JP2014164124A - 偏光素子の製造方法および偏光素子、投射型表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板と、前記基板の一面に設けられた複数のストライプ状の凸部と、前記複数のストライプ状の凸部のうち一の凸部の頂部に設けられた金属細線と、を備える偏光素子の製造方法であって、前記一の凸部の頂部および側面に金属から成る金属膜を形成する工程と、前記金属膜をハロゲンからなるプラズマにさらすことによって、前記金属と前記ハロゲンとからなるハロゲン化金属を前記一の凸部の頂部に凝集させる工程と、前記ハロゲン化金属を還元することによって前記金属細線を形成する工程と、を有する偏光素子の製造方法。
【選択図】図1
Description
これに対して、ワイヤーグリッド型の偏光素子は、無機物のみから構成できるため、有機物による偏光素子に比べ、光に対する劣化が著しく少ない。したがって、近年高輝度化が進んでいる液晶プロジェクターにおいては有効なデバイスとして注目されている。このようなワイヤーグリッド型の偏光素子としては、たとえば、特許文献1、2に挙げるような技術が開示されている。
この構成によれば、凸部の側面が凸部の頂部に向かって先細りとなるように傾斜しているため、凸部に形成された金属膜を構成する金属をハロゲン化させる際に、凸部の側面に形成された金属膜を構成する金属のハロゲン化物が凸部の頂部に向かって移動しやすく、引き寄せられやすい。その結果、凸部の側面に形成された金属膜を構成する金属は、金属ハロゲン化物となって凸部の頂部に凝集する。したがって、金属ハロゲン化物を還元することで、幅、高さが略均一な金属細線が形成され、光学特性に優れた偏光素子を製造できる。
この構成によれば、凸部の頂部は三角形状の頂点で構成された稜線であるため、凸部に形成された金属膜を構成する金属をハロゲン化させる際に、凸部の各頂部(側面の各位置に対応する頂点)を中心として、凸部の各側面に形成された金属膜を構成する金属のハロゲン化物が引き寄せられ、凝集する。その結果、形成される金属ハロゲン化物の凝集粒子は、略均一な形状、大きさとなる。したがって、金属ハロゲン化物を還元することで、幅、高さが略均一な金属細線が形成され、光学特性に優れた偏光素子を製造できる。
この構成によれば、偏光素子の凸部が形成されている側の表面は、基板の一面と略平行な面を有さず、凸部の斜面のみで構成されているため、金属膜は斜面のみに形成される。そのため、金属膜を構成する金属をハロゲン化させて凝集させる際に、凸部の側面(斜面)に形成された金属膜を構成する金属は、凸部の頂部に金属ハロゲン化物となって凝集し、凸部上以外に金属ハロゲン化物が凝集することがない。したがって、金属ハロゲン化物を還元することで、基板上に幅、高さが略均一な金属細線が形成され、光学特性に優れた偏光素子を製造することができる。
この構成によれば、たとえば、金属細線を構成する金属としてAgを選択した場合に、優れた光学特性を有する偏光素子が得られる。
この構成によれば、たとえば、金属細線を構成する金属としてAlを選択した場合に、優れた光学特性を有する偏光素子が得られる。この場合において、金属凝集粒子のアスペクト比は3から5程度であることにより、優れた光学特性を得られる。
この構成によれば、たとえば、金属細線を構成する金属としてAgを選択した場合に、優れた光学特性を有する偏光素子が得られる。
なお、以下の説明においてはXYZ座標系を設定し、このXYZ座標系を参照しつつ各部材の位置関係を説明する。この際、水平面内(基板面内)における所定の方向をX軸方向、水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向とY軸方向のそれぞれの直交する方向をZ軸方向(基板面の法線方向)とする。本実施形態の場合、金属細線の延在方向をX軸方向とし、金属細線の配列軸をY軸方向としている。また、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせている。
図1、2は本実施形態の偏光素子1Aを示す図であり、図1は外観斜視図、図2(a)は偏光素子1Aを金属細線14に直交する面(YZ平面)で切った断面図、図2(b)は図1におけるA−A断面図である。
図3は、本実施形態の偏光素子1Aの製造方法を示す図である。
下記各工程の詳細な説明は、金属細線14を構成する金属をAgとした場合を例示するものである。
SOG材料を塗布する方法としては、たとえばスピンコート法、スプレーコート法、スリットコート法、ロールコート法、ダイコート法、ディップコート法、液体噴射法を用いることができる。
形成される材料膜20の膜厚は、形成する凸条部13の高さhよりも厚ければ特に限定されない。
材料膜20に、ナノスタンパー24を押し付けることにより、材料膜20の表面に、凸条部13の形状を転写する。押し付け方は、特に限定されず、たとえば、直押し方式、ローラー転写方式、Roll to Roll方式等を選択できる。この工程により、未硬化の凸条部21が形成される。未硬化の凸条部21は、三角形の断面形状を有しており、側面は基板11の表面から遠ざかる方向に沿ってテーパー状の傾斜を備えている。
このとき、金属膜22を構成する金属がハロゲン化された金属ハロゲン化物は、凸条部13の先端部13cに凝集する。詳細は不明であるが、これは、生成された金属ハロゲン化物(AgClx)と、凸条部13の表面との親和性が低いため、金属ハロゲン化物が粒状に凝集し、金属膜22が最も厚く形成され、先鋭形状で粒子の姿勢が安定しやすい先端部13cに留まるためであると考えられる。
還元性雰囲気としては、水素ガスを用いることが効率的である。アンモニア分解ガス、CO2とCOの混合物等の他の既知の還元性雰囲気を用いてもよい。
この工程により、ハロゲン化物凝集粒子を構成するAgClxが還元され、粒径5〜100nmの金属凝集粒子14aが連結された金属細線14を得ることができる。
次に、本発明の投射型表示装置の実施形態について説明する。図4に示すプロジェクター800は、光源810、ダイクロイックミラー813、814、反射ミラー815、816、817、入射レンズ818、リレーレンズ819、射出レンズ820、光変調部822、823、824、クロスダイクロイックプリズム825、投射レンズ826、を有している。
以下、本発明の実施例について説明する。
実施例1は、金属細線14の形成検証実験、実施例2、3は、シミュレーションによる光学特性評価である。
なお、各実施例のグラフにおいて、TpはTM光の光透過率、TcはTE光の光透過率、RcはTE光の光反射率、AcはTE光の光吸収率を示している。
本実施例においては、水晶基板の表面上に、フォトリソプロセスを用いてレジストマスクを形成した後、水晶基板をエッチングし、水晶基板をパターニングすることで、SiO2からなる凸条部(SiO2ポスト)を形成した。その後、Agをスパッタ法により凸条部の頂部および側面に付着させ、膜厚が10nmの金属膜を形成した。
図6(a)に示すように、凸条部の頂部に、AgClxからなる複数の凝集粒子が形成されている。また、図6(b)に示すように、AgClxからなる複数の凝集粒子は、凸条部の延在方向に沿って互いに一列に連結されている。
これにより、該凝集粒子を還元することにより、本実施形態における金属細線14が形成できることが確認された。
本実施例においては、本発明の偏光素子を液晶プロジェクターの液晶ライトバルブ用の偏光素子として適用することを想定してシミュレーションにより評価を行った。本発明の偏光素子は、無機材料で形成されており耐熱性が高いことから、上述した高出力の光源を有する液晶プロジェクターのプリ偏光板として好適に適用できる。
波長が450〜480nm程度の光は青色であることから、本実施例の偏光素子は、青色光の光変調部に用いるプリ偏光板として好適な偏光素子である。
これより、本実施例の偏光素子は、青色光、緑色光、赤色光、すべての光変調部に用いるプリ偏光板として好適な偏光素子であることが確かめられた。
図10は、金属細線の形状を本実施形態における形状とした場合の本実施例を示した図であり、(a)は光学特性を示すグラフ、(b)は偏光素子のYZ断面図、(c)は偏光素子のZX断面図である。
次に、金属細線14のピッチpと金属細線14を構成する金属凝集粒子14aの短軸直径dを変化させたときにおける光学特性への影響を検証した。それぞれ、金属細線14を構成する金属としてAgを用いる場合と、Alを用いる場合について行った。
以下の各グラフにおいて、横軸は金属凝集粒子の短軸直径(ナノ粒子直径)dを凸条部13のピッチ(グリッドピッチ)pで除した値(d/p)であり、光学特性は、波長が470nmの青色光のものである。
図11(a)は、ピッチp=140nmとしたときの光学特性を示したグラフである。
図11(b)は、ピッチp=170nmとしたときの光学特性を示したグラフである。
図11(c)は、ピッチp=200nmとしたときの光学特性を示したグラフである。
図11(d)は、ピッチp=260nmとしたときの光学特性を示したグラフである。
凸条部13の高さh=200nm、金属凝集粒子14aは球状とした。
図12(a)は、ピッチp=140nmとしたときの光学特性を示したグラフである。
図12(b)は、ピッチp=260nmとしたときの光学特性を示したグラフである。
凸条部13の高さh=200nm、金属凝集粒子14aは長軸径:短軸径=4:1の扁球状とした。
Claims (9)
- 基板と、
前記基板の一面に設けられた複数のストライプ状の凸部と、
前記複数のストライプ状の凸部のうち一の凸部の頂部に設けられた金属細線と、を備える偏光素子の製造方法であって、
前記一の凸部の頂部および側面に金属から成る金属膜を形成する工程と、
前記金属膜をハロゲンからなるプラズマにさらすことによって、前記金属と前記ハロゲンとからなるハロゲン化金属を前記一の凸部の頂部に凝集させる工程と、
前記ハロゲン化金属を還元することによって前記金属細線を形成する工程と、を有する偏光素子の製造方法。 - 前記一の凸部の延在方向に垂直な断面において、前記一の凸部はテーパー形状を有していることを特徴とする請求項1に記載の偏光素子の製造方法。
- 前記一の凸部の延在方向に垂直な断面において、前記一の凸部は三角形状を有していることを特徴とする請求項1または2に記載の偏光素子の製造方法。
- 前記一の凸部の延在方向に垂直な断面において、前記複数のストライプ状の凸部が三角波状の表面を形成している、請求項1から3のいずれか1項に記載の偏光素子の製造方法。
- 基板と、
前記基板の一面に設けられた複数のストライプ状の凸部と、
前記複数のストライプ状の凸部のうち一の凸部の頂部に設けられた金属細線と、を備える偏光素子であって、
前記金属細線は、複数の金属凝集粒子が1列に前記延在方向に配列してなることを特徴とする偏光素子。 - 前記複数の金属凝集粒子のうちの一の金属凝集粒子は、略球状である、請求項5に記載の偏光素子。
- 前記複数の金属凝集粒子のうちの一の金属凝集粒子は、形状異方性を有する、請求項5に記載の偏光素子。
- 前記金属凝集粒子の直径を、前記複数のストライプ状の凸部のピッチで除した値が、
前記ピッチが140nm以上155nm未満の範囲内において、0.19より大きく、0.32未満であり、
前記ピッチが155nm以上185nm未満の範囲内において、0.27より大きく、0.35未満であり、
前記ピッチが185nm以上215nm未満の範囲内において、0.27より大きく、0.39未満であり、
前記ピッチが215nm以上260nm以下の範囲内において、0.30より大きく、0.45未満である、請求項5または6に記載の偏光素子。 - 光を射出する照明光学系と、
前記光を変調する液晶ライトバルブと、
前記液晶ライトバルブで変調された光が入射する、請求項5から8のいずれか1項に記載の偏光素子と、
前記偏光素子を透過した偏光光を被投射面に投射する投射光学系と、を備える投射型表示装置。
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JP2013035033A JP2014164124A (ja) | 2013-02-25 | 2013-02-25 | 偏光素子の製造方法および偏光素子、投射型表示装置 |
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CN107894627A (zh) * | 2017-12-28 | 2018-04-10 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 线栅偏光片、显示面板及显示装置 |
CN111198413A (zh) * | 2018-11-20 | 2020-05-26 | 迪睿合株式会社 | 偏振光片及具备该偏振光片的光学设备 |
JP2020086426A (ja) * | 2018-11-20 | 2020-06-04 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板及びそれを備えた光学機器 |
WO2022196409A1 (ja) * | 2021-03-15 | 2022-09-22 | デクセリアルズ株式会社 | 光学機器 |
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JP2012103728A (ja) * | 2007-02-06 | 2012-05-31 | Sony Corp | 偏光素子、及び透過型液晶プロジェクター |
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2013
- 2013-02-25 JP JP2013035033A patent/JP2014164124A/ja active Pending
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