JP2014153152A - 内形計測装置 - Google Patents
内形計測装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014153152A JP2014153152A JP2013022218A JP2013022218A JP2014153152A JP 2014153152 A JP2014153152 A JP 2014153152A JP 2013022218 A JP2013022218 A JP 2013022218A JP 2013022218 A JP2013022218 A JP 2013022218A JP 2014153152 A JP2014153152 A JP 2014153152A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- hole
- light beam
- shape measuring
- light emitting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
【解決手段】発光手段11と、当該発光手段11が発光した光ビームL1を放射状に照射する拡散手段12とを有するビーム発生部10と、発光手段11と拡散手段12との間に設けられ、発光手段11が発光する光ビームL1の光軸上に貫通孔21aを有する支持板21と、当該支持板21上に回動可能に支持されて回動により貫通孔21aを閉状態にして光ビームL1を遮断し、貫通孔21aを開状態にして光ビームL1を貫通孔21aを通過させる開閉板22とを有するシャッター機構20と、ビーム発生部10が放射状に発生した光ビームL2が、被計測物100の空間内面に照射されてできる光跡を撮像する撮像部30と、撮像部30が撮像した画像を利用して被計測物100の内形を求める演算部40とを備える。
【選択図】図1
Description
本発明に係る内形計測装置は、内部に空間を有する被計測物の内形を計測する装置である。図1に示すように、本発明の実施形態に係る内形計測装置1は、被計測物100の空間へ挿入されて光ビームを放射状に発生するビーム発生部10と、光ビームの発生の切り替えに利用するシャッター機構20と、ビーム発生部10が放射状に発生した光ビームが、被計測物100の空間内面に照射されてできる光跡を撮像する撮像部30と、撮像部30が撮像した画像を利用して被計測物100の内形を求める演算部40とを備えている。なお、ここでは、ビーム発生部10から被計測物100の空間内面に照射されるこどで空間内面で光の点が連なって形成された形状を光跡という。
シャッター機構20は、ビーム発生部10のビームの発生を切り替える手段であって、図1に示すように、レーザ発信器11とコーンミラー12との間に設けられている。図2(a)の側面図及び図2(b)の斜視図と、図3の正面図に示すように、シャッター機構20は、貫通孔21aを有する支持板21と、回動中心23を支点として回動し、支持板21の貫通孔21aを開閉する開閉板22を有している。
10…ビーム発生部
11…レーザ発信器(発光手段)
12…コーンミラー(拡散手段)
20…シャッター機構
21…支持板
21a…貫通孔
21b…凸部
22…開閉板
23…回動中心
24…レーザホルダ
25…モータ
26a…検出器
26b…反射体
27…把持部
30…撮像部
40…演算部
L1…レーザ光
L2…光ビーム
100…被計測物
Claims (3)
- 内部に空間を有する被計測物の空間の内形を計測する内形計測装置であって、
発光手段と、当該発光手段が発光した光ビームを放射状に照射する拡散手段とを有するビーム発生部と、
前記発光手段と前記拡散手段との間に設けられ、前記発光手段が発光する光ビームの光軸上に貫通孔を有する支持板と、当該支持板上に回動可能に支持されて回動により前記貫通孔を閉状態にして光ビームを遮断し、前記貫通孔を開状態にして光ビームを前記貫通孔を通過させる開閉板とを有するシャッター機構と、
前記ビーム発生部が放射状に発生した光ビームが、被計測物の空間内面に照射されてできる光跡を撮像する撮像部と、
前記撮像部が撮像した画像を利用して被計測物の内形を求める演算部と、
を備えることを特徴とする内形計測装置。 - 前記シャッター機構は、開閉板の開閉を制御するモータまたは手動で開閉板を開閉する際に把持される把持部の少なくともいずれかを有することを特徴とする請求項1記載の内形計測装置。
- 前記シャッター機構は、前記開閉板の開閉状態を検出する検出手段を有することを特徴とする請求項1又は2記載の内形計測装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013022218A JP6201329B2 (ja) | 2013-02-07 | 2013-02-07 | 内形計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013022218A JP6201329B2 (ja) | 2013-02-07 | 2013-02-07 | 内形計測装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014153152A true JP2014153152A (ja) | 2014-08-25 |
JP6201329B2 JP6201329B2 (ja) | 2017-09-27 |
Family
ID=51575162
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013022218A Active JP6201329B2 (ja) | 2013-02-07 | 2013-02-07 | 内形計測装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6201329B2 (ja) |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04107219U (ja) * | 1991-02-27 | 1992-09-16 | 株式会社イーアンドエス | 真空装置用オプテイカルポート |
JPH07208916A (ja) * | 1994-01-21 | 1995-08-11 | Sekisui Chem Co Ltd | レーザセンサ装置 |
JPH09138438A (ja) * | 1995-11-10 | 1997-05-27 | Sony Corp | ビデオカメラ |
JPH11160025A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 照明光学装置 |
JP2000161920A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-16 | Sokkia Co Ltd | 光源装置 |
JP2007285891A (ja) * | 2006-04-17 | 2007-11-01 | Toru Yoshizawa | 内面形状の測定方法とこの方法による測定装置 |
JP2008122415A (ja) * | 2008-02-01 | 2008-05-29 | Photon Design:Kk | 歪み測定装置 |
JP2009198684A (ja) * | 2008-02-20 | 2009-09-03 | Sony Corp | 撮像装置 |
JP2011514989A (ja) * | 2008-03-12 | 2011-05-12 | ヴィ・エー インク | シャッター駆動システム |
JP2012194468A (ja) * | 2011-03-17 | 2012-10-11 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
-
2013
- 2013-02-07 JP JP2013022218A patent/JP6201329B2/ja active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04107219U (ja) * | 1991-02-27 | 1992-09-16 | 株式会社イーアンドエス | 真空装置用オプテイカルポート |
JPH07208916A (ja) * | 1994-01-21 | 1995-08-11 | Sekisui Chem Co Ltd | レーザセンサ装置 |
JPH09138438A (ja) * | 1995-11-10 | 1997-05-27 | Sony Corp | ビデオカメラ |
JPH11160025A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 照明光学装置 |
JP2000161920A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-16 | Sokkia Co Ltd | 光源装置 |
JP2007285891A (ja) * | 2006-04-17 | 2007-11-01 | Toru Yoshizawa | 内面形状の測定方法とこの方法による測定装置 |
JP2008122415A (ja) * | 2008-02-01 | 2008-05-29 | Photon Design:Kk | 歪み測定装置 |
JP2009198684A (ja) * | 2008-02-20 | 2009-09-03 | Sony Corp | 撮像装置 |
JP2011514989A (ja) * | 2008-03-12 | 2011-05-12 | ヴィ・エー インク | シャッター駆動システム |
JP2012194468A (ja) * | 2011-03-17 | 2012-10-11 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6201329B2 (ja) | 2017-09-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2020003262A5 (ja) | ||
CN105467554A (zh) | 自动调焦设备和自动调焦方法 | |
JP2018072495A5 (ja) | ||
JP2013164274A (ja) | 内径測定装置 | |
US11534868B2 (en) | Device and method for separating a temporarily bonded substrate stack | |
JP2008128730A (ja) | 被検査物検査装置 | |
JP6201329B2 (ja) | 内形計測装置 | |
JP6652492B2 (ja) | 固浸レンズホルダ及び画像取得装置 | |
JP2007108129A (ja) | 被測定物検出装置 | |
JP2009025006A (ja) | 光学装置、光源装置及び光学式測定装置 | |
JP2008032402A (ja) | リフレクタ評価装置及びリフレクタ評価方法 | |
JP2014235066A (ja) | 表面形状測定装置 | |
KR102025823B1 (ko) | 타겟에 조사되는 레이저 에너지를 조절할 수 있는 진단용 레이저 핸드피스용 팁 | |
JP7162227B2 (ja) | 距離測定装置 | |
JP2016085221A (ja) | 容器検査方法及び装置 | |
JP4302662B2 (ja) | 熱物性測定装置,熱物性測定方法 | |
JP2014056018A5 (ja) | ||
JP2019060808A5 (ja) | ||
JP2011185776A (ja) | ピンホール検出器 | |
JP2010091428A (ja) | 走査光学系 | |
JP2004198416A (ja) | 薄い層の厚さを計測する装置 | |
JP2008164387A (ja) | 光学検査方法および装置 | |
WO2019121129A1 (en) | Testing of curved x-ray gratings | |
KR102536203B1 (ko) | 반사계, 분광 광도계, 또는 엘립소미터 시스템을 사용하는 샘플 맵핑에 적용되는 세타-세타 샘플 포지셔닝 스테이지 | |
JP2010164529A (ja) | 照射スポット特定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161004 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170418 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170614 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170801 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170814 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6201329 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |