JP2014100694A - 除塵装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】少ないエネルギーで優れた除去効果が得られる効率の良い除塵装置を提供する。
【解決手段】ワークWの被除塵面Waが、ノズル部1からの噴流3のポテンシャルコア5の終端50よりも下流側に形成される遷移領域E内に、配設されているものである。
【選択図】図3

Description

本発明は、除塵装置に関する。
従来、家庭用液晶テレビやスマートフォン、タブレット端末等のLCDパネル製造は、良品率向上のため、クリーンルーム内工程で、プラスチックやガラス等の基板表面に、クリーナヘッドのノズル部から吹き出る噴流を当てて、微粒子等の異物の除去を行なっていた(例えば、特許文献1参照)。
特開平11−235559号公報
しかし、除塵の対象となるワーク(基板)の大型化に伴い、クリーナヘッド(除塵ヘッド)に供給する気体流量が増加し、多大なエネルギー(電力)が消費されてしまうといった問題があった。
そこで、本発明は、消費エネルギーを増加させずに十分な除去効果が得られる効率の良い除塵装置の提供を目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の集塵装置は、ワークの被除塵面が、ノズル部からの噴流のポテンシャルコアの終端よりも下流側に形成される遷移領域内に、配設されているものである。
また、上記ノズル部の噴出スリットのスリット幅寸法をSとし、上記噴出スリットの出口部と上記被除塵面との離間寸法をHとしたとき、下記数式1を満たすように、上記Sを設定して、上記被除塵面を上記遷移領域内としたものである。
[数式1]H/9≦S<H/6
また、上記噴流の上記被除塵面における噴出方向の時間平均流速の最大値をUmaxとし、上記噴流の噴出方向の速度変動値の強度の最大値をV´maxとしたとき、下記数式2及び下記数式3を満たすように構成したものである。
[数式2]110<Umax<150 (単位:m/s)
[数式3]6.0≦(V´max/Umax)×100≦12
ノズル部から噴出するエア流量を減少させて、(発生する)ポテンシャルコアの全長を短縮し、被除塵面をポテンシャルコア終端よりも下流側とすることが可能である。このようにすることで、少ない消費エネルギー(流量)で十分な除塵効果を得ることができる。
本発明の実施の一形態を示す要部破断斜視図である。 ノズル部の一例を示す断面図である。 構成及び作用の説明のための図である。 実施例と比較例の実測結果を示す図表である。 離間寸法と除去率の関係を示すグラフ図である。 時間平均流速の最大値と内圧の関係を示すグラフ図である。 時間平均流速の分布を示すグラフ図である。 速度変動値の強度の分布を示すグラフ図である。 速度変動値の強度の最大値と内圧の関係を示すグラフ図である。 8kPaにおける速度変動スペクトル分布を第1装置と第2装置について比較したグラフ図である。 11kPaにおける速度変動スペクトル分布を第1装置と第2装置について比較したグラフ図である。 14kPaにおける速度変動スペクトル分布を第1装置と第2装置について比較したグラフ図である。 除去率と内圧の関係を示すグラフ図である。 第2装置のノズル部の断面図である。
以下、図示の実施形態に基づき本発明を詳説する。
本発明に係る集塵装置は、図1に示すように、加圧エアが供給される貯気室11と、負圧の吸気室12と、を内部に有するクリーナヘッド(除塵ヘッド)9と、クリーナヘッド9の貯気室11にエアを供給すると共に吸気室12内を真空引きする図示省略の加圧・吸引用のブロワ装置と、を備えている。
また、ブロワ装置によって貯気室11に供給されるエア量を、インバータにより調節して、貯気室11の内圧Pを調整可能としている。
クリーナヘッド9は、貯気室11内のエアを外部へ噴出するためのノズル部1と、吸気室12と外部を連通する吸込口19を有している。
そして、ノズル部1からの噴流(エアジェット)3によって、液晶ディスプレイ用ガラス基板等のワークWの被除塵面Waに付着している微粒子等の異物を剥離させ、その異物を吸込口19を介して吸気室12に吸い込んで、除塵するものである。
ノズル部1は、貯気室11内のエアを外部に排出するための噴出溝10を有し、この噴出溝10は、クリーナヘッド9の長手方向L10に沿って形成されている。
図2に示すように、噴出溝10は、貯気室11と接続される横断面直線状のエア流入部13と、エア流入部13の下流側と連通して外部(噴出)側へ向かうにつれて拡開する横断面三角形状の第1キャビティ部(幅広中間部)14と、第1キャビティ部14の下流側と連通する横断面直線状のキャビティ接続部15と、そのキャビティ接続部15の下流側に連通され外部側へ向かうにつれて拡開する横断面三角形状の第2キャビティ部(幅広中間部)16と、その第2キャビティ部16の下流側に連通され接続部15よりも幅広の断面矩形状の第3キャビティ部17と、第3キャビティ部17の下流側と外部とを連通する噴出スリット18と、を有している。エア流入部13とキャビティ接続部15の幅寸法は同じ寸法に形成されている。
ノズル部1は、第1・第2キャビティ部14,16等によって、下流側(キャビティ内下流端角部)で発生した攪乱が、上流側の流れ(キャビティ内上流の剥離流れ)に伝わって影響を与え、その影響を受けたもの(渦)が下流で発生する攪乱に影響するというフィードバック機構によって、流れに高周波の変動を与える。
図3に示すように、噴出スリット18から噴出する噴流3は、速度が減衰しない(一定の)ポテンシャルコア(領域)5と、ポテンシャルコア5の終端(消滅位置)50より下流側で乱れが発達段階の遷移領域(発達領域)Eと、遷移領域Eを経て十分に発達した乱流拡散流れの完全発達領域(拡散領域)Fと、を有している。また、第1・第2キャビティ部14,16等によるフィードバック機構により、噴流3は、高周波の(速度・圧力)変動が付加された流れである。
従来は、大量のエアを勢い良く噴出させ、かつ、ワークWに対してノズルをできるだけ接近して配置して、ワークWの被除塵面Waがポテンシャルコア5内に配設されるようにすることが除塵に適しているとされていた。そのため、大型のワークWに対して、大量のエアを勢い良く噴出することは、多大なエネルギーを消費していた。
そこで、本発明者は、省エネを図りながらも、除塵効率の改善を図るため、鋭意研究を行なって、噴流3のポテンシャルコア5の終端50よりも下流側、かつ、完全発達領域Fより上流側の遷移領域E内に、ワークWの被除塵面Waを設けるという独自の着想を行なったものである。
また、噴出スリット18の出口部Jと、被除塵面Waと、の間隙Gの離間寸法をH[mm]とし、ポテンシャルコア5の長さ寸法(出口部Jから終端50までの長さ寸法)をL[mm]とすると、噴流3のポテンシャルコア5の終端50よりも下流側において、ポテンシャルコア5の長さ寸法Lの1.5倍を越えると、除塵効率が低下することを究明した。つまり、L<H≦3L/2の範囲を見い出した。
さらに、ポテンシャルコア5と、噴出スリット18の関係に着目するに至り、噴出スリット18のスリット幅寸法をS[mm]とし、実用的な0.1mm≦S≦10mmの範囲で、発生するポテンシャルコア5の長さ寸法Lを実測した結果、ポテンシャルコア5の長さ寸法Lは、スリット幅寸法Sの5倍〜6倍であった。そこで、被除塵面Waが、ポテンシャルコア5の終端50より確実に下流側に配設するために、H>6Sと考えた。
その結果、本発明に係る除塵装置を、下記数式1を満たすようにして、スリット幅寸法S、及び、離間寸法Hを設定して、被除塵面Waを遷移領域E内とした。
[数式1]H/9≦S<H/6
なお、1mm≦H≦2mmの範囲で、上記数式1を満たすスリット幅寸法Sを設定するのが好ましい。
ここで、実施例と比較例の試験結果を用いて、作用・効果を説明する。
先ず、実施例は、図2のノズル部1を有し、離間寸法Hを1.5mm、スリット幅寸法Sを0.2mmにして、数式1を満たすように構成した。
次に、図2のノズル部1を有し、離間寸法Hを1.5mm、スリット幅寸法Sを0.4mmにして、数式1を満たさない構成とした除塵装置(言い換えると、ポテンシャルコア5の終端50より上流に被除塵面Waが配設される除塵装置)を比較例とした。また、実施例及び比較例の貯気室11の内圧Pは、同一(14kPa)に管理(制御)した。
粒子径が3μmの粒子と、粒子径が1.6μmの粒子について、夫々、除去率γを測定した。除去率γ、及び、噴流3の平均流速と、噴流3の速度変動値の強度を、図4の図表に示す。測定方法は後述する。
図4から明らかなように、実施例は、3μmの粒子に関しては、比較例と同等の除去率γであり、1.6μmの粒子に関しては比較例よりも除去率γが優れている。実施例は、比較例と内圧Pが同じで、スリット幅寸法Sが2分の1のため、流量は、比較例よりも著しく減少する。つまり、実施例は、比較例に比べて、供給エア量は略半分で済み、クリーナヘッド9へエアを供給するための装置(ブロワ装置)が小型化できる。
次に、図2のノズル部1を有し、スリット幅寸法Sを、0.2mmとした除塵装置を第1装置と呼び、被除塵面Waを、ポテンシャルコア5の終端50よりも下流側から次第に離した場合の除去率γの測定を行なった。
また、第1装置の貯気室11の内圧Pを、8kPa、11kPa、14kPaと変化させた場合の除去率γの変化を測定した実測結果を図5に示す。
図5から明らかなように、Hを増加すると、除去率γは低下する傾向を示す。S=0.2mmであるので、数式1を満たすHの範囲は、1.2mm<H≦1.8mmとなる。1.8mmを越えると急激に除去率γが低下している。
つまり、上述の比較例のように、被除塵面Waがポテンシャルコア5内に配設されると、時間平均流速が大きくても、速度変動値の強度が小さく、除去率は劣ってしまう。そして、図5のように、ポテンシャルコア5の終端50より離れすぎると、被除塵面Waに当たる噴流3の平均流速が小さすぎて、十分な除塵効果が得られなくなってしまう(除去率γが低下する)。
また、噴流3の被除塵面Waにおける噴流3の噴出方向(y方向)の時間平均流速を、U[m/s]とし、その最大値を、Umax[m/s]とし、噴流3の噴出方向の速度変動値の強度(RMS値)を、V´[m/s]とし、その最大値をV´max[m/s]としたとき、本発明に係る除塵装置は、下記数式2及び下記数式3を満たすように構成している。
[数式2]110<Umax<150 (単位:m/s)
[数式3]6.0≦(V´max/Umax)×100≦12
より好ましくは、下記数式4及び下記数式5を満たすように構成する。
[数式4]120≦Umax<150 (単位:m/s)
[数式5]7.5≦(V´max/Umax)×100≦12
ここで、図14のノズル部1´を有する除塵装置を第2装置とし、上述の第1装置と比較した結果を用いて、作用・効果を説明する。
図14のノズル部1´は、図2のノズル部1から第1キャビティ部14とキャビティ接続部15と第2キャビティ部16を省略して、エア流入部13と第3キャビティ部17を直結したものである。スリット幅寸法S等、共通構成部の寸法は同じである。
また、第1装置及び第2装置は、スリット幅寸法Sを、0.2mmとし、離間寸法Hを1.5mmとして、両者とも数式1を満たすものである。また、各装置の貯気室11の内圧Pを、8kPa、11kPa、14kPaと変化させた。
各装置の噴流3の測定結果を説明する。なお、図3に示すように、噴出スリット18の出口部Jの出口幅方向中央位置Jを原点として、水平方向にX座標をとり、噴出方向(図示では鉛直下向き)にY座標をとる。
第1装置及び第2装置について、X=0mm、Y=1.5mmでの噴流3の噴出方向(Y方向)時間平均流速の最大値Umaxの測定を行なった結果を図6に示す。
図6から明らかなように、第1装置と第2装置とも内圧Pの増加とともに時間平均流速の最大値Umaxが大きくなる傾向を示している。
次に、内圧Pが14kPaの場合において、時間平均流速UのX方向の分布を、Y=1.5mmで実測した結果を、図7に示す。
図7から明らかなように、第1装置と第2装置との差はほとんど認めらない。つまり、同一内圧下においては、ノズル部1,1´の形状の違いによって、噴流3の流れの平均的な特性は変化しないことがわかる。
次に、噴流3の噴出方向の速度変動値の強度V´について、X方向の分布を、Y=1.5mmで測定した結果を図8に示す。
図8から明らかなように、速度変動値の強度の最大値は、時間平均流速の最大値が計測されたノズル直下のX=0ではなく、平均流速の最大値の半値幅近傍が測定されたX≒0.3に現われることがわかる。この位置では、時間平均流速の分布の勾配が大きく、せん断層の形成により、大きな速度変動が発生していると考えられる。
また、第1装置の速度変動値の強度が、第2装置よりも大きくなる結果となった。これは、図2のノズル部1が断面三角形状の第1キャビティ部14及び第2キャビティ部16を有する構造の効果が顕著になったことによると推察される。
次に、速度変動値の強度の最大値V´maxと、貯気室11の内圧Pの関係を、図9に示す。
図9から明らかなように、時間平均流速の最大値Umaxと同様に、貯気室11の内圧の増加とともにV´maxが増加する傾向があった。また、第1装置のV´maxは、第2装置のV´maxよりも大きい。なお、図示省略するが、圧力変動は、速度変動に対する結果と同じ傾向であった。
また、第1装置と第2装置の各内圧Pにおける速度変動スペクトル分布を比較したグラフ図を図10乃至図12に示す。
図10乃至図12から明らかなように、8kPa、11kPa、14kPaの各内圧Pにおいて、10〜20kHzの高周波域で、第1装置が第2装置のスペクトル強度を顕著に上回り、速度変動値の強度の差に大きく寄与しているといえる。つまり、第1キャビティ部14及び第2キャビティ部16が、有効に作用していると考えられる。
そして、被除塵面Waにおける噴出方向の時間平均流速の最大値Umaxと、噴出方向の速度変動値の強度の最大値V´maxは以下の結果であった。
第1装置は、内圧Pが8kPaの場合は、Umax=116m/s、V´max=7.3m/sである。11kPaの場合は、Umax=123m/s、V´max=10.4m/sである。14kPaの場合は、Umax=135m/s、V´max=12.3m/sである。
第2装置は、内圧Pが8kPaの場合は、Umax=111m/s、V´max=5.0m/sである。11kPaの場合は、Umax=123.5m/s、V´max=5.5m/sである。14kPaの場合は、Umax=132m/s、V´max=6.0/sである。
上記結果から明らかなように、第1装置は、数式2及び数式3を満たす構成であり、第2装置は数式2及び数式3を満たさない構成である。
次に、第1装置と第2装置を用いて、粒子径3μmのシリカ・アクリル複合化合物粒子に対して除去率γの測定を行なった結果を図13に示す。
図13から明らかなように、内圧Pの増加と共に粒子の除去率γは大きくなることがわかる。言い換えると、時間平均流速が大きくなるにつれて除去率γが向上していると言える。また、第1装置の除去率γが第2装置の除去率γを上回る結果となった。
ここで、同一内圧下において、第1装置及び第2装置の時間平均流速は、大きさや分布形状は、ほとんど差が認められなかった。しかし、速度変動値の強度には差が見られる。つまり、時間平均流速が同じ場合、除去率γは、速度変動値の強度の傾向に対応している。粒子の除去に対しては、噴流3の時間平均流速の大きさに加え、速度変動値の強度の大きさが重要であり、数式2及び数式3を満たす構成は、時間平均流速と速度変動値の強度のバランスが良い(除塵に最適な)噴流3を発生させている。
第1装置の時間平均流速の最大値Umaxが第2装置の時間平均流速の最大値Umaxよりも小さくても(第1装置の内圧Pが11kPaの場合と、第2装置の内圧Pが14kPaの場合とを比較すると)、第1装置(数式2及び数式3を満たす構成)は、第2装置(数式2及び数式3を満たさない構成)よりも優れた除去率γであり、消費エネルギーが少ないながらも、十分な除塵効果が得られている。
また、第1装置において、内圧Pが8kPaの場合は、数式4及び数式5を満たさない構成であり、内圧Pが、11kPa、14kPaの場合に、数式4及び数式5を満たす構成である。
図13から明らかなように、数式4及び数式5を満たす構成は、除去率γが99%を越え非常に優れた除塵効果が発揮されている。つまり、数式4及び数式5を満たすことで、除塵により最適な噴流3を発生させていると言える。例えば、スリット幅寸法Sを設定し、貯気室11の内圧Pを制御(設定)することで数式4及び数式5を満たす構成が得られる。
なお、時間平均流速と速度変動値の測定方法は、噴出スリット18の出口幅方向中央位置Jから1.5mm離れた位置(Y=1.5mm)に、I型熱線流速計を設置し、I型熱線流速計からの出力はデジタルオシロスコープに記録し、時間平均流速を算出すると共に速度変動値の強度を求めた。測定はX方向に0.02mm間隔で行なった。
また、除去率γの測定方法は、ワークWとして厚さ0.7mm、表面積が300mm×400mmのクロム膜付ガラス基板を用いた。
予めクリーニングを十分に行なったワークWの被除塵面Wa上に、シリンジによりテスト粒子を一様に散布する。ワークWを吸着テーブルに固定し、クリーナヘッド9を100mm/secの速度で搬送して被除塵面Wa全面のクリーニング(除塵試験)を行なった。粒子散布前の付着粒子数n、散布後の粒子数n1、クリーニング(除塵試験)後の残留付着粒子数nを測定する。粒子除去率(除塵率)γ%は、下記数式6で求めた。なお、付着粒子数のカウントには表面検査装置(日立ハイテクノロジーズ社製:GI4830)を用い、クラス100クリーンルーム内にて測定した。除塵率は同一の試験条件に対し3回以上計測を行ない、その平均値を採用した。
[数式6]γ={100(n1−n)}/(n1−n
なお、本発明は、設計変更可能であって、キャビティ部は、図2の断面形状に限らず、横長(幅長)矩形状や下方縮小状の三角形状とするも良い。ワークWは、紙、フィルム、金属箔等のシート体、プラスチック基板、ガラス基板等のパネル体等、特に限定されない。また、被除塵面Waに対して、ノズル部1が相対的に移動して除塵を行なえるように構成したものであれば良い。例えば、クリーナヘッド9を固定し、ワークWを搬送装置によって搬送しつつ除塵を行なうように構成、或いは、除去試験のように、ワークWを固定し、クリーナヘッド9を移動させて除塵を行なうように構成、又は、両者とも移動しながら除塵を行なうようにした構成等自由である。
以上のように、本発明の集塵装置は、ワークWの被除塵面Waが、ノズル部1からの噴流3のポテンシャルコア5の終端50よりも下流側に形成される遷移領域E内に、配設されているので、ノズル部1から噴出するエア流量を減少させることが可能で、少ない消費エネルギー(電力)で十分な除塵効果を得ることができる。或いは、噴出するエア流量を従来と同じ(エネルギー消費量が従来と同じ)とした場合に、クリーニング能力を向上させることができる。特に、2μm以下の極微細な異物を高い除去率をもって除去できる。
また、ノズル部1の噴出スリット18のスリット幅寸法をSとし、噴出スリット18の出口部Jと被除塵面Waとの離間寸法をHとしたとき、上述の数式1を満たすように、Sを設定して、被除塵面Waを遷移領域E内としたので、少ない流量で十分な除去率γが得られ、クリーニング工程のランニングコストの削減に貢献できる。
また、噴流3の被除塵面Waにおける噴出方向の時間平均流速の最大値をUmaxとし、噴流の噴出方向の速度変動値の強度の最大値をV´maxとしたとき、上述の数式2及び上述の数式3を満たすように構成したので、流速や内圧を(従来よりも)低くしても、十分な除塵効果を得ることができる。或いは、平均流速(貯気室11の内圧P)が従来と同じであれば、従来よりも優れた除去率γが得られる。
1 ノズル部
3 噴流
5 ポテンシャルコア
18 噴出スリット
50 終端
E 遷移領域
H 離間寸法
J 出口部
S スリット幅寸法
Umax 時間平均流速の最大値
V´max 速度変動値の強度の最大値
W ワーク
Wa 被除塵面

Claims (3)

  1. ワーク(W)の被除塵面(Wa)が、ノズル部(1)からの噴流(3)のポテンシャルコア(5)の終端(50)よりも下流側に形成される遷移領域(E)内に、配設されていることを特徴とする除塵装置。
  2. 上記ノズル部(1)の噴出スリット(18)のスリット幅寸法をSとし、上記噴出スリット(18)の出口部(J)と上記被除塵面(Wa)との離間寸法をHとしたとき、下記数式1を満たすように、上記Sを設定して、上記被除塵面(Wa)を上記遷移領域(E)内とした請求項1記載の除塵装置。
    [数式1]H/9≦S<H/6
  3. 上記噴流(3)の上記被除塵面(Wa)における噴出方向の時間平均流速の最大値をUmaxとし、上記噴流の噴出方向の速度変動値の強度の最大値をV´maxとしたとき、下記数式2及び下記数式3を満たすように構成した請求項2記載の除塵装置。
    [数式2]110<Umax<150 (単位:m/s)
    [数式3]6.0≦(V´max/Umax)×100≦12
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104399711A (zh) * 2014-10-30 2015-03-11 苏州德鲁森自动化系统有限公司 一种液晶玻璃基板除尘方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0580573U (ja) * 1992-04-13 1993-11-02 株式会社伸興 パネル体の除塵装置
JPH06218329A (ja) * 1993-01-27 1994-08-09 Toshiba Corp 超音波洗浄の評価方法およびその装置
JP2005259849A (ja) * 2004-03-10 2005-09-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd プリント配線板の液体除去方法及びその装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE59202907D1 (de) * 1991-05-17 1995-08-24 Sundwiger Eisen Maschinen Vorrichtung zum Entfernen von Flüssigkeit von der Oberfläche eines bewegten Bandes.
FI95611C (fi) * 1994-05-16 1996-02-26 Valmet Paper Machinery Inc Menetelmä ja laite paperikoneella tai sen jälkikäsittelylaitteella rainasta irtoavan pölyn keräämiseksi ja poistamiseksi
JP3158074B2 (ja) 1997-05-09 2001-04-23 株式会社伸興 除塵装置
JP2006007012A (ja) * 2004-06-22 2006-01-12 Koganei Corp 除電除塵装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0580573U (ja) * 1992-04-13 1993-11-02 株式会社伸興 パネル体の除塵装置
JPH06218329A (ja) * 1993-01-27 1994-08-09 Toshiba Corp 超音波洗浄の評価方法およびその装置
JP2005259849A (ja) * 2004-03-10 2005-09-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd プリント配線板の液体除去方法及びその装置

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