JP2014154334A - 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】製造が容易であり、光取り出し性に優れ、劣化を低減した信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供する。
【解決手段】防湿基板1の表面に樹脂層2を形成して複合材基板10を形成し、複合材基板10の樹脂層2側の表面に第1電極3と有機層4と第2電極5とをこの順で有する有機発光体11を複数個形成した後、複合材基板10を分断して個別化する。このような有機エレクトロルミネッセンス素子Aを製造する方法に関する。複合材基板10における樹脂層2にテーパ状の切込み9を設ける切込み工程、切込み9を含んで樹脂層2を防湿性の無機層6で被覆する無機層形成工程、及び、切込み9の位置で防湿基板1を分断して有機エレクトロルミネッセンス素子Aを個別化する分断工程、を備える。
【選択図】図1
【解決手段】防湿基板1の表面に樹脂層2を形成して複合材基板10を形成し、複合材基板10の樹脂層2側の表面に第1電極3と有機層4と第2電極5とをこの順で有する有機発光体11を複数個形成した後、複合材基板10を分断して個別化する。このような有機エレクトロルミネッセンス素子Aを製造する方法に関する。複合材基板10における樹脂層2にテーパ状の切込み9を設ける切込み工程、切込み9を含んで樹脂層2を防湿性の無機層6で被覆する無機層形成工程、及び、切込み9の位置で防湿基板1を分断して有機エレクトロルミネッセンス素子Aを個別化する分断工程、を備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法に関する。
近年、有機エレクトロルミネセンス素子(以下「有機EL素子」ともいう)が照明パネルなどの用途に応用されている。有機EL素子としては、透光性の第1電極(陽極)と、発光層を含む複数の層により構成される有機層と、第2電極(陰極)とが、この順で透光性基板の表面に積層形成されたものが知られている。有機EL素子では、陽極と陰極の間に電圧を印加することによって、発光層で発した光が透光性の電極及び基板を通して外部に取り出される。
図16(a)は、従来の有機EL素子の一例である。この有機EL素子は、防湿基板1の表面に、陽極と陰極との間に有機層が挟まれた構造の有機発光体11が形成され、有機発光体11は封止基板12により封止された構造を有する。封止基板12の外周側部には封止側壁7が形成され、封止側壁7に囲まれた部分には封止充填材8が充填されている。
有機EL素子では、一般的に、発光層の光は基板での吸収や層界面での全反射などによって光量が減少するため、外部に取り出される光は理論上の発光量よりも少なくなる。例えば、ガラスを基板材料に使用した場合、通常、ガラスは有機層よりも屈折率が低いために、この界面で全反射が発生し、光取り出し効率が低下する。そのため、有機EL素子においては、高輝度化のために光取り出し効率を高めることが課題の一つとなっている。その方策として、屈折率をより近づけるために高屈折率ガラスを用いることが考えられる。しかしながら、高屈折率ガラスは高価である上、物性が脆いというデメリットがある。また、その他の方策の一つとして、光取り出し性を高めるために、光取り出し側の電極とガラス基板との間にプラスチック基材を設けることが知られている(例えば、特許文献1参照)。光取り出し側にプラスチック基材を配置することにより、基板と電極との界面における全反射が低減されて、光をより多く外部に取り出すことが可能になる。
ところで、有機EL素子においては、発光層が水分によって劣化しやすいため、素子内部に水分を浸入させないようにすることが重要である。水分によって発光層が劣化すると、発光不良等の原因となり、有機EL素子の信頼性を低下させてしまう。特に、光取り出し性を高める基材として、樹脂で構成されるプラスチックなど、水分の透過性が比較的高い材料を用いた場合は、この材料を介しての内部への水分の浸入が問題となる。
図16(b)の有機EL素子では、光取り出し効率を高めるために、防湿基板1の代わりに、ガラスで構成される防湿基板1とプラスチックで構成される樹脂層2との複合材基板10を基板材料として用いている。しかしながら、この素子の場合、プラスチックの部分から内部に水分が浸入しやすくなる。
特許文献1においては、プラスチック基材に発光層を含む積層体を形成したあと、このプラスチック基材をガラス基板に接着し、全体を封止するようにしている。この場合、プラスチック基材は防湿性の基材に囲まれるため、プラスチック基材を介しての水分の浸入は抑制される。しかしながら、この方法では、プラスチック基材に積層体を個別に形成して素子を作製する必要があり製造が煩雑になるおそれがある。
また、特許文献2では、図16(b)のような有機EL素子において、図16(c)のように防湿性の膜Mで覆った後、エッチングして余分を除去して、図16(d)に示すような有機EL素子を製造することが記載されている。防湿性の膜Mを形成することにより、水分を浸入しにくくすることができる。しかしながら、エッチングで除去する場合、基板の表裏両面にレジストパターニングをしなければならず工程数が多くなってしまうおそれがある。また、有機EL素子ごとに個別に防湿性の膜Mで覆うために、基板上に複数個を一括して積層形成するプロセスを用いることができず、生産性が悪くなるおそれがある。また、基板を宙吊りにして防湿性の膜Mを形成しており、設備が大掛かりになるおそれがある。また、防湿性の膜Mは、大部分は除去されてしまうため、材料の利用効率が悪くなるおそれがある。
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、製造が容易であり、光取り出し性に優れ、水分の浸入を効果的に抑制し、劣化を低減した信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することを目的とするものである。
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、
防湿基板の表面に樹脂層を形成して複合材基板を形成し、前記複合材基板の前記樹脂層側の表面に第1電極と有機層と第2電極とをこの順で有する有機発光体を複数個形成した後、前記複合材基板を分断して個別化することによって有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する方法であって、
前記複合材基板における前記樹脂層にテーパ状の切込みを設ける切込み工程、
前記切込みを含んで前記樹脂層を防湿性の無機層で被覆する無機層形成工程、及び、
前記切込みの位置で前記防湿基板を分断して有機エレクトロルミネッセンス素子を個別化する分断工程、を備えることを特徴とするものである。
防湿基板の表面に樹脂層を形成して複合材基板を形成し、前記複合材基板の前記樹脂層側の表面に第1電極と有機層と第2電極とをこの順で有する有機発光体を複数個形成した後、前記複合材基板を分断して個別化することによって有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する方法であって、
前記複合材基板における前記樹脂層にテーパ状の切込みを設ける切込み工程、
前記切込みを含んで前記樹脂層を防湿性の無機層で被覆する無機層形成工程、及び、
前記切込みの位置で前記防湿基板を分断して有機エレクトロルミネッセンス素子を個別化する分断工程、を備えることを特徴とするものである。
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法においては、次のうちのいずれか1つ以上の特徴を有することが好ましい。
・前記切込みをテーパ状の刃で形成する。
・前記無機層形成工程において、前記第2電極を前記無機層で被覆する。
・前記切込みを、縁部の角が丸まるように設ける。
・前記切込みをテーパ状の刃で形成する。
・前記無機層形成工程において、前記第2電極を前記無機層で被覆する。
・前記切込みを、縁部の角が丸まるように設ける。
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法によれば、光取り出し性に優れ、水分の浸入を効果的に抑制し、劣化を低減した信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子を容易に製造することができる。
[実施形態1]
図1は、有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子A)の一例を示している。この有機EL素子Aは、防湿基板1と樹脂層2とにより構成される複合材基板10が、有機発光体11を形成するための基板として用いられている。そして、複合材基板10における樹脂層2の表面に、第1電極3、有機層4及び第2電極5をこの順で有する有機発光体11が設けられている。有機発光体11は、複合材基板10に接着される封止基板12により封止されている。複合材基板10と封止基板12とに挟まれた領域が、封止領域となる。封止領域の内部から外部には、第1電極3及び第2電極5のうちの一方と導通する電極引き出し部13が引き出されて形成されている。電極引き出し部13を構成する導電層の表面には、電極引き出し部13及び第1電極3の通電性を高める補助電極14が、封止領域の内部に設けられている。また、封止領域の外部における電極引き出し部13の表面には、電極パッド15が設けられている。電極パッド15は、電極引き出し部13の導電性を高めることができるとともに、外部の電気配線と繋がる電極端子として機能することができるものである。
図1は、有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子A)の一例を示している。この有機EL素子Aは、防湿基板1と樹脂層2とにより構成される複合材基板10が、有機発光体11を形成するための基板として用いられている。そして、複合材基板10における樹脂層2の表面に、第1電極3、有機層4及び第2電極5をこの順で有する有機発光体11が設けられている。有機発光体11は、複合材基板10に接着される封止基板12により封止されている。複合材基板10と封止基板12とに挟まれた領域が、封止領域となる。封止領域の内部から外部には、第1電極3及び第2電極5のうちの一方と導通する電極引き出し部13が引き出されて形成されている。電極引き出し部13を構成する導電層の表面には、電極引き出し部13及び第1電極3の通電性を高める補助電極14が、封止領域の内部に設けられている。また、封止領域の外部における電極引き出し部13の表面には、電極パッド15が設けられている。電極パッド15は、電極引き出し部13の導電性を高めることができるとともに、外部の電気配線と繋がる電極端子として機能することができるものである。
なお、図1では、右側の端部に第1電極引き出し部13aが形成され、左側の端部に第2電極引き出し部13bが形成される電極の引き出しパターンの例を示したが、電極の引き出しパターンの例はこれに限定されるものではない。
図1の有機EL素子Aでは、防湿性の無機層6が設けられており、無機層6は樹脂層2の側面を被覆している。また、無機層6は、封止外の領域において、樹脂層2の表面を被覆して樹脂層2が外部に露出しないようにしている。そのため、樹脂層2は無機層6によって外部に直接接する部分がなくなり、無機層6がバリア膜として機能して樹脂層2に水分が浸入しにくくなる。それにより、水分によって有機発光体11が劣化するのを抑制することができる。
[有機EL素子Aの製造]
図1の有機EL素子Aの製造方法について説明する。
図1の有機EL素子Aの製造方法について説明する。
本形態の有機EL素子Aは、概略、次のようにして製造することができる。まず、防湿基板1の表面に樹脂層2を形成して複合材基板10を形成する。次に、複合材基板10の樹脂層2側の表面に第1電極3と有機層4と第2電極5とをこの順で有する有機発光体11を複数個形成する。好ましくは、次に、封止基板12によって有機発光体11を封止する。その後、複合材基板10を分断することにより個別化する。これにより有機EL素子Aを得ることができる。
そして、本形態では、切込み工程、無機層形成工程、及び、分断工程を備えて有機EL素子Aが製造される。切込み工程は、複合材基板10における樹脂層2にテーパ状の切込み9を設ける工程である。無機層形成工程は、切込み9を含んで樹脂層2を防湿性の無機層6で被覆する工程である。分断工程は、切込み9の位置で防湿基板1を分断して有機EL素子Aを個別化する工程である。
以下、さらに詳細に説明する。図2〜14は、有機EL素子Aの製造方法の一例である。
[複合材基板の作製]
図2及び図3は複合材基板10を製造する工程を示している。複合材基板10の製造にあたっては、まず、図2に示すような樹脂層2を形成するためのプラスチック基材を樹脂材料として準備する。
図2及び図3は複合材基板10を製造する工程を示している。複合材基板10の製造にあたっては、まず、図2に示すような樹脂層2を形成するためのプラスチック基材を樹脂材料として準備する。
図2は、プラスチック基材の一例である。このプラスチック基材は、樹脂層2の両方の面に保護フィルム17が設けられたものである。保護フィルム17は、樹脂などで構成されるものである。保護フィルム17によって搬送時における表面の傷つきなどを抑制することができる。保護フィルム17は剥離可能に樹脂層2に接着されている。
プラスチック基材としてはロール材を用いることが好ましい。ロール材の場合、取扱い性が向上する。また、ロール材の場合、ロールから必要量を繰り出して、切断し、防湿基板1に順次に貼り付けることができ、製造効率を高めることができる。
本形態では、樹脂層2は、樹脂層本体2aの一方の面に接着層2cを備えた構成を有している。また、本形態のプラスチック基材では、樹脂層本体2aの接着層2cとは反対側の面には、導電膜16が設けられている。そして、一方の面(防湿基板1に貼り付けられる側)の保護フィルム17は、接着層2cの表面に貼り付けられ、他方の面(有機発光体11が形成される側)の保護フィルム17は、導電膜16の表面に貼り付けられている。導電膜16は、その後の工程で、第1電極3及び電極引き出し部13を構成する膜となる。本形態では、第1電極3及び電極引き出し部13は樹脂層2に直接接して設けられることになる。
保護フィルム17は、適宜の樹脂フィルムで構成することができる。例えば、PET(ポリエチレンテレフタラート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)などのフィルム材であってよい。このうち、レーザや刃でカットしやすいPETを用いることが好ましい。また、導電膜16側の保護フィルム17を貼り付けたまま、樹脂層2を防湿基板1に接着できるよう、樹脂層2の貼り合わせの際の張力に耐える程度の強度を有することが好ましい。保護フィルム17の樹脂層2及び導電膜16への接着は、例えば、適度な剥離強度を持ち、後の工程で汚染が残りにくいアクリル系低粘着剤を用いることができる。
本形態のプラスチック基材では、樹脂層本体2aと接着層2cとの間には、光散乱構造2bが設けられている。光散乱構造2bを設けることにより、発光層からの光を散乱させることができ、界面での全反射を抑制して光取り出し効率を高めることができる。
樹脂層本体2aは、適宜の樹脂により構成されたものであってよい。樹脂層本体2aはプラスチックであってよく、そのようなプラスチックとしては、PET(ポリエチレンテレフタラート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)などのプラスチック材料が例示される。樹脂層本体2aの屈折率は、防湿基板1よりも高いことが好ましい。例えば、樹脂層本体2aの屈折率は1.6〜1.9の範囲にすることができる。
光散乱構造2bは、微粒子が混入した樹脂やマイクロレンズ構造などで構成することができる。微粒子は、光散乱性の微粒子であってよい。また、光散乱構造2bは、微細な凹凸構造によって光散乱性が付与されていてもよい。
接着層2cは、接着性の樹脂により構成することができる。樹脂としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂などであってよい。硬化性の樹脂を用いると、接着性を高めることができる。
接着層2cは、樹脂層本体2aの屈折率よりも屈折率が低いことが好ましい。それにより、屈折率差を低減して光取り出し性を高めることができる。理想的には空隙(屈折率1.0)であるが、それに近ければ近いほどよい。例えば、接着層2cの屈折率は、1.5以下、1.4以下、又は、1.3以下などに設定することができる。接着層2cの屈折率の下限は1.0であってよい。アクリル系の樹脂では1.4程度の屈折率が可能である。接着層2cは、微細な気泡を混入させることにより、屈折率をさらに低減することができる。あるいは、低屈折率の粒子を混合することにより、屈折率を低減してもよい。
導電膜16は光透過性の膜であってよい。それにより、光を外部に取り出すことができる。導電膜16としては、ITO、IZOなどの透明金属酸化物層を用いることができる。また、導電膜16として、銀薄膜などの金属薄膜を用いることもできる。金属薄膜の場合、厚みを薄くすることにより、光を透過させることが可能である。
本形態では、保護フィルム17は導電膜16の表面に貼り付けられている。このように、樹脂層2の表面に導電膜16があらかじめ設けられたプラスチック基材を用いることにより、プロセスを簡略化して製造をより簡単に行うことが可能になる。もちろん、樹脂層2の表面に導電膜16が設けられていないプラスチック基材を用いてもよい。その場合、樹脂層本体2aの表面に直接、保護フィルム17が貼り付けられたものを用いることができる。
そして、図2のプラスチック基材から保護フィルム17を剥離して取り除き、図3に示すように、防湿基板1の表面に貼り付ける。
プラスチック基材は適宜にカットして防湿基板1と略同じ大きさにしたものを貼り付けることができる。プラスチック基材の切断は、保護フィルム17を除去する前に行うことが好ましい。それにより、プラスチック基材を傷つけることなく容易に切断することができる。
防湿基板1は、有機EL素子Aを複数個形成することができる大きさのものを用いることができる。それにより、複数の有機EL素子Aを同時に成膜して形成することができ、製造効率を高めることができる。本形態では、図4以降で示すように、2個が横に並んだ有機EL素子Aを形成する例を示しているが、個別化する前の1つの防湿基板1の表面に形成する有機EL素子Aの個数はこれに限定されるものではない。例えば、横方向に3個以上の有機EL素子Aを形成するようにしてもよい。また、例えば、縦2列、横2列として面状に4個で配置した有機EL素子を形成するようにしてもよい。また、一つの防湿基板1で形成する有機EL素子Aの数は、9個、16個、25個など、あるいはそれ以上であってもよい。複数個の有機発光体11を複合材基板10上に形成した場合、中間状態として、複数個の有機EL素子が基板で連結した有機EL素子連結体を形成することになる。
防湿基板1としては、防湿性があり、光透過性を有する透明な基材を用いることができる。防湿基板1としてガラス基板を用いることが好ましい。防湿基板1をガラス基板で構成した場合、ガラスは水分の透過性が低いので、封止領域の内部に水分が浸入することを抑制することができる。ガラスとしては、無アルカリガラス、ソーダガラスなどが挙げられる。本形態では、ガラス基板に有機発光体11を直接成膜しないので、高価な無アルカリガラスを用いなくてもよく、安価なソーダガラスを用いることができる。ソーダガラスを用いる場合、不純物を除去して色を無色にし、気泡やひずみを抑えた光学ガラスが適している。光学ガラスとしては、例えば、白ソーダガラスが例示される。
保護フィルム17の剥離は、接着層2c側の保護フィルム17を取り除き、接着層2cで防湿基板1に樹脂層2を貼り付けた後、接着層2cとは反対側(導電膜16側)の保護フィルム17を除去するようにすることが好ましい。保護フィルム17を段階的に剥離除去することにより、樹脂層2を貼り付けやすくすることができるとともに、樹脂層2や導電膜16の傷つきを抑制することができる。
なお、図3に示すように、樹脂層2の端縁を防湿基板1の端縁よりも少し内側にして樹脂層2を貼り付けるようにすることがより好ましい。この場合、複合材基板10の端部において防湿基板1の表面が露出することになる。それにより、後述するように、無機層6を形成する際に、防湿基板1の表面に無機層6を積層させることができ、樹脂層2の側面を無機層6で覆いやすくすることができる。
ところで、複合材基板10の端部の位置における樹脂層2の端部においては、樹脂層2の側面が基板に対して垂直であると、この部分において樹脂層2の側面を無機層6で被覆しにくくなるおそれがある。そのため、樹脂層2を切断する際に、樹脂層2の側面が防湿基板1の表面に対して傾斜するように、樹脂層2の下部を広がらせて樹脂層2(プラスチック基材)を切断することも好ましい。それにより、樹脂層2の端部側面に無機層6を形成しやすくすることができる。また、その際、樹脂層2の表面と側面との境界部分の角に丸みを付けるようにしてもよい。
本形態では、導電膜16があらかじめ設けられたプラスチック基材を用いる例を示しているが、導電膜16が設けられていないプラスチック基材を用いてもよい。その場合、樹脂層2と防湿基板1とを貼り合わせて複合材基板10を形成した後、樹脂層2の表面に導電膜16を積層させることにより、図3に示すような、複合材基板10の表面に導電膜16が形成された導電膜付き基板材料を得ることができる。
[電極のパターニング]
図4及び図5は、電極をパターニングする工程を示している。本形態の方法では、まず、図4に示すように、導電膜16の表面に、補助電極14及び電極パッド15を構成する補助電極膜18を形成する。補助電極膜18は、導電膜16の表面全体に形成されている。補助電極膜18が分断されることにより、補助電極14及び電極パッド15が形成される。図4(a)では、複合材基板10の表面に垂直な方向から見た場合の様子を平面図として示している。
図4及び図5は、電極をパターニングする工程を示している。本形態の方法では、まず、図4に示すように、導電膜16の表面に、補助電極14及び電極パッド15を構成する補助電極膜18を形成する。補助電極膜18は、導電膜16の表面全体に形成されている。補助電極膜18が分断されることにより、補助電極14及び電極パッド15が形成される。図4(a)では、複合材基板10の表面に垂直な方向から見た場合の様子を平面図として示している。
補助電極膜18は、適宜の金属層により形成されるものであってよい。補助電極14及び電極パッド15は有機発光体11よりも素子外部側に形成されるものであり透明でなくてもよい。補助電極膜18(補助電極14及び電極パッド15)としては、MAMとよばれるMo/Al/Moの積層体や、Ni/Cu/Niなどの積層体を用いることができる。
図5に示すように、補助電極膜18の形成後、補助電極膜18及び導電膜16を適宜のパターン形状でエッチング等により除去する。補助電極膜18からは、補助電極14と電極パッド15とが形成される。導電膜16からは、第1電極3と電極引き出し部13とが形成される。電極のパターニング除去は適宜の方法で行うことができる。例えば、レーザーパターニングなどによるドライ条件のパターニングや、エッチング液によるウェットパターニングなどが例示される。エッチング液としては、例えば塩化鉄水溶液が挙げられる。第1電極3は、個々の有機EL素子Aが形成される区画の中央の領域に形成される。電極引き出し部13は、個々の有機EL素子Aが形成される区画の端部の領域に形成される。電極パッド15は、電極引き出し部13の表面に形成される。補助電極14は、電極パッド15よりも内側の電極引き出し部13の表面に形成される。
ここで、有機EL素子Aでは、第1電極3と第2電極5とに電圧を印加し、有機層4において正孔と電子を結合させて発光を生じさせる。そのため、第1電極3及び第2電極5のそれぞれと導通する部分を電極引き出し部13として封止領域よりも外部に引き出して設ける必要がある。電極引き出し部13は、外部電極と電気的に接続することのできる部分であり、いわゆる取り出し電極として機能する。
本形態では、導電膜16のパターニングによって、複合材基板10の表面端部に、第1電極引き出し部13a及び第2電極引き出し部13bが形成される。第1電極引き出し部13aは第1電極3と電気的に接続され、第2電極引き出し部13bは第2電極5と電気的に接続される。
第2電極引き出し部13bは、有機EL素子Aの区画の端部において、第1電極3を構成する導電膜16の一部が第1電極3から分離されることによって形成されている。このように、導電膜16の分離によって第2電極引き出し部13bを形成することにより、簡単に電極引き出し部13を形成することができる。
第1電極引き出し部13aは、第1電極3を構成する導電膜16が第1電極3と繋がったまま、有機EL素子Aの区画の端部において導電膜16が残されることによって形成されている。このように、有機EL素子Aの区画の中央部分における導電膜16を第1電極3として用い、有機EL素子Aの区画の端部における導電膜16を電極引き出し部13として用いることにより、効率よく電極を構成することができる。
補助電極膜18のパターン状の除去と、導電膜16のパターン状の除去とは、エッチング液の組成を異ならせるなど、適宜の方法で行うことができる。例えば、補助電極膜18及び導電膜16のそれぞれ一方のみを除去するエッチング液を組み合わせて用いることができる。
ここで、本形態では、有機EL素子Aが分断して個別化される位置(切込み9が設けられる位置)には、電極引き出し部13が形成されておらず、樹脂層2が露出している。樹脂層2を露出させることにより、樹脂層2を直接、切り込むことができる。もちろん、分断位置に置いて電極引き出し部13が繋がっていてもよい。その場合、電極引き出し部13(導電膜16)ごと樹脂層2を切り込めば、切込み9を設けることができる。
補助電極14は、封止される領域において、有機発光体11が形成される中央部を挟むように導電膜16の上に設けられている。それにより、導電膜16の導通性を補助することができ、有機発光体11への通電性を高めることができる。また、補助電極14を形成すると、面状の有機EL素子Aを形成したときに、面内において電流分布をより均一化することができ、面内においてより均一な発光を得ることができる。補助電極14は、有機発光体11が形成される中央部を取り囲むように周状に設けてもよい。
電極パッド15は、封止外となる領域において、電極引き出し部13の表面に形成されている。それにより、外部電源との接続を容易にすることができるとともに、導電性を補助することができる。
補助電極14及び電極パッド15は、本形態のように、同じ材料により構成されるものであってよい。それにより、簡単に補助電極14及び電極パッド15を設けることができる。もちろん、有機EL素子Aにおいては、駆動に問題ない限り、補助電極14及び電極パッド15のいずれか一方又は両方がなくてもよい。補助電極14は、第1電極3と電気的に接続される補助電極14と、第2電極5と電気的に接続される補助電極14とに区分され、それらの補助電極14は互いに絶縁されている。それにより、電気的にショートすることがない構造とすることができる。また、電極パッド15は、第1電極3と電気的に接続される電極パッド15と、第2電極5と電気的に接続される電極パッド15とに区分され、それらの電極パッド15は互いに絶縁されている。それにより、ショートすることなく給電することが可能になる。
なお、図4及び図5の形態では、導電膜16の全面に補助電極膜18を形成する例を示したが、電極のパターニング方法は、これに限定されるものではない。例えば、補助電極膜16を形成する前に導電膜16をパターニングにより除去して、第1電極3及び電極引き出し部13を形成し、その後、補助電極14及び電極パッド15を形成してもよい。その際、補助電極14及び電極パッド15を、直接パターン状に積層して形成してもよい。パターン状の形成は、印刷やマスクスパッタなどにより行うことができる。全面形成ではなく、局所的に補助電極膜18を形成して、補助電極14及び電極パッド15を設ける場合には、材料効率よく補助電極14及び電極パッド15を形成することができる。
[樹脂層の切込み]
図6及び図7は、樹脂層2を切り込む工程を示している。図6に示すように、電極のパターニングの後、樹脂層2を切り込む切込み工程を行う。図6では、防湿基板1の表面まで樹脂層2が厚み全体で切り込まれて切込み9が設けられており、切込み9の位置において樹脂層2は分断されている。切込み9は少なくとも樹脂層本体2aが切り込まれて分断されていればよいが、この形態のように、光散乱構造2b及び接着層2cも分断されていることがより好ましい。それにより、水分の浸入のより低い構造を形成することができる。また、切込み9は、防湿基板1の表面を切り込んでもよい。それにより、防湿基板1を分断する際に、分断を行いやすくすることができる。ただし、防湿基板1が大きく切り込まれると、防湿基板1の強度が低下するおそれがあるので、防湿基板1には切込み9が設けられていないか、設けられていても少量の切込み9であることが好ましい。例えば、防湿基板1に設けられる切込み9は、引掻き傷が付く程度であってもよい。
図6及び図7は、樹脂層2を切り込む工程を示している。図6に示すように、電極のパターニングの後、樹脂層2を切り込む切込み工程を行う。図6では、防湿基板1の表面まで樹脂層2が厚み全体で切り込まれて切込み9が設けられており、切込み9の位置において樹脂層2は分断されている。切込み9は少なくとも樹脂層本体2aが切り込まれて分断されていればよいが、この形態のように、光散乱構造2b及び接着層2cも分断されていることがより好ましい。それにより、水分の浸入のより低い構造を形成することができる。また、切込み9は、防湿基板1の表面を切り込んでもよい。それにより、防湿基板1を分断する際に、分断を行いやすくすることができる。ただし、防湿基板1が大きく切り込まれると、防湿基板1の強度が低下するおそれがあるので、防湿基板1には切込み9が設けられていないか、設けられていても少量の切込み9であることが好ましい。例えば、防湿基板1に設けられる切込み9は、引掻き傷が付く程度であってもよい。
切込み9を設ける位置は、防湿基板1を分断して個別化する位置であってよい。それにより、防湿基板1を切断して分断するときに分断しやすくして個別化を容易に行うことができる。例えば、ガラスを用いた防湿基板1ではスクライバカットで分断するが、その際に、樹脂層2が分断位置と異なる位置で分断したり剥がれたりすることを抑制することができる。切込み9を設ける工程は、複合材基板10の一部をあらかじめ切断する工程であり、プリカット工程とも呼ばれる。
本形態では、切込み9はテーパ状の切込みとして設けられる。テーパ状の切込み9が設けられることにより、切込み9の位置において樹脂層2の側面を露出させることができる。つまり、切込み9によって、分断された樹脂層2と樹脂層2との間が開くのである。そのため、この露出した樹脂層2の側面に無機層6を容易に積層することが可能になる。また、切込み9がテーパ状となった場合、樹脂層2の側面は基板表面に対して傾斜した面となるので、無機層6が積層されやすくすることができる。テーパ状の切込み9は、深さが深くなるほど、切り込まれた幅、すなわち樹脂層2の端面間の距離が、小さくなるように形成されるものであってよい。切り込まれた樹脂層2の側面は、平面であってもよいし、曲面であってもよい。本形態では、断面V字状の切込み9が設けられている。切込み9は、溝となるものであってよい。また、切込み9(溝)は、平面視において直線状であってよい。
樹脂層2の切込みは、図7(a)に示すような刃20を用いて行うことができる。刃20を用いた切断器具としては、カッティングプロッタなどが例示される。刃20を用いることにより簡単に切込み9を設けることができる。
切込み9はテーパ状の刃20で形成することが好ましい。それにより、簡単にテーパ状の切込み9を形成することができる。テーパ状の刃20は、先端になるほど幅が細くなるものであってよい。図7(a)では、先端がV字状となってテーパ状となった刃20が示されている。
刃20としては、例えば、先端角θが15〜75°の範囲のものを使用することができる。具体的には、先端角θが30°又は60°の刃20を用いることができる。先端角θが比較的に大きい(例えば60°の)刃20を用いれば、1回のカッティングでテーパ状の切込み9を設けやすくなるため好ましい。また、先端角θが比較的大きい刃20は磨耗による劣化が、鋭い刃20に比べて抑制されるため、刃20の取替え頻度を少なくして製造性を高めることができる。テーパ状の切込み9は、先端角θの鋭い刃20を用いて、斜め方向に切り込むカッティングを切込み9の中心の両側から行って、2回切り込むようにして形成してもよい。その場合、テーパ状の切込み9を精度高く形成することができる。テーパ状の切込み9はノッチ状のものであってよい。
切込み9のテーパの角度φ(樹脂層2の側面同士がなす角度)は、刃20の先端角θと同程度であってよい。例えば、切込み9のテーパ角度φは15〜75°の範囲にすることができる。テーパ角度φがこの範囲になることにより、切込み9が大きくなりすぎることをより低減することができるとともに、無機層6で樹脂層2の側面をより被覆しやすくすることができる。もちろん、樹脂層2の側面をより傾斜させるために、テーパ角度φが75°以上や90°以上となってもよい。またテーパ角度φの上限は120°であってもよい。
切込み9の底部において、防湿基板1の表面が露出していてもよい。切込み9の底部において防湿基板1を露出させるようにすると、分断された樹脂層2の間をより広く開くことができ、樹脂層2の側面をより無機層6で被覆しやすくすることができる。また、防湿基板1が露出している場合、この露出部分に無機層6を形成することができ、防湿基板1と樹脂層2の境界部分を跨って無機層6を形成できるため、水分の浸入をさらに抑制することができる。
図7(b)に示すように、切込み工程では、切込み9を、縁部9aの角が丸まるように形成することが好ましい。切込み9の縁部9aは、樹脂層2の表面と側面との境界であり、この部分の角が尖っていると、無機層6が段切れして積層形成されたり、形成された無機層6が割れやすくなったりするおそれがある。しかしながら、切込み9の縁部9aに丸みをつけることにより、無機層6の段切れや膜割れを抑制することができる。なお、電極引き出し部13(導電膜16)ごと切り込む場合には、導電膜16の表面と樹脂層2の側面との境界によってできた切込み9の縁部9aの角が丸まるものであってよい。
角に丸みをつける方法としては、刃20の刃先の形状の調整により丸み加工を行うことができる。例えば、刃20として、刃先の先端になるほど側面の傾斜が大きくなった側面が曲面のものを用いれば、樹脂層2の表面には比較的緩やかな曲面で切り込むことができるため、容易に縁部9aの角に丸みをつけることができる。また、テーパ角度θの比較的大きい刃20により、縁部9aを若干盛り上げながら切るようにして、縁部9aを丸まらせてもよい。刃20で切り込んだ場合、切込み9の部分に存在していた材料は両側方に押し上げられて縁部9aに寄せられることになる。それにより、縁部9aの部分に丸みをつけることができる。また、グラインダなどの削り材で削って縁部9aの角を丸める加工を行うようにして、縁部9aに丸みを付与してもよい。その場合、精度よく角を丸めることができる。
切込み9の形成は、刃先がV字状になった刃20で形成してもよい。いわゆる彫刻刃状の刃20である。それにより、刃先のV字形状に沿ってテーパ形状を形成することが可能になり、簡単に精度よくテーパ状の切込み9を形成することができる。
また、切込み9は、樹脂層2を切り込むことができる他の方法で形成されてもよい。例えば、レーザで樹脂層2を切断することにより切込み9を形成することができる。レーザ照射の焦点を調整することにより、テーパ状となった切込み9を設けることができる。
[有機発光体の作製]
図8は、有機発光体11の作製工程を示している。図8に示すように、樹脂層2の切断後、第1電極3の表面に、有機層4及び第2電極5を積層させて有機発光体11を形成する。
図8は、有機発光体11の作製工程を示している。図8に示すように、樹脂層2の切断後、第1電極3の表面に、有機層4及び第2電極5を積層させて有機発光体11を形成する。
有機発光体11の形成は、通常の積層プロセスを用いて行うことができる。例えば、まず、導電膜16の中央領域である第1電極3の表面に、有機層4を積層して形成する。有機層4は、蒸着や塗布により、有機層4を構成する各層を順次に積層することにより形成することができる。有機層4は、発光を生じさせる機能を有する層であり、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、中間層などから適宜選ばれる複数の層によって構成されるものである。有機層4は、第2電極5が積層されたときに、第2電極5が第1電極3に接触しないようなパターンで積層する。有機層4の形成は真空雰囲気中で行うことができる。その際、有機層4のうちの一部の層を真空雰囲気中で形成してもよい。例えば、塗布により一層又は複層形成した後、蒸着により複層形成するようにすることができる。有機層4は、マスクパターンなどを用いてパターン状に積層させることにより、適宜のパターン形状に形成することができる。
次に、有機層4の表面に第2電極5を積層する。このとき、第2電極5は、第1電極3及び第1電極引き出し部13aとは接触しないようにするとともに、第2電極引き出し部13bの表面に積層させるようにする。また、第2電極5を第2電極引き出し部13b上に形成された補助電極14と接触させるように形成してもよい。それにより、第2電極5と補助電極14との間で通電性が確保され、電極に対する通電補助機能を高めることができる。第2電極5は真空雰囲気で形成することができる。例えば、真空蒸着や真空スパッタなどの方法を用いることができる。第2電極5は、マスクパターンなどを用いてパターン状に積層させることにより、適宜のパターン形状に形成することができる。こうして、有機発光体11が複合材基板10の表面に形成される。
[無機層形成工程]
図9は、無機層6の作製工程を示している。図9に示すように、有機発光体11の作製の後、無機層6を積層させ、樹脂層2を防湿性の無機層6で被覆する。
図9は、無機層6の作製工程を示している。図9に示すように、有機発光体11の作製の後、無機層6を積層させ、樹脂層2を防湿性の無機層6で被覆する。
無機層6は、防湿性の高い層であり、水分の浸入を防ぐバリア膜となり得るものである。無機層6は、パッシベーション膜であってよい。
本形態では、複合材基板10の表面における電極パッド15を除く全域に、無機層6を形成している。このように無機層6を形成すると、樹脂層2を他の層との境界部分も含めて無機層6で被覆することができるため、水分の浸入をさらに抑制することができる。また、有機発光体11を無機層6で被覆することができるため、有機発光体11に水分が浸入することをさらに抑制することができる。
もちろん、無機層6による被覆は、少なくとも切込み9を含んで行うものであってよい。切込み9が設けられた部分を無機層6で被覆することにより、切り込まれた樹脂層2の側面からの水分の浸入を抑制することができる。また、複合材基板10の端部の位置の樹脂層2の側面を被覆するものであってよい。それにより、樹脂層2の側面からの水分の浸入を抑制することができる。また、樹脂層2の露出部分の全部を無機層6で被覆するものであってもよい。樹脂層2が無機層6で被覆されて露出部分がなくなることにより、外部から樹脂層2への水分の浸入経路を塞ぐことができるため、水分の浸入を抑制することができる。さらに、第2電極5を無機層6で被覆することがより好ましい。第2電極5が無機層6で被覆されると、第2電極5側から水分が有機層4に向けて浸入する経路を塞ぐことができる。そして、本形態のように、電極パッド15以外の全域が無機層6で被覆されると、無機層6によるバリア機能を格段に高めることができ、水分の浸入を抑制して、有機発光体11の劣化を高く抑えることができる。また、一体化した無機層6で被覆することができ、簡単に防湿性を高めることができる。
本形態のように、無機層形成工程においては、樹脂層2だけでなく、第2電極5を防湿性の無機層6で被覆することが好ましい。それにより、第2電極5側から有機層4に水分が浸入するのを抑制することができ、素子の劣化をより低減することができる。
無機層6は、複合材基板10の端部における樹脂層2の側面を被覆するように設けることが好ましい。それにより、端部における樹脂層2の側面を被覆することができ、水分の浸入を抑制することができる。本形態では、貼り合わされた樹脂層2は防湿基板1よりもやや小さく形成されており、複合材基板10の端部において防湿基板1の表面が露出している。したがって、無機層6を防湿基板1の露出表面に積層することにより、樹脂層2の側面を容易に被覆することができる。また、前述のように、貼り合わせた端部における樹脂層2の側面を傾斜面にするようにすると、より無機層6を積層しやすくすることができる。もちろん、樹脂層2の側面を無機層6で被覆できるのであれば、複合材基板10の端部において、樹脂層2の端縁と防湿基板1の端縁とが平面視において揃っていてもよい。
無機層6は、適宜の無機材料で形成することができる。無機材料としては、SiNが好ましい。SiNにより簡単に防湿性の無機層6を形成することができる。
無機層6は、例えば、スパッタ成膜により形成することができる。このとき、マスクパターンを用いれば、適宜のパターン形状で無機層6を形成することができる。本形態では、例えば、電極パッド15の位置に積層されないようなマスクパターンを用いてスパッタすることができる。
無機層6の表面には、さらに低透湿の樹脂膜を被覆させてもよい。それにより、水分の浸入をさらに抑制することができる。また、無機層6は無機材料で形成されているため、割れが発生しやすくなるおそれがあるが、低透湿の樹脂膜が被覆されていると、強度が補強されるため、無機層6を割れにくくすることができる。樹脂膜の形成は印刷法などで行うことができる。樹脂膜としては、アクリル系の樹脂膜や、エポキシ系の樹脂膜が例示される。
ところで、本形態では、有機発光体11の形成後に無機層6を形成する例を示したが、有機発光体11を形成するよりも前に無機層6を形成するようにしてもよい。その場合、第1電極3の上(有機層4が設けられる部分)に無機層6を形成しないようなパターンで無機層6を形成することができる。ただし、本形態のように、有機発光体11を無機層6で覆うためには、有機発光体11の形成後に無機層6を形成する方が有利である。
また、本形態とは工程の順序を変えて、樹脂層2に切込み9を設けず、無機層6を形成していない状態で、複合材基板10に有機発光体11を形成し、その後、樹脂層2に切込み9を設け、無機層6を形成するプロセスも可能である。ただし、有機発光体11の形成後に、切込み9を形成する場合、有機発光体11が傷ついたり水分により劣化したりするおそれがあるため、本形態のように、樹脂層2に切込み9を設けた後に、有機発光体11を形成する方が好ましい。
[封止工程]
図10、図11及び図12は、封止工程を示している。封止においては、図10に示すように、まず、平面視において有機EL素子Aの端部の位置に、封止側壁7を形成する樹脂材料をダム材として設ける。封止側壁7は有機発光体11の外周を取り囲むように設けることができる。平面視において封止側壁7の内側が封止領域となり、封止側壁の外側が封止外領域となる。次に、図11に示すように、封止側壁7に囲まれた部分に封止充填材8を充填する。そして、図12に示すように、封止基板12を複合材基板10の有機発光体11が形成された表面に重ね、封止側壁7及び封止充填材8の材料を硬化させることによって封止基板12を接着する。
図10、図11及び図12は、封止工程を示している。封止においては、図10に示すように、まず、平面視において有機EL素子Aの端部の位置に、封止側壁7を形成する樹脂材料をダム材として設ける。封止側壁7は有機発光体11の外周を取り囲むように設けることができる。平面視において封止側壁7の内側が封止領域となり、封止側壁の外側が封止外領域となる。次に、図11に示すように、封止側壁7に囲まれた部分に封止充填材8を充填する。そして、図12に示すように、封止基板12を複合材基板10の有機発光体11が形成された表面に重ね、封止側壁7及び封止充填材8の材料を硬化させることによって封止基板12を接着する。
封止側壁7及び封止充填材8は、適宜の樹脂材料で形成することができる。例えば、封止側壁7は低透湿のエポキシ樹脂を用いることができる。エポキシ樹脂は完全に硬化していておらず半硬化して形状を保持するものを用いることができる。それにより、ダム材として充填材をせき止めて充填することが可能になる。封止側壁7の形成は印刷法などにより行うことができる。
封止充填材8は、吸湿材と緩衝剤を含有することが好ましい。吸湿材を含むことにより、水分を吸収することができるため、有機層4に水分が浸入することを抑制することができる。また、緩衝剤を含むことにより、緩衝作用によって、有機発光体11が損傷することを抑制することができる。封止充填材8の充填は、封止側壁7の内側で、封止充填材8の材料を滴下することにより、行うことができる。封止充填材8の注入により、封止側壁7の内側は封止充填材8で満たされる。
封止基板12は、水分の透過性が低い基板材料を用いて形成されたものを使用することができる。例えば、ガラス基板や、金属基材などを用いることができる。ガラス基板を用いる場合、簡単に封止性を高めることができる。また、防湿基材1と封止基板12とをともにガラス基板で構成すると、素子を容易に個別化することができる。封止基板12には、有機発光体11を収容するための凹部を有してもよいが、有していなくてもよい。凹部を有していない場合、封止基板12の平坦な面を複合材基板10に対向させて封止することが可能になり、また、板状の基材をそのまま用いることができるので、素子の作製が容易になる。封止基板12として有機発光体11を収容する凹部を有するものを用いた場合、有機発光体11の側方を封止基板12で囲うことができ、封止性を高めることができる。
このようにして、複合材基板10と封止基板12とが接着性材料により構成される封止側壁7で接着されて、個々の有機発光体11が封止され、複数の有機EL素子Aが基板で連結した有機EL素子連結体が製造される。
[有機EL素子の分断]
図13及び図14は、有機EL素子の分断工程を示している。図13に示すように、各有機EL素子Aの境界部分である切断線Lにおいて、防湿基板1及び封止基板12を切断して分離することにより、図14に示すように、有機EL素子Aを個別化することができる。防湿基板1は切込み9の位置で分断される。このとき、封止基板12においては、封止側壁7が設けられた外縁の位置に切断線Lが設けられており、この切断線Lにおいて封止基板12を切断して分離することができる。本形態では、樹脂層2がプリカットされており、防湿基板1の切断を容易に行うことができる。
図13及び図14は、有機EL素子の分断工程を示している。図13に示すように、各有機EL素子Aの境界部分である切断線Lにおいて、防湿基板1及び封止基板12を切断して分離することにより、図14に示すように、有機EL素子Aを個別化することができる。防湿基板1は切込み9の位置で分断される。このとき、封止基板12においては、封止側壁7が設けられた外縁の位置に切断線Lが設けられており、この切断線Lにおいて封止基板12を切断して分離することができる。本形態では、樹脂層2がプリカットされており、防湿基板1の切断を容易に行うことができる。
基板の切断は、例えば、ダイヤモンド針で切断位置に沿って切り欠きを設け、この部分で基板を割ることにより行うことができる。いわゆるスクライバカットの方法である。
電極引き出し部13が設けられた端部では、防湿基板1と封止基板12とは異なる位置において分断される。すなわち、段違いに分断が行われる。これにより、電極引き出し部13及びその表面に形成された電極パッド15が露出するため、外部電源の接続が容易になる。なお、電極引き出し部13が設けられていない端部において有機EL素子Aが連結している場合、防湿基板1と封止基板12とが同じ位置において分断されてもよい。なお、図14で示すように、段違いに分断した場合、封止基板12からは余剰部分として、端材19が発生する。
以上により、図1に示すような有機EL素子Aを得ることができる。
ところで、図1の有機EL素子では、両端部において樹脂層2の側面が傾斜した形態を示している。一方、図14の有機EL素子では、一方の側端部において樹脂層2の側面が傾斜し、他方の側面が傾斜していない例を示している。そのため、図1の形態と図14の形態とは厳密には樹脂層2の形状において異なっている。ただし、いずれの形態も樹脂層2の側面が無機層6で被覆されており、水分の浸入は高く抑制される。図1の形態は、前記したように、複合材基板10の端部において樹脂層2の側面が傾斜するように樹脂層2を設けることにより形成することができる。また、図1の形態は、3個以上の有機EL素子Aを並べて連結体を形成したときに、基板端部以外の部分で形成される形態であり得る。すなわち、有機EL素子Aの区画の端部が基板端部ではない場合、区画の両端に切込み9が設けられるため、樹脂層2の両端の側面が傾斜した形態が得られる。
ここで、図1〜14では、素子構成を分かりやすくするために、層の厚みや大きさを適宜に変更し、厚み方向を拡大して図示している。そのため、実際に製造される有機EL素子Aにおいては、厚みの薄い面状の照明装置として製造することができる。各層の厚みの例を以下に示す。もちろん層の厚みはこれに限定されるものではない。
防湿基板1及び封止基板12は、例えば、100〜1000μmの範囲の厚みにすることができる。具体的にはこの厚みを700μmにすることができる。樹脂層本体2aは、例えば、1〜500μmの範囲の厚みにすることができる。具体的にはこの厚みを50μmにすることができる。光散乱構造2bは、例えば、0.1〜10μmの範囲の厚みにすることができる。具体的にはこの厚みを1μmにすることができる。接着層2cは、例えば、1〜100μmの範囲の厚みにすることができる。具体的にはこの厚みを25μmにすることができる。導電膜16(第1電極3及び電極引き出し部13)は、例えば、0.01〜10μmの範囲の厚みにすることができる。具体的にはこの厚みを0.13μmにすることができる。補助電極14及び電極パッド15は、例えば、0.1〜10μmの範囲の厚みにすることができる。具体的にはこの厚みを1μmにすることができる。無機層6は、例えば、0.1〜10μmの範囲の厚みにすることができる。具体的にはこの厚みを1μmにすることができる。封止側壁7は、例えば、1〜100μmの範囲の厚みにすることができる。具体的にはこの厚みを6μmにすることができる。
一方、有機EL素子Aは、平面視において発光面積(有機発光体11が形成された面積)が10cm×10cmの大きさのものなど、一辺が1cm以上の矩形状のパネル形状に形成することができる。そのため、薄型の面状の照明装置を構成することができる。
[実施形態2]
図15は、有機EL素子Aの他の一例(実施形態2)を示している。この有機EL素子Aでは、樹脂層2が、下樹脂層21と上樹脂層22とにより構成されている点が、図1の形態とは異なっている。その他の構成は、図1の形態(実施形態1)と同様である。図1の形態と同じ構成については、同じ符号を付して説明を省略する。
図15は、有機EL素子Aの他の一例(実施形態2)を示している。この有機EL素子Aでは、樹脂層2が、下樹脂層21と上樹脂層22とにより構成されている点が、図1の形態とは異なっている。その他の構成は、図1の形態(実施形態1)と同様である。図1の形態と同じ構成については、同じ符号を付して説明を省略する。
下樹脂層21と上樹脂層22の界面には、凹凸構造30が設けられている。凹凸構造30は光取り出し構造となるものであり、凹凸構造30が設けられることにより、全反射を低減して光取り出し性を高めることができる。また、凹凸構造30が設けられると、垂直方向への発光と斜め方向への発光との色の差を低減することができ、視野角依存性を抑制することができる。
凹凸構造30は、高さが略等しい複数の凸部31がマトリックス状の凹凸の一区画ごとに割り当てられて面状に配置することにより形成されるものであってよい。凸部31が割り当てられなかった区画は凹部32となる。
図15(b)は、凹凸構造30の一例を示している。この図では、凹凸構造30を平面視したときの概略図を示している。図15(b)では、凸部31の部分を斜線で示している。図15(b)に示すように、凹凸構造30は、縦横に複数の正方形がマス目(行列型)のように並んで構成されるマトリック状の凹凸区画に、凸部31が割り当てられて配置されて形成されている。各凹凸区画は面積が等しく形成されている。凹凸の一区画(一つの凹凸区画)には一つの凸部31及び凹部32のいずれかが割り当てられている。
図15(b)に示すように、正方形状のマス目のマトリックスの場合、マス目の一つ一つに凸部31又は凹部32が割り当てられる。また、凹凸構造30は、平面視での単位領域における凸部31の面積率が各領域において略同一であるように形成されているものであってよい。凸部31の面積率は、例えば、30〜70%の範囲、又は40〜60%の範囲にすることができる。また、平面視での単位領域においては、凸部31は規則的に割り当てられるものであってよいし、ランダムに割り当てられるものであってよい。凸部31が規則的に割り当てられた場合、回折作用を利用して光取り出し性を高めることが可能になる。一方、凸部31がランダムに割り当てられた場合、角度依存性をより低減することができる。このような、凹凸構造30を設けることにより、光取り出し性を効率よく向上させることができる。
凹凸構造30を構成する凸部31の断面形状は、矩形状、ひだ状、逆三角形状、台形状など適宜の形状であってよい。凸部31がランダムに割り当てられた結果、一の凸部31と他の凸部31とが隣り合った場合には、凸部31は連結して、大きな凸部31が形成されていてよい。また、一の凹部32と他の凹部32とが隣り合った場合には、凹部32は連結して、大きな凹部32が形成されていてよい。凸部31の立体形状は、円柱状、角柱状(三角錐、四角柱など)、角錐状(三角錐、四角錐など)といった適宜の形状であってよい。
凹凸構造30は、微細な凹凸であることが好ましい。それにより、光取り出し性をより高めることができる。例えば、凹凸の一区画を一辺が0.1〜100μmの正方形の範囲にすることにより、微細凹凸構造を形成することができる。凹凸の一区画を形成する正方形の一辺は0.5〜10μmであってもよく、例えば、この一辺を1μmにすると、微細な凹凸構造30を精度よく形成することができる。また、単位領域は、縦1mm×横1mmの正方形の領域にしたり、あるいは、縦10mm×横10mmの正方形の領域にしたりすることができる。
凸部31の高さは、特に限定されるものではないが、例えば、0.1〜100μmの範囲であってよい。それにより、光取り出し性の高い凹凸構造30を得ることができる。例えば、凸部31の高さを1〜10μmの範囲にすると、微細な凹凸を精度よく形成することができる。
[有機EL素子の製造]
図15の形態の有機EL素子Aの製造は、樹脂層2の形成以外は、実施形態1に示す方法と同様の方法で形成することができる。
図15の形態の有機EL素子Aの製造は、樹脂層2の形成以外は、実施形態1に示す方法と同様の方法で形成することができる。
樹脂層2の形成にあたっては、まず、防湿基板1の表面に下樹脂層21を形成する。下樹脂層21の形成は塗布などにより行うことができる。材料の塗布方法は、適宜のコート法を採用することができ、スピンコートを用いてもよく、あるいは、スリットコート、バーコート、スプレーコート、インクジェットなどの方法を用途や基板サイズなどに応じて採用することができる。次に、下樹脂層21の表面に凹凸構造30を形成する。
凹凸構造30における凹凸は適宜の方法により形成することができる。例えば、透明材料にビーズのような粒子を混合して、その粒子形状に起因して凹凸を形成することができる。また、インプリント法により凹凸構造30の凹凸を形成することも好ましい。インプリント法によれば、微細な凹凸を効率よく精度高く形成することができる。また、凹凸区画ごとに凸部31又は凹部32を割り当てて凹凸を形成する場合、インプリント法を用いれば、精度高く微細な凹凸を形成することが可能になる。インプリント法によって凹凸を形成する場合、一つの凹凸区画は、プリントを行う一ドットにより構成されるものであってよい。インプリント法は微細構造を形成し得るものが好ましく、例えば、ナノインプリントと称せられる方法を用いることができる。インプリント法としては、UVインプリント法と熱インプリント法が例示される。例えば、UVインプリント法を用いることができる。UVインプリント法では、例えば、UV硬化性のインプリント用透明樹脂を基板に塗布し、この基板の樹脂表面にモールドを押し付け、その後、UV光を照射し、樹脂を硬化させる。そして、樹脂の硬化後にモールドを剥離する。これにより、モールドの凹凸形状を基板に転写することができる。なお、このモールドには、図15(b)に示したような凹凸構造30の形状と対応した凹凸が設けられている。
次に、上樹脂層22を下樹脂層21の表面に形成する。上樹脂層22の形成は塗布などにより行うことができる。材料の塗布方法は、適宜のコート法を採用することができ、スピンコートを用いてもよく、あるいは、スリットコート、バーコート、スプレーコート、インクジェットなどの方法を用途や基板サイズなどに応じて採用することができる。
上樹脂層22は、光取り出し性を高めるとともに、凹凸構造30を平坦化する層としての機能を有する。上樹脂層22の形成により、ショート不良や断線不良を低減することができる。
下樹脂層21及び上樹脂層22は、適宜の樹脂材料で構成することができる。例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂などを用いることができる。下樹脂層21と上樹脂層22とはどちらが屈折率が高くてもよい。例えば、上樹脂層22が高屈折率層であり、下樹脂層21が低屈折率層である形態が一例として挙げられる。この場合、屈折率差を低減して光取り出し性を高めることができる。また、上樹脂層22が低屈折率層であり、下樹脂層21が高屈折率層である形態が一例として挙げられる。この場合、凹凸構造30の光散乱作用を利用して全反射を抑制し、光取り出し性を高めることができる。下樹脂層21と防湿基板1との屈折率差は小さい方がよく、例えば1以下が好ましい。また、上樹脂層22と第1電極3との屈折率差は小さい方がよく、例えば1以下が好ましい。
こうして、防湿基板1の上に、下樹脂層21及び上樹脂層22を順次に形成することにより、防湿基板1と樹脂層2とからなる複合材基板10が形成される。
なお、凹凸構造30を有する樹脂層2は塗布により形成されるものに限定されるものではない。例えば、内部に凹凸構造30を有するシート状となった樹脂層2の材料を防湿基板1に貼り付けるようにしてもよい。
そして、この複合材基板10の樹脂層2側の表面に導電膜16を成膜することにより、樹脂層2の構成以外は、図3の形態と同様な導電膜付き基板材料を得ることができる。
以降の工程は、図4〜図14に示す工程と同様にして、図15の形態の有機EL素子Aを得ることができる。
A 有機エレクトロルミネッセンス素子
1 防湿基板
2 樹脂層
2a 樹脂層本体
2b 光散乱構造
2c 接着層
3 第1電極
4 有機層
5 第2電極
6 無機層
6a 縁部
7 封止側壁
8 封止充填材
9 切込み
10 複合材基板
11 有機発光体
12 封止基板
13 電極引き出し部
14 補助電極
15 電極パッド
16 導電膜
17 保護フィルム
18 補助電極膜
19 端材
20 刃
L 切断線
1 防湿基板
2 樹脂層
2a 樹脂層本体
2b 光散乱構造
2c 接着層
3 第1電極
4 有機層
5 第2電極
6 無機層
6a 縁部
7 封止側壁
8 封止充填材
9 切込み
10 複合材基板
11 有機発光体
12 封止基板
13 電極引き出し部
14 補助電極
15 電極パッド
16 導電膜
17 保護フィルム
18 補助電極膜
19 端材
20 刃
L 切断線
Claims (4)
- 防湿基板の表面に樹脂層を形成して複合材基板を形成し、前記複合材基板の前記樹脂層側の表面に第1電極と有機層と第2電極とをこの順で有する有機発光体を複数個形成した後、前記複合材基板を分断して個別化することによって有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する方法であって、
前記複合材基板における前記樹脂層にテーパ状の切込みを設ける切込み工程、
前記切込みを含んで前記樹脂層を防湿性の無機層で被覆する無機層形成工程、及び、
前記切込みの位置で前記防湿基板を分断して有機エレクトロルミネッセンス素子を個別化する分断工程、を備えることを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 前記切込みをテーパ状の刃で形成することを特徴とする、請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記無機層形成工程において、前記第2電極を前記無機層で被覆することを特徴とする、請求項1又は2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記切込みを、縁部の角が丸まるように設けることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
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JP2016109771A (ja) * | 2014-12-03 | 2016-06-20 | 株式会社Joled | 表示装置および表示装置の製造方法 |
-
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- 2013-02-07 JP JP2013022658A patent/JP2014154334A/ja active Pending
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