JP2014172146A - 研削ホイール - Google Patents

研削ホイール Download PDF

Info

Publication number
JP2014172146A
JP2014172146A JP2013049417A JP2013049417A JP2014172146A JP 2014172146 A JP2014172146 A JP 2014172146A JP 2013049417 A JP2013049417 A JP 2013049417A JP 2013049417 A JP2013049417 A JP 2013049417A JP 2014172146 A JP2014172146 A JP 2014172146A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
grinding
wheel
grinding wheel
grindstone
grindstones
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013049417A
Other languages
English (en)
Inventor
Setsuo Yamamoto
節男 山本
Minosuke Sekiya
臣之典 関家
Takuya Mihara
拓也 三原
Aki Takahashi
亜樹 高橋
Takashi Hamaoka
俊 濱岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2013049417A priority Critical patent/JP2014172146A/ja
Priority to KR1020140022411A priority patent/KR20140111950A/ko
Priority to CN201410085323.5A priority patent/CN104044086A/zh
Publication of JP2014172146A publication Critical patent/JP2014172146A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B5/00Machines or devices designed for grinding surfaces of revolution on work, including those which also grind adjacent plane surfaces; Accessories therefor
    • B24B5/02Machines or devices designed for grinding surfaces of revolution on work, including those which also grind adjacent plane surfaces; Accessories therefor involving centres or chucks for holding work
    • B24B5/04Machines or devices designed for grinding surfaces of revolution on work, including those which also grind adjacent plane surfaces; Accessories therefor involving centres or chucks for holding work for grinding cylindrical surfaces externally
    • B24B5/045Machines or devices designed for grinding surfaces of revolution on work, including those which also grind adjacent plane surfaces; Accessories therefor involving centres or chucks for holding work for grinding cylindrical surfaces externally with the grinding wheel axis perpendicular to the workpiece axis
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/20Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B7/22Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B7/228Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding thin, brittle parts, e.g. semiconductors, wafers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092Apparatus for mechanical treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)

Abstract

【課題】セグメント砥石の回転方向反対側に欠けを生じることなく、被加工物の被研削面の良好な面精度を達成できる研削ホイールを提供する。
【解決手段】研削手段のホイールマウントに装着される研削ホイール24であって、該ホイールマウントに装着される環状に形成された装着部26aと該装着部の反対側で環状に形成された自由端部とを有するホイール基台26と、該ホイール基台26の該自由端部に配設された複数の砥石28と、を備え、該複数の砥石28は、ボンド材にダイアモンド砥粒を混入して焼結した研削砥石28aと、ボンド材のみを焼結した補助砥石28bとを含み、該研削砥石28aと該補助砥石28bとが該ホイール基台26の該自由端部に両端部が密着して交互にリング状に配設されている。
【選択図】図4

Description

本発明は、研削装置の研削ホイールに関する。
IC、LSI、LED等の数多くのデバイスが表面に形成され、且つ個々のデバイスが分割予定ライン(ストリート)によって区画されたウエーハは、研削装置によって裏面が研削されて所定の厚みに加工された後、レーザー加工装置によって個々のデバイスに分割され、分割されたデバイスは携帯電話やパソコン、照明器具等の電気機器に広く利用されている。
また、IC、LSI、LED等のデバイスが形成されるシリコンウエーハ、サファイア基板、SiC基板はデバイスが形成される前に研削装置によって両面が平坦に研削され、更に必要に応じて研磨装置により研磨されて鏡面に加工される。
研削装置は、ウエーハ等の被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を研削する研削砥石が配設された研削ホイールを回転可能に支持する研削手段と、研削領域に研削水を供給する研削水供給手段とを備えており、ウエーハ又は基板を高精度に所望の厚みに研削することができる。
研削ホイールは、研削ユニットを構成するホイールマウントに装着される環状に形成された装着部と該装着部の反対側で環状に形成された自由端部とを有するホイール基台と、該ホイール基台の自由端部に間隔をおいて固着された複数のセグメント砥石とから構成され、セグメント砥石に研削水が供給される構成になっている(例えば、特開2006−198737号公報参照)。
特開2006−198737号公報
しかし、サファイア基板、SiC基板のようにモース高度が高い被加工物を研削すると、セグメント砥石の回転方向反対側に欠けが生じて、被加工物の研削面に傷をつけるという問題がある。
そこで、セグメント砥石をリング状に隙間をおかずに密に配設してセグメント砥石の回転方向反対側に欠けが生じないように構成すると、セグメント砥石から脱落した砥粒が連れまわり研削抵抗が大きくなって、被加工物の被研削面の面精度が悪くなるという問題がある。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、セグメント砥石の回転方向反対側に欠けを生じることなく、被加工物の被研削面の良好な面精度を達成できる研削ホイールを提供することである。
本発明によると、研削手段のホイールマウントに装着される研削ホイールであって、該ホイールマウントに装着される環状に形成された装着部と該装着部の反対側で環状に形成された自由端部とを有するホイール基台と、該ホイール基台の該自由端部に配設された複数の砥石と、を備え、該複数の砥石は、ボンド材にダイアモンド砥粒を混入して焼結した研削砥石と、ボンド材のみを焼結した補助砥石とを含み、該研削砥石と該補助砥石とが該ホイール基台の該自由端部に両端部が密着して交互にリング状に配設されていることを特徴とする研削ホイールが提供される
好ましくは、ボンド材はビトリファイドボンドから構成される。
本発明の研削ホイールによると、研削砥石が補助砥石によって補強され、研削砥石の回転方向反対側に欠けが生じることなく被加工物研削面に傷をつけることなく、良好な面精度に研削することができる。
また、補助砥石がボンド材のみを焼結して構成されているので、研削砥石から脱落した砥粒は補助砥石によって捕獲されて、実質的に砥粒の連れまわりがなくなり、脱落した砥粒によって被加工物の面精度が悪化するという問題が抑制される。
本発明の研削ホイールを具備した研削装置の斜視図である。 半導体ウエーハの表面に保護テープを貼着する様子を示す斜視図である。 図3(A)はホイール基台の底面図、図3(B)は図3(A)の3B−3B線断面図である。 本発明実施形態にかかる研削ホイールの斜視図である。 セグメント砥石の配列方法を模式的に示す図である。 実施形態の研削ホイールを使用してウエーハの裏面を研削している様子を示す斜視図である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、本発明の研削ホイールを具備した研削装置2の外観斜視図が示されている。4は研削装置2のベースであり、ベース4の後方にはコラム6が立設されている。コラム6には、上下方向に伸びる一対のガイドレール8が固定されている。
この一対のガイドレール8に沿って研削ユニット(研削手段)10が上下方向に移動可能に装着されている。研削ユニット10は、スピンドルハウジング12と、スピンドルハウジング12を保持する支持部14を有しており、支持部14が一対のガイドレール8に沿って上下方向に移動する移動基台16に取り付けられている。
研削ユニット10は、スピンドルハウジング12中に回転可能に収容されたスピンドル18と、スピンドル18を回転駆動するモータ20と、スピンドル18の先端に固定されたホイールマウント22と、ホイールマウント22に着脱可能に装着された研削ホイール24とを含んでいる。
研削装置2は、研削ユニット10を一対の案内レール8に沿って上下方向に移動するボールねじ30とパルスモータ32とから構成される研削ユニット送り機構34を備えている。パルスモータ32を駆動すると、ボールねじ30が回転し、移動基台16が上下方向に移動される。
ベース4の上面には凹部4aが形成されており、この凹部4aにチャックテーブル機構36が配設されている。チャックテーブル機構36はチャックテーブル38を有し、図示しない移動機構によりウエーハ着脱位置Aと、研削ユニット10に対向する研削位置Bとの間でY軸方向に移動される。40,42は蛇腹である。ベース4の前方側には、研削装置2のオペレータが研削条件等を入力する操作パネル44が配設されている。
図2を参照すると、半導体ウエーハ11は、例えば厚さが700μmのシリコンウエーハからなっており、表面11aに複数のストリート(分割予定ライン)13が格子状に形成されているとともに、複数のストリート13によって区画された各領域にIC、LSI等のデバイス15が形成されている。
このように構成された半導体ウエーハ11は、デバイス15が形成されているデバイス領域17と、デバイス領域17を囲繞する外周余剰領域19を備えている。また、半導体ウエーハ11の外周にはシリコンウエーハの結晶方位を示すマークとしてのノッチ21が形成されている。
ウエーハ11の裏面11bの研削に先立って、ウエーハ11の表面11aには、保護テープ貼着工程により保護テープ23が貼着される。保護テープ23は、例えばポリエチレン塩化ビニル、ポリオリフィン等の一面に紫外線硬化型粘着材(糊層)を配設した紫外線硬化型粘着テープである。
図3(A)を参照すると、図4に示された研削ホイール24を構成するホイール基台26の底面図が示されている。図3(B)は図3(A)の3B−3B線断面図である。図4に示すように、研削ホイール24のホイール基台26は、ホイールマウント22に装着される環状に形成された装着部26aと、装着部26aの反対側で同じく環状に形成された自由端部26bを有している。図3(A)に示されるように、ホイール基台26の自由端部26bには所定深さの環状嵌合溝27が形成されている。
図4に示すように、ホイール基台26の装着部26aには研削ホイール24をホイールマウント22に装着するためのねじ穴33と、ホイール基台26を上下方向に貫通する円周方向に所定間隔離間した複数の研削水供給孔31が形成されている。
ホイール基台26の自由端部26bには、研削砥石28aと補助砥石28bとを交互に密着させて環状嵌合溝27中にリング状に配設し、複数個の砥石28が接着剤により嵌合溝27中に固定されている。
即ち、本実施形態の研削ホイール24では、砥石28がボンド剤にダイアモンド砥粒を混入して焼結した研削砥石28aと、ボンド剤のみを焼結した補助砥石28bとを含み、研削砥石28aと補助砥石28bとが両端部で密着して嵌合溝27中にリング状に固定されている。本実施形態では、ボンド材としてビトリファイドボンドを採用した。図5を参照すると、砥石28の配列の仕方が模式的に示されている。
以下、本実施形態の砥石28を構成する研削砥石28a及び補助砥石28bの製造方法の一例について説明する。
研削砥石28aの製造方法
(1)粒径φ0.5μm(#8000)のダイアモンド砥粒と、SiOを主成分としNaO、B、CaO等を副成分とするビトリファイドボンド材と、珪酸ナトリウム(ゲル状の無機質発泡剤)と、粒径φ50μm前後の有機物粒子「ポリスチレン(PS)系、ポリメタクリル酸エステル(PMMA)系の有機物粒子(商品名ガッツパール:ガッツ化成株式会社)」とを混練して造粒し顆粒物(粒径φ350μm〜φ50μm)を生成する。
(2)セグメントを形成する枠体にこの顆粒物を充填して所定の形状に加圧成形する。
(3)焼結炉内に成形された顆粒物を搬入する。
(4)焼結炉内の温度を約2時間かけて650℃まで上昇させ、その後650℃で約4時間維持した後、約6時間かけて常温に戻して研削砥石を形成する。
(5)焼結炉内から研削砥石を搬出し、切断加工等によってセグメント形状に整形する。
補助砥石28bの製造方法
(1)SiOを主成分としNaO、B、CaO等を副成分とするビトリファイドボンド材と、珪酸ナトリウム(ゲル状の無機質発泡剤)と、粒径φ50μm前後の有機物粒子「ポリスチレン(PS)系、ポリメタクリル酸エステル(PMMA)系の有機物粒子(商品名ガッツパール:ガッツ化成株式会社)」とを混練して造粒し顆粒物(粒径φ350μm〜φ50μm)を生成する。
(2)セグメントを形成する枠体にこの顆粒物を充填して所定の形状に加圧成形する。
(3)焼結炉内に成形された顆粒物を搬入する。
(4)焼結炉内の温度を約2時間かけて650℃まで上昇させ、その後650℃で約4時間維持した後、約6時間かけて常温に戻して補助砥石を形成する。
(5)焼結炉内から補助砥石を搬出し、切断加工等によってセグメント形状に整形する。
次に、本実施形態の研削ホイール24を使用したウエーハ11の研削方法について図6を参照して説明する。図6に示すように、研削ユニット10のスピンドル18の先端に固定されたホイールマウント22には、複数のねじ35により研削ホイール24が着脱可能に装着されている。研削ホイール24は、ホイール基台26の自由端部に研削砥石28aと補助砥石28bとを交互に密着させてリング状に固着して構成されている。
研削装置のチャックテーブル38でウエーハ11の表面に貼着された保護テープ23側を吸着保持し、チャックテーブル38を矢印aで示す方向に例えば300rpmで回転しつつ、研削ホイール24を矢印bで示す方向に例えば6000rpmで回転させるとともに、研削ユニット送り機構34を駆動して研削ホイール24の研削砥石28a及び補助砥石28bをウエーハ11の裏面11bに接触させる。
そして、研削ホイール24を所定の研削送り速度(例えば1μm/s)で下方に所定量研削送りしてウエーハ11の研削を実施する。接触式又は非接触式の厚み測定ゲージでウエーハ11の厚さを測定しながら、ウエーハ11を所望の厚さ、例えば100μmに研削する。
本実施形態の研削ホイール24によると、研削砥石28aと補助砥石28bとは互いに密着して交互にリング状に配設されているので、研削砥石28aが補助砥石28bによって補強され、研削砥石28aの回転方向反対側に欠けが生じることがなく、ウエーハ11の研削面に傷をつけることがない。
また、補助砥石28bはボンド剤のみを焼結して構成されているので、研削砥石28aから脱落した砥粒は補助砥石28bによって捕獲され、実質的に砥粒の連れ回りがなくなるため、ウエーハ11の研削面の良好な面精度を達成することができる。
10 切削ユニット(切削手段)
11 半導体ウエーハ
22 ホイールマウント
23 保護テープ
24 研削ホイール
26 ホイール基台
28 砥石
28a 研削砥石
28b 補助砥石
38 チャックテーブル

Claims (2)

  1. 研削手段のホイールマウントに装着される研削ホイールであって、
    該ホイールマウントに装着される環状に形成された装着部と該装着部の反対側で環状に形成された自由端部とを有するホイール基台と、
    該ホイール基台の該自由端部に配設された複数の砥石と、を備え、
    該複数の砥石は、ボンド材にダイアモンド砥粒を混入して焼結した研削砥石と、ボンド材のみを焼結した補助砥石とを含み、
    該研削砥石と該補助砥石とが該ホイール基台の該自由端部に両端部が密着して交互にリング状に配設されていることを特徴とする研削ホイール。
  2. 前記ボンド材はビトリファイドボンドから構成される請求項1記載の研削ホイール。
JP2013049417A 2013-03-12 2013-03-12 研削ホイール Pending JP2014172146A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013049417A JP2014172146A (ja) 2013-03-12 2013-03-12 研削ホイール
KR1020140022411A KR20140111950A (ko) 2013-03-12 2014-02-26 연삭 휠
CN201410085323.5A CN104044086A (zh) 2013-03-12 2014-03-10 磨轮

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013049417A JP2014172146A (ja) 2013-03-12 2013-03-12 研削ホイール

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2014172146A true JP2014172146A (ja) 2014-09-22

Family

ID=51497735

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013049417A Pending JP2014172146A (ja) 2013-03-12 2013-03-12 研削ホイール

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2014172146A (ja)
KR (1) KR20140111950A (ja)
CN (1) CN104044086A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108747854B (zh) * 2018-06-29 2020-09-25 江苏赛扬精工科技有限责任公司 一种具有低温热固型附层的陶瓷结合剂金刚石砂轮及其制备方法
JP2023077743A (ja) * 2021-11-25 2023-06-06 株式会社ディスコ 研削ホイール及び被加工物の研削方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6268764U (ja) * 1985-10-17 1987-04-30
JP2006198737A (ja) * 2005-01-21 2006-08-03 Disco Abrasive Syst Ltd ビトリファイドボンド砥石
JP2008142796A (ja) * 2006-12-06 2008-06-26 Jtekt Corp 複合砥石
JP2009039829A (ja) * 2007-08-09 2009-02-26 Nippon Sheet Glass Co Ltd ダイヤモンドホイール

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06182755A (ja) * 1992-12-21 1994-07-05 Mitsubishi Materials Corp 穿孔用ビット
JP3350459B2 (ja) * 1998-10-28 2002-11-25 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 複合砥石の製造方法
JP2001198838A (ja) * 2000-01-19 2001-07-24 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 精密加工用砥石
JP2009094326A (ja) * 2007-10-10 2009-04-30 Disco Abrasive Syst Ltd ウェーハの研削方法
JP2009125915A (ja) * 2007-11-28 2009-06-11 Disco Abrasive Syst Ltd 研削ホイール装着機構
JP5149020B2 (ja) * 2008-01-23 2013-02-20 株式会社ディスコ ウエーハの研削方法
JP2010052076A (ja) * 2008-08-27 2010-03-11 Disco Abrasive Syst Ltd 研削ホイール

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6268764U (ja) * 1985-10-17 1987-04-30
JP2006198737A (ja) * 2005-01-21 2006-08-03 Disco Abrasive Syst Ltd ビトリファイドボンド砥石
JP2008142796A (ja) * 2006-12-06 2008-06-26 Jtekt Corp 複合砥石
JP2009039829A (ja) * 2007-08-09 2009-02-26 Nippon Sheet Glass Co Ltd ダイヤモンドホイール

Also Published As

Publication number Publication date
CN104044086A (zh) 2014-09-17
KR20140111950A (ko) 2014-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5275016B2 (ja) 研削装置
JP2010052076A (ja) 研削ホイール
JP2012056013A (ja) 研削ホイール
KR20170028833A (ko) 연삭 휠 및 피가공물의 연삭 방법
JP6192778B2 (ja) シリコンウエーハの加工装置
JP2010161117A (ja) 板状物の研削方法
TWI668751B (zh) Grinding method of workpiece
JP2012089628A (ja) 研削ホイール
JP2014172146A (ja) 研削ホイール
JP2010021330A (ja) ウエーハの加工方法
JP2012223863A (ja) 表面に金属膜が被覆された硬質基板の研削方法
JP6086765B2 (ja) 研削ホイール
JP2010219461A (ja) ウエーハの研磨方法
JP2011143495A (ja) 研削装置
JP2011044471A (ja) ウエーハの研削装置
JP2016078165A (ja) 平研削砥石
JP2011041991A (ja) ウエーハの研削装置
JP2019062148A (ja) 保護部材の加工方法
JP7301472B2 (ja) ウェーハの加工方法
JP2019062147A (ja) 保護部材の加工方法
JP2014097551A (ja) 研削方法
JP5955069B2 (ja) ウエーハの研削方法
JP2010149200A (ja) 研削ホイール
JP2011044475A (ja) ウエーハの研削装置
JP5777383B2 (ja) 研磨パッド及び該研磨パッドを使用した板状物の研磨方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160115

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20161107

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161115

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20170606