JP2014122929A5 - - Google Patents

Description

そこで、第１光素子４００が光結合される複数の第１光路Ｌ１の間の領域に第２光路Ｌ２を配置し、その第２光路Ｌ２に第２発光素子４２０を光結合させている。

以下では、第１、第２光素子３０，３２が発光素子からなる形態を例に挙げて説明する。図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、第１、第２光素子３０，３２が発光素子からなる場合は、第１、第２光素子３０，３２は下面に複数の発光部Ｅを備えている。第１光素子３０の発光部Ｅが第１光路用コア層Ｌ１に設けられた第１光路変換ミラーＭ１にそれぞれ光結合される。

このように、第１光素子３０に光結合される第１光路用コア層Ｌ１と、第２光素子３２に光結合される第２光路用コア層Ｌ２とを水平方向に交互に配置している。これにより、得られる光路の配置ピッチを第１光素子３０の発光部Ｅの配置ピッチの半分に狭小化することができ、光導波路装置の高密度化及び小型化を図ることができる。

Claims (11)

1. 基板と、
   前記基板の上面に形成された上側配線層と、
   前記基板の下面に形成された下側配線層と、
   前記基板に形成された開口部と
   を備えた配線基板と、
   前記配線基板の下側配線層側に形成された光導波路と、
   前記配線基板の上側配線層に接続された第１光素子と、
   前記上側配線層を介して前記第１光素子に電気的に接続された第１回路素子と、
   前記配線基板の開口部を介して前記下側配線層に接続された第２光素子と、
   前記下側配線層を介して前記第２光素子に電気的に接続された第２回路素子とを有することを特徴とする光導波路装置。
2. 前記光導波路は、第１光路用コア層と第２光路用コア層とが水平方向に交互に並んで配置されており、前記第１光素子が前記第１光路用コア層に光結合され、前記第２光素子が前記第２光路用コア層に光結合されていることを特徴とする請求項１に記載の光導波路装置。
3. 前記配線基板に光透過用開口部が設けられており、前記第１光素子及び第２光素子は前記光透過用開口部を介して前記光導波路に光結合されることを特徴とする請求項１又は２に記載の光導波路装置。
4. 前記第２光素子及び前記第２回路素子は、前記配線基板の開口部を介して前記下側配線層にそれぞれ直接接続されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光導波路装置。
5. 前記第１回路素子は前記配線基板の上に配置され、
   前記第２回路素子は、前記配線基板の開口部を介して前記下側配線層に接続されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光導波路装置。
6. 前記配線基板の上側配線層及び下側配線層は、コネクタを介して別の電子基板に接続されることを特徴とする請求項５に記載の光導波路装置。
7. 前記配線基板の上側配線層及び下側配線層は、コネクタを介して別の電子基板に接続されており、前記第１回路素子及び第２回路素子は前記電子基板の上に配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光導波路装置
8. 前記第１光素子及び第２光素子は発光素子又は受光素子であり、前記第１回路素子及び第２回路素子はドライバ素子又はアンプ素子であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の光導波路装置。
9. 両面に金属層が形成された基板を用意する工程と、
   前記両面の各金属層をパターニングすることにより、上側配線層と下側配線層とを形成する工程と、
   前記基板に開口部を形成する工程と、
   前記基板の前記下側配線層側に光導波路を形成する工程と、
   第１光素子と第１回路素子とが前記上側配線層を介して電気的に接続され、かつ、第２光素子が前記基板の開口部を介して前記下側配線層に接続され、前記第２光素子と第２回路素子とが前記下側配線層を介して電気的に接続される構造を得る工程とを有することを特徴とする光導波路装置の製造方法。
10. 前記光導波路を形成する工程において、
    前記光導波路は、第１光路用コア層と第２光路用コア層とが水平方向に交互に並んで配置され、
    前記構造を得る工程において、
    前記第１光素子が前記第１光路用コア層に光結合され、前記第２光素子が前記第２光路用コア層に光結合されることを特徴とする請求項９に記載の光導波路装置の製造方法。
11. 前記構造を得る工程において、
    前記第１回路素子は前記配線基板の上に配置され、
    前記第２回路素子は、前記配線基板の開口部を介して前記下側配線層に接続されることを特徴とする請求項９又は１０に記載の光導波路装置の製造方法。