JP2014184574A - マスク印刷方法 - Google Patents

マスク印刷方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2014184574A
JP2014184574A JP2013059254A JP2013059254A JP2014184574A JP 2014184574 A JP2014184574 A JP 2014184574A JP 2013059254 A JP2013059254 A JP 2013059254A JP 2013059254 A JP2013059254 A JP 2013059254A JP 2014184574 A JP2014184574 A JP 2014184574A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
printing
squeegee
print
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013059254A
Other languages
English (en)
Inventor
Takayuki Yonetani
高之 米谷
Hideaki Yamamoto
英明 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Stanley Electric Co Ltd
Original Assignee
Stanley Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Stanley Electric Co Ltd filed Critical Stanley Electric Co Ltd
Priority to JP2013059254A priority Critical patent/JP2014184574A/ja
Publication of JP2014184574A publication Critical patent/JP2014184574A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】 段差のある回路基板の夫々の印刷面に、同時に所定のパターンをマスク印刷することを課題とする。
【解決手段】 立体形状に形成したマスクとマスク基準面上を接触移動させるスキージを用いてマスク印刷を行う。マスク印刷装置1には、段差を有する基板10と、基板10の形状、特に段差に応じた第1マスク面21および第2マスク面22を有するマスク20を用いる。マスク20には窪み部25が形成され、窪み部25内に第2マスク面が形成されている。また、第1マスク面および第2マスク面には所定形状としたパターン孔30が形成されている。このマスクを用いて被印刷物とマスクとを対向しセットして印刷を実施する。スキージを移動することで、マスクの窪み部25内に形成したパターン孔30を通って基板10上に所定形状でペーストを転写すると共に、基準面29に形成したパターン孔30を通って基板10上に同時に印刷を行うことができる。
【選択図】 図3

Description

本発明は、印刷対象物の所定位置にパターン印刷する方法に関し、特に段差のある回路基板に導電性材料をパターン孔が形成されたマスクを用いて所定の位置にパターン印刷するマスク印刷方法に関する。
プリント基板などの回路基板上に、クリームハンダ等の導電性材料(導電性ペースト)や接着剤ペーストなどの印刷材料(以下、ペーストという。)を印刷する技術として、スクリーン印刷が利用されている。スクリーン印刷は、回路基板等の印刷対象物にマスクを接触して印刷するオンコンタクト方式と、スクリーンマスクと印刷対象物との間に一定の隙間を設けるようにスクリーンマスクにテンションを掛けた状態で印刷するオフコンタクト方式がある。
オンコンタクト方式もオフコンタクト方式も、いずれもペーストをスクリーンマスクの上面に供給し、スキージをスクリーンマスクに押圧させながら移動させてペーストをスクリーンマスクに設けたパターン孔に充填して印刷を行う。スキージがパターン孔にペーストを充填する際には、スクリーンマスクに設けたパターン孔と印刷対象物とが接触した状態となり充填されたペーストが回路基板等の所定位置にパターン孔の形状にて印刷が行われる。この方法で印刷される印刷物(ペースト)の量はスクリーンマスクのパターン孔の容積量に比例し、スクリーンマスクマスクの厚さによって管理される。
スクリーン印刷にて印刷を行う対象物は、スクリーンマスクのパターン孔が接触した状態でパターン孔にペーストを充填しなければならない。それゆえ、段差のある基板上にスクリーン印刷を行う場合には、各段差毎にスクリーン印刷を行うか、段差のない基板面上にのみスクリーン印刷を行うのが一般的と考えられている。
段差を有する、すなわち厚みが異なる基板へのスクリーン印刷方法として、例えば特許文献1が知られている。特許文献1のスクリーン印刷方法は、印刷対象の基板の実装面の段差と等しい段差を形成したマスクを用いる。この段差を設けたマスクは印刷面の高さが異なる。高さの異なる各印刷面ごとに個別のスキージを用いて印刷している。
特開平2−143860号公報
特許文献1のように印刷面毎に個別のスキージを用いる場合には、厚みの異なる各印刷面毎にスキージを準備し、同時に、各印刷面毎に各スキージを移動させて印刷を行わなければならない。そのため、印刷装置に複数のスキージを取り付け、各スキージ毎に移動機構を設けなければならないため、高価な印刷装置となる。印刷を行う実装面の高さが異なるため、高さの異なる実装面毎に、スキージの取付け位置および高さを調整しなければならない。夫々の実装面ごとにその移動量も設定しなければならない。そのため高い精度でのスキージ制御装置が必要であった。
また、印刷を行う対象物の形状が、窪みのある立体的形状の場合には、窪みの上部と底部にパターンを印刷しなければならない。そのためには、窪み底部専用のスキージと、窪み上部専用のスキージを別々に準備しなければならない。よって、スキージを用いた印刷法を実施するよりもディスペンサーを用いて窪み底部に塗布することが多かった。
本発明の目的は上記した問題を解決して、簡単な方法により高さの異なる基板の各実装面(印刷面)に対し同時にパターン形成が可能な製造方法を提供することにある。
また、他の目的は、高さの異なる基板の各実装面に同時にパターン形成可能な製造方法に適した印刷マスクを提供することにある。
上記目的を達成するために、請求項1の発明は、基準面に対し高さの異なる複数の印刷面を有する印刷対象物に、所定のパターンを印刷するマスク印刷方法であって、
前記印刷対象物は、第1の印刷面と、第1の印刷面よりも低い位置に第2の印刷面とを備えた立体形状であり、当該印刷対象物を前記第1の印刷面および前記第2の印刷面を上面にしてとしてステージ上に載置する工程と、
前記第1の印刷面と前記第2の印刷面の高さの差と同等の段差を有し、前記第1の印刷面に対応する第1のマスク面と、前記第2の印刷面に対応する第2のマスク面とを備えたマスクを前記印刷対象物上にオンコンタクトまたはオフコンタクト状態にて配設するマスク配設工程と、
前記マスク上でスキージを移動させてペーストを当該マスクに設けたパターン孔に充填して、前記印刷面に印刷する転写工程と、
前記マスクと前記印刷対象物を離間させる工程とを順に実施し、
前記マスクは、第1マスク面と、底部に第2マスク面を有する凹部とを設けた立体形状とされ、
前記凹部は、前記スキージの移動方向に沿った断面において、前記スキージの移動方向に従って第1のマスク面から低くなる第1傾斜面と、当該第1傾斜面に連続し第1のマスク面と平行な底面と、前記スキージの移動方向に従って前記底面から高くなる第2傾斜面とを備え、
前記第2マスク面は、前記凹部底面に位置し、前記凹部の側面は下方に向かって傾斜した側面とされており、
前記転写工程は、前記凹部のスキージ移動方向と直交する方向の幅よりも長いスキージを用いて前記第1マスク面上を移動して第1マスク面に設けたパターン孔により第1印刷面に印刷する第1印刷転写工程と、前記凹部上を移動する際に前記ペーストを前記凹部内に流し込んで押圧しながら前記第1マスク面上を移動して第2マスク面に設けたパターン孔により第2印刷面に印刷する第2印刷転写工程とを備える、ことを特徴とするマスク印刷方法、を提供する。
請求項2の発明は、基準面となる第1マスク面と、前記第1マスク面に対し窪んだ窪み部内に形成された第2マスク面と、前記第1マスク面および第2マスク面の夫々に形成されたパターン孔と、を有するマスク印刷用のマスクであって、
前記マスクは、前記基準面上にてスキージを接触移動させることで、前記パターン孔を通してペーストを被印刷物に転写するマスク印刷方法に使用され、
前記窪み部は、前記スキージの長手方向の長さに対して、前記スキージ移動方向と直交する方向の幅が小さいものとされるとともに、立壁が傾斜面とされている、ことを特徴とする印刷用マスク、を提供する。
請求項1の発明によれば、高さの異なる印刷面のある基板であっても、高さの異なる印刷面に同時に所定パターンの印刷を簡単に行うことができる。これにより印刷に要する時間を削減し、コストの低減を図ることができる。
また、請求項2の発明によれば、高さの異なる印刷面のある基板に対しても、各印刷面に同時にパターン形成を行うことができる。
図1は、本発明の実施形態に係るマスク印刷装置の構成を示す概念図である。 図2は、本発明の実施形態において印刷を行う対象物である基板を示す斜視図である。 図3は、図2の基板と、それに対応するマスクとの対応関係を示す概略斜視図である。 図4は、本発明の実施形態において印刷工程の様子を示す斜視図である。 図5は、本発明の実施形態において印刷工程における基板上への転写の様子を示す概略断面図である。 図6は、窪み部における印刷(転写)の原理を示す概念図で、図6(A)が窪み部を印刷している途中の段階を示し、(B)が窪み部の印刷が終了した直後の様子を断面にて示す概念図である。 図7は、本発明の実施形態のマスクの変形例を用いた場合の印刷工程を示す概略断面図である。 図8は、本発明の実施形態のマスクの別の変形例を用いた場合の印刷工程を示す概略断面図である。
本発明の実施の形態を図面に用いて説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係るマスク印刷装置の構成を示す概念図である。マスク印刷装置1は、印刷対象物である基板10を載せるステージ2と、ステージ2上にて基板10と所定の間隔を隔ててマスク(スクリーン印刷用マスクを含む)20を保持するマスク支持機構3と、マスク20に押圧した状態でスキージ40を移動させるスキージ移動機構4を備えている。マスク支持機構3とステージ2とは、垂直方向および/または平面方向において相対的に移動可能とされている。符合6は、基板10に印刷される印刷材料、すなわちペーストである。
マスク印刷方法は、最初にステージ2上に基板10を載置する基板セット工程と、マスク20をマスク支持機構3にセットするマスク支持工程を実施する。マスク20には基板10上の表面に形成すべきパターンの形状を有するパターン孔30が形成されている。なお、マスク20については後に詳細に説明する。次に、マスク20上にペースト6を載置するペースト供給工程を実施する。その後スキージ移動機構4に取り付けてあるスキージ40にてマスク20を基板10の印刷面に押し付けるようにして基板の印刷面と平行方向に移動させる印刷する転写工程を実施する。このとき、ペースト6はスキージ40をマスクに設けてあるパターン孔30に押し込んで基板10上に転写され印刷される。
本発明の実施形態においては、段差を有する基板上にマスク印刷を行う。図2から図5は、段差を有する基板10上に印刷を行う場合について、段差を有する基板10と、マスク20の要部を説明する図面である。図2は、本発明の実施形態において印刷を行う対象物である基板を示す斜視図である。図3は、図2の基板と、それに対応するマスクとの対応関係を示す概略斜視図である。図4は、本発明の実施形態において印刷工程の様子を示す斜視図である。図5は、本発明の実施形態において印刷工程における基板上への転写の様子を示す斜視断面図である。なお、これらの図において、段差を有する点を理解しやすくするために特に高さ方向(厚み方向)を誇張して図示している。
印刷対象物である基板10には、図2に示したように段差が形成されているおり、上面の被印刷領域16に印刷が行われるものである。基板の下面をステージ2に対して載置する。ステージ2に載置した状態において最も高さの高い第1印刷面11、最も高さの低い第2印刷面12、第1印刷面11と第2印刷面12の中間の高さの第3印刷面13の、3段階の高さを有する基板、すなわち厚みの異なる段差のある基板である。第2印刷面12と第1印刷面の間、および第2印刷面12と第3印刷面13との間には、互いの段差に相当する高さの立壁14が形成されている。第2印刷面12は第1印刷面11および第3印刷面13に対して窪んだ凹部15の底面に相当する。
基板10としては、例えば回路基板を用いる。回路基板の場合、基板10に形成した図示しない配線パターン上の所定箇所、例えば電子部品を実装するランドパターン部にハンダを印刷する。被印刷部16がランドパターンであり、ここにクリームハンダなどのペーストを印刷する。
マスク20は、図3に示したように印刷対象物である基板10の段差に対応した段差を設けたマスクとし、ここでは第2印刷面12および第3印刷面13に対応した窪み部25を設けた立体形状マスクを用いる。第1印刷面11に対応した第1マスク面21と、窪み部25内に位置し、第2印刷面12に対応した第2マスク面22および第3印刷面13に対応した第3マスク面23を備え、各マスク面21,22,23には基板20上の複数の被印刷領域16に対応する複数のパターン孔30が形成されている。
マスク20の材質としては、立体形状の形成し易さ、寸法安定性、コスト等を考慮して適当な材質を選択する。例えばステンレスやニッケル合金などの金属マスク材料を用いることができる。金属マスクに設けるパターン孔30はエッチングや切削などの公知の手法で形成する。セラミックスや樹脂材料からなるマスクであっても良い。また、スクリーン印刷装置におけるスクリーン印刷用マスクで用いるようなメッシュ状のパターン孔を設けたスクリーン印刷マスク用材料からなるものであっても良い。
図4は、スクリーン印刷装置1にて、マスク20、スキージ40およびペースト6の関係を印刷工程を実施し始める状態について上方から俯瞰して図示している。マスク20を基板10を所定の位置関係で対向するようにセットされている。オンコンタクトにて印刷を行うために、立体形状としたマスク20と基板10が互いの対向する面が接触するように重ね合わせられる。マスク20上に供給したペースト6がスキージ40が移動してペースト6をパターン孔30に充填する。ペースト6としては所定の粘度に調整したクリームハンダを用いる。このときスキージ40は窪み部25の幅よりも広い幅、すなわちスキージ40の長手方向の長さが、窪み部25のスキージ40と平行な方向の長さよりも長い大きさのものを使用する。
スキージ40を移動方向41に移動する。スキージ40が通過するマスク20の上面は、第1マスク面21でありスキージ移動方向41と平行とされる。第1マスク面21は平坦面となっているのでスキージ40の接触移動をスムーズに行うことができる。スキージが通過した第1マスク面21のパターン孔30にはペースト6が充填される。なお、本発明の説明において接触移動にはスキージ40とマスクの基準面が完全に接触している状態のみでなく、ペースト6をスムーズに移動、転写することができるように僅かな間隙を設けて移動する場合も含む。
図5は、窪み部25における印刷工程を図4のA−A断面にて説明する断面図である。なお、図5から図8においては、図面が複雑にならないようにするために基板20を省略して示している。印刷工程においてはスキージ40が、窪み部25上を移動方向41に移動する。スキージ40は第1マスク面21上を接触移動しペーストを窪み部25内に充填する。窪み部25内に充填されたペースト5は、第2マスク面に設けたパターン孔32および第3マスク面に設けたパターン孔33も充填する。
図6を用いて窪み部25における印刷(転写)の原理を説明する。図6(A)が窪み部を印刷している途中の段階を示し、(B)が窪み部の印刷が終了した直後の様子を断面にて示す概念図である。なお、説明をわかりやすくするために第3印刷面13に印刷する第3マスク面に相当するマスク面のない第2マスク面のみとしたマスクとして説明を行う。
最初に図6(A)のように窪み部25内にペースト6が充填され、その一部は窪みの底面27に設けたパターン孔30内にも充填される。なお、ペースト6の粘度が高い場合およびパターン孔30が小さい場合にはパターン孔30内へのペースト6の充填がスムーズに行われない。図6(B)のように窪み部25内の全体にペースト6が充填された状態において、底面のパターン孔30からペースト6の一部が突出するような圧力が加われば確実な印刷(転写)が完了する。この圧力として、スキージ40の押圧力Fを利用する。本実施形態においては、スキージ40による押圧力Fを積極的に利用するために、窪み部25の立壁を傾斜面26,28としている。スキージ移動方向41においてスキージ40が移動する基準面29から基板側に向かって窪み部25の底面に向かって狭まるように傾斜する第1傾斜面26と、スキージ移動方向41においてスキージ40が移動する基準面29に向かって窪み部25を拡開する方向に傾斜する第2傾斜面28とを設けている。
第1傾斜面26により、窪み部25内にペーストが流れ込むように充填される(図6(A)参照)。窪み部25内に充填されるときにスキージ40はマスク20の基準面29を接触しながら移動している。スキージ40の移動に伴いパターン孔30を通してペースト6が窪み部25内に充填される。このときスキージ40により第1傾斜面26に沿った流れ込みと押圧が行われる。窪み部25内にペースト6が所定量充填される(図6(B)参照)。このとき、窪み部25内の第2傾斜面28とスキージ40の間の空間にペーストを充填するものとなり、スキージ40による押圧が窪み部25内全体に伝わる。即ち、窪み部25内のペースト6に加わる重力および押圧力Fにより、ペースト6は底面27に設けられたパターン孔30からペースト6を押し出されるようにパターン孔30内を移動する。符合6aが押し出されたペーストを示す。したがって、パターン孔30に対応する基板上の被印刷領域に当該パターン孔30に応じた形状のパターンを安定して転写・印刷することができる。
ペースト6の粘度をパターン孔30内への充填がスムーズに行われる粘度に事前に調整しておくことが好ましい。本発明者達の実験によれば、具体的には60〜140Pa・sの粘度、すなわち従来の粘度に比べて低粘度とすることが好適であった。60Pa・sの粘度よりも低い場合にはオンコンタクトでの印刷であっても転写したパターンが広がってしまい所定形状のパターンが形成されない。140Pa・sの粘度よりも高い場合には転写したパターンにかすれが生じやすく歩留りが低下するからである。
また、マスクの厚みは、底面27の厚みを基準面29の厚みよりも薄くしておくことが好ましい。具体的にはペースト6の粘度が60〜140Pa・sの粘度の材料を用いた場合において、基準面におけるマスクの肉厚に対して50〜90%の厚みとすることが好適であった。50%よりも薄いと窪み部25におけるマスク強度が低下し、90%を超えると転写したパターン形状の再現性が劣って歩留りが低下するからである。
以上説明したように、窪み部を設けたマスクを用いることで、簡単な方法により高さの異なる基板の各実装面(印刷面)に対し同時にパターン形成が可能となる。
窪み部25は、マスク20のスキージ40を接触移動させる基準面29、すなわち図2から図4に示した実施形態における第1マスク面21に対して窪んだ凹部である。基準面29に対して複数の窪み部25を設けたマスク20としても良い。基板の立体形状も図2に示した溝形状の凹部のものであっても、マスクの形状をシフトさせた窪み形状の凹部を有する基板であっても良い。
窪み部25内には、本実施形態で示したように基準面である第1マスク面に対して高さの異なる第2マスク面および第3マスク面の2つの高さの異なる底面をもつものでも良いし、図6の原理説明図で示したような1つの高さの異なる底面のみをもつマスクを用いても良い。
図7は、本発明の実施形態のマスクの別の変形例を用いた場合の印刷工程を示す概略断面図である。本変形例においては、図7に図示したように窪み部25内に2つ以上の小さな小窪部25a、25bを有している。このマスクを用いて印刷工程を実施すると、小窪部25aと小窪部25bとの間の立壁が仕切りとなるので、マスク底面のパターン孔30からのペーストの吐出量、すなわち印刷量、の安定が図りやすくなる。なお、本変形例においては、基板10とマスク20とを僅かな隙間を設けて配置するオフコンタクトで印刷工程を実施している。オフコンタクトとすれば、スキージ40によりマスク20に押圧力が加わったときにのみ基板10とマスク20を接触するものとし、マスク20による基板10表面に設けた傷を低減することができる。
図8は、本発明の実施形態の更に別の第2の変形例を説明する断面図である。第2の変形例においては、基板10の上面に突起が存在する場合の印刷方法である。基板10の第1印刷面にマスク20の厚みよりも小さな突起部が形成されていた場合には、マスク20の一部を薄く形成して突起部を収納する薄肉部20aを形成することで、基準面に段差が生じるのを防止している。このようにマスクに薄肉部20aを設けることで、位置決めを兼ねることもでできる。
上記実施形態はあらゆる点で単なる例示にすぎない。これらの記載によって本発明は限定的に解釈されるものではない。例えば、パターン孔の形状も様々な形状とすることができ、一つのマスク上に同一形状、同一サイズのパターン孔を形成するものに限らず、異なる形状、大きさのパターン孔が混在するものとしたマスクとすることもできる。また、ペーストとして、接着剤や印刷塗料を用い、回路基板に各種情報を印刷する場合にも適用できる。
本発明によれば、安定して所定形状のパターンを印刷することが求められる回路基板上の半田パターンや接着剤の印刷などに適用できる。
1 マスク印刷装置
2 ステージ
3 マスク取付け部
4 スキージ移動機構
6 ペースト
10 基板(印刷対象物)
11 第1印刷面
12 第2印刷面
13 第3印刷面
14 立壁
15 凹部
16 被印刷領域
20 マスク
21 第1マスク面
22 第2マスク面
23 第3マスク面
24 下面(印刷対象物側の表面)
25 窪み部
26 第1傾斜面
27 底面
28 第2傾斜面
29 基準面
30 パターン孔
32 第2マスク面のパターン孔
33 第3マスク面のパターン孔
40 スキージ
41 印刷時のスキージ移動方向

Claims (2)

  1. 基準面に対し高さの異なる複数の印刷面を有する印刷対象物に、所定のパターンを印刷するマスク印刷方法であって、
    前記印刷対象物は、第1の印刷面と、第1の印刷面よりも低い位置に第2の印刷面とを備えた立体形状であり、当該印刷対象物を前記第1の印刷面および前記第2の印刷面を上面にしてとしてステージ上に載置する工程と、
    前記第1の印刷面と前記第2の印刷面の高さの差と同等の段差を有し、前記第1の印刷面に対応する第1のマスク面と、前記第2の印刷面に対応する第2のマスク面とを備えたマスクを前記印刷対象物上にオンコンタクトまたはオフコンタクト状態にて配設するマスク配設工程と、
    前記マスク上でスキージを移動させてペーストを当該マスクに設けたパターン孔に充填して、前記印刷面に印刷する転写工程と、
    前記マスクと前記印刷対象物を離間させる工程とを順に実施し、
    前記マスクは、第1マスク面と、底部に第2マスク面を有する凹部とを設けた立体形状とされ、
    前記凹部は、前記スキージの移動方向に沿った断面において、前記スキージの移動方向に従って第1のマスク面から低くなる第1傾斜面と、当該第1傾斜面に連続し第1のマスク面と平行な底面と、前記スキージの移動方向に従って前記底面から高くなる第2傾斜面とを備え、
    前記第2マスク面は、前記凹部底面に位置し、前記凹部の側面は下方に向かって傾斜した側面とされており、
    前記転写工程は、前記凹部のスキージ移動方向と直交する方向の幅よりも長いスキージを用いて前記第1マスク面上を移動して第1マスク面に設けたパターン孔により第1印刷面に印刷する第1印刷転写工程と、前記凹部上を移動する際に前記ペーストを前記凹部内に流し込んで押圧しながら前記第1マスク面上を移動して第2マスク面に設けたパターン孔により第2印刷面に印刷する第2印刷転写工程とを備える、ことを特徴とするマスク印刷方法。
  2. 基準面となる第1マスク面と、
    前記第1マスク面に対し窪んだ窪み部内に形成された第2マスク面と、
    前記第1マスク面および第2マスク面の夫々に形成されたパターン孔と、を有するマスク印刷用のマスクであって、
    前記マスクは、前記基準面上にてスキージを接触移動させることで、前記パターン孔を通してペーストを被印刷物に転写するマスク印刷方法に使用され、
    前記窪み部は、前記スキージの長手方向の長さに対して、前記スキージ移動方向と直交する方向の幅が小さいものとされるとともに、立壁が傾斜面とされている、ことを特徴とする印刷用マスク。
JP2013059254A 2013-03-22 2013-03-22 マスク印刷方法 Pending JP2014184574A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013059254A JP2014184574A (ja) 2013-03-22 2013-03-22 マスク印刷方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013059254A JP2014184574A (ja) 2013-03-22 2013-03-22 マスク印刷方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2014184574A true JP2014184574A (ja) 2014-10-02

Family

ID=51832626

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013059254A Pending JP2014184574A (ja) 2013-03-22 2013-03-22 マスク印刷方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2014184574A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10332865B2 (en) 2016-08-22 2019-06-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of fabricating light emitting diode module

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01259990A (ja) * 1988-04-11 1989-10-17 Sony Corp クリーム半田の印刷版
JPH01259991A (ja) * 1988-04-11 1989-10-17 Sony Corp クリーム半田の印刷版
JP2001199177A (ja) * 2000-01-18 2001-07-24 Sony Corp スクリーン及びスクリーン印刷方法
JP3148423U (ja) * 2008-11-29 2009-02-12 株式会社プロセス・ラボ・ミクロン 3次元実装マスク
JP2012182307A (ja) * 2011-03-01 2012-09-20 Teramikros Inc 印刷マスクおよびそれを用いた印刷方法並びに半導体装置の製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01259990A (ja) * 1988-04-11 1989-10-17 Sony Corp クリーム半田の印刷版
JPH01259991A (ja) * 1988-04-11 1989-10-17 Sony Corp クリーム半田の印刷版
JP2001199177A (ja) * 2000-01-18 2001-07-24 Sony Corp スクリーン及びスクリーン印刷方法
JP3148423U (ja) * 2008-11-29 2009-02-12 株式会社プロセス・ラボ・ミクロン 3次元実装マスク
JP2012182307A (ja) * 2011-03-01 2012-09-20 Teramikros Inc 印刷マスクおよびそれを用いた印刷方法並びに半導体装置の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10332865B2 (en) 2016-08-22 2019-06-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of fabricating light emitting diode module

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105008132A (zh) 膏供给装置、丝网印刷机、膏供给方法及丝网印刷方法
US8757059B2 (en) Screen printing apparatus and screen printing method
JP2001225443A (ja) スクリーン印刷装置およびスクリーン印刷方法
CN102596582B (zh) 丝网印刷用的掩模、使用该掩模的丝网印刷装置及丝网印刷方法
JP2014184574A (ja) マスク印刷方法
JP5108785B2 (ja) グラビア印刷法のための印刷ステンシルを製作するための方法及びステンシル装置
US20190320536A1 (en) Printing device and printing method for applying a viscous or pasty material
JP6159203B2 (ja) 印刷用マスク及びこのマスクを用いた印刷方法
JP6343892B2 (ja) スキージ及び印刷方法
JP5067667B2 (ja) 印刷方法
JP4534842B2 (ja) ペーストのスクリーン印刷装置
JP2012201024A (ja) スクリーン及びスクリーン印刷機
JP2009066762A (ja) スクリーン印刷方法及び装置
JP2007301791A (ja) 印刷装置および印刷方法、ならびにフレキシブルプリント基板
JP6135997B2 (ja) プリント配線基板の印刷装置および印刷方法
TWI803185B (zh) 印刷裝置
JP5343711B2 (ja) 被着体が搭載された印刷構造体の製造方法および印刷構造体の製造方法
JP6078910B2 (ja) プリント配線基板製造方法、基板組合せ体およびプリント配線基板
JP7199507B2 (ja) 成膜装置及び実装機
JP2010056382A (ja) フラックス塗布装置
JP2005138318A (ja) スクリーン印刷方法、スクリーンマスク
JP5152658B2 (ja) 多層導電性バンプ付基板シート積層体製造方法、導電性バンプ付基板シート製造方法、導電性バンプ付基板シート、および基板シート
JP5152659B2 (ja) 多層導電性バンプ付基板シート積層体製造方法および導電性バンプ付基板シート製造方法
JP2008300680A (ja) 電子部品の実装装置及び回路基板の製造方法
JP2010067687A (ja) 多層プリント配線板製造方法および導電性バンプ付基板シート製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160210

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20161026

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161101

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20170509