JP2014207301A - 成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】探索作業を、低価格、かつ、簡単に行える技術を提供することである。【解決手段】熱伝導性良好材からなる第1チャンバと、前記第1チャンバを加熱するヒータと、前記第1チャンバの内側に設けられた第2チャンバと、前記第2チャンバに接続された成膜原料供給部と、前記第2チャンバに接続され、該第2チャンバ内の気体を排気する排気部と、前記成膜原料供給部からの成膜原料が内部に供給されると共に前記排気部によって内部の気体が排気される開口部を有し、前記第2チャンバ内に設けられた反応チャンバと、前記第2チャンバと前記反応チャンバとの間の空間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部とを具備する成膜装置。【選択図】図1
Description
本発明は、例えば化学気相成長法(CVD)や原子層堆積法(ALD)に用いられる成膜装置に関する。
電子デバイス(例えば、高性能コンピュータやスマートフォン等)の高度化、高集積化、メモリの大容量化が進む今日、新しい技術が必要になった。この状況下において、微細加工に適した成膜法であるCVD技術は、数ナノスケールの構造体やホール等の微細構造に均一な薄膜を作製可能な技術であり、開発が進められている。特に、数種類の元素からなる化合物薄膜の作製のみならず、薄膜の組成の制御も可能なことから、CVD技術の重要性は大きい。そして、材料技術の競争力強化の為、CVD技術の研究開発が盛んに行われている。CVDによる成膜は、目的とする薄膜の成分を含む原料化合物を供給し、この原料化合物を分解(例えば、化学反応により分解)させ、この分解により生成した粒子を基板に堆積させることによる。このCVDプロセスにおいて、原料化合物や、化学反応(分解反応)の条件が大きな要素となる。
従って、CVD技術では、原料(化合物)の開発が大事である。例えば、金属Mの薄膜を作製する場合、CVD原料は、「所望の金属原子Mを含む化学物質である」「適度な蒸気圧を持つ」「適当な温度で分解する」「分解した粒子が堆積して膜が生成する」と言った要件を満たす必要が有る。
今日、薄膜の種類は、金属膜(単一金属膜、二元合金膜、三元合金膜、…)、シリサイド膜、酸化膜、炭化膜、窒化膜などの多岐に亘っている。この為、CVD原料として、比較的特性が知られた既知化合物に止まらず、新たな化合物の開発競争が盛んに行われている。
ところで、CVD原料の開発は、「化合物は輸送可能な蒸気圧を有するか否か」と言う観点から、CVD原料化合物を候補として選択し、この候補化合物を用いてCVD成膜を行い、得られた薄膜のサンプルを分析と言う過程を経ている。すなわち、前記過程(前記サンプルの評価)によって、前記化合物がCVD原料として好適であるか、それとも不適であるかの判定がなされる。これは、「原料化合物の化学反応がどの温度で起こり、その化学反応の結果、どのような膜が生成するか」を、実際に、作製されたサンプルの評価により行うと言うことである。
原料化合物に与える分解エネルギー(活性化エネルギー)に関して、熱による原料化合物の分解を調べる事が、原料化合物の基本的な特性を知る上で、最も、重要である。各候補の化合物を用いて成膜(サンプル作製)を行い、分解が起こり始める温度、各温度における原料分解率、各温度で得られた膜組成(不純物濃度)、膜質などを評価することによって、最適なCVD原料のスクリーニング(探索)が行われている。最も単純な単一元素の金属膜を作製する場合であっても、候補の原料化合物によって、分解温度は大きく異なる。更に、CVD反応の雰囲気ガスや反応促進の為の添加ガスの存在によって、分解温度などの成膜条件や、出来た膜の特性が変化する。
CVD成膜条件などの探索に際しては、従来では、一つのCVD装置において、かつ、一つの温度において、一つの成膜が行われるに過ぎなかった。この為、前記探索は、所謂、バッチ式である。従って、新しいCVD成膜技術の開発には、膨大な時間と費用が掛かっていた。
現在、半導体製造装置メーカにおける探索作業では、高価(1台当たり約5千万円〜1億円)な大型汎用装置が用いられている。そして、非常に高いコストと長時間が掛かっていた。そこで、各種のCVD原料の探索が小型の装置で簡単に行われ、成膜に有望な原料系や条件を知ることが出来たならば、非常に、有用である。
従って、本発明が解決しようとする課題は、前記探索作業が、低価格、かつ、簡単に行える技術を提供することである。
本発明は、
熱伝導性良好材からなる第1チャンバと、
前記第1チャンバを加熱するヒータと、
前記第1チャンバの内側に設けられた第2チャンバと、
前記第2チャンバに接続された成膜原料供給部と、
前記第2チャンバに接続され、該第2チャンバ内の気体を排気する排気部と、
前記成膜原料供給部からの成膜原料が内部に供給されると共に前記排気部によって内部の気体が排気される開口部を有し、前記第2チャンバ内に設けられた反応チャンバと、
前記第2チャンバと前記反応チャンバとの間の空間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部
とを具備することを特徴とする成膜装置を提案する。
熱伝導性良好材からなる第1チャンバと、
前記第1チャンバを加熱するヒータと、
前記第1チャンバの内側に設けられた第2チャンバと、
前記第2チャンバに接続された成膜原料供給部と、
前記第2チャンバに接続され、該第2チャンバ内の気体を排気する排気部と、
前記成膜原料供給部からの成膜原料が内部に供給されると共に前記排気部によって内部の気体が排気される開口部を有し、前記第2チャンバ内に設けられた反応チャンバと、
前記第2チャンバと前記反応チャンバとの間の空間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部
とを具備することを特徴とする成膜装置を提案する。
本発明は、前記成膜装置であって、好ましくは、前記熱伝導性良好材からなる第1チャンバが金属製チャンバであることを特徴とする成膜装置を提案する。
本発明は、前記成膜装置であって、好ましくは、前記反応チャンバがガラス製チャンバであることを特徴とする成膜装置を提案する。
本発明は、前記成膜装置であって、好ましくは、前記チャンバが筒であることを特徴とする成膜装置を提案する。
本発明は、前記成膜装置であって、好ましくは、前記ヒータは、前記第1チャンバの長手方向に沿って二つ以上設けられていることを特徴とする成膜装置を提案する。
本発明は、前記成膜装置であって、好ましくは、前記不活性ガス供給部は、前記成膜原料供給部に近い側の前記第2チャンバに接続されていることを特徴とする成膜装置を提案する。
本発明は、前記成膜装置であって、好ましくは、前記成膜原料供給部の前記反応チャンバ側の端部は、二つ以上の筒が同芯状に配置され、かつ、前記筒の中の内側の筒が外側の筒より突出している構造であることを特徴とする成膜装置を提案する。
探索作業が、低価格、かつ、簡単に行える。
本発明(成膜装置)の好ましい実施形態が説明される。
前記成膜装置は第1チャンバを具備する。前記第1チャンバは、例えば筒(パイプ)の形態である。勿論、筒に限られない。前記第1チャンバは熱伝導性良好材で構成される。前記熱伝導性良好材は、例えば金属である。前記金属は、例えばCu(CuにはCu合金も含まれる),Al(AlにはAl合金も含まれる)等である。勿論、Cu,Alに限られない。しかし、CuやAlは、熱伝導性やコストの面から、好ましい材料である。特に、Cuは好ましい。前記成膜装置はヒータを具備する。前記ヒータは、前記第1チャンバを加熱する。前記ヒータは、一つであっても良いが、好ましくは、前記第1チャンバの長手方向に沿って、二つ以上設けられている。例えば、二つ、三つ、四つ、…である。複数個のヒータに供給する電圧(又は、電流)を変えることにより、各々のヒータの発熱量(温度)が異なる。例えば、反応チャンバにおける温度を、前記反応チャンバ端からの距離に応じて直線的に変化(制御)させることが出来る。前記ヒータは、好ましくは、マントルに内蔵されている。前記第1チャンバは、好ましくは、前記マントルの中に、配置されている。特に好ましくは、同芯状に、配置されている。これによって、前記第1チャンバは、効果的に、加熱される。かつ、温度制御が効果的に行われる。前記成膜装置は第2チャンバを具備する。前記第2チャンバは、前記第1チャンバの内側に設けられている。前記第2チャンバと前記第1チャンバとは、好ましくは、同芯状に配置されている。前記第2チャンバは、例えば筒(パイプ)の形態である。勿論、筒に限られない。前記筒は、円筒であっても、角筒であっても良い。前記第2チャンバは、好ましくは、無機材料で構成される。前記無機材料としては、セラミック、ガラス等が挙げられる。前記無機材料は耐熱性を有するものが好ましい。前記無機材料の好ましい例として、例えば石英ガラスやパイレックス(登録商標)が挙げられる。最も好ましいのは石英ガラスである。前記成膜装置は成膜原料供給部を具備する。前記成膜原料供給部は前記第2チャンバに接続されている。前記成膜原料供給部によって、成膜原料が前記第2チャンバ内に供給される。前記成膜装置は排気部を具備する。前記排気部は前記第2チャンバに接続されている。前記排気部によって、前記第2チャンバ内の気体が排気される。前記成膜装置は反応チャンバを具備する。前記反応チャンバは、前記第2チャンバの内側に設けられている。前記反応チャンバと前記第2チャンバとは、好ましくは、同芯状に配置されている。前記反応チャンバは、例えば筒(パイプ)の形態である。勿論、筒に限られない。前記筒は、円筒であっても、角筒であっても良い。前記反応チャンバは、好ましくは、無機材料で構成される。前記無機材料としては、セラミック、ガラス等が挙げられる。前記無機材料は耐熱性を有するものが好ましい。前記無機材料の好ましい例として、例えば石英ガラスやパイレックス(登録商標)が挙げられる。最も好ましいのは石英ガラスである。前記反応チャンバは第1開口部を有する。前記第1開口部を介して、前記成膜原料供給部からの成膜原料が、前記反応チャンバ内部に供給される。前記反応チャンバは第2開口部を有する。前記第2開口部を介して、前記排気部によって、前記反応チャンバ内部の気体が排気される。前記反応チャンバが筒(パイプ)の形態である場合、前記第1開口部は前記筒の一方の開口であり、前記第2開口部は前記筒の他方の開口である。従って、前記反応チャンバが筒(パイプ)の場合、筒(パイプ:反応チャンバ)を前記第2チャンバ内に配置(例えば、挿入)するのみで済む。さて、成膜作業によって、前記反応チャンバの内壁は汚染される。ところが、前記反応チャンバが配置(例えば、挿入)のみで済むと言うことは、前記反応チャンバの内壁が汚れた時、前記反応チャンバの交換が非常に容易である。成膜作業時に汚染されるのは、主として、前記反応チャンバの内壁である。前記反応チャンバの外側に在る前記第2チャンバは、中々、汚染され難い。このことは、前記第2チャンバの交換頻度が少なくなることを意味する。前記第2チャンバと前記成膜原料供給部(前記排気部)とは接続されているから、前記第2チャンバが交換不要であると、大変、好都合である。前記成膜装置は不活性ガス供給部を具備する。前記不活性ガス供給部は、前記第2チャンバと前記反応チャンバとの間の空間(隙間)に不活性ガスを供給する。不活性ガスは、例えば窒素ガスである。Heである。勿論、これ等に限られない。前記隙間(前記第2チャンバと前記反応チャンバとの間の距離)の寸法は、例えばmmのオーダーでも良い。勿論、これに限られない。しかし、前記隙間寸法を、徒に、大きくする必要は無い。前記隙間寸法が小さい方が、装置の小型化が図れる。かつ、不活性ガス供給量が少なくて済む。従って、前記隙間寸法は、好ましくは、例えば1cm以下である。前記第2チャンバと前記反応チャンバとの間の空間(隙間)に不活性ガスが供給されると、前記成膜原料供給部からの成膜原料が前記空間(隙間)に侵入し難い。この結果、前記第2チャンバの内側が、前記成膜原料によって、更に、汚染され難い。すなわち、前記第2チャンバの交換頻度が、有っても、非常に少ない。前記第2チャンバには、前記成膜原料供給部や前記排気部が接続されている。この為、前記第2チャンバを交換する場合、その作業が大変である。しかし、本実施形態の装置では、前記第2チャンバの交換頻度が、有っても、非常に少ないから、これは、非常に、好都合である。
前記成膜装置は第1チャンバを具備する。前記第1チャンバは、例えば筒(パイプ)の形態である。勿論、筒に限られない。前記第1チャンバは熱伝導性良好材で構成される。前記熱伝導性良好材は、例えば金属である。前記金属は、例えばCu(CuにはCu合金も含まれる),Al(AlにはAl合金も含まれる)等である。勿論、Cu,Alに限られない。しかし、CuやAlは、熱伝導性やコストの面から、好ましい材料である。特に、Cuは好ましい。前記成膜装置はヒータを具備する。前記ヒータは、前記第1チャンバを加熱する。前記ヒータは、一つであっても良いが、好ましくは、前記第1チャンバの長手方向に沿って、二つ以上設けられている。例えば、二つ、三つ、四つ、…である。複数個のヒータに供給する電圧(又は、電流)を変えることにより、各々のヒータの発熱量(温度)が異なる。例えば、反応チャンバにおける温度を、前記反応チャンバ端からの距離に応じて直線的に変化(制御)させることが出来る。前記ヒータは、好ましくは、マントルに内蔵されている。前記第1チャンバは、好ましくは、前記マントルの中に、配置されている。特に好ましくは、同芯状に、配置されている。これによって、前記第1チャンバは、効果的に、加熱される。かつ、温度制御が効果的に行われる。前記成膜装置は第2チャンバを具備する。前記第2チャンバは、前記第1チャンバの内側に設けられている。前記第2チャンバと前記第1チャンバとは、好ましくは、同芯状に配置されている。前記第2チャンバは、例えば筒(パイプ)の形態である。勿論、筒に限られない。前記筒は、円筒であっても、角筒であっても良い。前記第2チャンバは、好ましくは、無機材料で構成される。前記無機材料としては、セラミック、ガラス等が挙げられる。前記無機材料は耐熱性を有するものが好ましい。前記無機材料の好ましい例として、例えば石英ガラスやパイレックス(登録商標)が挙げられる。最も好ましいのは石英ガラスである。前記成膜装置は成膜原料供給部を具備する。前記成膜原料供給部は前記第2チャンバに接続されている。前記成膜原料供給部によって、成膜原料が前記第2チャンバ内に供給される。前記成膜装置は排気部を具備する。前記排気部は前記第2チャンバに接続されている。前記排気部によって、前記第2チャンバ内の気体が排気される。前記成膜装置は反応チャンバを具備する。前記反応チャンバは、前記第2チャンバの内側に設けられている。前記反応チャンバと前記第2チャンバとは、好ましくは、同芯状に配置されている。前記反応チャンバは、例えば筒(パイプ)の形態である。勿論、筒に限られない。前記筒は、円筒であっても、角筒であっても良い。前記反応チャンバは、好ましくは、無機材料で構成される。前記無機材料としては、セラミック、ガラス等が挙げられる。前記無機材料は耐熱性を有するものが好ましい。前記無機材料の好ましい例として、例えば石英ガラスやパイレックス(登録商標)が挙げられる。最も好ましいのは石英ガラスである。前記反応チャンバは第1開口部を有する。前記第1開口部を介して、前記成膜原料供給部からの成膜原料が、前記反応チャンバ内部に供給される。前記反応チャンバは第2開口部を有する。前記第2開口部を介して、前記排気部によって、前記反応チャンバ内部の気体が排気される。前記反応チャンバが筒(パイプ)の形態である場合、前記第1開口部は前記筒の一方の開口であり、前記第2開口部は前記筒の他方の開口である。従って、前記反応チャンバが筒(パイプ)の場合、筒(パイプ:反応チャンバ)を前記第2チャンバ内に配置(例えば、挿入)するのみで済む。さて、成膜作業によって、前記反応チャンバの内壁は汚染される。ところが、前記反応チャンバが配置(例えば、挿入)のみで済むと言うことは、前記反応チャンバの内壁が汚れた時、前記反応チャンバの交換が非常に容易である。成膜作業時に汚染されるのは、主として、前記反応チャンバの内壁である。前記反応チャンバの外側に在る前記第2チャンバは、中々、汚染され難い。このことは、前記第2チャンバの交換頻度が少なくなることを意味する。前記第2チャンバと前記成膜原料供給部(前記排気部)とは接続されているから、前記第2チャンバが交換不要であると、大変、好都合である。前記成膜装置は不活性ガス供給部を具備する。前記不活性ガス供給部は、前記第2チャンバと前記反応チャンバとの間の空間(隙間)に不活性ガスを供給する。不活性ガスは、例えば窒素ガスである。Heである。勿論、これ等に限られない。前記隙間(前記第2チャンバと前記反応チャンバとの間の距離)の寸法は、例えばmmのオーダーでも良い。勿論、これに限られない。しかし、前記隙間寸法を、徒に、大きくする必要は無い。前記隙間寸法が小さい方が、装置の小型化が図れる。かつ、不活性ガス供給量が少なくて済む。従って、前記隙間寸法は、好ましくは、例えば1cm以下である。前記第2チャンバと前記反応チャンバとの間の空間(隙間)に不活性ガスが供給されると、前記成膜原料供給部からの成膜原料が前記空間(隙間)に侵入し難い。この結果、前記第2チャンバの内側が、前記成膜原料によって、更に、汚染され難い。すなわち、前記第2チャンバの交換頻度が、有っても、非常に少ない。前記第2チャンバには、前記成膜原料供給部や前記排気部が接続されている。この為、前記第2チャンバを交換する場合、その作業が大変である。しかし、本実施形態の装置では、前記第2チャンバの交換頻度が、有っても、非常に少ないから、これは、非常に、好都合である。
前記成膜原料供給部の前記反応チャンバ側の端部は、好ましくは、二つ以上の筒が同芯状に配置され、かつ、前記筒の中の内側の筒が外側の筒より突出している構造である。勿論、成膜原料が一種類の場合、斯かる要件は不要である。但し、成膜原料が一種類の場合でも、斯かる構造(例えば、多重管構造)で有っても、問題は無い。二種類以上の成膜原料が用いられる場合、斯かる構造(例えば、多重管構造)が採用されることが好ましい。例えば、三種類の原料を前記反応チャンバ内に供給する場合、前記成膜原料供給部の前記反応チャンバ側の端部を、最内管、その外側に位置する最外管、前記最内管と前記最外管との間に配置された中間管とで構成させる。前記最内管の前記反応チャンバ内における突出位置は最も深く(最奥位置)、前記最外管の前記反応チャンバ内における突出位置は最も浅く、前記中間管の前記反応チャンバ内における突出位置は中間とさせる。このようにしておけば、成膜原料の輸送途中において、前記成膜原料が混合され難い。すなわち、原料同士が途中で反応し難い。
以下、更に具体的な実施形態によって、本発明が説明される。但し、本発明は、以下の実施形態によって、限定されるものではない。
図1は本発明になる成膜装置の概略図である。
図1中、Aは成膜装置である。例えば、CVD装置(或いは、ALD装置)である。
1はマントルである。マントル1は、例えば筒状である。
2はヒータである。ヒータ2はリング状である。ヒータ2はマントル1内に内蔵されている。例えば、三つのヒータ2がマントル1内に内蔵されている。ヒータ2の数は幾つであっても良い。
3は金属(例えば、Cu)製管である。Cu管3はマントル1に配置(挿入)されている。Cu管3とマントル1とは接している。マントル1からの伝熱効率を考えると、Cu管3とマントル1とは接していることが好ましい。
4は外管(例えば、石英製)である。外管4はCu管3内に配置(挿入)されている。外管4とCu管3との間には隙間が有る。外管4とCu管3とは接触していても良い。
5は成膜原料供給部である。成膜原料供給部5の一端部が外管4の一端側に接続されている。従って、外管4の一端側から、外管4の内部に、成膜原料が供給される。
6は排気部である。排気部6の一端部が外管4の他端側に接続されている。従って、外管4の他端側から、外管4内部の気体が排気される。すなわち、外管4内部が所定の真空度に保持される。
7は内管(例えば、石英製)である。内管7は外管4内に配置(挿入)されている。Cu管3と外管4と内管7とは、同芯状に配置されている。外管4と内管7との間の距離は、例えば1〜5mm程度である。(外管4の半径)=(内管7の半径+1〜5mm)である。内管7の長さは外管4の長さよりも短い。短いと言っても、その差は僅かでも良い。排気部6によって、外管4内部の気体が排気されると、これに伴って、内管7内の気体も排気される。成膜原料供給部5が成膜原料を外管4に供給すると、これに伴って、成膜原料は内管7内に進入する(供給される)。
8は不活性ガス供給部である。不活性ガス供給部8は、外管4と内管7との間の空間(隙間)に不活性ガスを供給する。不活性ガス供給部8は、好ましくは、成膜原料供給部5に近い側の外管4に接続されている。不活性ガス供給部8が、成膜作業中、不活性ガスを供給すると、前記空間(隙間)は不活性ガスで充満する。従って、成膜原料供給部5からの成膜原料が、外管4と内管7との間の空間(隙間)に侵入し難くなる。この結果、成膜原料の分解による粒子が外管4の内壁面に堆積し難い。
上記構造のCVD装置が用いられ、成膜が行われた。すなわち、基板上に粒子の堆積が行われた。25℃おきに、150℃〜450℃迄の温度に亘って、成膜が行われた。1回の作業で、合計14点のサンプルが得られた。従って、探索作業の効率が良い。例えば、1サンプルずつの成膜作業が行われる場合に比べたならば、時間は1/14で済む。かつ、原料消費量も大幅に少なくなる。前記成膜作業が、1日において、5回、繰り返された。すなわち、合計、70点のサンプルが得られた。
この後、外管4の内壁面及び内管7の内壁面が観察された。外管4の内壁面は汚れが認められなかった。しかし、内管7の内壁面は汚れていた。従って、内管7は交換(又は、洗浄)の必要が有った。しかし、内管7は、単に、外管4内に挿入されているに過ぎないから、交換(又は、洗浄)作業が簡単であった。
図1の装置から内管7が取り外された装置が用いられた。この装置により成膜作業が同様に行われた。この成膜作業後、外管4の内壁面は汚れていた。従って、外管4の交換(又は、洗浄)の必要が有った。しかし、外管4には、成膜原料供給部5や排気部6が、接続されている。外管4の交換あるいは洗浄には、外管4の取外作業が必要である。この作業は大変である。因みに、取外、洗浄、再度の組立に、合計、3日も掛かった。
図1の装置からCu管3が取り外された装置が用いられた。この装置による成膜作業が同様に行われた。Cu管3が無かった為、温度制御が上手く行われなかった。すなわち、ヒータ2が在る位置近傍のみにおいて温度が高く、図1に示される如きの温度勾配の制御が出来なかった。この為、広範囲に亘る温度において、多数のサンプルを一度で得ることは出来なかった。
図2は、本発明になる成膜装置の要部の概略断面図である。
図2中、11,12,13は管(ノズル)である。ノズル11とノズル12とノズル13とは、同芯状に、配置(挿入)されている。ノズル11はノズル12の内側に挿入されている。ノズル12はノズル13の内側に挿入されている。(ノズル11の内管7内への突出長さ)>(ノズル12の内管7内への突出長さ)>(ノズル13の内管7内への突出長さ)である(図2参照)。
図2のノズル装置が図1の成膜装置に組み込まれた。三種類の原料が、各々のノズル11,12,13を介して、内管7内に輸送され、成膜が行われた。その結果、三成分系の組成物の膜が良好に形成された。
図2のノズル装置が用いられず、三種類の原料が内管7に供給された場合、原料同士の反応が起き、成膜が上手く行われなかった。
A CVD装置(成膜装置)
1 マントル
2 ヒータ
3 Cu管(第1チャンバ)
4 外管(第2チャンバ)
5 成膜原料供給部
6 排気部
7 内管(反応チャンバ)
8 不活性ガス供給部
11,12,13 管(ノズル)
1 マントル
2 ヒータ
3 Cu管(第1チャンバ)
4 外管(第2チャンバ)
5 成膜原料供給部
6 排気部
7 内管(反応チャンバ)
8 不活性ガス供給部
11,12,13 管(ノズル)
Claims (7)
- 熱伝導性良好材からなる第1チャンバと、
前記第1チャンバを加熱するヒータと、
前記第1チャンバの内側に設けられた第2チャンバと、
前記第2チャンバに接続された成膜原料供給部と、
前記第2チャンバに接続され、該第2チャンバ内の気体を排気する排気部と、
前記成膜原料供給部からの成膜原料が内部に供給されると共に前記排気部によって内部の気体が排気される開口部を有し、前記第2チャンバ内に設けられた反応チャンバと、
前記第2チャンバと前記反応チャンバとの間の空間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部
とを具備することを特徴とする成膜装置。 - 前記熱伝導性良好材からなる第1チャンバが金属製チャンバである
ことを特徴とする請求項1の成膜装置。 - 前記反応チャンバがガラス製チャンバである
ことを特徴とする請求項1又は請求項2の成膜装置。 - 前記チャンバが筒である
ことを特徴とする請求項1〜請求項3いずれかの成膜装置。 - 前記ヒータは、前記第1チャンバの長手方向に沿って二つ以上設けられている
ことを特徴とする請求項1〜請求項4いずれかの成膜装置。 - 前記不活性ガス供給部は、前記成膜原料供給部に近い側の前記第2チャンバに接続されている
ことを特徴とする請求項1〜請求項5いずれかの成膜装置。 - 前記成膜原料供給部の前記反応チャンバ側の端部は、
二つ以上の筒が同芯状に配置され、かつ、前記筒の中の内側の筒が外側の筒より突出している構造である
ことを特徴とする請求項1〜請求項6いずれかの成膜装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN111020528A (zh) * | 2019-11-20 | 2020-04-17 | 苏州新材料研究所有限公司 | 采用mocvd工艺制备rebco高温超导带材的方法 |
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2013
- 2013-04-12 JP JP2013083468A patent/JP2014207301A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111020528A (zh) * | 2019-11-20 | 2020-04-17 | 苏州新材料研究所有限公司 | 采用mocvd工艺制备rebco高温超导带材的方法 |
CN111020528B (zh) * | 2019-11-20 | 2021-11-19 | 苏州新材料研究所有限公司 | 采用mocvd工艺制备rebco高温超导带材的方法 |
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