位置
24 中間位置
26 重畳領域
28 レーザービーム照射予定ライン
30 レーザービーム照射予定ライン
32 レーザー加工ヘッド
34 レーザービーム
36 照射点
I1 第一の間隔
I2 第二の間隔
S1,S1a,S1b,S1c,S2,S2a,S2b,S2c シフト量
Claims (2)
- 交差する複数の分割予定ラインに沿って個々のチップへと分割され裏面に接着フィルムが貼着されたウェーハに対して隣接する該チップ間に露出した該接着フィルムにレーザービームを照射するレーザー加工方法であって、
隣接する該チップ間に該接着フィルムが露出した領域をレーザービーム照射予定領域とし、レーザービーム照射予定領域の伸長方向をX方向とするとともに該X方向に直交する方向をY方向とし、
該レーザービーム照射予定領域に沿って第一の間隔でウェーハを撮像して複数の撮像画像を形成する撮像画像形成ステップと、
該撮像画像形成ステップで形成した各該撮像画像において、該レーザービーム照射予定領域のY方向における中間位置を検出し、隣接する該撮像画像間における該レーザービーム照射予定領域のY方向におけるシフト量を検出するシフト量検出ステップと、
該シフト量検出ステップで検出されたシフト量が許容値を超えた場合に、シフト量が該許容値を超えた該撮像画像間を含む領域において該第一の間隔より狭い第二の間隔でウェーハを撮像して複数の撮像画像を形成し、各該撮像画像において該レーザービーム照射予定領域のY方向における中間位置を検出して、隣接する該撮像画像間における該レーザービーム照射予定領域のY方向におけるシフト量を検出する再撮像ステップと、
隣接する該撮像画像における該中間位置を結んでレーザービーム照射予定ラインを形成するレーザービーム照射予定ライン形成ステップと、
該レーザービーム照射予定ライン形成ステップで形成された該レーザービーム照射予定ラインに沿って該接着フィルムにレーザービームを照射するレーザービーム照射ステップと、を備えることを特徴とするレーザー加工方法。 - 該レーザービーム照射ステップは、該シフト量検出ステップまたは該再撮像ステップで検出されたシフト量に応じて設定された加工条件に基づいて実施されることを特徴とする請求項1に記載のレーザー加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013099423A JP6084111B2 (ja) | 2013-05-09 | 2013-05-09 | レーザー加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013099423A JP6084111B2 (ja) | 2013-05-09 | 2013-05-09 | レーザー加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014220417A true JP2014220417A (ja) | 2014-11-20 |
JP6084111B2 JP6084111B2 (ja) | 2017-02-22 |
Family
ID=51938601
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013099423A Active JP6084111B2 (ja) | 2013-05-09 | 2013-05-09 | レーザー加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6084111B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180123631A (ko) * | 2017-05-09 | 2018-11-19 | 가부시기가이샤 디스코 | 레이저 가공 방법 |
JP2019121624A (ja) * | 2017-12-28 | 2019-07-22 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005166991A (ja) * | 2003-12-03 | 2005-06-23 | Disco Abrasive Syst Ltd | アライメント装置及び加工装置 |
JP2006278684A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Disco Abrasive Syst Ltd | 半導体ウエーハ処理方法 |
JP2007007668A (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-18 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
JP2012023256A (ja) * | 2010-07-16 | 2012-02-02 | Disco Abrasive Syst Ltd | 分割予定ラインの検出方法 |
-
2013
- 2013-05-09 JP JP2013099423A patent/JP6084111B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005166991A (ja) * | 2003-12-03 | 2005-06-23 | Disco Abrasive Syst Ltd | アライメント装置及び加工装置 |
JP2006278684A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Disco Abrasive Syst Ltd | 半導体ウエーハ処理方法 |
JP2007007668A (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-18 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
JP2012023256A (ja) * | 2010-07-16 | 2012-02-02 | Disco Abrasive Syst Ltd | 分割予定ラインの検出方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180123631A (ko) * | 2017-05-09 | 2018-11-19 | 가부시기가이샤 디스코 | 레이저 가공 방법 |
CN108857086A (zh) * | 2017-05-09 | 2018-11-23 | 株式会社迪思科 | 激光加工方法 |
JP2018190856A (ja) * | 2017-05-09 | 2018-11-29 | 株式会社ディスコ | レーザ加工方法 |
CN108857086B (zh) * | 2017-05-09 | 2021-10-12 | 株式会社迪思科 | 激光加工方法 |
TWI748082B (zh) * | 2017-05-09 | 2021-12-01 | 日商迪思科股份有限公司 | 雷射加工方法 |
KR102448222B1 (ko) * | 2017-05-09 | 2022-09-27 | 가부시기가이샤 디스코 | 레이저 가공 방법 |
JP2019121624A (ja) * | 2017-12-28 | 2019-07-22 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6084111B2 (ja) | 2017-02-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6180120B2 (ja) | 拡張装置および拡張方法 | |
US20170250102A1 (en) | Wafer processing method | |
TWI748082B (zh) | 雷射加工方法 | |
CN106997866A (zh) | 晶片的加工方法 | |
JP6395586B2 (ja) | 被加工物の分割方法 | |
TW201622172A (zh) | 光元件的加工方法 | |
JP2015109325A (ja) | パッケージ基板の加工方法 | |
JP6084111B2 (ja) | レーザー加工方法 | |
US10297710B2 (en) | Method of processing wafer | |
KR102256562B1 (ko) | 적층 기판의 가공 방법 | |
US9685378B2 (en) | Method of dividing plate-shaped workpieces | |
JP2016042526A (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP2011151090A (ja) | 切削方法 | |
US10265805B2 (en) | Method of processing workpiece | |
TWI701731B (zh) | 晶圓的加工方法 | |
TWI538040B (zh) | Processing method of optical element wafers | |
JP2018067667A (ja) | 分割方法 | |
TWI834663B (zh) | 被加工物之加工方法 | |
JP2015107491A (ja) | レーザー加工方法 | |
JP2017050377A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP6629086B2 (ja) | 積層ウェーハの分割方法 | |
TW202402437A (zh) | 雷射加工裝置 | |
JP6435140B2 (ja) | ウエーハの分割方法 | |
TW202414554A (zh) | 晶片的製造方法 | |
JP5892810B2 (ja) | 粘着テープ及び粘着テープを用いたウェーハのレーザー加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160316 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170118 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170124 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170124 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6084111 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |