JP2014107446A - フォトダイオードアレイ - Google Patents

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Abstract

【課題】開口率及び信頼性を向上させることができるフォトダイオードアレイを提供すること。
【解決手段】半導体基板2に形成された複数のフォトダイオードPD1を備えるフォトダイオードアレイ1であって、フォトダイオードPD1のそれぞれは、半導体基板2に設けられた第1導電型の第1半導体領域3と、所定領域を囲むように第1半導体領域3に対して面21側に設けられ、第1半導体領域3と共に光検出領域を構成する第2導電型の第2半導体領域5と、第1半導体領域3及び所定領域を通るように面21と面22との間を貫通する貫通孔9A内に設けられ、第2半導体領域5と電気的に接続された貫通電極81aと、を有し、貫通孔9Aは、面21から面22に向かって拡がった部分を有している。
【選択図】図3

Description

本発明は、フォトダイオードアレイに関する。
例えば、特許文献1には、CT(Computed Tomography)装置等に用いられるフォトダイオードアレイが記載されている。特許文献1のフォトダイオードアレイでは、n型の半導体基板の入射面側に、光検出領域を構成するP型の半導体領域が2次元状に配列されている。各P型の半導体領域には、電極が接続されている。各電極は、各P型の半導体領域に対応して設けられた貫通孔を介して、入射面と反対側の裏面側に引き出されている。P型の半導体領域と貫通孔とは、所定の方向に沿って交互に半導体基板に配置されている。
特表2005−533587号公報
特許文献1のフォトダイオードアレイにおいては、隣り合うP型の半導体領域同士の間に、貫通孔を設けるための十分な間隔を設ける必要がある。このため、開口率が低下するおそれがある。また、フォトダイオードアレイにおいては、電気的特性の向上など、種々の信頼性を向上させることが求められている。
本発明は、開口率及び信頼性を向上させることができるフォトダイオードアレイを提供することを目的とする。
本発明のフォトダイオードアレイは、半導体基板に形成された複数のフォトダイオードを備えるフォトダイオードアレイであって、フォトダイオードのそれぞれは、半導体基板に設けられた第1導電型の第1半導体領域と、所定領域を囲むように第1半導体領域に対して半導体基板の一方の面側に設けられ、第1半導体領域と共に光検出領域を構成する第2導電型の第2半導体領域と、第1半導体領域及び所定領域を通るように一方の面と半導体基板の他方の面との間を貫通する貫通孔内に設けられ、第2半導体領域と電気的に接続された貫通電極と、を有し、貫通孔は、一方の面から他方の面に向かって拡がった部分を含んでいる。
このフォトダイオードアレイでは、フォトダイオードのそれぞれにおいて、貫通孔が第1及び所定領域を通り、所定領域が第2半導体領域に囲まれている。第2半導体領域は、第1半導体領域と共に光検出領域を構成する。ここで、1つの画素であるフォトダイオードのそれぞれにおいて、貫通孔は、光検出領域に囲まれることになる。従って、隣り合うフォトダイオード同士の間隔を小さくすることができる。よって、開口率を向上させることができる。貫通孔が光検出領域により囲われている場合、貫通孔の内壁のダメージに起因して発生するリーク電流は、光検出領域に進入しやすくなる。従って、貫通孔が光検出領域により囲われている場合、貫通孔の内壁のダメージを低減させることが好ましい。このフォトダイオードアレイでは、貫通孔は、表面から裏面に向けて拡がった部分を含んでいる。拡がった部分は、例えば、異方性エッチングにより形成することが可能である。異方性エッチングでは、貫通孔の内壁にダメージが生じにくい。従って、このフォトダイオードアレイでは、貫通孔からのリーク電流を低減させることができる。
所定領域には、貫通孔が通り第1半導体領域の不純物濃度よりも高い不純物濃度を有する第1導電型の第3半導体領域が存在していてもよく、第2半導体領域と第3半導体領域とは、離間していてもよく、第2半導体領域と第3半導体領域との間には、第3半導体領域を囲むように第1半導体領域の一部が存在していてもよい。この構成によれば、貫通孔は、第1半導体領域の不純物濃度よりも高い不純物濃度を有する第3半導体領域を通る。従って、貫通孔の内壁で発生して光検出領域に向かう表面リーク電流を第2半導体領域により低減させることができる。よって、電気的特性を向上させることができる。さらに、貫通孔が通る第3半導体領域は、第1半導体領域の不純物濃度よりも高い不純物濃度を有しているため、貫通孔に発生する種々の応力を緩衝することができる。よって、強度を向上させることができる。加えて、第2半導体領域と第3半導体領域とは離間しており、第2半導体領域と第3半導体領域との間には第1半導体領域の一部が存在している。従って、第2半導体領域と第3半導体領域との間のショートを抑制することができ、電気的特性を向上させることができる。
一方の面側の貫通孔の開口の縁と第3半導体領域の外縁との間隔は、第3半導体領域の外縁と第2半導体領域の内縁との間隔よりも大きくてもよい。この構成によれば、第3半導体領域により、貫通孔に発生する種々の応力を一層緩衝することができる。
第2半導体領域の内縁は、半導体基板の厚さ方向から見た場合に、他方の面側の貫通孔の開口を囲んでいてもよい。この構成によれば、第2半導体領域は、半導体基板の厚さ方向から見た場合に、貫通孔よりも外側の範囲に設けられることになる。従って、例えば、貫通孔内にバンプ電極を形成する場合等に、光検出領域を構成する第2半導体領域にかかる応力を低減させることができる。
フォトダイオードのそれぞれは、一方の面上に形成され、第2半導体領域と貫通電極とを電気的に接続させるコンタクト電極を含んでいてもよく、コンタクト電極の外縁は、半導体基板の厚さ方向から見た場合に、他方の面側の貫通孔の開口を囲んでいてもよい。この構成によれば、半導体基板の厚さ方向から見た場合に、貫通孔の内側及び外側の範囲にまたがってコンタクト電極が設けられることになる。従って、貫通孔周辺の強度を向上させることができる。
一方の面側の貫通孔の開口は、円形状を呈していてもよい。この構成によれば、例えば、貫通孔内にバンプ電極を形成する場合等に、貫通孔に応力集中が発生することを抑制することができる。
本発明によれば、開口率及び信頼性を向上させることができるフォトダイオードアレイを提供することが可能となる。
本発明の一実施形態のフォトダイオードアレイの平面図である。 図1のフォトダイオードアレイのフォトダイオードの平面図である。 図2のIII-III線に沿っての断面図である。 図1のフォトダイオードアレイの製造方法の工程を示す断面図である。 図1のフォトダイオードアレイの製造方法の工程を示す断面図である。 図1のフォトダイオードアレイの製造方法の工程を示す断面図である。 図1のフォトダイオードアレイの製造方法の工程を示す断面図である。 図1のフォトダイオードアレイの製造方法の工程を示す断面図である。 図1のフォトダイオードアレイの製造方法の工程を示す断面図である。 図1のフォトダイオードアレイの製造方法の工程を示す断面図である。 図1のフォトダイオードアレイの製造方法の工程を示す断面図である。 図1のフォトダイオードアレイの製造方法の工程を示す断面図である。 図1のフォトダイオードアレイを適用したCT装置の一部の断面図である。 本発明の他の実施形態のフォトダイオードアレイのフォトダイオードの平面図である。 本発明の他の実施形態のフォトダイオードアレイのフォトダイオードの平面図である。
以下、実施形態のフォトダイオードアレイについて、図面を参照して詳細に説明する。なお、同一又は相当要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
[フォトダイオードアレイ]
図1に示されるように、フォトダイオードアレイ1は、例えばCT装置等に用いられる。フォトダイオードアレイ1は、半導体基板2に形成された複数のフォトダイオードPD1を備えている。
半導体基板2は、平面視において、長方形状を呈している。半導体基板2は、互いに対向する表面(一方の面)21と裏面(他方の面)22とを有している。表面21上には、絶縁膜f1及び絶縁膜f3が、表面21からこの順番で形成されている。裏面22上には、絶縁膜f4及び絶縁膜f5が、裏面22からこの順番で形成されている。各絶縁膜としては、SiO膜又はSiN膜等が形成される。
フォトダイオードPD1は、半導体基板2に2次元状に配列されている。フォトダイオードPD1のそれぞれが、1つの画素として機能する。フォトダイオードPD1は、第1半導体領域3と、第3半導体領域4と、第2半導体領域5と、第4半導体領域6と、第5半導体領域7と、貫通電極81aと、コンタクト電極82aと、端子電極83aと、を有している。
第1半導体領域3は、半導体基板2の厚さ方向における中央部分を含んでいる。第1半導体領域3は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、矩形状を呈している。第1半導体領域3は、半導体基板2の厚さ方向における中央部分において、フォトダイオードPD1の全域に亘って設けられている。隣り合うフォトダイオードPD1,PD1の第1半導体領域3,3同士は、一体に形成されている。第1半導体領域3は、n型の半導体領域である。第1半導体領域3は、例えばSi等により形成されている。第1半導体領域3には、不図示の基板電極が接続されている。
第3半導体領域4は、第1半導体領域3に対して半導体基板2の表面21側に設けられている。第3半導体領域4は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、円環状を呈している。第3半導体領域4は、他の環状(例えば、四角環状等の多角環状、又は、内縁及び外縁の形状が異なる環状など)を呈していてもよい。すなわち、環状とは、任意の領域を閉じるように囲む一体の形状である。第3半導体領域4の内縁は、表面21側の貫通孔9A(後述)の開口を形成している。第3半導体領域4は、n型の半導体領域であり、第1半導体領域3の不純物濃度よりも高い不純物濃度を有している。第3半導体領域4は、例えばSiにn型の不純物を拡散すること等により形成されている。
第2半導体領域5は、第1半導体領域3に対して半導体基板2の表面21側に設けられている。第2半導体領域5は、第3半導体領域4と後述する第1の部分31とを含む領域(所定領域)を囲んでいる。第2半導体領域5は、第3半導体領域4と離間している。第2半導体領域5は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、外縁は矩形状で内縁は円形状の環状を呈している。第2半導体領域5は、他の環状を呈していてもよい。第2半導体領域5は、p型の半導体領域である。第2半導体領域5と第1半導体領域3とは、pn接合を形成しており、フォトダイオードPD1の光検出領域を構成している。第2半導体領域5は、例えばSiにp型の不純物を拡散すること等により形成されている。第3半導体領域4は、第2半導体領域5よりも深くまで形成されている。
第3半導体領域4と第2半導体領域5との間には、第1半導体領域3の一部である第1の部分31が存在している。第1の部分31は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、第3半導体領域4を囲んでいると共に、第2半導体領域5に囲まれている。第1の部分31は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、円環状を呈している。第1の部分31は、他の環状を呈していてもよい。
第4半導体領域6は、第1半導体領域3に対して半導体基板2の表面21側に設けられている。第4半導体領域6は、平面視において、第2半導体領域5よりも大きい矩形環状を呈しており、第2半導体領域5を囲っている。第4半導体領域6は、他の環状を呈していてもよい。第4半導体領域6は、第2半導体領域5と離間して設けられている。第2半導体領域5と第4半導体領域6との間には、第1半導体領域3の一部である矩形環状の第2の部分32が存在している。第2の部分32は、他の環状を呈していてもよい。隣り合うフォトダイオードPD1,PD1の第4半導体領域6,6同士は、一体に形成されている。
第4半導体領域6は、n型の半導体領域であり、第1半導体領域3の不純物濃度よりも高い不純物濃度を有している。第4半導体領域6は、例えばSiにn型の不純物を拡散することにより形成されている。第4半導体領域6は、隣り合うフォトダイオードPD1,PD1を分離するチャネルストッパとして機能する。第4半導体領域6は、不図示の電極を介して接地されている。
第5半導体領域7は、第1半導体領域3に対して半導体基板2の裏面22側に設けられている。第5半導体領域7は、裏面22側において、フォトダイオードPD1の全域に亘って形成されている。隣り合うフォトダイオードPD1,PD1の第5半導体領域7,7同士は、一体に形成されている。第5半導体領域7は、n型の半導体領域であり、第1半導体領域3の不純物濃度よりも高い不純物濃度を有している。第5半導体領域7は、例えばSiにn型の不純物を拡散することにより形成されている。第1半導体領域3及び第5半導体領域7は、例えば、n型のSi上に当該Siよりも不純物濃度が低いn型のエピタキシャル層を成長することにより形成されていてもよい。
半導体基板2には、表面21と裏面22との間を貫通する貫通孔9Aが設けられている。貫通孔9Aは、第1半導体領域3及び第3半導体領域4を貫通している。貫通孔9Aは、表面21側から裏面22側に向かって拡がった部分を含んでいる。貫通孔9Aは、表面21側に位置する小孔部91aと、裏面22側に位置する大孔部92aと、を含んでいる。
小孔部91aは、絶縁膜f1を貫通している。小孔部91aは、円柱状を呈している。表面21側の貫通孔9Aの開口は、円形状を呈している。
大孔部92aは、第1半導体領域3及び第3半導体領域4を貫通している。大孔部92aは、表面21側から裏面22側に向かって拡がっており、テーパ状を呈している。具体的には、大孔部92aは、四角錐台状を呈している。裏面22側の貫通孔9Aの開口は、矩形状(詳細には、正方形状)を呈している。大孔部92aの内壁と表面21とは、略55°の角度をなしている。大孔部92aの内壁と裏面22とは、略125°の角度をなしている。大孔部92aの上辺は、小孔部91aの直径よりも大きい。小孔部91aと大孔部92aとは、同軸上に配置されている。
大孔部92aの内壁上には、絶縁膜f6が形成されている。絶縁膜f6は、裏面22側の絶縁膜f4と連続して形成されている。絶縁膜f6としては、SiO膜又はSiN膜等が形成される。
表面21側の貫通孔9Aの開口の縁と第3半導体領域4の外縁との間隔d1は、第3半導体領域4の外縁と第2半導体領域5の内縁との間隔(第1の部分31の内縁と外縁との間隔)d2よりも大きい。
第2半導体領域5の内縁は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、裏面22側の貫通孔9Aの開口を囲んでいる。すなわち、第2半導体領域5は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、貫通孔9Aよりも外側の範囲に設けられている。
各領域の厚さ/不純物濃度は、例えば以下である。
第1半導体領域3:厚さ50〜625μm/不純物濃度5×1011〜5×1015cm−3
第3半導体領域4:厚さ1.0〜10μm/不純物濃度1×1018〜1×1020cm−3
第2半導体領域5:厚さ0.01〜3.0μm/不純物濃度1×1018〜1×1020cm−3
第4半導体領域6:厚さ1.0〜10μm/不純物濃度1×1018〜1×1020cm−3
第5半導体領域7:厚さ1.0〜620μm/不純物濃度1×1018〜1×1020cm−3
貫通電極81aは、貫通孔9A内に設けられている。貫通電極81aは、底面が全面的に開口された中空四角錐台状を呈している。貫通電極81aは、小孔部91aの内壁上及び大孔部92a内の絶縁膜f6上に形成されている。貫通電極81aは、表面21側の貫通孔9Aの開口を塞いでいる。
コンタクト電極82aは、表面21上に形成されている。コンタクト電極82aは、第2半導体領域5と貫通電極81aとを電気的に接続している。コンタクト電極82aは、円板状の部分と、円環状の部分と、を含んでいる。円板状の部分は、絶縁膜f1上に形成されている。円板状の部分は、貫通孔9Aの表面21側の開口を覆っている。円板状の部分は、貫通電極81aと連結されている。円環状の部分は、円板状の部分の一方の面における外縁から、径方向外側に向かって拡がっている。円環状の部分は、絶縁膜f1を貫通しており、第2半導体領域5と接触している。
コンタクト電極82aの外縁は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、裏面22側の貫通孔9Aの開口を囲んでいる。すなわち、コンタクト電極82aは、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、貫通孔9Aの内側及び外側の範囲にまたがって設けられている。
端子電極83aは、裏面22上に形成されている。端子電極83aは、絶縁膜f4上に形成されている。端子電極83aは、外縁が円形状で内縁が四角形状の環状を呈している。端子電極83aの内縁は、貫通電極81aと連結されている。コンタクト電極82a、貫通電極81a及び端子電極83aは、例えばアルミニウム等により形成されている。
[フォトダイオードアレイの製造方法]
次に、フォトダイオードアレイ1の製造方法の一例について説明する。
図4に示されるように、まず、結晶面(100)のn型のSiの基板Sを準備する。基板Sには、第1半導体領域3が含まれている。続いて、例えば熱酸化により、表面21上に絶縁膜f1を形成する。
図5に示されるように、続いて、第3半導体領域4及び第4半導体領域6を形成する予定の位置上の絶縁膜f1をフォトエッチングにより除去し、開口を形成する。開口を介して、基板Sにリンを熱拡散させる。この際、裏面22にもリンを熱拡散させる。これにより、第3半導体領域4、第4半導体領域6及び第5半導体領域7が形成される。続いて、熱酸化により開口を閉じる。
図6に示されるように、続いて、第2半導体領域5を形成する予定の位置上の絶縁膜f1をフォトエッチングにより除去し、開口を形成する。開口を介して、基板Sにボロンを熱拡散させる。これにより、第2半導体領域5が形成される。続いて、熱酸化により開口を閉じる。
図7に示されるように、続いて、コンタクト電極82aの円環状の部分を形成する予定の位置の絶縁膜f1をフォトエッチングにより除去し、開口(コンタクトホール)を形成する。続いて、スパッタリングにより、コンタクト電極82aを形成する。
図8に示されるように、続いて、例えばプラズマCVD又はLP−CVD等により、絶縁膜f1上及びコンタクト電極82a上に絶縁膜f3を形成する。続いて、光が透過する部分の厚さを調節するために、表面21側を化学機械研磨(CMP)する。
図9に示されるように、続いて、アルカリエッチング(水酸化カリウム溶液、TMAH、ヒトラジン又はEDP等を用いる)により、裏面22に異方性エッチングを施す。これにより、その内壁と表面21とが略55°の角度をなす大孔部92aが形成される。異方性エッチングは、大孔部92aが絶縁膜f1に達するまで行う。続いて、ドライエッチングにより、小孔部91aを形成する。
図10に示されるように、続いて、例えばプラズマCVD又はLP−CVD等により、裏面22上、大孔部92aの内壁上及び小孔部91aの内壁上に絶縁膜f4,f6を形成する。
図11に示されるように、続いて、小孔部91aの内壁上の絶縁膜f6をフォトエッチングにより除去して開口(コンタクトホール)を形成し、コンタクト電極82aの一部を裏面22側に露出させる。続いて、スパッタリングにより、貫通電極81a及び端子電極83aを形成する。
図12に示されるように、続いて、例えばプラズマCVD又はLP−CVD等により、絶縁膜f4上、端子電極83a上及び貫通電極81a上に絶縁膜f5を形成する。続いて、端子電極83a上の内縁側及び貫通電極81a上の絶縁膜f5をフォトエッチングにより除去する。以上により、図3に示される構成が得られる。
[CT装置]
図13に示されるように、CT装置100は、前述のフォトダイオードアレイ1と、シンチレータ101と、実装基板102と、を具備している。
シンチレータ101は、絶縁膜f3と当接している。シンチレータ101は、直方体状を呈している。シンチレータ101は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、光検出領域を構成する第2半導体領域5と同程度の大きさであり、第2半導体領域5と重なっている。シンチレータ101は、結晶性を有するシンチレータ(CsI、NaI、LaBr3、又はGAGGなどの結晶性材料)、セラミックシンチレータ(無機蛍光体の焼結体など)、又はプラスチックシンチレータ(PETなど)等の固体状のシンチレータである。シンチレータ101における絶縁膜f3との当接面以外の面には、反射膜103が設けられている。反射膜103は、例えばアルミニウム又は酸化チタン等により形成されている。
実装基板102は、電極104を有している。電極104は、貫通電極81a内に形成されたバンプ電極105を介して、貫通電極81aに電気的に接続されている。バンプ電極105は、例えば半田、金、ニッケル、銅又は導電性接着樹脂等の導電性を有する材料により形成されている。
CT装置100では、X線がシンチレータ101に入射すると、シンチレータ101がシンチレーション光を発する。シンチレーション光は、直接第2半導体領域5に入射し、又は、コンタクト電極82a及び反射膜103等により反射された後に第2半導体領域5に入射する。シンチレーション光の入射により光検出領域で発生した電荷の情報は、コンタクト電極82a、貫通電極81a、端子電極83a及びバンプ電極105を介して、実装基板102に入力される。
以上のような本実施形態のフォトダイオードアレイ1では、フォトダイオードPD1のそれぞれにおいて、貫通孔9Aが第1半導体領域3及び第3半導体領域4を通り、第3半導体領域4が第2半導体領域5に囲まれている。第2半導体領域5は、第1半導体領域3と共に光検出領域を構成している。ここで、1つの画素であるフォトダイオードPD1のそれぞれにおいて、貫通孔9Aが光検出領域に囲まれていることになる。これにより、隣り合うフォトダイオードPD1,PD1同士の間隔が小さくなっている。よって、開口率を向上させることができる。
貫通孔9Aは、表面21から裏面22に向けて拡がったテーパ状の大孔部92aを含んでいる。大孔部92aは、異方性エッチングにより形成されている。異方性エッチングでは、貫通孔9Aの内壁にダメージが生じにくい。従って、フォトダイオードアレイ1では、ダメージに起因して発生する貫通孔9Aからのリーク電流を低減させることができる。よって、電気的特性を向上させることができる。
大孔部92aの内壁と裏面22とは、鈍角(略125°)をなしている。従って、絶縁膜f4,f6を形成する際に、大孔部92aの内壁と裏面22とが直角又は鋭角をなしている場合に比して、裏面22側の貫通孔9Aの開口縁における絶縁膜f4,f6の膜厚が厚く形成されやすい。従って、電気特性を向上させることができる。
貫通孔9Aは、第1半導体領域3の不純物濃度よりも高い不純物濃度を有する第3半導体領域4を通っている。従って、貫通孔9Aの内壁で発生して光検出領域に向かう表面リーク電流を第3半導体領域4により低減させることができる。また、エッチングにより発生するダメージを第3半導体領域4により低減させることができる。よって、電気的特性を向上させることができる。これらの効果は、第3半導体領域4が第2半導体領域5よりも深くまで形成されていることにより、さらに好適に発揮される。
絶縁膜f6と半導体基板2とは材料が異なるため、絶縁膜f6と貫通孔9Aとの界面に応力が発生することが考えられる。フォトダイオードアレイ1では、貫通孔9Aが通る第3半導体領域4は、第1半導体領域3の不純物濃度よりも高い不純物濃度を有しているため、貫通孔9Aと絶縁膜f6との界面に生じる応力を第3半導体領域4で緩衝することができる。よって、強度を向上させることができる。
半導体基板2は、厚さに比して表面21及び裏面22の面積が大きいため、半導体基板2に歪みが発生することが考えられる。フォトダイオードアレイ1では、半導体基板2の歪みに起因して貫通孔9Aに発生する応力を貫通孔9Aが通る第3半導体領域4で緩衝することができる。よって、強度を向上させることができる。
貫通孔9A内にバンプ電極105を形成する際に、バンプ電極105の熱収縮等により、貫通孔9Aに応力が発生することが考えられる。フォトダイオードアレイ1では、バンプ電極105の形成時等に発生する応力を貫通孔9Aが通る第3半導体領域4で緩衝することができる。よって、強度を向上させることができる。
第2半導体領域5と第3半導体領域4とは、離間している。第2半導体領域5と第3半導体領域4との間には、第3半導体領域4を囲むように、第1半導体領域3の一部である第1の部分31が存在している。従って、第2半導体領域5と第3半導体領域4との間のショートを抑制することができ、電気的特性を向上させることができる。
表面21側の貫通孔9Aの開口の縁と第3半導体領域4の外縁との間隔d1は、第3半導体領域4の外縁と第2半導体領域5の内縁との間隔d2よりも大きい。このため、第3半導体領域4により、貫通孔9Aに発生する前述の種々の応力を一層緩衝することができる。
第2半導体領域5の内縁は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、裏面22側の貫通孔9Aの開口を囲んでいる。すなわち、第2半導体領域5は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、貫通孔9Aよりも外側の範囲に設けられている。従って、貫通孔9A内にバンプ電極105を形成する場合等に、光検出領域を構成する第2半導体領域5にかかる応力を低減させることができる。
フォトダイオードPD1のそれぞれは、表面21上に形成され、第2半導体領域5と貫通電極81aとを接続させるコンタクト電極82aを含んでおり、コンタクト電極82aの外縁は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、裏面22側の貫通孔9Aの開口を囲んでいる。すなわち、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、貫通孔9Aの内側及び外側の範囲にまたがってコンタクト電極82aが設けられている。従って、貫通孔9A周辺の強度を向上させることができる。
表面21側の貫通孔9Aの開口は、円形状を呈している。このため、例えば、貫通孔9A内にバンプ電極105を形成する場合等に、貫通孔9Aに応力集中が発生することを抑制することができる。
第3半導体領域4は、円環状を呈している。従って、第3半導体領域4が多角形状等を呈している場合に比して、電界の集中を抑制することができる。
次に、さらに他の実施形態のフォトダイオードアレイについて説明する。
図14に示されるように、本実施形態のフォトダイオードアレイは、前述のフォトダイオードPD1(図2参照)に代えて、フォトダイオードPD2を備えている。フォトダイオードPD2は、光検出領域が複数(4つ)に分割されている点で、フォトダイオードPD1と相違している。
詳細には、フォトダイオードPD2は、第2半導体領域5に代えて、第2半導体領域5と形状の異なる複数(4つ)の第2半導体領域51を有している。フォトダイオードPD2は、第1及び第2の部分31,32に代えて、第1半導体領域3の一部である複数(4つ)の第3の部分33を有している。フォトダイオードPD2は、複数の第6半導体領域10を有している。
複数の第2半導体領域51は、互いに離間して設けられている。複数の第2半導体領域51は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、第3半導体領域4を囲んでいる。第2半導体領域51のそれぞれは、第3半導体領域4と離間している。第2半導体領域51のそれぞれは、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、矩形から1つの角を扇形状に切欠いたような形状を呈している。
表面21側の貫通孔9Aの開口の縁と第3半導体領域4の外縁との間隔d1は、第3半導体領域4の外縁と第2半導体領域51の内縁との間隔(第1の部分33のそれぞれにおける内縁と外縁との間隔)d3よりも大きい。
複数の第2半導体領域51の内縁は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、裏面22側の貫通孔9Aの開口を囲んでいる。すなわち、複数の第2半導体領域51は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、貫通孔9Aよりも外側に設けられている。
第2半導体領域51のそれぞれは、コンタクト電極82aと接続されている。複数の第2半導体領域51で得られた情報は、貫通電極81aから1つの情報として出力される。すなわち、複数の第2半導体領域51を備えるPD2は、1つの画素として機能する。
第1の部分33のそれぞれは、環状を呈している。第1の部分33のそれぞれは、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、第2半導体領域51を囲んでいる。複数の第1の部分33は、互いに離間して設けられている。複数の第1の部分33は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、第3半導体領域4を囲んでいる。
第6半導体領域10は、第1半導体領域3に対して半導体基板2の表面21側に設けられている。第6半導体領域10は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、隣り合う第1の部分33,33同士の間に形成されている。第6半導体領域10は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、略長方形状を呈している。第6半導体領域10は、n型の半導体領域であり、第1半導体領域3の不純物濃度よりも高い不純物濃度を有している。第6半導体領域10は、n型の半導体領域である第3半導体領域4及び第4半導体領域6と連続して設けられている。第6半導体領域10は、例えば、第3半導体領域4及び第4半導体領域6と同程度の厚さ及び不純物濃度を有している。第3半導体領域4は、例えばSiにn型の不純物を拡散すること等により形成されている。第3半導体領域4は、例えば、前述の製造方法において、第3半導体領域4及び第4半導体領域6と同時に形成されている。
以上のようなフォトダイオードPD2を複数備えるフォトダイオードアレイは、前述のフォトダイオードアレイ1と同様な効果を奏する。特に、本実施形態のフォトダイオードアレイにおいても、フォトダイオードPD2のそれぞれにおいて、貫通孔9Aが第1半導体領域3及び第3半導体領域4を通り、第3半導体領域4が複数の第2半導体領域51に囲まれている。複数の第2半導体領域51は、第1半導体領域3と共に光検出領域を構成している。ここで、1つの画素であるフォトダイオードPD2のそれぞれにおいて、貫通孔9Aが光検出領域に囲まれていることになる。これにより、隣り合うフォトダイオードPD2,PD2同士の間隔が小さくなっている。よって、開口率を向上させることができる。
フォトダイオードPD2では、第3半導体領域4は、第6半導体領域10を介して、接地された第4半導体領域6と連続して形成されている。このため、フォトダイオードPD2では、前述のフォトダイオードPD1に比して、電気的な安定性を向上させることができる。
次に、さらに他の実施形態のフォトダイオードアレイについて説明する。
図15に示されるように、本実施形態のフォトダイオードアレイ中のフォトダイオードPD3では、前述のフォトダイオードPD2(図14参照)と比較して、光検出領域の分割数が相違している。
詳細には、フォトダイオードPD3は、複数(4つ)の第2半導体領域51に代えて、複数(8つ)の第2半導体領域52を有している。第2半導体領域52は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、略四角形状を呈している。フォトダイオードPD3は、複数(4つ)の第3の部分33に代えて、複数(8つ)の第3の部分34を有している。第3の部分34は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、略四角環状を呈している。フォトダイオードPD3は、複数(4つ)の第6半導体領域10に代えて、複数(8つ)の第6半導体領域11を有している。第6半導体領域11は、半導体基板2の厚さ方向から見た場合に、略長方形状を呈している。
このようなフォトダイオードPD3を複数備えるフォトダイオードアレイは、前述のフォトダイオードPD2を複数備えるフォトダイオードアレイと同様な効果を奏する。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。例えば、光検出領域を分割する場合、分割数は、4つ及び8つに限られず、様々な数に変更可能である。また、フォトダイオードアレイの各構成の材料及び形状は、前述した材料及び形状に限られず、様々な材料及び形状に変更可能である。
フォトダイオードアレイにおけるp型及びn型の各導電型は、前述したものとは逆であってもよい。フォトダイオードアレイは、フォトダイオードPD1〜PD3が二次元状に配列されたものに限られず、1次元状に配列されたものであってもよい。フォトダイオードアレイは、CT装置に限られず、様々な装置に適用可能である。
1…フォトダイオードアレイ、2…半導体基板、3…第1半導体領域、4…第3半導体領域、5…第2半導体領域、9A…貫通孔、81a…貫通電極、82a…コンタクト電極、PD1〜PD3…フォトダイオード。

Claims (6)

  1. 半導体基板に形成された複数のフォトダイオードを備えるフォトダイオードアレイであって、
    前記フォトダイオードのそれぞれは、
    前記半導体基板に設けられた第1導電型の第1半導体領域と、
    所定領域を囲むように前記第1半導体領域に対して前記半導体基板の一方の面側に設けられ、前記第1半導体領域と共に光検出領域を構成する第2導電型の第2半導体領域と、
    前記第1半導体領域及び前記所定領域を通るように前記一方の面と前記半導体基板の他方の面との間を貫通する貫通孔内に設けられ、前記第2半導体領域と電気的に接続された貫通電極と、を有し、
    前記貫通孔は、前記一方の面から前記他方の面に向かって拡がった部分を含んでいる、フォトダイオードアレイ。
  2. 前記所定領域には、前記貫通孔が通り前記第1半導体領域の不純物濃度よりも高い不純物濃度を有する前記第1導電型の第3半導体領域が存在し、
    前記第2半導体領域と前記第3半導体領域とは、離間しており、
    前記第2半導体領域と前記第3半導体領域との間には、前記第3半導体領域を囲むように前記第1半導体領域の一部が存在している、請求項1記載のフォトダイオードアレイ。
  3. 前記一方の面側の前記貫通孔の開口の縁と前記第3半導体領域の外縁との間隔は、前記第3半導体領域の外縁と前記第2半導体領域の内縁との間隔よりも大きい、請求項2記載のフォトダイオードアレイ。
  4. 前記第2半導体領域の内縁は、前記半導体基板の厚さ方向から見た場合に、前記他方の面側の前記貫通孔の開口を囲んでいる、請求項1〜3のいずれか一項記載のフォトダイオードアレイ。
  5. 前記フォトダイオードのそれぞれは、前記一方の面上に形成され、前記第2半導体領域と前記貫通電極とを電気的に接続させるコンタクト電極を含んでおり、
    前記コンタクト電極の外縁は、前記半導体基板の厚さ方向から見た場合に、前記他方の面側の前記貫通孔の開口を囲んでいる、請求項1〜4のいずれか一項記載のフォトダイオードアレイ。
  6. 前記一方の面側の前記貫通孔の開口は、円形状を呈している、請求項1〜5のいずれか一項記載のフォトダイオードアレイ。
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