JP2014140490A - 眼科解析装置、及び眼科解析プログラム - Google Patents

Abstract

【課題】 有用な解析結果を出力できる。
【解決手段】 眼科用光干渉断層計によって取得された被検眼の断層画像の解析結果を得て、前記解析結果を出力するための眼科解析装置であって、前記眼科用光干渉断層計によって取得された前記断層画像を表示手段に表示させる表示制御手段と、前記表示制御手段によって前記表示手段に表示される前記断層画像に対して解析領域を複数選択する解析領域選択手段と、前記解析領域選択手段によって複数選択された前記解析領域における解析結果を取得し、取得された前記解析結果を出力する制御手段と、を備えることを特徴とする。
【選択図】 図３

Description

被検眼を解析する眼科解析装置、及びプログラムに関する。

眼科用光干渉断層計（ＯＣＴ：optical coherence tomography）によって取得された断層画像は、被検眼の診断に用いられる。例えば、眼底用ＯＣＴの場合、眼底の断層画像が取得され、断層画像自体又は断層画像に基づく厚みマップ又は厚みチャートによって診断が行われる。（特許文献１参照）。

特開２０１０−２４６９０４号公報

ところで、従来では、モニタに表示される断層画像は、単に画像として表示されるのみであった。そこで、検者は、断層画像を診た結果から被検眼を評価していた。

また、厚みマップ又は厚みチャートとして出力された場合であっても、断層画像全体の解析に基づくものであった。このため、断層画像を用いた診断として、十分とはいえなかった。

本件発明は、上記問題点を鑑み、有用な解析結果を出力できる眼科解析装置を提供することを技術課題とする。

上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。

（１）
眼科用光干渉断層計によって取得された被検眼の断層画像の解析結果を得て、前記解析結果を出力するための眼科解析装置であって、
前記眼科用光干渉断層計によって取得された前記断層画像を表示手段に表示させる表示制御手段と、
前記表示制御手段によって前記表示手段に表示される前記断層画像に対して解析領域を複数選択する解析領域選択手段と、
前記解析領域選択手段によって複数選択された前記解析領域における解析結果を取得し、取得された前記解析結果を出力する制御手段と、
を備えることを特徴とする。

（１１）
眼科用光干渉断層計によって取得された被検眼の断層画像の解析結果を得て、前記解析結果を出力するための眼科解析装置において実行される眼科解析プログラムであって、
前記眼科解析装置のプロセッサによって実行されることで、
前記眼科用光干渉断層計によって取得された前記断層画像を表示手段に表示させる表示制御ステップと、
前記表示制御手段によって前記表示手段に表示される前記断層画像に対して解析領域を複数選択処理する解析領域選択ステップと、
前記解析領域選択手段によって複数選択された前記解析領域における解析結果を取得し、取得された前記解析結果を出力先に出力する出力ステップと、
を前記眼科解析装置に実行させることを特徴とする眼科解析プログラム。

本発明によれば、有用な解析結果を出力できる。

実施例に係る眼底解析装置の構成を示すブロック図である。 実施例に係る断層画像上において解析領域を二次元的に設定するための例を示す図である。 断層画像上において解析領域を複数選択する際の流れの一例を示すフローチャートである。 実施例に係る第２の解析領域を設定する場合の例を示す図である。 断層画像上で中心位置を設定する際の一例を示す図である。 第１の解析領域、中心位置に基づいて第２の解析領域を設定する際の一例を示す図である。 中心位置に基づいて解析領域を分割する場合の一例を示す図である。 解析領域のサイズが固定された場合の一例を示す図である。 解析領域の位置が固定された場合の一例を示す図である。 複数の解析領域に関する解析結果を用いて、時系列グラフを出力する場合の一例を示す図である。 二次元正面画像上にてＯＣＴデータの解析領域を設定する場合の一例を示す第１図である。 二次元正面画像上にてＯＣＴデータの解析領域を設定する場合の一例を示す第２図である。 二次元正面画像上にてＯＣＴデータの解析領域を設定する場合の一例を示す第３図である。 二次元解析マップ上にてＯＣＴデータの解析領域を設定する場合の一例を示す第１図である。 二次元解析マップ上にてＯＣＴデータの解析領域を設定する場合の一例を示す第２図である。 二次元解析マップ上にてＯＣＴデータの解析領域を設定する場合の一例を示す第３図である。

本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図１〜図１６は本実施形態の実施例に係る図である。

＜概要＞
眼科解析装置１００は、光干渉断層計１０によって取得された被検眼の断層画像の解析結果を得る。眼科解析装置１００は、得られた解析結果を出力する。眼科解析装置１００は、制御部２０を主に備える（図１参照）。制御部２０は、例えば、光干渉断層計１０、表示部１、入力部４、記憶部３０と接続され、信号処理を行う。

断層画像としては、例えば、被検眼の組織（例えば、眼底、前眼部）の深さ方向における反射強度分布が横断方向に並べられた断層画像が取得される。例えば、表示部１上における縦横方向の一方が横断方向、他方が深さ方向として断層画像が表現される。

解析結果としては、例えば、眼底断層画像の解析結果、前眼部断層画像の解析結果のいずれかが適用される。解析結果としては、例えば、角膜から眼底までの眼全体の断層画像の解析結果であってもよい。

解析結果としては、例えば、被検眼の厚み（例えば、角膜厚、水晶体厚、網膜層、脈絡膜の少なくとも１層の厚み）、被検眼の曲率（例えば、角膜曲率、水晶体前面/後面曲率、網膜層の少なくとも１層の曲率）などが取得される。なお、解析結果は、例えば、解析値（例えば、厚み/曲率の数値データ、眼底乳頭のＣ（カップ）／Ｄ（ディスク）比などの解析パラメータ値など）、前眼部隅角の測定値（例えば、ＡＣＤ，ＴＩＳＡ、ＡＮＧＬＥ等）、病変計測情報（例えば、サイズ、面積、体積の少なくともいずれか）などの情報として出力される。また、解析結果として、解析値を段階的に区分した評価値（例えば、Ａ〜Ｆの６段階評価など）であってもよい。なお、例えば、病変のサイズについて、病変領域を画像処理により検出して、病変のサイズ、面積、体積のいずれかを計測してもよい。

制御部２０は、例えば、表示制御部として用いられる。そこで、制御部２０は、光干渉断層計１０によって取得された断層画像を表示部１に表示してもよい。

制御部２０は、例えば、解析領域選択部（以下、領域選択部）として用いられる。そこで、制御部２０は、表示部１に表示される断層画像に対して解析領域を複数選択するようにしてもよい。ここで、表示部１におけるある画像表示領域に表示される同一の断層画像に対して解析領域が複数設定されることにより、特定の断層画像を好適に評価できる。

解析領域を複数選択する場合、制御部２０は、同一の断層画像上において、第１の解析領域と、第１の解析領域と異なる第２の解析領域とを選択できるようにしてもよい。なお、第１の解析領域と第２の解析領域は、互いに離間した関係であってもよい。これにより、例えば、断層画像上における互いに離間した領域の解析結果を取得できる。また、第１の解析領域と第２の解析領域は、互いに連続した関係であってもよい。これにより、例えば、断層画像上における互いに連続した領域の解析結果を取得できる。もちろん、第１の解析領域と第２の解析領域は、一部の領域が重複する関係であってもよい。

制御部２０は、例えば、解析結果出力部として用いられる。そこで、制御部２０は、複数選択される解析領域における解析結果を取得し、取得された解析結果を出力するようにしてもよい。

なお、記憶部３０としては、例えば、光干渉断層計１０の装置本体に設けられた記憶部、外部のサーバーに設けられた記憶部、パーソナルコンピュータに設けられた記憶部などであってもよい。もちろん眼底解析プログラムが格納された記憶部、各解析結果が記憶された記憶部はそれぞれ別構成であってもよい。もちろん、同一の構成であってもよい。

制御部２０は、例えば、検者からの指示を受け付ける指示受付部として用いられる。そこで、制御部２０は、タッチパネル、マウス、キーボードなどのユーザインターフェース（操作入力部）からの操作信号を受け付けてもよい。

制御部２０は、例えば、検者、装置の一つの構成からの入力を受け付ける入力受付部として用いられる。そこで、制御部７０は、入力部４（例えば、タッチパネル、マウス、キーボードなどのユーザインターフェース）からの操作信号を受け付けることができる。入力受付部は、例えば、各種情報を記憶する記憶部３０からのデータを受け付けることができる。

制御部２０は、例えば、断層画像における特徴部位を画像処理により検出する特徴部位検出部として用いられる。そこで、制御部２０は、例えば、被検眼眼底の黄斑、中心窩、乳頭、血管、病変部位、等の少なくともいずれかを検出アルゴリズムにより検出する。検出アルゴリズムとしては、特徴部位の画像的特徴（例えば、輝度、形状、厚み等）を用いて特徴部位を検出するアルゴリズムが用いられる。

なお、制御部２０は、視野計の検査結果、又は眼底カメラ、ＳＬＯでの正面画像の解析結果を用いて取得された特徴部位の位置情報と、断層画像とを関連付けることにより
断層画像における特徴部位を検出するようにしてもよい。すなわち、断層画像における特徴部位を検出可能な構成であれば、特に限定されない。

＜断層画像に対する解析領域の選択＞
指示受付部によって選択される領域としては、例えば、断層画像上の一次元領域、又は二次元領域（例えば、図２参照）が選択されることができる。一次元領域として、例えば、深さ方向の１つのラインが設定されることにより深さ方向に関する解析結果が選択される。もちろん、他の方向（例えば、横断方向のライン）のラインの少なくとも一部が選択されてもよい。ラインは、画像の一端から他端まで伸びるラインでなくてもよく、その一部であればよい。

二次元領域として、例えば、深さ方向の複数のＡスキャンラインからなる領域が設定されることにより複数の位置での深さ方向に関する解析結果が選択されてもよい。Ａスキャンラインは、画像の一端から他端まで伸びるＡスキャンラインでなくてもよく、その一部であればよい。横断方向に関して設定される領域についても同様である。

断層画像上の一次元領域に関して経過観察位置を設定する場合、制御部２０は、例えば、表示部の表示画面に出力された断層画像上における一次元領域をグラフ作成領域として選択するための検者からの選択指示を受け付けてもよい。制御部２０は、例えば、選択された一次元領域における少なくとも一つの解析結果を取得してもよい。これにより、例えば、検者によって選択された断層画像上における一次元領域に関する時系列グラフが出力される。

例えば、断層画像上において移動可能なライン（直線、線分）が重畳表示され、ラインによって指定された一次元領域がグラフ作成領域として選択される。また、これに限定されず、選択された一次元領域が他の領域に対して異なる表示態様で表示されることにより判別可能に表示されればよい。例えば、選択された一次元領域が異なる表示態様（例えば、異なる色、異なるコントラスト）にて表示されてもよい。また、断層画像上における任意の２点への指定を受けつけ、２点を結ぶ領域が選択される構成であってもよい。

断層画像上の二次元領域に関して経過観察位置を設定する場合、制御部２０は、例えば、表示部の表示画面に出力された断層画像上における二次元領域をグラフ作成領域として選択するための検者からの選択指示を受け付けてもよい。制御部２０は、例えば、選択された二次元領域における少なくとも一つの解析結果を取得してもよい。これにより、例えば、検者によって選択された断層画像上における２次元領域に関する時系列グラフが出力される（図１０参照）。

例えば、断層画像上において移動可能な枠が重畳表示され、枠によって指定された２次元領域がグラフ作成領域として選択される。また、枠の形状としては、矩形に限定されず、任意の形状（例えば、丸型）が用いられうる。また、これに限定されず、選択された２次元領域が他の領域に対して判別可能に表示されればよい。例えば、選択された２次元領域が異なる表示態様（例えば、異なる色、異なるコントラスト）にて表示されてもよい。

また、断層画像上における任意の２点への指定を受けつけ、２点を結ぶ線分を対角線とする二次元領域を解析領域として選択するようにしてもよい。

二次元領域における少なくとも２つの解析結果を取得する場合、制御部は、例えば、複数の解析結果を統合した解析結果を得てもよい。統合結果として、基本統計量を用いてもよい。基本統計量しては、代表値（平均値、中央値、最頻値、最大値、最小値、など）、散布度（分散、標準偏差、変動係数）などであってもよい。

制御部２０は、二次元領域におけるＡスキャン信号毎の解析結果の代表値（例えば、平均値）を取得してもよいし、二次元領域におけるＡスキャン信号毎の解析結果における最大値／最小値を取得してもよい。

＜断層画像に対する解析領域の複数選択＞
制御部２０は、指示受付部として、例えば、断層画像上における解析領域を複数選択するための検者から選択指示を受け付けてもよい。そして、制御部２０は、受け付けられた選択指示に応じて、断層画像に対して解析領域を複数選択する。これにより、例えば、断層画像に対して検者が所望する解析領域を複数選択できる。なお、解析領域は、複数選択されればよく、制御部２０は、２つ、又は３つ以上の解析領域を選択してもよい。

なお、互いに関連付けられる第１の解析領域及び第２解析領域に加えて、互いに関連付けられる第３の解析領域及び第４の解析領域が選択されるようにしてもよい。これにより、例えば、異常部位が複数形成されている場合、第１の異常部位に関する複数の解析領域での解析結果を得ると共に、第２の異常部位に関する複数の解析領域での解析結果を得ることができる。この場合、第１の解析領域及び第２解析領域に関する統合解析結果と、第３の解析領域及び第４解析領域に関する統合解析結果とをそれぞれ取得するようにしてもよい。

そこで、制御部２０は、各解析領域を規定するためのパターンを、指示受付部によって受け付けられた選択指示に対応する領域に表示するようにしてもよい（例えば、図２〜図４参照）。パターンは、表示部１に表示される断層画像上に重畳表示される。そして、制御部２０は、断層画像上における各パターンの表示領域に基づいて解析領域を複数選択する。これにより、例えば、断層画像上における解析領域の選択を容易に行うことができる。

なお、制御部２０は、第１の解析領域を規定するための第１パターンと、第２の解析領域を規定するための第２パターンと、を表示部１に同時に表示するようにしてもよい。制御部２０は、第１パターンによる規定と、第２パターンによる規定と、を異なるタイミングで実行し、結果的に、第１の解析領域と第２の解析領域を選択するようにしてもよい。制御部２０は、第１パターンによる規定と、第２パターンによる規定と、を同じタイミングで実行し、第１の解析領域と第２の解析領域を同時に選択するようにしてもよい。

なお、解析領域の選択は、検者からの選択指示に限定されない。例えば、制御部２０によって検出された特徴部位の位置に基づいて、断層画像上における解析領域の位置を設定するようにしてもよい。これにより、例えば、解析領域の位置設定が容易となり、解析作業をスムーズに行うことができる。

この場合、制御部２０は、特徴部位の位置に基づいて解析領域の位置を確定するようにしてもよい。制御部２０は、検者の選択指示を助けるため、表示部１に表示された断層画像上に、特徴部位の位置を示す表示（例えば、強調表示、マーク表示など）を行うようにしてもよい。

＜解析領域の位置、サイズ＞
制御部２０は、断層画像に対する解析領域の位置、サイズ、形状の少なくとも何れかを変更できるようにしてもよい。これにより、例えば、位置、サイズ、形状等を変更できるため、任意の解析領域での解析結果を取得できる。

制御部２０は、断層画像に対する解析領域の位置、サイズ、形状の少なくともいずれかを予め設定可能であり、予め設定された位置又はサイズにて解析領域を複数選択できるようにしてもよい。これにより、例えば、位置、サイズ、形状等が予め設定された状態で解析領域を選択できるため、検者が所望する解析領域での解析結果を容易に取得できる。

＜基準位置設定＞
制御部２０は、複数選択される解析領域間の基準位置を断層画像上に設定できるようにしてもよい（例えば、図５〜図７参照）。例えば、制御部２０は、基準位置を基準に対称となる第１の解析領域と第２の解析領域を選択できるようにしてもよい。これにより、例えば、複数の解析結果における対称性の判断を容易に行うことができる。

制御部２０は、例えば、予め設定された第１の解析領域の位置と基準位置とに基づいて、第２の解析領域の位置を設定するようにしてもよい（図５〜図６参照）。これにより、例えば、第２の解析領域を設定する手間が軽減される。

制御部２０は、例えば、予め設定された解析領域を、基準位置に関して分割し、分割された解析領域を、第１の解析領域と第２の解析領域として設定するようにしてもよい（図７参照）。

なお、制御部２０は、制御部（指示受付部）によって受け付けられた指示に応じて、断層画像上に基準位置を設定するようにしてもよい。例えば、表示部１の断層画像上には、基準位置を規定するためのパターン（例えば、図５〜図７のＣ参照）が重畳表示される。

基準位置の設定は、検者からの選択指示に限定されない。例えば、制御部２０によって検出された特徴部位の位置に基づいて、断層画像上に基準位置を設定するようにしてもよい。これにより、例えば、基準位置の設定が容易となる。

なお、制御部２０は、例えば、基準位置に関して対称となる位置に各解析領域を設定するようにしてもよい。また、制御部２０は、基準位置を中心に回転した位置に各解析領域を設定するようにしてもよい。また、制御部２０は、例えば、基準位置から第１の距離離れた位置に第１の解析領域を設定し、基準位置から第２の距離（第１の距離とは異なる）離れた位置に第２の解析領域を設定するようにしてもよい。

＜解析結果の出力＞
なお、複数の解析領域に関する解析結果を出力する場合、例えば、各解析領域での解析結果、各解析結果の統合解析結果（比、差分等）の少なくともいずれかが出力される。

なお、制御部２０は、解析領域として選択された領域の解析結果を取得する場合、例えば、選択された領域に関して予め取得された解析結果を取得することにより処理時間を軽減できる。

断層画像の座標位置と、座標位置での解析結果とが予め関連付けられてもよい。予め取得された解析結果を得る場合、制御部２０は、例えば、選択された解析領域に対応する断層画像の座標位置が特定されると、特定された座標位置に対応する解析結果を得てもよい。もちろん、制御部２０は、例えば、解析領域が選択されたとき、断層画像を解析し、選択された領域に関する解析結果を取得してもよい。

なお、出力先としては、例えば、表示部（例えば、表示部１）／プリンタ等の出力部（出力デバイス）、並びにハードディスク／ＵＳＢメモリなどの記憶部（記憶デバイス）等がありうる。表示部の場合、解析結果がモニタ上に表示され、プリンタの場合、解析結果が印刷される。記憶部の場合、記憶部に記憶された解析結果は、出力部への出力が可能な状態となる。

なお、出力先のデバイスとしては、例えば、光干渉断層計に搭載された構成、光干渉断層計に外付けされた構成、光干渉断層計とは離れた位置に配置された構成、の少なくともいずれかを用いることができる。

＜時系列グラフ＞
制御部（例えば、ＣＰＵ２０）は、解析結果の時系列データを記憶部３０から取得し、時系列データからなる時系列グラフを出力してもよい（図１０参照）。記憶部３０は、異なる日に取得された被検眼の断層画像の解析結果を記憶する。

なお、制御部が出力するデータは、時系列グラフに限定されず、解析結果の時系列データから形成される統計情報（例えば、数値、図表）であればよい。統計情報としては、解析結果の分布が時系列にまとめられ、時系列データの特性が把握可能な統計結果であればよい。また、統計情報としては、統計結果が、数値や図表で表現されていることが好ましい。

制御部３０は、例えば、時系列データを回帰分析することによって回帰直線を取得すると共に、回帰直線によるトレンドグラフを時系列グラフとして出力してもよい。制御部３０は、例えば、取得された回帰直線の傾きもしくはｐ値を出力してもよい。なお、制御部は、回帰分析によって回帰曲線を取得し、回帰曲線によるトレンドグラフを出力してもよい。

＜実施例＞
以下、図面に沿って、本実施形態の実施例を具体的に説明する。以下の説明では、眼科解析装置として、眼底解析装置を例として説明する。

以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。図１は、実施例に係る眼底解析装置の構成を示すブロック図である。図１に示すように、本装置は、この眼底解析装置全体の演算処理を行うプロセッサとしての制御部２０、記憶部３０と、表示部１と、入力部４と、を含んで構成される。各部はバス等を介して制御部２０と電気的に接続されている。

記憶部３０は、不揮発性メモリである。記憶部３０は、電源の供給が遮断されても記憶内容を保持できる非一過性の記憶媒体である。例えば、ハードディスクドライブ、フラッシュＲＯＭ、および、眼科解析装置に着脱可能に装着されるＵＳＢメモリ等を記憶部３０として使用することができる。記憶部３０には、被検眼の眼底を解析するための眼底解析プログラムが記憶されている。

なお、制御部２０、入力部４、記憶部３０、表示部１として、市販のＰＣ（パーソナルコンピュータ）が持つ演算処理部、入力部、記憶部、表示部を用い、市販のＰＣに眼底解析プログラムをインストールするようにしてもよい。もちろん、制御部７０、入力部４、記憶部３０、表示部１として、光干渉断層計１０が持つ演算処理部、入力部、記憶部、表示部を用いてもよい。

表示部１は、眼科用光干渉断層計によって得られた断層画像、断層画像の解析結果、得られた解析結果の時系列データから形成される時系列グラフ等を表示画面に表示する。入力部４は、キーボードやマウス等から構成され、眼底解析装置のユーザ（使用者）が各種情報の入力を行うための構成である。

本実施例の眼底解析装置は、例えば、コンピュータであり、制御部２０は、ＲＡＭ上に前述の眼底解析プログラムを読み出した後、各種演算処理を行うことによりプログラムを実行する。例えば、制御部２０は、眼底解析プログラムにしたがって表示部１の表示画面を制御する。

記憶部３０には、例えば、光干渉断層計１０によって被検眼の断層画像の解析結果が記憶される。例えば、異なる日に取得された解析結果として、経過観察対象の被検者毎の、検査日毎の形成結果が含まれる。

記憶部３０には、解析結果の他、例えば、解析結果を得る基の断層画像、解析結果に基づく層厚マップ画像（例えば、厚みマップ画像）、断層画像取得時の走査パターン、走査位置等が記憶されてもよい。このデータは、適宜、制御部２０によって画像データに変換され、表示部１を介してユーザに画面提示される。

記憶部３０には、例えば、イベントに関連する情報が格納されてもよい。イベントに関連する情報としては、例えば、網膜治療に関するイベントに関連する情報が考えられる。例えば、被検者毎に、イベントの発生日、イベントの種類（例えば、投薬、手術（光凝固、ＴＴＴ、ＰＤＴ等）、等）が格納されてもよい。記憶部３０には、将来のイベント発生の予定日と、そのイベントの種類が格納されてもよい。

記憶部３０には、例えば、正常眼データベースが格納されてもよい。正常眼データベースには、例えば、多数の患者眼の検査結果と処方結果を基に、網膜疾患に関する正常眼の網膜厚が記憶されたデータベースが記憶されてもよい。正常眼データベースは、例えば、疾患が特定されず、網膜厚又は網膜の傾きが正常か異常かに分けられた状態でデータベース化されている。もちろん、特定の疾患毎に正常眼データベースが形成されてもよい。また、近視眼に関する正常眼データベースが構築されてもよい。

光干渉断層計（ＯＣＴ）１０は、被検眼眼底の断層画像を得る装置であり、取得された断層画像に基づいて被検眼眼底に関する解析結果（例えば、網膜厚情報）が取得される。なお、断層画像を解析して解析結果を得る機能について、光干渉断層計（ＯＣＴ）１０を制御する制御部が、断層画像を解析する構成であってもよいし、他の制御部が、光干渉断層計（ＯＣＴ）１０によって得られた断層画像を解析する構成であってもよい。

光干渉断層計１０は、光源から出射された光を測定光と参照光に分割する。そして、光干渉断層計１０は、分割された測定光を眼Ｅの眼底Ｅｆに導き，分割された参照光を参照光学系に導く。その後、眼底Ｅｆによって反射された測定光と，参照光との合成による干渉光を検出器（受光素子）に受光させる。検出器は、測定光と参照光との干渉状態を検出する。フーリエドメインＯＣＴの場合では、干渉光のスペクトル強度が検出器によって検出され、スペクトル強度データに対するフーリエ変換によって所定範囲における深さプロファイルが取得される。フーリエドメインＯＣＴとしては、Ｓｐｅｃｔｒａｌ−ＤｏｍａｉｎＯＣＴ（ＳＤ−ＯＣＴ）、Ｓｗｅｐｔ−ＳｏｕｒｃｅＯＣＴ（ＳＳ−ＯＣＴ）が挙げられる。また、光干渉断層計１０としては、Ｔｉｍｅ−ＤｏｍａｉｎＯＣＴ（ＴＤ−ＯＣＴ）であってもよい。

光干渉断層計（ＯＣＴ）１０には、被検眼眼底の正面画像を得るための正面観察光学系が設けられてもよい。正面観察光学系としては、走査型共焦点光学系、眼底カメラ光学系が考えられる。また、光干渉断層計１０によって取得される干渉信号に基づいて眼底正面像が取得される構成であってもよい。

光干渉断層計１０は、検出器からの出力信号に基づいて眼底Ｅｆの断層画像を得る。例えば、取得された断層画像が画像処理され、眼底Ｅｆの網膜厚が測定される。網膜厚として、例えば、網膜の各層の厚み（具体的には、視神経線維層（NFL）の厚み、内境界膜（ILM）〜網膜色素上皮層（RPE）までの厚み等）が取得される。

もちろん二次元的な網膜厚情報（厚みマップ）が経過観察されてもよい。取得された網膜厚情報は、制御部２０に送られ記憶部３０に記憶される。その他、記憶部３０には、光干渉断層計１０によって得られた画像情報（眼Ｅの断層画像、正面画像等）、厚み情報に基づいて算出された解析チャート、各種パラメータなどが記憶される。

なお、取得された断層画像を処理することにより、脈絡膜の厚みが測定されてもよい。もちろん、二次元的な脈絡膜情報（厚みマップ）が経過観察されてもよい。

光干渉断層計１０によって定期的に検査が行われると、経過観察の結果として検査日の異なる網膜厚情報は、制御部２０に送られた後、記憶部３０に記憶される。記憶部３０に記憶された網膜厚情報は、例えば、経過観察のため、時間軸に関連付けて記憶される。時間を関数とする網膜厚情報は、網膜厚の経時的変化を示す。

定期検査の実施間隔は、１ヶ月〜３ヶ月毎が一般的である。例えば、月毎に網膜厚情報が記憶される。経時的変化情報は、図１０のようなグラフとして表示部１に出力される。

被検眼に関するイベント情報（例えば、被検眼Ｅに対して施された処置の種類、処置日時など）は、入力部４を介して記憶部３０に記憶される。イベント情報の入力は、表示部１上の種類／検査日へのプルダウン等によって選択する構成、キーボード等を用いた直接入力が考えられる。イベント情報は、例えば、表示部１のグラフ上に出力される。

記憶部３０には、入力部４を介して、光干渉断層計１０以外の他の装置による検査データが記憶される。他の装置によって得られた検査情報としては、例えば、視力検査結果、視野検査結果、眼底カメラでの撮影画像、等などが考えられる。他の装置による検査データの入力は、表示部１上の種類／検査日へのプルダウン等によって選択する構成、キーボード等を用いた直接入力が考えられる。

光干渉断層計（ＯＣＴ）１０と眼底解析装置とは、信号のやりとりが可能な状態で接続されており、光干渉断層計（ＯＣＴ）１０で取得された各種データ（例えば、断層画像データ、正面画像データ、画像取得時における各種撮影条件（例えば、測定光の走査位置、検査日）、等）は、記憶部３０に記憶される。

＜断層画像上での複数領域におけるエリア設定＞
図２は、断層画像上において解析領域を二次元的に設定するための図である。例えば、制御部２０は、表示部１上の所定の表示領域に表示された断層画像ＴＭ上において枠Ｋ１を電子的に表示する。枠Ｋ１は、所定の操作によって断層画像ＴＭ上に表示される。例えば、断層画像ＴＭ上の任意の１点が指定された状態で、斜め方向に関するドラッグ操作により表示される。

制御部２０は、入力部４からの操作信号を受け付け、断層画像ＴＭ上で枠Ｋ１の大きさ、表示位置を調整する。枠Ｋ１は、例えば、ＯＣＴデータ上の任意のエリア（二次元領域）を設定するために用いられる。枠Ｋ１は、例えば、断層画像ＴＭの少なくとも一部の領域を囲むように表示され、断層画像ＴＭにおける特定のエリア内における層厚データを取得するために用いられる。なお、ＯＣＴデータ上の任意のエリアを設定できればよく、例えば、マウスのクリック操作又はタッチパネルでのタッチ操作によりエリアが指定される構成であってもよい。また、枠Ｋ１の表示形状は、図２に限定されず、断層画像ＴＭ上でエリアを設定できればよい。

図３は、断層画像上において解析領域を複数選択する際の流れの一例を示すフローチャートである。

例えば、解析領域の始点が入力部４によって指定された後、断層画像ＴＭ上のカーソルが検者の操作によって移動された場合、制御部２０は、その移動位置に応じて縦横方向における枠Ｋ１のサイズを変更する（図２参照）。

制御部２０は、入力部４を介して設定された第１のエリアを、第１の解析領域として設定する。つまり、枠Ｋ１によって第１の解析領域が設定される。そして、制御部２０は、第１の解析領域に関連する第１の解析結果ＡＮ１を断層画像ＴＭ上に表示する。

そこで、制御部２０は、第１の枠Ｋ１によって設定されたエリア内に含まれる複数の層厚データを取得する。そして、制御部２０は、エリア内での各層厚データの基本統計値（例えば、代表値、散布度、より具体的には層厚データの平均値等）を算出する。エリア内の網膜層において、層厚データを出力する網膜層については、表示部１上に表示される図示なき解析層選択領域において始端層と終端層が予め設定される。

制御部２０は、取得された層厚データの基本統計値を、断層画像ＴＭ上に第１の解析結果ＡＮ１として重畳表示する。制御部２０は、基本統計値に加えて、走査方向（横断方向）に関する第１距離Ｄ１、第２距離Ｄ２、解析幅Ｄ３を断層画像ＴＭ上に実寸法換算にて表示するようにしてもよい。第１距離Ｄ１は、走査の始点から解析領域の始点までの距離である。第２距離Ｄ２は、走査の始点から解析領域の終点までの距離である。解析幅Ｄ３は、走査方向における始点から終点までの距離であり、解析領域の解析幅を示す。

制御部２０は、検者によって変更される枠Ｋ１に応じて、第１の解析結果ＡＮ１をリアルタイムで表示する。そして、枠Ｋの調整を完了するための入力信号（例えば、ドラッグ操作の終了）が受け付けられた場合、制御部２０は、リアルタイムでの解析処理を一旦終了する。そして、制御部２０は、第１の解析領域に対応する第１の解析結果ＡＮ１を固定表示する。

さらに、断層画像ＴＭ上の任意の位置が入力部４によって指定された場合、第２の枠Ｋ２を追加的に表示すると共に、第１の枠Ｋ１と同様に、第２の枠Ｋ２のサイズを変更可能とする（図４参照）。ここで、第２の枠Ｋ２は、断層画像ＴＭにおいて第１の枠Ｋ１とは異なる位置に設定される。

そして、制御部２０は、入力部４を介して設定された第２のエリアを、第２の解析領域として設定する。つまり、枠Ｋ２によって第２の解析領域が設定される。そして、制御部２０は、第１の解析結果ＡＮ１と同様に、第２の解析領域に関連する第２の解析結果ＡＮ２を断層画像ＴＭ上に表示する。

つまり、制御部２０は、断層画像ＴＭ上において解析領域を複数設定できる。そして、制御部２０は、第１の解析結果ＡＮ１と第２の解析結果ＡＮ２を表示部１上に同時に表示できる。これにより、例えば、検者は、同一の断層画像上における異なる解析領域に関する複数の解析結果を比較できる。つまり、複数の箇所を任意に決定できることによって、診断の幅が拡がり、診断効率を向上させることができる。

なお、制御部２０は、第１の解析結果ＡＮ１と第２の解析結果ＡＮ２との統合解析を行い、統合解析の結果ＡＮＩを表示部１上に表示するようにしてもよい。例えば、制御部２０は、第１の解析結果ＡＮ１と第２の解析結果ＡＮ２との比又は差分の少なくともいずれかを算出し、算出結果を表示部１上に表示するようにしてもよい。

複数の解析領域に関する統合解析の結果を出力する場合、例えば、２つの解析結果の対称性を求める場合に有利である。緑内障に伴う網膜層の厚みは、眼底の上側領域と下側領域において、非対称に変化する。上側領域と下側領域の区分は、例えば、中心窩と乳頭を結ぶ神経線維層の走行（或いは、中心窩又は乳頭の形成位置）等によって区分される。そこで、上下に分割された解析領域間での解析結果が比較解析されることにより、検者は、網膜厚の対称性を容易に評価できる。

したがって、被検眼眼底上において測定光の横断方向（走査ライン）が眼底に対して上下方向に設定されることによって取得された断層画像の解析において、特に有利である。詳細には、横断位置が、中心窩と乳頭を結ぶ神経線維層の走行（或いは、上下方向における中心窩又は乳頭の形成位置）等によって規定され、左右に延びる中心線を直交するような横断位置が考えられる。

また、制御部２０は、上記のように、断層画像上での互いに離間した複数の領域を複数の解析領域として設定できる。これにより、例えば、眼底上における離間した領域に関して解析結果をそれぞれ出力できるため、異常部位とその異常部位の対称位置との比較をより詳細に行うことができる。特に、中心窩から一定の領域にて厚みの変化があるといわれているため、有利である。

＜２つの解析領域における対称性の解析＞
以下に、第１の解析領域と第２の解析領域との対称性を求める際の設定操作をスムーズに行うための設定手法の例を示す。

例えば、制御部２０は、図５、図６に示すように、断層画像上で設定された第１の解析領域の位置及び基準位置に基づいて、第２の解析領域の位置を設定するようにしてもよい。これにより、例えば、第２の解析領域を設定する手間が省けると共に、設定された中心位置に対して対称な解析領域を確実に設定できる。

制御部２０は、検者によって設定される枠Ｋ１の位置に基づき、第１の解析領域を設定する。制御部２０は、中心線Ｃを断層画像ＴＭ上に重畳表示する。制御部２０は、入力部４からの操作信号を受け付け、断層画像ＴＭ上での中心線Ｃの表示位置を調整する。なお、断層画像ＴＭ上での中心線Ｃの向きを調整できるようにしてもよい。

そして、断層画像ＴＭ上における特徴部位（例えば、中心窩、乳頭等）に中心線Ｃが配置されることによって、位置調整が完了される。制御部２０は、中心線Ｃの位置に基づき中心位置を設定する。

第１の解析領域の位置及び中心位置に基づいて、制御部２０は、中心位置に関して第１の解析領域と対称な領域に、第２の解析領域を設定する。そして、制御部２０は、断層画像ＴＭ上における第２の解析領域を示す第２の枠Ｋ２を追加的に表示する。ここで、枠Ｋ２は、第１の枠Ｋ２の同じサイズであることが好ましい。同じサイズであれば、対称性を的確に判断できるためである。

そして、制御部２０は、第１の解析領域に関連する第１の解析結果ＡＮ１、及び第２の解析領域に関連する第２の解析結果ＡＮ２を表示部１上に同時に表示する。さらに、制御部２０は、第１の解析結果及び第２の解析結果に基づく統合解析結果を表示部１上に表示してもよい。なお、以上の説明においては、第１の解析領域及び中心位置を検者の手動によって設定した。しかしながら、これに限定されない。

なお、制御部２０は、第１の枠Ｋ１又は第２の枠Ｋ２の一方の表示位置が中心位置に対して調整された場合、第１の枠Ｋ１又は第２の枠Ｋ２の他方の表示位置を、一方の枠の表示位置と中心位置に関して対称となるように調整するようにしてもよい。

＜解析領域の分割による複数の解析領域の設定＞
なお、以上の説明においては、互いに離間した複数の解析領域を設定する構成を示した。しかしながら、これに限定されない。例えば、検者の操作によって、枠Ｋの大きさ、表示位置が調整された場合、制御部２０は、図７に示すように、断層画像ＴＭ上において任意の解析領域を１箇所設定可能とし、設定された解析領域を分割することにより複数の解析領域を設定できるようにしてもよい。なお、分割方向は、断層画像における深さ方向、横断方向、斜め方向等、任意に設定できるようにしてもよい。

解析領域が設定された場合、制御部２０は、設定された解析領域の中心に対応する位置に中心線Ｃを断層画像ＴＭ上に重畳表示する。中心線Ｃは、断層画像ＴＭ上において走査方向に関して解析領域を分割する。制御部２０は、入力部４からの操作信号を受け付け、解析領域上において中心線Ｃの位置を調整できる。制御部２０は、中心線Ｃの移動に応じて、中心線Ｃと各解析領域（枠Ｋ）を一体的に移動させる。

そして、断層画像ＴＭ上における特徴部位（例えば、中心窩、乳頭等）に中心線Ｃが配置されることによって、位置調整が完了される。制御部２０は、中心線Ｃの位置に基づき中心位置を設定する。解析領域と中心位置との位置関係に基づいて、制御部２０は、中心線Ｃによって分割された解析領域の一方を第１の解析領域、他方を第２の解析領域として設定する。

制御部２０は、第１の解析領域に関連する第１の解析結果ＡＮ１、及び第２の解析領域に関連する第２の解析結果ＡＮ２を表示部１上に同時に表示する。さらに、制御部２０は、第１の解析結果及び第２の解析結果に基づく統合解析結果ＡＮＩを表示部１上に表示してもよい。

なお、制御部２０は、中心線Ｃによって分割された枠の一方の表示位置が中心位置に対して調整された場合、分割された枠の他方の表示位置を、一方の枠Ｋの表示位置と中心位置に関して対称となるように調整するようにしてもよい。

なお、以上の説明においては、中心位置を検者の手動によって設定した。しかしながら、これに限定されない。なお、中心線Ｃを自動的に設定する場合、例えば、画像処理によって検出される中心窩、乳頭の少なくともいずれかの位置情報を用いて自動的に決定するようにしてもよい。そこで、制御部２０は、断層画像ＴＭ上における特徴部位（例えば、中心窩、乳頭）の位置情報を画像処理により検出する。そして、制御部２０は、検出された特徴部位の位置情報を基準に中心線Ｃを設定する。

なお、中心窩は、網膜厚が最も薄い部分であるため、例えば、断層画像中の各位置での網膜厚を比較することによって中心窩の位置が検出される。また、乳頭は、ＲＰＥ層がないため、断層画像の各位置でのＲＰＥ層の有無を解析することによって乳頭の位置が検出される。

また、ある部位（例えば、中心窩）から一定の方向に一定距離離れた位置を特徴部位（例えば、乳頭位置）と規定するような間接的な位置検出を行うようにしてもよい。また、ＣＰＵ２０は、視野計の検査結果、又は眼底カメラ、ＳＬＯでの正面画像の解析結果と、断層画像との関連付けることにより特徴部位の位置を検出するようにしてもよい。

視野計の場合、制御部２０は、例えば、感度が最も高い位置を中心窩として検出し、その検出位置と断層画像とを関連付ける。また、制御部２０は、例えば、視野の異常部位を検出し、その検出位置と断層画像とが関連付ける。正面画像の場合、制御部２０は、例えば、正面画像上において中心窩、乳頭に対応する位置を検出し、その検出位置と断層画像とが関連付ける。

＜解析領域のパラメータ＞
なお、解析領域を設定する際のパラメータ（例えば、サイズ、又は位置の少なくともいずれか）が予め固定された構成であってもよい。以下のその一例を示す。

＜解析領域のサイズ固定＞
なお、以上の説明においては、解析領域のサイズを任意に調整する構成であった。しかしながら、これに限定されない。

図８は解析領域のサイズが固定された場合の一例を示す図である。枠Ｋ１は、縦横方向に関して一定の幅を持ち、縦横方向におけるサイズが固定されている。なお、枠Ｋ１のサイズは、数値入力等により予め設定可能である。ここで、枠Ｋ１は、ＯＣＴデータ上の任意のエリア（二次元領域）を、予め設定されたサイズにて設定するために用いられる。

解析領域のサイズが複数用意され、複数のサイズから特定のサイズを選択できる構成であってもよい。例えば、制御部２０は、表示部１上のサイズが異なる複数の枠Ｋ１（例えば、枠Ｋ１１、Ｋ１２、Ｋ１３）をそれぞれ予め表示する。

制御部２０は、予め表示された複数のパターンの中から１つのパターンを選択するための選択指示を受け付ける。制御部２０は、選択された枠と同じサイズの枠Ｋ１（例えば、枠Ｋ１２）を断層画像ＴＭ上に重畳表示する。制御部２０は、入力部４からの操作信号を受け付け、断層画像ＴＭ上における枠Ｋ１（例えば、枠Ｋ１２）の位置を調整できる。枠Ｋ１によって第１の解析領域が設定されると、制御部２０は、枠Ｋ１に対応する解析結果を表示部１上に表示する。

さらに、制御部２０は、予め設定された解析領域と同サイズの枠Ｋ２を、表示部１上に追加的に表示できるようにしてもよい。そして、制御部２０は、枠Ｋ１に対応する解析結果と、枠Ｋ２に対応する解析結果とを、表示部１上に同時に表示する。さらに、制御部２０は、各解析結果に基づく統合解析結果を表示部１上に表示する。これにより、例えば、検者が所望するサイズに固定された複数の解析領域に関連する解析結果を出力可能できる。

＜解析領域の位置固定＞
図９は解析領域の位置が固定された場合の一例を示す図である。図９の場合、枠Ｋ１及枠Ｋ２は、縦横方向に関して一定の幅を持ち、中心線Ｃに対して等距離に設定されている。なお、中心線Ｃからの距離は、数値入力等により予め設定可能である。ここで、枠Ｋ１、Ｋ２は、断層画像上の基準位置（例えば、中心位置）に対して予め設定された距離に形成されるエリア（二次元領域）を設定するために用いられる。

なお、基準位置から解析領域までの距離が複数用意され、複数の距離から特定の距離を選択できる構成であってもよい（図９参照）。例えば、制御部２０は、複数の距離を表示部１に予め表示する。

制御部２０は、予め表示された複数の距離の中の１つの距離を選択するための選択指示を受け付ける。制御部２０は、中心線Ｃを断層画像ＴＭ上に重畳表示すると共に、選択された距離だけ中心線Ｃから離れた位置に枠Ｋ１、Ｋ２を表示する。制御部２０は、入力部４からの操作信号を受け付け、中心線Ｃの位置を調整できる。中心線Ｃが移動されると、制御部２０は、選択された距離分、中心線Ｃとの距離を保ったまま、枠Ｋ１、Ｋ２を移動させる。つまり、制御部２０は、検者からの操作指示を受け付けることにより、中心線Ｃ及び枠Ｋ１、Ｋ２からなるパターンを表示部１上で移動できる。

そして、断層画像ＴＭ上における特徴部位（例えば、中心窩、乳頭）に中心線Ｃが配置されることによって、位置調整が完了される。制御部２０は、中心線Ｃの位置に基づき中心位置を設定する。

制御部２０は、解析領域と中心位置との位置関係に基づいて、予め選択された距離分、中心位置から離れた領域の一方を第１の解析領域、他方を第２の解析領域として設定する。

制御部２０は、第１の解析領域に関連する第１の解析結果ＡＮ１、及び第２の解析領域に関連する第２の解析結果ＡＮ２を表示部１上に同時に表示する。さらに、制御部２０は、第１の解析結果及び第２の解析結果に基づく統合解析結果を表示部１上に表示してもよい。

＜枠Ｋの表示サイズ＞
なお、枠Ｋ、Ｋ１、Ｋ２の表示サイズは、被検眼眼底上の実寸法に換算して設定されるようにしてもよい。例えば、制御部２０は、実寸法換算での解析領域のサイズを固定とし、被検眼眼底上の実寸法に基づき枠Ｋの表示サイズを変更するようにしてもよい。なお、眼底上の実寸法は、被検眼の眼軸長、眼屈折力、角膜形状等に基づく光学的な演算によって求められる。

＜解析領域の形状＞
なお、上記説明においては、解析領域の形状として、四角形を例にあげたが、これに限定されない。例えば、点、又はラインでもよいし、他の形状（丸、三角形等）であってもよい。

＜断層画像上以外で解析領域を複数設定する場合＞
なお、以上の説明においては、断層画像ＴＭ上での解析領域の設定手法について、説明した。しかしながら、これに限定されない。例えば、制御部２０は、二次元正面画像、網膜の厚みグラフ上、厚みマップ、二次元解析チャート、二次元解析マップ上の少なくともいずれかにおいて解析領域を複数設定できるようにしてもよい。制御部２０は、制御部２０は、第１の解析領域に関連する第１の解析結果ＡＮ１、及び第２の解析領域に関連する第２の解析結果ＡＮ２を表示部１上に同時に表示する。さらに、制御部２０は、第１の解析結果及び第２の解析結果に基づく統合解析結果を表示部１上に表示してもよい。

なお、二次元解析マップ、二次元解析チャートは、３次元ＯＣＴデータに基づいて算出される。３次元ＯＣＴデータは、例えば、測定光の二次元走査（例えば、ラスタースキャン）により得られる各走査ラインでの断層画像から形成される。そして、３次元ＯＣＴデータの各断層画像に対する解析処理によって二次元解析マップが形成される。もちろん、二次元解析マップは、ラジアルスキャンなどのマルチスキャンによって取得された各ＯＣＴデータに基づいて算出されてもよい。

＜時系列グラフの作成＞
なお、制御部２０は、上記のように設定される複数の解析領域に関する解析結果を用いて、時系列グラフ１５０を出力するようにしてもよい（図１０参照）。

例えば、制御部２０は、入力部４を介して設定された複数のエリアを、グラフ作成領域として設定する。断層画像ＴＭにおいて枠Ｋ１、Ｋ２による複数のエリアが設定された後、異なる日にて取得された他の断層画像上の同一位置においてエリアが設定され、グラフ作成位置として設定される。すなわち、制御部２０は、ある断層画像ＴＭ上で設定されたエリアを、他の画像に対して反映させる。これにより、各検査日にて取得された断層画像上において検者が選択した領域が、グラフ作成領域として設定される。なお、同一位置とは、完全に同一の位置である必要は無く、経過観察が可能に同一位置とみなすレベルであればよい。なお、制御部２０は、グラフ作成領域の位置を記憶部３０に記憶することにより、同一位置での経過観察が容易となる。

制御部２０は、各検査日に関する被検眼の層厚データにおいて、枠Ｋ１、Ｋ２によって設定されたエリア内に含まれる複数の層厚データをそれぞれ取得する。制御部２０は、取得された各検査日の層厚データからなる時系列グラフを作成し、作成された時系列グラフ１５０を表示部１上に出力する。

制御部２０は、エリア内での各層厚データの基本統計値（例えば、代表値、散布度）を算出する。制御部２０は、取得された各検査日の層厚データの基本統計値からなる時系列グラフを作成し、作成された時系列グラフ１５０を表示部１上に出力する。時系列グラフ１５０は、第１の解析領域に関する第１の解析結果の時系列グラフ１６０と、第２の解析領域に関する第２の解析結果の時系列グラフ１７０と、を同一グラフ上に表示する。

これにより、例えば、断層画像上において検者が注目した複数のエリア、に対応する時系列グラフを出力できるため、検者は、気になる位置に対応する層厚データの経過観察を容易に行うことができる。

なお、時系列グラフ１５０を出力する場合、制御部２０は、第１の解析結果と第２の解析結果の統合解析結果の時系列グラフ１８０を出力するようにしてもよい。

以下の、二次元正面画像上での解析領域の設定、二次元解析マップでの解析領域の設定手法の一例を示す。

＜二次元正面画像上での設定＞
図１１、図１２は、二次元正面画像上にてＯＣＴデータの解析領域を設定する場合の一例を示す。制御部２０は、正面画像ＥＦを表示部１上に表示する。正面画像ＥＦは、例えば、ＳＬＯ、眼底カメラ画像の他、ＯＣＴの干渉信号から生成される二次元正面画像等を使用できる。正面画像ＥＦは、３次元ＯＣＴデータと予め位置が対応付けられている。これにより、正面画像ＥＦ上で解析領域が設定されると、制御部２０は、３次元ＯＣＴデータにおいて、設定された解析領域に対応する断層画像の少なくとも一部を表示部１上に表示する。そして、制御部２０は、設定された解析領域に対応する解析結果を表示部１上に同時に表示する。なお、正面画像ＥＦと共に、設定ラインＬ１に対応する断層画像が並列表示されるのが好ましい。これにより、例えば、注目領域の特定が容易となる。制御部２０は、入力部４からの操作信号を受け付け、正面画像ＥＦ上で設定ラインＬ１の表示位置を調整する。そして、制御部２０は、設定ラインＬ１の表示位置に対応する断層画像を表示部１上に表示する（図１３）。なお、制御部２０は、解析領域設定時において設定ラインＬ１を消去できるようにしてもよい。

例えば、制御部２０は、正面画像ＥＦ上において、検者によって設定される枠Ｋ１の位置に基づき、第１の解析領域を設定する（図１１参照）。制御部２０は、中心線Ｃを正面画像ＥＦ上に重畳表示する。制御部２０は、入力部４からの操作信号を受け付け、正面画像ＥＦ上での中心線Ｃの表示位置を調整する。なお、正面画像ＥＦ上での中心線Ｃの向きを調整できるようにしてもよい。

そして、正面画像ＥＦ上における特徴部位（例えば、中心窩、乳頭等）に中心線Ｃが配置されることによって、位置調整が完了される。制御部２０は、中心線Ｃの位置に基づき中心位置を設定する。第１の解析領域の位置及び中心位置に基づいて、制御部２０は、正面画像ＥＦ上において、中心位置に関して第１の解析領域と対称な領域に、第２の解析領域を設定する（図１２参照）。そして、制御部２０は、正面画像ＥＦ上における第２の解析領域を示す第２の枠Ｋ２を追加的に表示する。ここで、枠Ｋ２は、第１の枠Ｋ２の同じサイズであることが好ましい。

制御部２０は、第１の解析領域及び第２の解析領域に対応する断層画像を、３次元ＯＣＴデータから取得する。また、制御部２０は、第１の解析領域に関連する第１の解析結果ＡＮ１、及び第２の解析領域に関連する第２の解析結果ＡＮ２を表示部１上に同時に表示する。さらに、制御部２０は、第１の解析結果ＡＮ１及び第２の解析結果ＡＮ２に基づく統合解析結果を表示部１上に表示する。

例えば、制御部２０は、第１の枠Ｋ１、第２の枠Ｋ２によって設定されたエリア内でのＯＣＴデータに基づく各層厚データを取得する。そして、制御部２０は、エリア内での各層厚データの基本統計値（例えば、代表値、散布度）を算出する。制御部２０は、算出された基本統計値を、表示部１上に表示する（例えば、正面画像ＥＦ上に重畳表示する）。

なお、ＯＣＴデータに基づく各層厚データを得る場合、制御部２０は、各解析領域での断層画像を画像処理により解析することによって、各層厚データを取得してもよい。また、３次元ＯＣＴデータの各位置での層厚データが予めメモリ７４に記憶され、制御部２０は、各解析領域での層厚データをメモリ７４から取得するようにしてもよい。また、制御部２０は、統合解析結果として、各解析領域における基本統計値の比、又は差分を表示部１上に表示する。

これにより、例えば、二次元正面画像上において複数の解析領域を設定できる。例えば、正面画像において注目部位（例えば、異常部位）が確認された場合、検者は、注目部位での解析結果と、他の部位での解析結果との比較を容易に行うことができる。なお、二次元正面画像上での設定方法については、上記の例に限定されない。例えば、断層画像上での設定方法として上述した複数の領域の設定手法を用いることが可能である。また、制御部２０は、解析結果に基づいて時系列グラフを作成するようにしてもよい（図１０参照）。

＜二次元解析マップ上での設定＞
図１４、図１５は、二次元解析マップ上にてＯＣＴデータの解析領域を設定する場合の一例を示す。制御部２０は、解析マップ２００を表示部１上に表示する。なお、解析マップ２００は、正面画像ＥＦ上に重畳表示されてもよい。解析マップ２００は、例えば、網膜厚マップ、脈絡膜厚マップ、等が考えられる。なお、解析マップ２００と共に、設定ラインＬ１に対応する断層画像が並列表示されるのが好ましい。これにより、例えば、注目領域の特定が容易となる。制御部２０は、入力部４からの操作信号を受け付け、正面画像ＥＦ上で設定ラインＬ１の表示位置を調整する。そして、制御部２０は、設定ラインＬ１の表示位置に対応する断層画像を表示部１上に表示する（図１６参照）。なお、制御部２０は、解析領域設定時において設定ラインＬ１を消去できるようにしてもよい。

網膜厚マップは、被検眼の網膜厚の二次元的な分布を示すカラーマップであり、層厚に応じて色分けされる。網膜厚マップとしては、厚みマップ、比較マップ、デビエーションマップ、検査日比較厚み差分マップが考えられる。

厚みマップは、網膜層の厚みを示す。比較マップは、被検眼の網膜層の厚みと正常眼データベースに記憶された正常眼の網膜層の厚みとの比較結果を示す。デビエーションマップは、被検眼の網膜層の厚みと正常眼データベースに記憶された正常眼の網膜層の厚みとのずれを標準偏差にて示す。検査日比較厚み差分マップは、各検査日との厚みの差分を示す。

解析マップ２００について、３次元ＯＣＴデータの解析によって得られる各位置での解析結果（例えば、層厚データ）と、マップ上の位置とが対応付けられている。これにより、解析マップ２００上で解析領域が設定されると、制御部２０は、設定された解析領域に関連する解析結果（例えば、層厚データ）を取得する。制御部２０は、取得された解析結果を表示部１上に表示する。

例えば、制御部２０は、解析マップ２００において、検者によって設定される枠Ｋ１の位置に基づき、第１の解析領域を設定する。制御部２０は、中心線Ｃを正面画像ＥＦ上に重畳表示する。制御部２０は、入力部４からの操作信号を受け付け、解析マップ２００上での中心線Ｃの表示位置を調整する。なお、解析マップ２００上での中心線Ｃの向きを調整できるようにしてもよい。

そして、解析マップ２００上における注目部位（例えば、マップ２００上の中心窩、乳頭に相当する位置、又は異常部位等）に中心線Ｃが配置されることによって、位置調整が完了される。制御部２０は、中心線Ｃの位置に基づき中心位置を設定する。第１の解析領域の位置及び中心位置に基づいて、制御部２０は、解析マップ２００上において、中心位置に関して第１の解析領域と対称な領域に、第２の解析領域を設定する。そして、制御部２０は、解析マップ２００上における第２の解析領域を示す第２の枠Ｋ２を追加的に表示する。ここで、枠Ｋ２は、第１の枠Ｋ２の同じサイズであることが好ましい。

制御部２０は、第１の解析領域及び第２の解析領域に対応する第１の解析結果ＡＮ１及び第２の解析結果ＡＮ２を表示部１上に同時に表示する。さらに、制御部２０は、第１の解析結果及び第２の解析結果に基づく統合解析結果を表示部１上に表示する。

例えば、制御部２０は、第１の枠Ｋ１、第２の枠Ｋ２によって設定されたエリア内での各層厚データを取得する。そして、制御部２０は、エリア内での各層厚データの基本統計値（例えば、代表値、散布度）を算出する。制御部２０は、算出された基本統計値を、表示部１上に表示する（例えば、解析マップ２００上に重畳表示する）。また、制御部２０は、統合解析結果として、各解析領域における基本統計値の比、又は差分を表示部１上に表示する。

これにより、例えば、解析マップ２００上において複数の解析領域を設定できる。例えば、解析マップにおいて注目領域（例えば、異常領域）が確認された場合、検者は、注目領域での解析結果と、他の部位での解析結果との比較を容易に行うことができる。

なお、解析マップ２００上での設定方法については、上記の例に限定されない。例えば、断層画像上での設定方法として上述した複数の領域の設定手法を用いることが可能である。また、制御部２０は、解析結果に基づいて時系列グラフを作成するようにしてもよい（図１０参照）。

１ 表示部
４ 入力部
１０ 光干渉断層計
２０ 制御部
３０ 記憶部

Claims (11)

1. 眼科用光干渉断層計によって取得された被検眼の断層画像の解析結果を得て、前記解析結果を出力するための眼科解析装置であって、
   前記眼科用光干渉断層計によって取得された前記断層画像を表示手段に表示させる表示制御手段と、
   前記表示制御手段によって前記表示手段に表示される前記断層画像に対して解析領域を複数選択する解析領域選択手段と、
   前記解析領域選択手段によって複数選択された前記解析領域における解析結果を取得し、取得された前記解析結果を出力する制御手段と、
   を備えることを特徴とする眼科解析装置。
2. 前記解析領域を複数選択するための検者から選択指示を受け付ける指示受付手段を有し、
   前記解析領域選択手段は、前記指示受付手段によって受け付けられた選択指示に応じて、前記断層画像に対して前記解析領域を複数選択することを特徴とする請求項１の眼科解析装置。
3. 前記解析領域選択手段は、複数選択される前記解析領域間の基準位置を前記断層画像上に設定可能であって、前記基準位置を基準として第１の解析領域と第２の解析領域を選択可能であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかの眼科解析装置。
4. 前記解析領域選択手段は、第１の解析領域の位置と前記基準位置とに基づいて、前記第２の解析領域の位置を設定することを特徴とする請求項３の眼科解析装置。
5. 前記解析領域選択手段は、予め設定された解析領域を、前記基準位置に関して分割し、分割された解析領域を、前記第１の解析領域と前記第２の解析領域として設定することを特徴とする請求項３の眼科解析装置。
6. 前記表示制御手段によって前記表示手段に表示される前記断層画像における特徴部位の位置を検出する特徴部位検出手段を有し、
   前記解析領域選択手段は、前記特徴部位検出手段によって検出された前記特徴部位の位置に基づいて、前記断層画像上における前記解析領域の位置を設定することを特徴とする請求項１〜５のいずれかの眼科解析装置。
7. 解析領域選択手段は、前記断層画像に対する前記解析領域の位置、サイズ、形状の少なくとも何れかを変更可能である請求項１〜６のいずれかの眼科解析装置。
8. 解析領域選択手段は、前記断層画像に対する前記解析領域の位置、又はサイズの少なくとも何れかを予め設定可能であり、予め設定された位置又はサイズにて前記解析領域を複数選択可能とする請求項１〜７のいずれかの眼科解析装置。
9. 前記制御手段は、複数選択された前記解析領域の各解析結果の統合解析結果を出力することを特徴とする請求項１〜８のいずれかの眼科解析装置。
10. 前記解析領域選択手段は、第１の解析領域と第２の解析領域の一方が前記基準位置に対して変更された場合、前記基準位置を基準として、第１の解析領域と第２の解析領域の他方の位置を変更することを特徴とする請求項３〜９のいずれかの眼科解析装置。
11. 眼科用光干渉断層計によって取得された被検眼の断層画像の解析結果を得て、前記解析結果を出力するための眼科解析装置において実行される眼科解析プログラムであって、
    前記眼科解析装置のプロセッサによって実行されることで、
    前記眼科用光干渉断層計によって取得された前記断層画像を表示手段に表示させる表示制御ステップと、
    前記表示制御手段によって前記表示手段に表示される前記断層画像に対して解析領域を複数選択処理する解析領域選択ステップと、
    前記解析領域選択手段によって複数選択された前記解析領域における解析結果を取得し、取得された前記解析結果を出力先に出力する出力ステップと、
    を前記眼科解析装置に実行させることを特徴とする眼科解析プログラム。

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