JP2014156461A5 - - Google Patents

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  1. 一般式（１）
    （式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、Ｒ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖状または炭素数３、４の分岐状のアルキル基であり、ａは１〜５、ａａは１〜３、ｍは０〜２およびｎは１〜３の整数であり、ａａ＋ｍ＋ｎ＝４である。）
    で表される珪素化合物。
  2. 一般式（２）
    （式中、Ｒ１は、水素原子、または炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、Ｒ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖状または炭素数３、４の分岐状のアルキル基であり、ａは１〜５、ｍは０〜２およびｎは１〜３の整数であり、ｍ＋ｎ＝３である。）
    で表される、請求項１に記載の珪素化合物。
  3. 一般式（３）
    （式中、Ｒ２は、炭素数１〜４の直鎖状または炭素数３、４の分岐状のアルキル基であり、ａは１〜５の整数である。）
    で表される請求項１または請求項２に記載の珪素化合物。
  4. 一般式（４）
    （式中、Ｘは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、−ＯＳＯ２（ｐ−Ｃ６Ｈ４ＣＨ３）基または−ＯＳＯ２ＣＦ３基であり、ａは１〜５の範囲の整数である。）
    で表される芳香族化合物、および
    一般式（５）
    （式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、Ｒ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖状または炭素数３、４の分岐状のアルキル基であり、ａａは１〜３、ｍは０〜２およびｎは１〜３の整数であり、ａａ＋ｍ＋ｎ＝４である。）
    で表される珪素化合物を、遷移金属触媒の存在下で反応させて、
    一般式（１）
    （式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、Ｒ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖状または炭素数３、４の分岐状のアルキル基であり、ａは１〜５、ａａは１〜３、ｍは０〜２およびｎは１〜３の整数であり、ａａ＋ｍ＋ｎ＝４である。）
    で表される珪素化合物を得る、珪素化合物の製造方法。
  5. 一般式（６）
    （式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、ａは１〜５、ａａは１〜３、ｍは０〜２、およびｎは１〜３の整数であり、ａａ＋ｍ＋ｎ＝４である。）
    で表される繰り返し単位を含む、高分子化合物。
  6. 一般式（７）
    （式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、ａは１〜５、ｍは０〜２、およびｎは１〜３の整数であり、ｍ＋ｎ＝３である。）
    で表される繰り返し単位を含む、請求項５に記載の高分子化合物。
  7. 一般式（１）
    （式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、Ｒ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖状または炭素数３もしくは４の分岐状のアルキル基であり、ａは１〜５、ａａは１〜３、ｍは０〜２およびｎは１〜３の整数であり、ａａ＋ｍ＋ｎ＝４である。）
    で表される珪素化合物を、加水分解重縮合することで
    一般式（６）
    （式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルキル基、炭素数２〜１０の直鎖状、炭素数３〜１０の分岐状もしくは炭素数３〜１０の環状のアルケニル基、または炭素数６〜１０のアリール基であり、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、アルキル基、アルケニル基またはアリール基中の水素原子の全てまたは一部がフッ素原子と置換されていてもよく、ａは１〜５、ａａは１〜３、ｍは０〜２、およびｎは１〜３の整数であり、ａａ＋ｍ＋ｎ＝４である。）
    で表される繰り返し単位を含む高分子化合物を得る、高分子化合物の製造方法。
  8. 請求項５または請求項６に記載の高分子化合物を含む、膜。
  9. ａａは１であり、ｍは０であり、ｎは３である、請求項５または６に記載の高分子化合物。
  10. ａは１または２であり、ａａは１であり、ｍは０であり、ｎは３である、請求項５または６に記載の高分子化合物。
  11. ａａは１であり、ｍは０であり、ｎは３である、請求項７に記載の製造方法。
  12. ａは１または２であり、ａａは１であり、ｍは０であり、ｎは３である、請求項７または８に記載の製造方法。
  13. 請求項９または請求項１０に記載の高分子化合物を含む、膜。
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