JP2014220051A5 - - Google Patents
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Claims (20)
- アルカリ金属硫化物及び硫黄を含む混合物を、溶媒中で硫化りん、硫化ゲルマニウム、硫化ケイ素及び硫化ホウ素から選択される１又は２以上の硫黄化合物と接触させることを含む硫化物系固体電解質の製造方法。
- 前記混合物を前記溶媒に少なくとも一部溶解させて溶液を製造する工程、及び
前記硫黄化合物を前記溶液と接触させる工程
を含む請求項１に記載の硫化物系固体電解質の製造方法。 - 前記混合物及び前記硫黄化合物を前記溶媒に同時に投入して接触させることを含む請求項１に記載の硫化物系固体電解質の製造方法。
- 前記溶媒が溶解パラメーター９．０以上である請求項１〜３のいずれかに記載の硫化物系固体電解質の製造方法。
- 前記溶媒がエーテルである請求項１〜４のいずれかに記載の硫化物系固体電解質の製造方法。
- 前記溶媒の沸点が６５〜２００℃である請求項１〜５のいずれかに記載の硫化物系固体電解質の製造方法。
- 前記アルカリ金属硫化物が硫化リチウムである請求項１〜６のいずれかに記載の硫化物系固体電解質の製造方法。
- 前記硫黄化合物が硫化りんである請求項１〜７のいずれかに記載の硫化物系固体電解質の製造方法。
- 前記アルカリ金属硫化物と前記硫黄のモル比（アルカリ金属硫化物：硫黄）が５０：５０〜１：９９である請求項１〜８のいずれかに記載の硫化物系固体電解質の製造方法。
- 前記アルカリ金属硫化物と前記硫黄化合物のモル比（アルカリ金属硫化物：硫黄化合物）が６０：４０〜９０：１０である請求項１〜９のいずれかに記載の硫化物系固体電解質の製造方法。
- 前記硫黄化合物に加えて、さらにハロゲン化合物を前記混合物と接触させる請求項１〜１０のいずれかに記載の硫化物系固体電解質の製造方法。
- 請求項１〜１１のいずれかに記載の硫化物系固体電解質の製造方法により製造される硫化物系固体電解質。
- 硫化りん、硫化ゲルマニウム、硫化ケイ素及び硫化ホウ素から選択される１又は２以上の硫黄化合物と、アルカリ金属硫化物と、硫黄と、を含む原料から製造され、
溶媒を含む、硫化物系固体電解質。 - 前記硫黄化合物が硫化りんである請求項１３に記載の硫化物系固体電解質。
- 前記硫黄化合物が五硫化二リンである請求項１３又は１４に記載の硫化物系固体電解質。
- 前記アルカリ金属硫化物が硫化リチウムである請求項１３〜１５のいずれかに記載の硫化物系固体電解質。
- 前記アルカリ金属硫化物と硫黄化合物のモル比（アルカリ金属硫化物：硫黄化合物）が６０：４０〜９０：１０である請求項１３〜１６のいずれかに記載の硫化物系固体電解質。
- 前記原料がハロゲン化合物を含む請求項１３〜１７のいずれかに記載の硫化物系固体電解質。
- 前記原料が臭化リチウムを含む請求項１３〜１８のいずれかに記載の硫化物系固体電解質。
- 前記アルカリ金属硫化物と硫黄のモル比（アルカリ金属硫化物：硫黄）５０：５０〜１：９９である請求項１３〜１９のいずれかに記載の硫化物系固体電解質。
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