JP2014104401A - 純水製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】逆浸透膜モジュール11、12と、電気脱イオンスタック20と、逆浸透膜モジュール11、12で分離された透過水W4を電気脱イオンスタック20に流通させる透過水ラインL3と、電気脱イオンスタック20で得られた脱塩水W6を需要箇所に向けて送出する脱塩水ラインL8と、電気脱イオンスタックの脱塩室21及び濃縮室22の流通水W61、W71、W81の流量を測定する流量測定手段54、56、57と、脱塩室21及び濃縮室22の流通水W61、W71、W81それぞれの流量について、いずれかの流量の定格流量に対する流量低下率が所定の低下率閾値を下回る状態であり、且つその状態が所定時間継続した場合には、電気脱イオンスタック20への通電を停止するように制御する制御部30と、を備える。
【選択図】図1
Description
本発明の第1実施形態に係る純水製造装置1について、図面を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態に係る純水製造装置1の全体構成図である。本実施形態に係る純水製造装置1は、例えば、原水(例えば、水道水)から脱塩水を製造する純水製造装置に適用される。純水製造装置で製造された脱塩水は、純水として、需要箇所等に送出される。なお、本実施形態の純水製造装置において、需要箇所等へ純水を供給することを「採水」ともいう。
流量低下率=(定格流量−流量測定値)/定格流量×100 (1)
式(1)において、流量測定値は、第2流量センサ54、第3流量センサ56又は第4流量センサ57で測定される値である。なお、第1流通水W61、第2流通水W71及び第3流通水W81の各定格流量は、通常、EDIスタック20のセルペア数等に応じて異なる流量値に設定される。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。第2実施形態については、主として、第1実施形態と異なる点を中心に説明し、第1実施形態と同様な構成については、詳細な説明を省略する。第2実施形態において、特に説明しない点は、第1実施形態についての説明が適宜適用される。また、第2実施形態においても、第1実施形態と同様な効果が奏される。
11 第1RO膜モジュール(逆浸透膜モジュール)
12 第2RO膜モジュール(逆浸透膜モジュール)
20 EDIスタック(電気脱イオンスタック)
21 脱塩室
22 濃縮室
23 電極室
30 制御部
54 第2流量センサ(流量測定手段)
56 第3流量センサ(流量測定手段)
57 第4流量センサ(流量測定手段)
L1 原水ライン(供給水ライン)
L2 第1透過水ライン(透過水ライン)
L3 第2透過水ライン(透過水ライン)
L7 第2RO透過水リターンライン(第1循環水ライン)
L8 脱塩水ライン
L9 脱塩水リターンライン(第2循環水ライン)
W1 原水(供給水)
W2 第1透過水(透過水)
W4 第2透過水(透過水)
W6 脱塩水
W7 濃縮水
W8 電極水
W61 第1流通水(脱塩室を流通する水)
W71 第2流通水(濃縮室を流通する水)
W81 第3流通水(電極室を流通する水)
Claims (6)
- 供給水から透過水を分離する逆浸透膜モジュールと、
前記逆浸透膜モジュールで分離された透過水を脱塩処理して脱塩水を得る電気脱イオンスタックと、
供給水を前記逆浸透膜モジュールに流通させる供給水ラインと、
前記逆浸透膜モジュールで分離された透過水を前記電気脱イオンスタックに流通させる透過水ラインと、
前記電気脱イオンスタックで得られた脱塩水を需要箇所に向けて送出する脱塩水ラインと、
前記電気脱イオンスタックの脱塩室及び濃縮室の流通水の流量を測定する流量測定手段と、
前記脱塩室及び前記濃縮室の流通水それぞれの流量について、いずれかの流量の定格流量に対する流量低下率が所定の低下率閾値を下回る状態であり、且つその状態が所定時間継続した場合、又は、前記脱塩室及び前記濃縮室の流通水それぞれの流量について、いずれかの流量の流量測定値が所定の流量閾値を下回る状態であり、且つその状態が所定時間継続した場合には、前記電気脱イオンスタックへの通電を停止するように制御する制御部と、
を備える純水製造装置。 - 前記逆浸透膜モジュールで分離された透過水を前記逆浸透膜モジュールの上流側へ返送する第1循環水ラインと、
前記電気脱イオンスタックで得られた脱塩水を前記逆浸透膜モジュールの上流側へ返送する第2循環水ラインと、を更に備え、
制御部は、装置の起動時において、前記逆浸透膜モジュールで分離された透過水を前記第1循環水ラインを介して前記逆浸透膜モジュールの上流側へ返送する第1工程を実行し、前記第1工程の実行後更に、前記電気脱イオンスタックで得られた脱塩水を前記第2循環水ラインを介して前記逆浸透膜モジュールの上流側へ返送する第2工程を実行し、前記第2工程において、前記脱塩室及び前記濃縮室の流通水それぞれの流量の流量低下率、又は、前記脱塩室及び前記濃縮室の流通水それぞれの流量の流量測定値を監視する
請求項1に記載の純水製造装置。 - 前記所定の低下率閾値は、前記脱塩室及び前記濃縮室の流通水それぞれに設定され、前記濃縮室の流通水、前記脱塩室の流通水の順に、低い値から高い値である
請求項1又は2に記載の純水製造装置。 - 前記流量測定手段は、前記電気脱イオンスタックの脱塩室、濃縮室及び電極室の流通水の流量を測定し、
前記制御部は、前記脱塩室、前記濃縮室及び前記電極室の流通水それぞれの流量について、いずれかの流量の定格流量に対する流量低下率が所定の低下率閾値を下回る状態であり、且つその状態が所定時間継続した場合、又は、前記脱塩室、前記濃縮室及び前記電極室の流通水それぞれの流量について、いずれかの流量の流量測定値が所定の流量閾値を下回る状態であり、且つその状態が所定時間継続した場合には、前記電気脱イオンスタックへの通電を停止するように制御する
請求項1に記載の純水製造装置。 - 前記逆浸透膜モジュールで分離された透過水を前記逆浸透膜モジュールの上流側へ返送する第1循環水ラインと、
前記電気脱イオンスタックで得られた脱塩水を前記逆浸透膜モジュールの上流側へ返送する第2循環水ラインと、を更に備え、
制御部は、装置の起動時において、前記逆浸透膜モジュールで分離された透過水を前記第1循環水ラインを介して前記逆浸透膜モジュールの上流側へ返送する第1工程を実行し、前記第1工程の実行後更に、前記電気脱イオンスタックで得られた脱塩水を前記第2循環水ラインを介して前記逆浸透膜モジュールの上流側へ返送する第2工程を実行し、前記第2工程において、前記脱塩室、前記濃縮室及び前記電極室の流通水それぞれの流量の流量低下率、又は、前記脱塩室、前記濃縮室及び前記電極室の流通水それぞれの流量の流量測定値を監視する
請求項4に記載の純水製造装置。 - 前記所定の低下率閾値は、前記脱塩室、前記濃縮室及び前記電極室の流通水それぞれに設定され、前記濃縮室の流通水、前記脱塩室の流通水、前記電極室の流通水の順に、低い値から高い値である
請求項4又は5に記載の純水製造装置。
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