JP2014131081A - 電子装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】導電性の放熱経路を基板の厚さ方向に設けて、基板の一面側の発熱素子から基板の他面側に放熱するようにした電子装置において、基板の一面側の発熱素子の電位を、放熱経路を介して基板の他面側に露出させることなく、基板の他面側にて、外部の放熱部材との接続を適切に行う。
【解決手段】基板10の一面11にて、発熱素子30と放熱経路40の始端である導電性接合材23aとは直接接続されており、基板10の他面12は他面側絶縁層22により構成され、発熱素子30の直下にて他面側絶縁層22の表面には、外部の放熱部材60と接続される導電性の他面側電極24が設けられ、基板10の他面12側では、放熱経路40の終端である他面側内層配線26が他面側絶縁層22まで延びるとともに、他面側絶縁層22を介して他面側内層配線26と他面側電極24とは電気的に絶縁されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、導電性の放熱経路を基板の厚さ方向に設けて、基板の一面側の発熱素子から基板の他面側に放熱するようにした電子装置に関する。
従来より、この種の電子装置としては、一面と他面とが表裏の関係にある基板と、基板の一面に搭載された発熱素子と、基板の内部にて基板の一面側から他面側へ連続して延びるように設けられ、発熱素子に発生する熱を基板の他面側に放熱する導電性の放熱経路と、を備えたものが提案されている(特許文献1参照)。
このものは、基板の一面側の表面配線と他面側の表面配線との間を、基板厚さ方向に延びる導電性のビアで接続し、これら両表面配線とビアとにより放熱経路を構成するものである。そして、基板の一面側に搭載された発熱素子の熱を、放熱経路を介して基板の他面側に放熱するようにしている。
特開2004−95586号公報
ここで、基板の他面にはたとえば外部の放熱部材を接続して、放熱経路からの熱を、さらに放熱部材に逃がすようにするのであるが、この外部の放熱部材は、ヒートシンク等の導電性のものが用いられるのが通常である。
しかし、従来では、放熱経路は導電性であり、基板の他面の表面配線等によって、発熱素子の電位が基板の他面に露出している。そのため、基板の他面にて、上記した外部の放熱部材を接続することが困難になる。つまり、発熱素子の電位を基板の他面に露出させることなく、放熱経路を介した放熱を行うことが困難になる。
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、導電性の放熱経路を基板の厚さ方向に設けて、基板の一面側の発熱素子から基板の他面側に放熱するようにした電子装置において、基板の一面側の発熱素子の電位を、放熱経路を介して基板の他面側に露出させることなく、基板の他面側にて適切に放熱を行えるようにすることを目的とする。
本発明者は、基板の厚さ方向に電気絶縁性の絶縁層を設け、この絶縁層により放熱経路を絶縁してやればよいことに着目し、基板の厚さ方向のどこに絶縁層を設けてやればよいかについて、鋭意検討を行った。
このような絶縁層は、程度の差こそあれ、基板の電極や配線に用いられるCu等の導電性材料に比べて熱伝導性に劣るものである。そのため、放熱経路のうち発熱素子に近い部位よりも、発熱素子から遠い放熱経路の終端側に絶縁層を設けた方が、発熱素子の熱が効率良く逃がされる。そこで、発熱素子から最も遠い基板の他面に絶縁層を設けてやればよいと考え、本発明を創出するに至った。
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、一面(11)と他面(12)とが表裏の関係にある電気絶縁性の基板(10)と、基板の一面に搭載された発熱素子(30)と、基板の一面にて発熱素子とともに搭載された他の素子(31、32)と、基板の一面に設けられた一面側配線(23b)と、基板の一面に設けられ、一面側配線とともにパターニングされた導電性の一面側ランド(23)と、基板の他面に設けられた他面側配線(24a)と、基板の他面に設けられ、他面側配線とともにパターニングされ、他面側配線の少なくとも一部と電気的に独立した導電性の他面側ランド(24)と、を備え、
発熱素子は、一面側ランドへ電気的に接合するための接合面(301)を有し、一面側ランドは、発熱素子が電気的に接合されるための被接合面(231)を有し、被接合面は、少なくとも接合面における基板の板厚方向への全投影領域に存在し、全投影領域にて接合面と被接合面とを互いを直接接合する導電性接合材(23a)を有する電子装置であって、さらに以下の特徴を有する。
つまり、請求項1の発明では、基板の他面側は、基板の板面方向の全体に設けられた電気絶縁性を有する基板の一部としての他面側基板絶縁層(22)により構成されており、一面側ランドおよび導電性接合材を始端とし、基板の一面側から他面側基板絶縁層へ連続して延びるように設けられ、発熱素子に発生する熱を基板の他面側に放熱する導電性の放熱経路(40)を備え、放熱経路の終端は、基板の内部に設けられた導電性の他面側内層配線(26)にて構成されており、
発熱素子を基準として、発熱素子における基板の板面方向の平面サイズからさらに基板の板厚(t)分、発熱素子全周において外側へ拡大した領域を放熱寄与領域(Z)としたときに、
他面側基板絶縁層が放熱寄与領域にて他面側内層配線と他面側ランドとの間に介在して他面側内層配線と他面側ランドとを電気的に絶縁するとともに、他面側内層配線の少なくとも一部および他面側ランドの少なくとも一部がともに放熱寄与領域にて発熱素子における基板の板面方向の面積よりも総面積の大きいことで熱拡散層対を構成することにより、基板の他面側にて、他面側内層配線、他面側ランド、および、他面側基板絶縁層による熱拡散絶縁部(40a)が構成されていることを特徴とする。
それによれば、基板の他面を構成する他面側基板絶縁層によって、放熱経路の終端が基板の他面に露出することは無いから、基板の一面側の発熱素子の電位を、放熱経路を介して基板の他面側に露出させることなく、基板の他面側にて、適切に放熱を行うことができる。
なお、特許請求の範囲およびこの欄で記載した各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一例である。
本発明の第1実施形態にかかる電子装置の概略断面図である。 本発明の第2実施形態にかかる電子装置の概略断面図である。 本発明の第3実施形態にかかる電子装置の概略断面図である。 本発明の第4実施形態にかかる電子装置の概略断面図である。 本発明の第5実施形態にかかる電子装置の概略断面図である。 本発明の第6実施形態にかかる電子装置の概略断面図であり、モールド樹脂による封止前状態を示す。 第6実施形態にかかる電子装置の概略断面図であり、モールド樹脂による封止後の完成状態を示す。 本発明の第7実施形態にかかる電子装置の概略断面図である。 図7に示される電子装置における他面電極部分の第1の例を示す概略平面図である。 図7に示される電子装置における他面電極部分の第2の例を示す概略平面図である。 本発明の第8実施形態にかかる電子装置の概略断面図である。 本発明の第9実施形態にかかる電子装置の概略断面図である。 本発明の第10実施形態にかかる電子装置の要部を示す概略断面図である。 本発明の第11実施形態にかかる電子装置の概略断面図である。 本発明の第12実施形態にかかる電子装置の要部を示す概略断面図である。 第12実施形態にかかる他の例としての電子装置の要部を示す概略断面図である。 本発明の第14実施形態にかかる電子装置の要部を示す概略断面図である。 第14実施形態にかかる他の例としての電子装置の要部を示す概略断面図である。 本発明の他の実施形態にかかる電子装置の要部を示す概略断面図である。 本発明の他の実施形態にかかる電子装置の要部を示す概略断面図である。
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、図中、同一符号を付してある。
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態にかかる電子装置S1について、図1を参照して述べる。なお、図1では、本電子装置S1を熱伝導性接合材50を介して、外部の放熱部材60に接続した状態を示している。この電子装置S1は、たとえば自動車に搭載される電子装置等に適用される。
本実施形態の電子装置S1は、大きくは、基板10と、基板10の一面11に搭載された発熱素子30と、基板10に設けられ、発熱素子30に発生する熱を基板10の他面12側に放熱する導電性の放熱経路40と、を備えて構成されている。
基板10は、一面11と他面12とが表裏の板面11、12の関係にある板状をなす樹脂よりなるものである。この基板10は、エポキシ樹脂等よりなる板状のコア20と、このコア20の両面にエポキシ樹脂等よりなる電気絶縁性の絶縁層21、22とを備える積層基板であり、ここでは3層20、21、22構成とされている。
ここで、コア20および一面側絶縁層21を構成する樹脂よりも、他面側絶縁層22を構成する樹脂の方が、熱伝導性が高いものであることが望ましい。このことは、たとえば、前者の樹脂と後者の樹脂とで、樹脂に含有される熱伝導フィラーの量を変えたり、エポキシ樹脂の種類を変えたりすることで、容易に実現できる。
このような本実施形態の基板10においては、コア20よりも基板10の一面11側に位置する一面側絶縁層21の表面が基板10の一面11に相当し、コア20よりも基板10の他面12側に位置する他面側絶縁層22の表面が基板10の他面12に相当する。
そして、基板10の一面11には、当該一面11にて露出するCu等よりなる一面側電極23が設けられている。そして、発熱素子30は、基板10の一面11にて一面側電極23上に搭載されており、はんだや導電性接着剤等の導電性接合材23aを介して、発熱素子30(ここでは素子裏面側)と一面側電極23とは、熱伝導可能且つ電気的に接続されている。
この発熱素子30はパワートランジスタやIGBTなどの駆動時に発熱するものである。なお、基板10の表面11、12および内部には、通常の回路基板と同様、回路を構成する配線や電極等の図示しない回路構成導体が設けられており、発熱素子30の表面側は、ワイヤボンディング等により、これら回路導体に接続されている。
また、基板10の他面12には、当該他面12にて露出するCu等よりなる導電性の他面側電極24が設けられている。この他面側電極24は、基板10における当該他面側電極24以外の全ての導電性要素に対して電気的に独立して設けられたものであり、外部の放熱部材60との接続用のものである。
そして、本電子装置S1は、この他面側電極24にて、熱伝導性接合材50を介して、外部の放熱部材60に接続されるようになっている。この熱伝導性接合材50としては、シリコングリス等の絶縁性の放熱グリス以外にも、はんだや銀ペースト等の導電性材料を用いてもよい。また、外部の放熱部材60は、CuやFe等のヒートシンクや、Alなどの筺体等である。
また、基板10の内部にて、一面側絶縁層21とコア20との間には、導電性のCu等よりなり基板10の板面方向に延びる一面側内層配線25が設けられ、コア20と他面側絶縁層22との間には、導電性のCu等よりなり基板10の板面方向に延びる他面側内層配線26が設けられている。
また、一面側絶縁層21には、当該一面側絶縁層21を貫通し、基板10の厚さ方向に延びるCu等よりなるレーザビア27が設けられており、このレーザビア27を介して一面側電極23と一面側内層配線25とが熱伝導可能に接続されている。このレーザビア27は、一面側絶縁層21にレーザで孔開けを行い、その孔をCuメッキ等で充填することにより形成されるものである。
また、コア20には、当該コア20を貫通し、基板10の厚さ方向に延びるブラインドビア28が設けられており、このブラインドビア28を介して一面側内層配線25と他面側内層配線26とが熱伝導可能に接続されている。
このブラインドビア28は、コア20に設けられた貫通孔の側面に形成されたCuメッキ28aとこのCuメッキ28aの内側に充填されたエポキシ樹脂等の電気絶縁性充填材28bとよりなる。このようなブラインドビア28は、コア20の孔開け、孔側面のCuメッキ、充填材28bの充填、蓋メッキを順次行うという、通常の方法で形成されるものである。
これらレーザビア27およびブラインドビア28は、発熱素子30の直下にて、たとえば平面ドットマトリクス状に複数個配置されている。
ここで、放熱経路40は、上記した熱伝導可能且つ電気的に連続して接続された導電性接合材23a、一面側電極23、レーザビア27、一面側内層配線25、ブラインドビア28および他面側内層配線26により構成されている。つまり、連続する放熱経路40の始端は、導電性接合材23aであり、終端は他面側内層配線26である。
そして、基板10の一面11にて、発熱素子30は導電性接合材23aに直接接続されることにより、発熱素子30と放熱経路40とは直接接続された構成となっている。これにより、発熱素子30の熱は、導電性接合材23a〜他面側内層配線26まで、伝わって逃がされる。さらに、他面側内層配線26からの熱は、他面側絶縁層22から他面側電極24を介して外部の放熱部材60に逃がされる。
また、発熱素子30と放熱経路40とは電気的にも接続されているので、導電性接合材23aに接する発熱素子30の裏面電位と、放熱経路40の終端である他面側内層配線26の電位とは同じとされる。
ここで、上記したように、基板10の他面12は電気絶縁性を有する他面側絶縁層22により構成されている。そして、外部の放熱部材60と接続される上記他面側電極24は、図1に示されるように、発熱素子30の直下にて他面側絶縁層22の表面に設けられている。
さらに言うならば、図1に示されるように、基板10の他面12側では、放熱経路40の終端である他面側内層配線26が他面側絶縁層22の内面まで延びるとともに、この他面側内層配線26と他面側電極24との間に他面側絶縁層22が介在している。これにより、他面側内層配線26と他面側電極24とは電気的に絶縁されている。
このように、本実施形態の電子装置S1によれば、放熱経路40の終端である他面側内層配線26は、他面側絶縁層22によって、基板10の他面12に露出しないので、発熱素子30の上記裏面電位も放熱経路40を介して基板10の他面12に露出しない。このことから、外部の放熱部材60が導電性であっても問題無く、他面側電極24と放熱部材60とを接続できる。
さらには、他面側電極24は、発熱素子30とは電気的に絶縁されるので、外部の放熱部材60と他面側電極24とを熱的に接続するための上記熱伝導性接合材50としては、上述したように、電気絶縁性材料だけでなく、比較的熱伝導性に優れた、はんだ等の導電性材料も採用することができる。
特に、本実施形態の放熱経路40は、基板10の板面方向に延び基板10の一面11側に位置する一面側内層配線25と、基板10の板面方向にのびるとともに基板10の他面12側に位置する他面側内層配線26と、これら両内層配線25、26の間を接続するブラインドビア28とを備えている。そのため、発熱素子30の直下方向だけでなく、基板10の板面方向にも広く放熱を行うことができる。
なお、本実施形態の基板10は、各層20、21、22に対して、メッキ加工、孔開け加工等を施すとともに、これら各層20〜22を積層するという典型的な積層基板の製造方法によって製造できるものである。
(第2実施形態)
本発明の第2実施形態にかかる電子装置S2について、図2を参照して述べる。本実施形態では、上記第1実施形態との相違点を中心に述べることとする。
図2に示されるように、本実施形態では、基板10の内部にて基板10の板面方向に延びる一面側内層配線25および他面側内層配線26における基板10の板面方向の寸法を、上記第1実施形態に比べて更に大きくしたものである。
上記第1実施形態においても、これら両内層配線25、26における基板10の板面方向の寸法は、発熱素子30における基板10の板面方向の寸法よりも若干大きいものであったが、本実施形態では、その程度を大幅に大きくしている。本実施形態によれば、基板10の板面方向に対して、より広い放熱が行える。
(第3実施形態)
本発明の第3実施形態にかかる電子装置S3について、図3を参照して述べる。本実施形態では、上記第1実施形態との相違点を中心に述べることとする。
図3に示されるように、本実施形態では、基板10の一面11上に、上記発熱素子30の他に、更に放熱を必要としないマイコン等の制御素子31や、抵抗やコンデンサ等の受動素子32を搭載している。
この場合も、発熱素子30および放熱経路40に関する作用効果は、上記第1実施形態と同様であることは言うまでもない。また、本実施形態は、発熱素子30の他に、更に放熱が不要な素子31、32を搭載したものであるから、上記第2実施形態とも組み合わせて適用することが可能である。
(第4実施形態)
本発明の第4実施形態にかかる電子装置S4について、図4を参照して述べる。図4に示されるように、本実施形態は、基板10の一面11および当該一面11に搭載されている部品をモールド樹脂70で封止するとともに、基板10の他面12はモールド樹脂70より露出するハーフモールド構造のものである。
この構造によれば、基板10の一面11側では、搭載部品やその接続部の保護がなされるとともに、基板10の他面12側を露出させて放熱に適した構成となる。なお、本実施形態は、モールド樹脂70を付加するだけのものであるから、上記各実施形態と組み合わせて適用が可能である。
(第5実施形態)
本発明の第5実施形態にかかる電子装置S5について、図5を参照して述べる。図5に示されるように、本実施形態の電子装置S5自身は、上記第3実施形態に示した電子装置S3と同様である。本実施形態では、この電子装置S5を、熱伝導性接合材50を介して外部の放熱部材60に接続した状態を提供する。
(第6実施形態)
本発明の第6実施形態にかかる電子装置S6について、図6を参照して述べる。図6(b)に示されるように、本電子装置S6は、上記第4実施形態の電子装置S4(図4参照)に対して、ソルダーレジスト膜80を付加し、基板10の一部がたわんで変形したところが相違するものであり、この相違点を中心に述べることとする。
本実施形態においても、基板10はエポキシ樹脂等の樹脂よりなる。また、上記第4実施形態と同様、基板10の一面11側には、発熱素子30および基板10の一面11を封止するモールド樹脂70が設けられており、基板10の他面12は、モールド樹脂70より露出したハーフモールド構造とされている。
ここで、図6(b)に示されるように、基板10の他面12には、基板10の他面12を被覆して保護するソルダーレジスト膜80が設けられている。このソルダーレジスト膜80は、基板10の他面12に設けられている回路構成導体である他面側配線24a等を被覆、保護しており、通常のソルダーレジスト材料よりなる。
そして、このソルダーレジスト膜80は、発熱素子30の直下に位置する上記他面側電極24は露出させつつ他面側電極24の周囲に配置されている。また、このソルダーレジスト膜80は、他面側電極24よりも厚いものとされている。
そして、図6(b)に示されるように、基板10のうち発熱素子30の直下の部位は、基板10の一面11が凹み且つ基板10の他面12が凸となるようにたわんでいる。それにより、ソルダーレジスト膜80の表面を超えないレベルで、他面側電極24の中央部側が周辺部側に比べて突出している。
この基板10のたわみは、モールド樹脂70の封止時に基板10の一面11側に加わる成形圧により生じる。上述したが、ソルダーレジスト膜80は、他面側電極24よりも厚い。
そのため、モールド樹脂70の封止前では、図6(a)に示されるように、ソルダーレジスト膜80と他面側電極24とでは、ソルダーレジスト膜80の方が突出し、両者間に段差Dが存在する。
モールド樹脂70の封止は、この図6(a)に示されるワークを、金型に入れて、樹脂成形することにより行う。このとき、基板10の他面12側では、ソルダーレジスト膜80の表面が金型に接触することで、ワークが支持されるが、上記段差Dのため、他面側電極24は金型から浮いた状態となる。
この状態で、モールド樹脂70が金型に充填されると、基板10の一面11側が樹脂70の圧力(成形圧)で押さえられるため、金型から浮いている他面側電極24の部分で、基板10のたわみ変形が発生するのである。
そして、これにより、図6(b)に示されるような本実施形態の電子装置S6ができあがる。なお、このようなメカニズムで基板10にたわみが形成されるので、他面側電極24の中央部側の突出レベルは、ソルダーレジスト膜80の表面と同等かそれ未満のレベルとなる。
このように、本実施形態によれば、ソルダーレジスト膜80の方が厚いことに起因する他面側電極24とソルダーレジスト膜80との間に生じる段差Dを、極力埋めるように、基板10がたわんで他面側電極24の中央部が突出したものとなる。
そのため、本実施形態によれば、他面側電極24と外部の放熱部材60とを、はんだ等の熱伝導性接合材50を介して接続するにあたって、その他面側電極24の突出の分、当該熱伝導接合材50の厚さを極力薄くすることができる。結果的に、熱伝導接合材50の使用量節減、熱伝導接合材50による熱抵抗増加の抑制等の効果が期待できる。
なお、本実施形態は、基板10の他面12にソルダーレジスト膜80を設け、このソルダーレジスト膜80から露出する他面側電極24に対応する基板10の部分をたわませたものであるから、上記第4実施形態以外の上記各実施形態についても組み合わせて適用が可能である。
(第7実施形態)
本発明の第7実施形態にかかる電子装置S7について、図7、図8を参照して述べる。図7、図8に示されるように、本電子装置S7は、上記第6実施形態の電子装置S6(図6参照)に対して、さらに、他面側電極24の表面に部分的にソルダーレジスト膜81を形成したものである。
このソルダーレジスト膜81は、上記ソルダーレジスト膜80と同様の材質のものとして形成されるが、上記ソルダーレジスト膜80と区別するため部分レジスト膜81と称することにする。この部分レジスト膜81の平面形状は、他面側電極24上に部分的に存在する形状であればよく、図8(a)のようにドット状でもよいし、図8(b)のように格子状でもよいし、それ以外の形状でもよい。
この部分レジスト膜81を設けた状態で、上記第6実施形態と同様にモールド樹脂70の封止を行うと、部分レジスト膜81の部分では、上記基板10のたわみが抑制される。このように、部分レジスト膜81は、上記基板10のたわみを抑制するものであり、当該たわみの度合が大きすぎて基板10にダメージが発生するのを防止するという効果が期待できる。
以下の各実施形態では、上記各実施形態と多少重複するところもあるが、上記各実施形態との相違点を中心に述べることとする。
(第8実施形態)
本発明の第8実施形態にかかる電子装置S8について、図9を参照して述べる。本実施形態の電子装置S8も、大きくは、基板10と、基板10の一面11に搭載された発熱素子30と、基板10に設けられ、発熱素子30に発生する熱を基板10の他面12側に放熱する導電性の放熱経路40と、を備えて構成されている。
本実施形態において、基板10は、一面11と他面12とが表裏の関係にあるものであり、電気絶縁性の3層20〜22、すなわち一面側絶縁層21、コア層としてのコア20、他面側絶縁層22が積層された構成をなしている。この基板10においても、一面側絶縁層21の表面が基板10の一面11に相当し、他面側絶縁層22の表面が基板10の他面12に相当する。さらに言うならば、一面側絶縁層21、他面側絶縁層22は、それぞれ基板の一部である一面側基板絶縁層、他面側基板絶縁層に相当する。
ここで、基板10の一面11には、一面側電極23および一面側配線23bが設けられている。一面側電極23は、発熱素子30を搭載するランド、すなわち一面側ランドとして構成されるものであり、一面側配線23bは、たとえばCu等よりなり、回路構成導体として構成されたものである。そして、一面側電極23は、一面側配線23bとともに、エッチングや印刷等により所定の形状にパターニングされたものである。また、これら一面側電極23、一面側配線23bはともに導電性である。
また、基板10の一面11には、発熱素子30とともに、制御素子31や受動素子32等の他の素子31、32が搭載されている。これら各素子30〜32は、素子搭載の用をなす一面側ランドとしての一面側電極23上に搭載されている。このような発熱素子30は、パワートランジスタやIGBTなどの駆動時に発熱するもの、更に言えば、裏面電極を有する縦型素子などである。また、発熱素子30としては一般的なパッケージされた発熱部品も含む。
そして、本実施形態においても、上記同様、発熱素子30の直下における基板10の内部にて、発熱素子30に発生する熱を基板10の他面12側に放熱する導電性の放熱経路40が設けられている。つまり、放熱経路40は、発熱素子30を基板10の一面11に投影した方向の位置、すなわち発熱素子30の直下に位置し、基板10の一面11側から他面12側へ連続して延びている。
そして、基板10の一面にて、発熱素子30と一面側電極23とが導電性接合材23aを介して直接接合されている。ここで、一面側電極23および導電性接合材23aは放熱経路40の始端であり、このような発熱素子30と一面側電極23との直接接合により、放熱経路40の始端と発熱素子30とが直接接続されている。
また、一面側ランドとしての一面側電極23は、発熱素子30の直下にて基板10の一面11に対する発熱素子30の全投影面積存在する。つまり、一面側電極23は、発熱素子30の当該全投影面積に重なる領域にて孔等により欠けた部分を持つものではなく、発熱素子30の当該全投影面積に対してオーバーラップしている。
それとともに、一面側電極23における基板10の板面方向の寸法が発熱素子30における基板10の板面方向の寸法よりも大きいものとされている。限定するものではないが、たとえば発熱素子30が平面矩形である場合、一面側電極23はそれよりも一回り大きい平面矩形のものとなる。
また、他面側絶縁層22は、基板10の一部として基板10の他面12側を構成する電気絶縁性を有する層である。つまり、他面側絶縁層22は、基板10の他面12側にて基板10の板面方向の全体に設けられ、基板10の一部として構成されている。これにより、上記同様、他面側絶縁層22の表面が基板10の他面12とされている。
さらに言えば、基板10は、電気絶縁性のコア20と当該基板10の他面12側にてコア20に積層された電気絶縁性の他面側絶縁層22との積層構成を有する電気絶縁性の基板であると言える。
ここで、発熱素子30の直下にて基板10の他面12つまり他面側絶縁層22の表面には、導電性の他面側電極24が設けられている。この他面側電極24は、上記放熱部材60に接続されるなどにより外部に放熱する他面側ランドとして機能する。
また、基板10の他面12には、たとえばCu等よりなり、回路構成導体として構成される他面側配線24aが設けられている。ここで、他面側電極24は、さらに言えば、他面側配線24aとともに、エッチングや印刷等により所定の形状にパターニングされたものである。
そして、他面側電極24と他面側配線24aとは電気的に独立したものである。つまり、上述のように、他面側電極24は、基板10における自身以外のすべての導電性要素に対して電気的に独立したものであり、たとえばボディアース等によりGND電位とされている。なお、本実施形態においては、他面側電極24は、他面側配線24aの一部と電気的に独立したものであってもよい。
そして、基板10の他面12側において、放熱経路40の終端が他面側絶縁層22まで延びている。この放熱経路40の終端は熱拡散層としての他面側内層配線26とされている。ここで、熱拡散層とは、基板10の厚さ方向のみでなく板面方向へも熱を拡散する機能を持つ。他面側内層配線26は、基板10の板面方向に延びるものであるため、熱拡散層として機能する。
そして、他面側内層配線26と他面側電極24との間に基板10の一部である他面側絶縁層22が介在し、他面側内層配線26と他面側電極24とが電気的に絶縁されている。こうすることで、他面側内層配線26、他面側電極24およびこれらの間に介在する他面側絶縁層22により、熱拡散絶縁部40aが構成されている。ここで、図9に示されるように、他面側絶縁層22のうち他面側内層配線26に対応する部位は、それ以外の部位よりも薄くなっている。
また、この熱拡散絶縁部40aにおいては、他面側内層配線26および他面側電極24が共に、発熱素子30の直下に位置し、当該発熱素子30の直下にて基板10の一面11に対する発熱素子30の全投影面積に存在する。
それとともに、他面側内層配線26および他面側電極24における基板10の板面方向の寸法が、発熱素子30における基板10の板面方向の寸法よりも大きいものとされている。このように熱拡散絶縁部40aにおいては、放熱経路40の基板10の他面12への露出がなく、絶縁が保証されるとともに、当該他面12側における基板10の板面方向への熱拡散が行われる。限定するものではないが、たとえば発熱素子30が平面矩形である場合、他面側内層配線26および他面側電極24はそれよりも一回り大きい平面矩形のものとなる。
さらに言えば、本実施形態では、発熱素子30は、一面側ランドとしての一面側電極23へ電気的に接合するための接合面(図9における発熱素子の下面)301を有する。一方、一面側電極23は、発熱素子30が電気的に接合されるための被接合面(図9における一面側電極の上面)231を有する。
そして、被接合面231は、少なくとも接合面301における基板10の板厚方向への全投影領域に存在し、この全投影領域にて接合面301と被接合面とを互いを直接接合する導電性接合材23aを有する構成とされている。また、図9に示す態様としては、接合面231は、発熱素子30の下面全域としたが、これに限定されない。たとえば、分割された複数の接合面を有する発熱素子の場合、複数の接合面それぞれに対して、被接合面が接合面の全投影領域に存在していればよい。また、図9に示す態様としては、被接合面231が発熱素子30の平面サイズよりも大きいが、これに限定されることはない。被接合面の平面サイズは、発熱素子の平面サイズよりも小さい態様であってもよい。換言すると、被接合面231の総面積は、接合面301の総面積よりも大きく、発熱素子の基板10の板面方向の面積に対しては小さくても大きくてもよい。
また、上記した熱拡散絶縁部40aにおいては、他面側内層配線26および他面側電極24が共に、発熱素子30の直下に位置して、発熱素子30の全投影面積に存在した。それとともに、上記基板10の板面方向の寸法について、他面側内層配線26および他面側電極24が、発熱素子30よりも大きいものとされていた。しかし、本実施形態の熱拡散絶縁部40aは、上記した構成に限定されず、次のような構成でもよい。
ここで、図9に示されるように、発熱素子30を基準として、発熱素子30における基板10の板面方向の平面サイズからさらに基板10の板厚t分、発熱素子30全周において外側へ拡大した領域を、放熱寄与領域Zとする。
発熱素子30の熱は、おおよそ基板10の一面11側から他面12側へ向かって45°の方向に拡散する。そのため、基板10における熱拡散は、発熱素子30からおおよそ基板10の厚さt分、拡がった領域で行われる。このため、この領域を放熱に寄与する放熱寄与領域Zとした。
このとき、本実施形態の熱拡散絶縁部40aでは、他面側絶縁層22が放熱寄与領域Zにて他面側内層配線26と他面側電極24との間に介在して他面側内層配線26と他面側電極24とを電気的に絶縁している。
それとともに、熱拡散絶縁部40aでは、他面側内層配線26の少なくとも一部および他面側電極24の少なくとも一部が放熱寄与領域Zにて発熱素子30における基板10の板面方向の面積よりも総面積の大きい熱拡散層対を構成する。こうすることにより、基板10の他面12側にて、他面側内層配線26、他面側電極24、および、他面側絶縁層22による熱拡散絶縁部40aが構成されているのである。
熱拡散絶縁部40aとしては、他面側内層配線26および他面側電極24は全体もしくは一部が放熱寄与領域Zにあればよく、上記の総面積とはこの放熱寄与領域Zに存在する部分の総面積である。つまり、他面側内層配線26および他面側電極24は、放熱寄与領域Zに位置するものであれば、必ずしも発熱素子10の投影領域すなわち発熱素子30の直下に無くてもよく、また、溝を有するものであってもよい。
ところで、本実施形態によれば、上記第1実施形態にて述べたのと同様、基板10の他面12を構成する他面側絶縁層22によって、放熱経路40の終端である他面側絶縁層22が基板10の他面12に露出することは無い。そのため、基板10の一面11側の発熱素子30の電位を、放熱経路40を介して基板10の他面12側に露出させることなく、基板10の他面12側にて、適切に放熱を行うことができる。
さらに、この本実施形態の効果について詳述する。本実施形態では、発熱素子30の熱が他面側絶縁層22の手前まで伝わり、他面側絶縁層22を介して基板10の板面方向に拡散して他面側電極24で放熱するので、放熱性が向上する。
また、基板10の一部である他面側絶縁層22により絶縁性が確保されるので、基板10に別途、絶縁層等を設ける場合に比べて、基板10の小型化、製造の容易化に優れるとともに、絶縁性の保証も容易となる。
また、発熱素子30は、放熱経路40の始端である一面側電極23に導電性接合材23aを介して直接接合されている。これにより、発熱素子30の熱が、たとえば、ヒートスプレッダなどの金属体が介在することによる基板10の一面11側において蓄熱されることを避けることができる。つまり、発熱素子30の熱は、放熱経路を経由して他面12側へ伝わって、他面12側にて基板10の板面方向に拡散して放熱される。そのため、発熱素子30の熱が、基板10の一面11に搭載されている他の素子31、32に干渉するのを抑制できる。
また、一面側電極23は発熱素子30の上記全投影面積に存在し、且つ、平面サイズが発熱素子30よりも大きいものである。また、被接合面231は、少なくとも接合面301における基板10の板厚方向への全投影領域に存在し、この全投影領域にて接合面301と被接合面とを互いを直接接合する導電性接合材23aを有する構成である。これらの構成によれば、基板10の他面12側への放熱性を確保しつつ、発熱素子30の温度分布を均一化して発熱素子30への局所的な応力集中を回避することができる。また、導電性接合材23aが接合面301の全投影領域にて存在するので、導電性接合材23aを始端とする放熱経路へ余すことなく接合面301から熱を伝えることができる。
また、図9に示される例では、他面側内層配線26およびこれと対をなす他面側電極24についても、いずれも、発熱素子30の上記全投影面積に存在し、且つ、平面サイズが発熱素子30よりも大きいものである。そのため、基板10の他面12側にて、他面側絶縁層22を挟んで広い領域で熱拡散を行うことができ、放熱性向上に好ましい。
また、上述したが、被接合面231は、接合面301における基板10の板厚方向への全投影領域に存在し、導電性接合材23aは、この全投影領域にて接合面301と被接合面231とを互いを直接接合している。導電性接合材23aによる接合領域は、発熱素子30の裏面、つまり接合面301への放熱に多大に影響があり、接合されない領域が存在する場合は非常に放熱性に劣る。たとえば、スルーホールタイプの接合の場合、接合できていない領域が発生しやすく、放熱性に劣りやすくなるが、本実施形態では、そのような問題を回避できる。
また、本実施形態の放熱経路40の特徴事項について、さらに述べる。放熱経路40は、上記各実施形態と同様、基板10の板面方向に延び基板10の一面11側にて基板10内部に位置する一面側内層配線25と、基板10の厚さ方向に延びて一面側内層配線25と他面側内層配線26との間を接続するブラインドビア28と、を有する。これにより、基板10の板面方向に延びる各内層配線25、26によって、基板10の板面方向に熱を広げて逃がすことが可能となる。
放熱経路40は、さらに、基板10の厚さ方向に延びて一面側電極23と一面側内層配線25との間を接続するレーザビア27、を有する。ここで一面側内層配線25、他面側内層配線26は、上記同様それぞれ、一面側絶縁層21とコア20との間、コア20と他面側絶縁層22との間に設けられている。このように、放熱経路40は、始端側から、上記同様の各部23a、23、27、25、28、26より構成されている。
また、レーザビア27、ブラインドビア28は、上記同様それぞれ、一面側絶縁層21、コア20を貫通してなるものである。そして、各内層配線25、26は、各ビア27、28の蓋メッキと一体とされて構成されている。
ここにおいて、基板10の板面方向においてレーザビア27とブラインドビア28とは重ならずに外れた位置にあることが、放熱性の点では、好ましい。図9に示されるように、一面側内層配線25においてブラインドビア28が位置する部分は、ブラインドビア28の蓋メッキに相当する部分であり、ブラインドビア28以外の部分に比べて薄いものとなる。
レーザビア27の直下にブラインドビア28が存在すると、この一面側内層配線25における薄い部分にレーザビア27が接続されることになり、過渡熱抵抗が大きいものとなってしまう。その点、一面側内層配線25においてブラインドビア28を避けた位置にある厚い部分にレーザビア27を接続すれば、過渡熱抵抗が小さくなるという利点がある。なお、図9では、一部のレーザビア27の直下にブラインドビア28が存在して互いのビアが重なる位置にあるが、すべてのレーザビア27とブラインドビア28とが、互いに重ならずに外れた位置にあるものであってもよいことはもちろんである。
また、本実施形態においても、一面側内層配線25は、発熱素子30の直下にて基板10の一面11に対する発熱素子30の全投影面積に存在することが望ましい。それとともに、一面側内層配線25における基板10の板面方向の寸法が、発熱素子30における基板10の板面方向の寸法よりも大きいことが望ましい。これは、上記した一面側電極23、他面側内層配線26および他面側電極24と、発熱素子30との寸法関係と、同様の理由による。
なお、発熱素子30としては、上記した縦型素子等以外にも、駆動時の発熱を逃がす必要があるものであるならば、たとえば抵抗素子やコイル素子等の受動素子であってもよい。
また、図9では、図示していないが、本実施形態においても、上記図1等に示されるように、上記熱伝導性接合材50等を介して他面側電極24に対し上記放熱部材60を接続してもよいことは、もちろんである。ここで、当該熱伝導性接合材50としては、放熱グリス、はんだや銀ペースト等以外にも、放熱ゲル、放熱シート、金属フィラーを含有する導電性接着剤等が挙げられる。
なお、本第8実施形態は、可能な範囲で上記した第1〜第7の各実施形態と適宜組み合わせが可能なことは言うまでもない。
(第9実施形態)
本発明の第9実施形態にかかる電子装置S9について、図10を参照して述べる。本実施形態は、上記第8実施形態を一部変形したものであり、本実施形態もその変形部分を中心に述べることとする。
図10に示されるように、一面側電極23と一面側内層配線25とは、基板10の板面方向の寸法、つまり平面サイズが同等のものとされている。さらに、他面側内層配線26および他面側電極24におけるそれぞれの基板10の板面方向の寸法は、一面側電極23および一面側内層配線25におけるそれぞれの基板10の板面方向の寸法よりも大きいものとされている。
これによれば、基板10の一面11から他面12に向かう方向、すなわち基板10の厚さ方向における放熱において、他面12側に行くにつれて熱が基板10の板面方向に拡散するものとなる。特に、他面側絶縁層22の周辺にて、熱の拡散が顕著となり、放熱効率の向上が期待できる。そのため、放熱性の点で好ましい放熱経路40を実現できる。
ここで、他面側内層配線26と他面側電極24との基板10の板面方向の寸法については、両者同等でもよいし、他面側内層配線26の方が大きいものであってもよい。しかし、図10および上記各実施形態の各図にも示されているように、他面側電極24における基板10の板面方向の寸法は、他面側内層配線26おける基板10の板面方向の寸法よりも大きいことが、放熱性向上の点で望ましい。これは、上述のように、基板10の他面12側における熱拡散を促進できることによる。
なお、本実施形態は、上述のように、放熱経路40における各部および他面側電極24の平面サイズを規定したものであるから、この平面サイズの関係を維持したうえで、上記各実施形態と適宜組み合わせ可能なことはもちろんである。
(第10実施形態)
本発明の第10実施形態にかかる電子装置S10について、図11を参照して、主として上記第8実施形態との相違点を述べる。図11に示されるように、本実施形態は、上記図6のものと同様、ハーフモールド構造を前提としたものである。
すなわち、基板10の各層20〜22は樹脂よりなり、基板10の一面11側には、発熱素子30、他の素子31、32、一面側配線23bおよび基板10の一面11を封止するモールド樹脂70が設けられている。そして、基板10の他面12は、モールド樹脂70より露出している。
さらに、基板10の他面12には、基板10の他面12を被覆して保護するソルダーレジスト膜80が設けられている。ここにおいて、ソルダーレジスト膜80は、他面側電極24は露出させつつ他面側電極24の周辺部を被覆するように、他面側電極24の周囲に配置されている。
そして、ソルダーレジスト膜80のうち他面側電極24の周辺部を被覆する被覆部80aは、他面側電極24の周囲の基板10の他面12に位置する部位よりも薄いものとされている。具体的には、図11において、被覆部80aの厚さt1は、他面側電極24の周囲の基板10の他面12に位置する部位の厚さt2よりも薄い。
この構成によれば、他面側電極24とその周囲の基板10の他面12との間で、ソルダーレジスト膜80による段差を小さくすることができる。そのため、上記第6実施形態(図6参照)と同様に、モールド樹脂70の成形時の成形圧による基板10の変形を小さくでき、基板10へのダメージを低減できる。また、ソルダーレジスト膜80のうち被覆部80aと他面側電極24の周囲の基板10の他面12に位置する部位との間の部分について、その形状は特に限定するものではない。
しかし、図11に示されるように、更に、ソルダーレジスト膜80のうち被覆部80aと他面側電極24の周囲の基板10の他面12に位置する部分との間の部位は、テーパ状をなすように厚さが変化していることが望ましい。それによれば、当該部分における段差を極力無くしてなだらかなテーパ状にすることができるため、モールド樹脂70の上記成形圧を緩和しやすい。
また、本実施形態では、上記図9等と同様、図11に示されるように、基板10の他面12にて他面側電極24と隣り合う部位には、他面側電極24とは離間して他面側配線24aが設けられている。そして、ソルダーレジスト膜80は、他面側配線24aを被覆しつつ他面側電極24の周囲から被覆部80aまで連続して配置されている。
このように基板10の他面12において、他面側電極24の隣に他面側配線24aがある場合、これらをつなぐように連続してソルダーレジスト膜80を設ければ、ソルダーレジスト膜80に起因する段差低減がより顕著になる。
なおソルダーレジスト膜80は、少なくとも基板10の他面12を被覆するものであればよく、他面側配線24aを被覆するものでなくてもよい。そして、本第10実施形態は、ハーフモールド構造を前提としてソルダーレジスト膜80が上記特徴構成を有するものであるならば、上記実施形態のうち第6実施形態、第7実施形態以外のものと適宜組み合わせ可能である。
また、本実施形態でも、熱拡散絶縁部40aを構成する他面側ランド24は、他面側配線24aとこれを被覆するソルダーレジスト膜80との合計厚さよりも薄いものであり、基板10のうち放熱寄与領域Zに相当する部位は、基板10の一面11が凹み且つ基板10の他面12が凸となるようにたわむことにより、当該部位の中央部側がその周辺部側に比べて突出している。なお、図6に示すソルダーレジストの態様も同様に言える。これによれば、図6に示すものと同様の効果を奏することができる。
(第11実施形態)
本発明の第11実施形態にかかる電子装置S11について、図12を参照して、上記第8実施形態との相違点を中心に述べる。
図12に示されるように、本実施形態においても、基板10の他面12には、基板10の他面12を被覆して保護するソルダーレジスト膜80が設けられている。ここにおいて、本実施形態では、ソルダーレジスト膜80は、他面側電極24は露出させつつ、他面側電極24の全周囲にて他面側電極24とは離間して配置されている。
つまり、基板10の他面12にて、他面側電極24の全体がソルダーレジスト膜80より露出している。そのため、本実施形態によれば、基板10の他面12側にて外部への放熱面積を大きく取ることができる、という利点がある。
ここで、他面側電極24と他面側配線24aとの厚さ関係を限定するものではないが、さらに次のような構成が望ましい。
すなわち、基板10の他面12にて他面側電極24と隣り合う部位には、他面側電極24とは離間して他面側配線24aが設けられており、他面側電極24は、他面側配線24aよりも厚いものとされている。それによれば、他面側電極24がその周囲の他面側配線24aよりも突出したものにできるので、平面的な外部の放熱部材60への接続に有利である。
これもまた、本実施形態を限定するものではないが、より望ましくは、次のような構成を採用することが望ましい。
図12に示されるように、基板10の他面12には、基板10の他面12を被覆して保護するソルダーレジスト膜80が設けられている。そして、このソルダーレジスト膜80は、他面側電極24は全面で露出させつつ、他面側電極24ドの周囲にて他面側配線24aを被覆している。
ここにおいて、さらに、他面側電極24は、他面側配線24aとこれを被覆するソルダーレジスト膜80との合計厚さよりも厚いものとされていることが望ましい。それによれば、他面側電極24がその周囲のソルダーレジスト膜80よりも突出したものにできるので、平面的な外部の放熱部材60への接続に有利である。
なお、本第11実施形態は、他面側ランドとしての他面側電極24の全体をソルダーレジスト膜80より露出させる構成であるから、上記モールド樹脂70による封止構成であってもよい。つまり、本実施形態は、上記実施形態のうち第7実施形態、第10実施形態以外のものと適宜組み合わせ可能である。
(第12実施形態)
本発明の第12実施形態にかかる電子装置S12について、図13を参照して述べる。
図13に示されるように、基板10には、放熱経路40を基板10の一面11に引き出す第1の検査配線100と、他面側電極24を基板10の一面11に引き出す第2の検査配線200と、が設けられている。
図13の例では、第1の検査配線100は、放熱経路40における一面側内層配線25から引き出された内層配線部101と、基板10の一面11上に設けられた導体パッド103と、これら内層配線部101および導体パッド103を接続するレーザビア102とにより構成されている。
ここで、導体パッド103は、上記一面側電極23や一面側配線23bとともにパターニングされたものである。また、内層配線部101は、コア20と一面側絶縁層21との間に設けられ、一面側内層配線25とともにパターニングされたものである。そして、レーザビア102は、一面側絶縁層21を貫通するもので、上記放熱経路40のレーザビア27と同様に形成されるものである。
一方、第2の検査配線200は、他面側電極24側から当該他面側電極24に接続されたレーザビア201、内層配線部202、ブラインドビア203、内層配線部204、レーザビア205、および、基板10の一面11上に設けられた導体パッド206が順次接続されてなるものである。
第2の検査配線200において、導体パッド206は、上記一面側電極23や一面側配線23bとともにパターニングされたものである。また、各レーザビア201、205は、一面側絶縁層21、他面側絶縁層22において上記放熱経路40のレーザビア27と同様の方法で形成されるものである。
また、各内層配線部202、204は、それぞれ一面側内層配線25、他面側内層配線26とともにパターニングされたものである。さらに、第2の検査配線200におけるブラインドビア203は、上記放熱経路40のブラインドビア28と同様に形成されたものである。
本実施形態によれば、基板10の一面11にて、当該一面11に引き出された第1の検査配線100と第2の検査配線200との間の絶縁性検査を行うことができる。そのため、放熱経路40と他面側電極24との間の絶縁保証の確認を容易に行うことができる。
本第12実施形態にかかる電子装置S12の他の例について、図14を参照して述べる。図13の例では、基板10の一面11にて、放熱経路40と他面側電極24との間の絶縁保証を確認する絶縁性検査を行うが、図14の例では、この検査を基板10の他面12にて行うものである。
図14の例では、基板10には、放熱経路40を基板10の他面12に引き出す検査配線300が設けられている。この図14に示される検査配線300は、放熱経路40における他面側内層配線26から引き出された内層配線部301と、基板10の他面12上に設けられた導体パッド303と、これら内層配線部301および導体パッド303を接続するレーザビア302とにより構成されている。
ここで、図14における導体パッド303は、上記他面側電極24や他面側配線24aとともにパターニングされたものである。また、内層配線部301は、コア20と他面側絶縁層22との間に設けられ、他面側内層配線26とともにパターニングされたものである。そして、レーザビア302は、他面側絶縁層22を貫通するもので、上記放熱経路40のレーザビア27と同様の方法にて形成されるものである。
そして、本実施形態によれば、基板10の他面12にて、当該他面12に引き出された検査配線300と他面側電極24との間の絶縁性検査を行うことができる。そのため、放熱経路40と他面側電極24との間の絶縁保証の確認を容易に行うことができる。
なお、放熱経路40を基板10の一面11に引き出す第1の検査配線100、および、放熱経路40を基板10の他面12に引き出す検査配線30においては、放熱経路40の引き出し部分については、図13、図14に示される例に限定されるものではない。
たとえば、第1の検査配線100については、放熱経路40における他面側内層配線26から引き出しを行ってもよいし、検査配線300については、放熱経路40における一面側内層配線25から引き出しを行ってもよい。これらの場合も、たとえば、内層配線部やレーザビア、ブラインドビアを適宜形成することで、検査配線100、300が構成される。
また、本実施形態は、上記した検査配線100、200、300を追加する構成であるため、上記すべての実施形態と適宜組み合わせ可能である。
(第13実施形態)
本実施形態では、上記各実施形態の構成において、さらに、一面側絶縁層21、コア20、他面側絶縁層22の各層における物性や構成等の関係について述べる。
上記各実施形態においては、基板10は、基板10の内部に位置するコア層としてのコア20と、コア20よりも基板10の一面11側に積層され基板10の一面11を構成する一面側絶縁層21と、コア20よりも基板10の他面12側に積層され基板10の他面12を構成する他面側絶縁層22と、積層されてなる。
このような積層基板とされた基板10の構成において、一面側絶縁層21および他面側絶縁層22の熱伝導率は、コア20の熱伝導率と同等以上の大きさとされていることが望ましい。これによれば、比較的高価な放熱材料を必要最小限にとどめ、高放熱な基板10を安価に構成することが可能となる。
さらにこの場合、他面側絶縁層22の熱伝導率は、一面側絶縁層21の熱伝導率よりも大きいことが望ましい。それによれば、基板10の他面12側における放熱効率の向上という点で好ましい。
また、上記した一面側絶縁層21、コア20、他面側絶縁層22が順次積層された基板10においては、一面側絶縁層21は、他面側絶縁層22よりも厚いことが望ましい。それによれば、厚い一面側絶縁層21で基板10の厚みを確保したうえで、薄い他面側絶縁層22により、基板10の他面12における放熱特性の向上が期待できる。
(第14実施形態)
本発明の第14実施形態にかかる電子装置について図15を参照して述べる。上記各実施形態では、基板10の一面11に発熱素子30が1個設けられたものであったが、複数個であってもよい。
すなわち、図15に示されるように、基板10の一面11にて一面側電極23は複数個あり、各一面側電極23に導電性接合材23aを介して発熱素子30が接合されている。そして、各発熱素子30の直下にそれぞれ放熱経路40および他面側電極24が設けられている。また、この場合、図16に示されるように、他面側電極24は、各放熱経路40に共通する1個のものであってもよい。
(他の実施形態)
なお、上記各実施形態では、基板10は、一面側絶縁層21、コア20、他面側絶縁層22が順次積層された3層構成のものであったが、たとえば、4層以上の基板10であってもよい。たとえば、コア20から基板10の一面11側に2層の絶縁層が積層され、コア20から基板10の他面12側に2層の絶縁層が積層された場合、5層構成の基板となる。
この5層構成の場合でも、上記した内層配線25、26のような内層配線を各層間に設け、各層にレーザビア27、ブラインドビア28を設けて、一面側電極23から各内層配線を接続して放熱経路を構成してやればよい。このとき、一面側内層配線、他面側内層配線は、それぞれ2層ずつとなる。そして、この場合も、基板10の他面12を構成する絶縁層に接触する最も他面側の内層配線が、当該放熱経路の終端となり、この終端は基板10の他面12に露出することは無い。
ここで、一例として、他面側絶縁層が2層の場合を、図17に示しておく。図17では、基板10の他面12を構成する他面側絶縁層22とコア20との間に、もう一つの他面側絶縁層22aが介在されている。
この場合、コア20ともう一つの他面側絶縁層22aとの間に、ブラインドビア28に接続された内層配線26aが存在する。そして、当該もう一つの他面側絶縁層22aには、内層配線26aと放熱経路40の終端である他面側内層配線26とを接続するレーザビア27aが設けられている。これにより、図17においても、放熱経路40が適切に構成されている。
また、他面側絶縁層が2層の場合のもう一つの例について、図18に示しておく。図18の例は図17の例を一部変形したもので、放熱経路40の終端である内層配線26aと他面側内層配線26とは、もう一つの他面側絶縁層22aを介して絶縁されている。
そして、レーザビア27aは、もう一つの他面側絶縁層22aではなく、基板10の他面12側の他面側絶縁層22に設けられており、このレーザビア27aにより他面側内層配線26と他面側電極24とが接続されている。これにより、図18においても、放熱経路40が適切に構成されている。
この場合、他面側電極24は、放熱経路40の終端である内層配線26aよりも基板10の他面12側に他面側内層配線26およびレーザビア27aを有するものとして、構成されている。このように、基板10の一部として基板10の他面12側を構成する他面側絶縁層22、22aが、単層ではなく、多層のものより構成された場合であっても、何らかまわない。
また、基板10は、他面12側の一部が基板10の板面方向の全体に設けられた他面側絶縁層22で構成されたものであればよく、たとえば一面側絶縁層21は省略されたものであってもよい。この場合、たとえば基板10の一面11となるコア20の表面にて、ブラインドビア28の上に、一面側電極23を設けてやればよい。また、放熱経路40としては、発熱素子30の直下に設けられていればよく、上記した構成に限定されるものではない。
また、上記各実施形態では、他面側ランドとしての他面側電極24は、外部の放熱部材60と接続されるものであったが、たとえば、他面側電極24は、外部の放熱部材60と接続されずに、そのまま外部に露出するものであってもよい。この場合、たとえば、他面側電極24からの熱は、外気に放熱されるものとなる。
また、放熱経路40における、一面側電極23、一面側内層配線25、他面側内層配線26、他面側電極24において、これらの基板10の板面方向の寸法は、上記各実施形態に記載した大小関係に限定するものではない。つまり、一面側電極23、他面側内層配線26および他面側電極24の各寸法が発熱素子30の寸法よりも大きいことは必須であるが、これ以外は、適宜、大小関係を変更してもかまわない。
また、一面側電極23は、発熱素子30を接合するためのランドとして機能するものであればよく、また、他面側電極24は放熱をするためのランドとして機能するものであればよく、それぞれ電極として機能するものに限定されない。
また、上記各実施形態の図示例においては、基板10の一面11側がモールド樹脂70で封止されていないものもあるが、これらにおいても、基板10の一面11側をモールド樹脂70で封止し、他面12側をモールド樹脂70より露出させるようにしてもよい。
また、上記各実施形態では、各内層配線25、26は、各ビア27、28の蓋メッキと一体とされているが、これに限定されるものではない。各内層配線は、蓋メッキを有さず、ビア27、28の穴を有する層であってもよい。
また、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。また、上記各実施形態は、互いに無関係なものではなく、組み合わせが明らかに不可な場合を除き、適宜組み合わせが可能であり、また、上記各実施形態は、上記の図示例に限定されるものではない。また、上記各実施形態において、実施形態を構成する要素は、特に必須であると明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。また、上記各実施形態において、実施形態の構成要素の個数、数値、量、範囲等の数値が言及されている場合、特に必須であると明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではない。また、上記各実施形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に特定の形状、位置関係等に限定される場合等を除き、その形状、位置関係等に限定されるものではない。
10 基板
11 基板の一面
12 基板の他面
22 他面側絶縁層
23 一面側ランドとしての一面側電極
23a 導電性接合材
23b 一面側配線
24 他面側ランドとしての他面側電極
24a 他面側配線
26 放熱経路の終端としての他面側内層配線
30 発熱素子
31 他の素子としての制御素子
32 他の素子としての受動素子
40 放熱経路
40a 熱拡散絶縁部
60 外部の放熱部材
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、一面(11)と他面(12)とが表裏の関係にある電気絶縁性の基板(10)と、基板の一面に搭載された発熱素子(30)と、基板の一面にて発熱素子とともに搭載された他の素子(31、32)と、基板の一面に設けられた一面側配線(23b)と、基板の一面に設けられ、一面側配線とともにパターニングされた導電性の一面側ランド(23)と、基板の他面に設けられた他面側配線(24a)と、基板の他面に設けられ、他面側配線とともにパターニングされ、回路構成導体から電気的に独立した導電性の他面側ランド(24)と、を備え、
発熱素子は、一面側ランドへ電気的に接合するための接合面(301)を有し、一面側ランドは、発熱素子が電気的に接合されるための被接合面(231)を有し、被接合面は、少なくとも接合面における基板の板厚方向への全投影領域に存在し、全投影領域にて接合面と被接合面とを互いを直接接合する導電性接合材(23a)を有する電子装置であって、さらに以下の特徴を有する。

Claims (23)

  1. 一面(11)と他面(12)とが表裏の関係にある電気絶縁性の基板(10)と、
    前記基板の一面に搭載された発熱素子(30)と、
    前記基板の一面にて前記発熱素子とともに搭載された他の素子(31、32)と、
    前記基板の一面に設けられた一面側配線(23b)と、
    前記基板の一面に設けられ、前記一面側配線とともにパターニングされた導電性の一面側ランド(23)と、
    前記基板の他面に設けられた他面側配線(24a)と、
    前記基板の他面に設けられ、前記他面側配線とともにパターニングされ、前記他面側配線の少なくとも一部と電気的に独立した導電性の他面側ランド(24)と、
    を備え、
    前記発熱素子は、前記一面側ランドへ電気的に接合するための接合面(301)を有し、
    前記一面側ランドは、前記発熱素子が電気的に接合されるための被接合面(231)を有し、
    前記被接合面は、少なくとも前記接合面における前記基板の板厚方向への全投影領域に存在し、
    前記全投影領域にて前記接合面と前記被接合面とを互いを直接接合する導電性接合材(23a)を有する電子装置であって、
    前記基板の他面側は、前記基板の板面方向の全体に設けられた電気絶縁性を有する前記基板の一部としての他面側基板絶縁層(22)により構成されており、
    前記一面側ランドおよび前記導電性接合材を始端とし、前記基板の一面側から前記他面側基板絶縁層へ連続して延びるように設けられ、前記発熱素子に発生する熱を前記基板の他面側に放熱する導電性の放熱経路(40)を備え、
    前記放熱経路の終端は、前記基板の内部に設けられた導電性の他面側内層配線(26)にて構成されており、
    前記発熱素子を基準として、前記発熱素子における前記基板の板面方向の平面サイズからさらに前記基板の板厚(t)分、前記発熱素子全周において外側へ拡大した領域を放熱寄与領域(Z)としたときに、
    前記他面側基板絶縁層が前記放熱寄与領域にて前記他面側内層配線と前記他面側ランドとの間に介在して前記他面側内層配線と前記他面側ランドとを電気的に絶縁するとともに、前記他面側内層配線の少なくとも一部および前記他面側ランドの少なくとも一部がともに前記放熱寄与領域にて前記発熱素子における前記基板の板面方向の面積よりも総面積の大きいことで熱拡散層対を構成することにより、前記基板の他面側にて、前記他面側内層配線、前記他面側ランド、および、前記他面側基板絶縁層による熱拡散絶縁部(40a)が構成されていることを特徴とする電子装置。
  2. 前記基板は樹脂よりなり、
    前記基板の一面側には、前記発熱素子、前記他の素子、前記一面側配線および前記基板の一面を封止するモールド樹脂(70)が設けられており、
    前記基板の他面は、前記モールド樹脂より露出しており、
    前記基板の他面には、前記熱拡散絶縁部を構成する他面側ランドの少なくとも一部を露出させつつ、前記他面側配線を被覆して保護するソルダーレジスト膜(80)が設けられており、
    前記熱拡散絶縁部を構成する前記他面側ランドは、前記他面側配線とこれを被覆する前記ソルダーレジスト膜との合計厚さよりも薄いものであって、
    前記基板のうち前記放熱寄与領域に相当する部位は、前記基板の一面が凹み且つ前記基板の他面が凸となるようにたわむことにより、当該部位の中央部側がその周辺部側に比べて突出していることを特徴とする請求項1に記載の電子装置。
  3. 前記他面側ランドは、外部の放熱部材(60)と接続されるものであることを特徴とする請求項1または2に記載の電子装置。
  4. 前記放熱経路は、前記基板の板面方向に延び前記基板の一面側にて前記基板内部に位置する一面側内層配線(25)と、
    前記基板の厚さ方向に延びて前記一面側内層配線と前記他面側内層配線との間を接続するブラインドビア(28)と、を有するものであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1つに記載の電子装置。
  5. 前記放熱経路は、さらに、前記基板の厚さ方向に延びて前記一面側ランドと前記一面側内層配線との間を接続するレーザビア(27)、を有するものであり、
    前記基板の板面方向において前記レーザビアは、前記ブラインドビアとは重ならずに外れた位置にあることを特徴とする請求項4に記載の電子装置。
  6. 前記一面側内層配線は、その少なくとも一部が前記放熱寄与領域にて前記発熱素子における前記基板の板面方向の面積よりも総面積の大きい熱拡散層を構成していることを特徴とする請求項4または5に記載の電子装置。
  7. 前記一面側ランドと前記一面側内層配線とは、前記基板の板面方向の寸法が同等のものであり、
    前記他面側内層配線および前記他面側ランドにおけるそれぞれの前記基板の板面方向の寸法は、前記一面側ランドおよび前記一面側内層配線におけるそれぞれの前記基板の板面方向の寸法よりも大きいことを特徴とする請求項4ないし5のいずれか1つに記載の電子装置。
  8. 前記他面側ランドにおける前記基板の板面方向の寸法は、前記他面側内層配線おける前記基板の板面方向の寸法よりも大きいことを特徴とする請求項7に記載の電子装置。
  9. 前記基板は樹脂よりなり、
    前記基板の一面側には、前記発熱素子、前記他の素子、前記一面側配線および前記基板の一面を封止するモールド樹脂(70)が設けられており、
    前記基板の他面は、前記モールド樹脂より露出しており、
    前記基板の他面には、前記他面側配線を被覆して保護するソルダーレジスト膜(80)が設けられており、
    このソルダーレジスト膜は、前記他面側ランドは露出させつつ前記他面側ランドの周辺部を被覆するように、前記他面側ランドの周囲に配置されており、
    前記ソルダーレジスト膜のうち前記他面側ランドの周辺部を被覆する被覆部(80a)は、前記他面側ランドの周囲の前記基板の他面に位置する部位よりも薄いものとされていることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1つに記載の電子装置。
  10. 前記熱拡散絶縁部を構成する他面側ランドは、前記他面側配線とこれを被覆する前記ソルダーレジスト膜との合計厚さよりも薄いものであって、
    前記基板のうち前記放熱寄与領域に相当する部位は、前記基板の一面が凹み且つ前記基板の他面が凸となるようにたわむことにより、当該部位の中央部側がその周辺部側に比べて突出していることを特徴とする請求項9に記載の電子装置。
  11. 前記ソルダーレジスト膜のうち前記被覆部と前記他面側ランドの周囲の前記基板の他面に位置する部位との間の部位は、テーパ状をなすように厚さが変化していることを特徴とする請求項9または10に記載の電子装置。
  12. 前記ソルダーレジスト膜は、前記他面側配線を被覆しつつ前記他面側ランドの周囲から前記被覆部まで連続して配置されていることを特徴とする請求項9ないし11のいずれか1つに記載の電子装置。
  13. 前記基板の他面には、前記基板の他面を被覆して保護するソルダーレジスト膜(80)が設けられており、
    このソルダーレジスト膜は、前記他面側ランドは露出させつつ、前記他面側ランドの全周囲にて前記他面側ランドとは離間して配置されていることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1つに記載の電子装置。
  14. 前記他面側ランドは、前記他面側配線よりも厚いものとされていることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1つに記載の電子装置。
  15. 前記基板の他面には、前記基板の他面を被覆して保護するソルダーレジスト膜(80)が設けられており、
    このソルダーレジスト膜は、前記他面側ランドは露出させつつ、前記他面側ランドの周囲にて前記他面側配線を被覆しており、
    前記他面側ランドは、前記他面側配線とこれを被覆する前記ソルダーレジスト膜との合計厚さよりも厚いものとされていることを特徴とする請求項14に記載の電子装置。
  16. 前記基板は樹脂よりなり、
    前記基板の一面側には、前記発熱素子、前記他の素子、前記一面側配線および前記基板の一面を封止するモールド樹脂(70)が設けられており、
    前記基板の他面は、前記モールド樹脂より露出していることを特徴とする請求項13に記載の電子装置。
  17. 前記熱拡散絶縁部を構成する他面側ランドは、前記他面側配線とこれを被覆する前記ソルダーレジスト膜との合計厚さよりも薄いものであって、
    前記基板のうち前記放熱寄与領域に相当する部位は、前記基板の一面が凹み且つ前記基板の他面が凸となるようにたわむことにより、当該部位の中央部側がその周辺部側に比べて突出していることを特徴とする請求項16に記載の電子装置。
  18. 前記他面側ランドは、前記基板における前記他面側ランド以外のすべての導電性要素に対して電気的に独立したものであることを特徴とする請求項1ないし17のいずれか1つに記載の電子装置。
  19. 前記基板には、前記放熱経路を前記基板の一面に引き出す第1の検査配線(100)と、前記他面側ランドを前記基板の一面に引き出す第2の検査配線(200)と、が設けられていることを特徴とする請求項1ないし18のいずれか1つに記載の電子装置。
  20. 前記基板には、前記放熱経路を前記基板の他面に引き出す検査配線(300)が設けられていることを特徴とする請求項1ないし18のいずれか1つに記載の電子装置。
  21. 前記基板は、前記基板の内部に位置するコア層(20)と、前記コア層よりも前記基板の一面側に積層され前記基板の一面を構成する一面側基板絶縁層(21)と、を備えるとともに、前記コア層よりも前記基板の他面側に前記他面側基板絶縁層が積層されてなるものであり、
    前記一面側基板絶縁層および前記他面側基板絶縁層の熱伝導率は、前記コア層の熱伝導率と同等以上の大きさとされていることを特徴とする請求項1ないし20のいずれか1つに記載の電子装置。
  22. 前記他面側基板絶縁層の熱伝導率は、前記一面側基板絶縁層の熱伝導率よりも大きいことを特徴とする請求項21に記載の電子装置。
  23. 前記基板は、前記基板の内部に位置するコア層(20)と、前記コア層よりも前記基板の一面側に積層され前記基板の一面を構成する一面側基板絶縁層(21)と、を備えるとともに、前記コア層よりも前記基板の他面側に前記他面側基板絶縁層が積層されてなるものであり、
    前記一面側基板絶縁層は、前記他面側基板絶縁層よりも厚いことを特徴とする請求項1ないし20のいずれか1つに記載の電子装置。
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