JP2014098115A - 接着性シリコーン組成物シート及びそのシート状硬化物 - Google Patents

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Abstract

【課題】室温下、未硬化状態で固体であるため取扱い容易であり、かつシリコーン樹脂層をLED素子のチップ表面に従来のアセンブリー装置を使用して、容易に形成することができる接着性シリコーン組成物シートを提供する。
【解決手段】(A)一分子中に1個以上の脂肪族不飽和結合を有する固体状オルガノポリシロキサン、(B)一分子中に1個以上のケイ素原子に結合する水素原子を有する固体状オルガノポリシロキサン、(C)白金族系触媒、D)25℃で生ゴム状であり、重量平均分子量が100,000以上であるオルガノポリシロキサン、を含み、未硬化状態において室温下でタック性の無い固体状であり、かつ全置換基中の90%以上がメチル基を置換基としてもつシリコーン組成物からなるものであることを特徴とする接着性シリコーン組成物シート。
【選択図】なし

Description

本発明は、接着性シリコーン組成物シート及びそのシート状硬化物に関する。
シリコーン樹脂は耐光性に優れることからLED素子を封止、保護のために被覆する材料として注目されている(特許文献1)。
接着性シリコーン組成物シートはシリコーン樹脂層をLED素子のチップ表面に従来のアセンブリー装置を使用して容易に形成することができる。しかしシリコーン樹脂層が半固体または液体である場合、組成物シートのハンドリング性が悪くなってしまうという問題があった。また固体状であってもタック性を持つ場合、ハンドリング性が悪くなるということも分かっている。したがって、シリコーン樹脂層がタック性の無い固体となりハンドリング性を低下させない容易な技術が求められている。
また、LED等においては、LED素子を被覆する樹脂層には高い耐熱性、耐紫外線性等も求められる。さらに、従来の製造装置でかかる樹脂層を形成することができると好都合である。
特開2004−339482号公報
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、室温下、未硬化状態で固体であるため取扱い容易であり、シリコーン樹脂層をLED素子のチップ表面に従来のアセンブリー装置を使用して容易に形成することができる接着性シリコーン組成物シートを提供することを目的とする。
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、未硬化状態(即ち、非加熱処理下)において室温でタック性の無い固体状であり、全置換基中の90%以上がメチル基を置換基としてもつシリコーン組成物からなるものであることを特徴とする付加硬化型接着性シリコーン組成物シートを提供する。
このような接着性シリコーン組成物シートであれば、取り扱い易く作業性が良好であるため、たとえばLED素子のチップ表面に容易に積層させ接着することができ、量産性に優れる。
またこの場合、前記シリコーン組成物が、
(A)一分子中に1個以上の脂肪族不飽和結合を有し、成分中に2〜18の連続する(RSiO単位をもつ、RSiO1.5単位、(RSiO単位及び(RSiO単位、(RSiO0.5単位及び(RSiO0.5単位を含むレジン構造の固体状オルガノポリシロキサン(ここで、Rは独立に炭素数1〜6のアルキル基、及び、炭素数6〜12のシクロアルキル基又はアリール基から選ばれた基であり、Rは独立に炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数1〜6のアルキル基、及び、炭素数6〜12のシクロヘキシル基又はアリール基から選ばれた基である。ただし、(RSiO単位中及び(RSiO0.5単位中に1個以上のアルケニル基を含有する)、
(B)一分子中に1個以上のケイ素原子に結合する水素原子を有し、成分中に2〜18の連続する(RSiO単位をもつ、RSiO1.5単位、(RSiO単位及び(RSiO単位、(RSiO0.5単位及び(RSiO0.5単位を含むレジン構造の固体状オルガノポリシロキサン(ここで、Rは独立にケイ素原子に結合する水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、及び、炭素数6〜12のシクロアルキル基又はアリール基であり、ただし、(RSiO単位中及び(RSiO0.5単位中にそれぞれ1個以上のケイ素原子に結合する水素原子を含有する。Rは前記と同じである):(A)成分中のアルケニル基に対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子がモル比で0.1〜4.0となる量、
(C)白金族系触媒:硬化有効量、
(D)25℃で生ゴム状であり、重量平均分子量が100,000以上であるオルガノポリシロキサン:(A)成分及び(B)成分の量の合計100質量部に対して0.01質量部〜30質量部、
を含むものであることが好ましい。
このようなシリコーン組成物からなる接着性シリコーン組成物シートであれば、耐熱性、耐紫外線性、光学的透明性、強靭性および接着性に優れたものであり、さらに取り扱い易く作業性が良好であるため、より容易にLED素子のチップ表面に容易に積層させ接着することができ、量産性に優れる。
またこの場合、前記シリコーン組成物の(A)成分及び(B)成分の一方又は両方がシラノール基またはアルコキシシリル基を含有するものであることが好ましい。
このようなシリコーン組成物からなる接着性シリコーン組成物シートであれば、より高い接着性を有するので、LED素子のチップ表面を被覆するのにより好適に用いることができる。
さらに、前記接着性シリコーン組成物シートを積層し、加熱硬化して得られる硬化物であって、400nmから350nmでの光透過率が90%以上であることを特徴とするシート状硬化物を提供する。
このような硬化物であれば、高い光学的透明性を有し、耐熱性、耐紫外線性、強靭性および接着性に優れるため、LED素子のチップ表面を被覆するのに有用である。
本発明の接着性シリコーン組成物シートおよびその硬化物は、耐熱性、耐紫外線性、光学的透明性、強靭性および接着性に優れ、さらに当該組成物シートは未硬化状態で固体でありかつタック性が無いので取り扱い易く作業性が良好であるため、たとえばLED素子のチップ表面に容易に積層させ接着することができ、量産性に優れ、好適に用いることができる。また、本発明の接着性シリコーン組成物シートは、通常のダイボンドマウンター等のマウント装置でも容易にLED素子のチップ表面に積層させ接着することができる。
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、未硬化状態において室温でタック性の無い固体状であり、全置換基中の90%以上がメチル基を置換基としてもつシリコーン組成物からなるものであることを特徴とする接着性シリコーン組成物シートであれば、耐熱性、耐紫外線性、光学的透明性、強靭性および接着性に優れ、取り扱い易く作業性が良好であることを見出し、本発明に到達した。
すなわち、本発明の接着性シリコーン組成物シートは、未硬化状態において室温でタック性の無い固体状であり、全置換基中の90%以上がメチル基を置換基としてもつシリコーン組成物からなるものであることを特徴とする接着性シリコーン組成物シートである。
このような接着性シリコーン組成物シートであれば、耐熱性、耐紫外線性、光学的透明性、強靭性および接着性に優れたものであり、また未硬化状態で固体であり、かつタック性が無いので取り扱い易く作業性が良好であるため、たとえばLED素子のチップ表面に容易に積層させ接着することができ、量産性に優れるため好適に用いることができる。
この場合、前記シリコーン組成物が、
(A)一分子中に1個以上の脂肪族不飽和結合を有し、成分中に2〜18の連続する(RSiO単位をもつ、RSiO1.5単位、(RSiO単位及び(RSiO単位、(RSiO0.5単位及び(RSiO0.5単位を含むレジン構造の固体状オルガノポリシロキサン(ここで、Rは独立に炭素数1〜6のアルキル基、及び、炭素数6〜12のシクロアルキル基又はアリール基から選ばれた基であり、Rは独立に炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数1〜6のアルキル基、及び、炭素数6〜12のシクロヘキシル基又はアリール基から選ばれた基である。ただし、(RSiO単位中及び(RSiO0.5単位中に1個以上のアルケニル基を含有する)、
(B)一分子中に1個以上のケイ素原子に結合する水素原子を有し、成分中に2〜18の連続する(RSiO単位をもつ、RSiO1.5単位、(RSiO単位及び(RSiO単位、(RSiO0.5単位及び(RSiO0.5単位を含むレジン構造の固体状オルガノポリシロキサン(ここで、Rは独立にケイ素原子に結合する水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、及び、炭素数6〜12のシクロアルキル基又はアリール基であり、ただし、(RSiO単位中及び(RSiO0.5単位中にそれぞれ1個以上のケイ素原子に結合する水素原子を含有する。Rは前記と同じである):(A)成分中のアルケニル基に対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子がモル比で0.1〜4.0となる量、
(C)白金族系触媒:硬化有効量、
(D)25℃で生ゴム状であり、重量平均分子量が100,000以上であるオルガノポリシロキサン:(A)成分及び(B)成分の量の合計100質量部に対して0.01質量部〜30質量部、
を含むものであることが好ましい。
なお、本明細書において、室温とは24±2℃(つまり、22〜26℃)を意味するものである。
また、ここで、重量平均分子量とは、下記条件で測定したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定した、ポリスチレンを標準物質とした重量平均分子量を
指すこととする。
[測定条件]
展開溶媒:THF
流量:0.6mL/min
検出器:示差屈折率検出器(RI)
カラム:TSK Guardcolomn SuperH−L
TSKgel SuperH4000(6.0mmI.D.×15cm×1)
TSKgel SuperH3000(6.0mmI.D.×15cm×1)
TSKgel SuperH2000(6.0mmI.D.×15cm×2)
(いずれも東ソー社製)
カラム温度:40℃
試料注入量:20μL(濃度0.5重量%のTHF(テトラヒドロフラン)溶液)
以下、上記(A)〜(D)成分について詳細に説明する。
−(A)アルケニル基含有オルガノポリシロキサン−
(A)成分であるレジン構造のオルガノポリシロキサンは一分子中に少なくとも1個のビニル基やアリル基などの不飽和結合を有している物であればいずれのもでもよいが、RSiO1.5単位(以下、a単位と呼ぶことがある)、(RSiO単位(以下、b単位と呼ぶことがある)及び(RSiO単位(以下、c単位と呼ぶことがある)、(RSiO0.5単位(以下、d単位と呼ぶことがある)及び(RSiO0.5単位(以下、e単位と呼ぶことがある)を含むレジン構造のオルガノポリシロキサンであることが好ましい(但し、ここで、Rは独立に炭素数1〜6のアルキル基、及び、炭素数6〜12のシクロアルキル基又はアリール基から選ばれた基であり、Rは独立に炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数1〜6のアルキル基、及び、炭素数6〜12のシクロヘキシル基又はアリール基から選ばれた基である。ただし、(RSiO単位中及び(RSiO0.5単位中に1個以上のアルケニル基を含有する)。
ここで、R、Rで表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基が挙げられ、ビニル基が好ましい。アリール基としては、例えば、フェニル基、トルイル基等が挙げられ、フェニル基が好ましい。これらの中でも、R、Rで表されるアルキル基としては、特にメチル基が好ましい。
(RSiO単位及び(RSiO0.5単位の中のアルケニル基は、(B)成分の一分子中に1個以上のケイ素原子に結合する水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンのケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)とヒドロシリル化付加反応することにより硬化物を形成する。
なお、各シロキサン単位中に共加水分解並びに縮合反応の途中で副生するシラノール基を含有しても良い。該シラノール基の量は、全シロキサン単位に対して10モル%以下(0〜10モル%)、好ましくは5モル%以下(0〜5モル%)である。
アルケニル基の含有量は、通常、全Rの0〜50モル%であり、好ましくは1〜30モル%、より好ましくは3〜20モル%程度であり、また(A)成分としては、ビニル基又はアリル基含有のオルガノポリシロキサンであることが好ましい。
また、(A)成分のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算重量平均分子量は500〜1,000,000、特に500〜10,000の範囲にある固体のものが作業性、硬化性などから好適である。
このようなオルガノポリシロキサンは、各単位の原料となる化合物を、特定のモル比となるように組み合わせ、例えば酸の存在下で共加水分解縮合を行うことによって合成することができる。
ここで、各単位は、b単位及びc単位に対するa単位のモル比を(b+c)/aで表わしたとき、(b+c)/aの値が通常0.5〜10であり、0.5〜5となる割合で組み合わされていることが好ましい。
(A)成分は、各単位源となる化合物を、(b+c)/aの値が上記範囲内となるようなモル比で混合し、例えば、脱塩酸反応及び酸の存在下で共加水分解を行なうことによって容易に合成することができる。
ここで、a単位源としては、以下に示す有機ケイ素化合物が挙げられる。
Figure 2014098115
また、b単位源としては、以下に示す有機ケイ素化合物が挙げられる。
Figure 2014098115
また、c単位源としては、以下に示す有機ケイ素化合物が挙げられる。
Figure 2014098115
また、d単位源としては、以下に示す有機ケイ素化合物が挙げられる。
Figure 2014098115
また、e単位源としては、以下に示す有機ケイ素化合物が挙げられる。
Figure 2014098115
−(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサン−
(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは架橋剤として作用するものであり、該成分中のSiH基と(A)成分中のビニル基等のアルケニ基とが付加反応することにより硬化物を形成するものである。かかるオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、一分子中にケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)を1つ以上有するものであればいずれのものでもよいが、RSiO1.5単位(以下、f単位と呼ぶことがある)、(RSiO単位(以下、g単位と呼ぶことがある)及び(RSiO単位(以下、h単位と呼ぶことがある)、(RSiO0.5単位(以下、i単位と呼ぶことがある)及び(RSiO0.5単位(以下、j単位と呼ぶことがある)を含むレジン構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサンであることが好ましい(ここで、Rは上記の通りである。さらに、Rは独立にアルキル基、シクロヘキシル基又はアリール基であり、ただし、一分子中にケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)を少なくとも1個以上有する。)。
ここで、R、Rで表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基としては、特にメチル基が好ましい。また、原子に結合した水素原子の位置は特に制約はなく、分子の末端でも途中でもよい。
このオルガノハイドロジェンポリシロキサンの配合量は、(A)成分中のビニル基、アリル基等のアルケニル基の合計量に対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)がモル比で0.1〜4.0となる量、特に好ましくは0.5〜3.0、更に好ましくは0.8〜2.0となる量であることが好ましい。0.1以上であれは硬化反応が良好に進行し、シリコーン硬化物を得ることが容易であり、4.0以下であれば未反応のSiH基が硬化物中に多量に残存することなく、物性が経時的に安定である。
なお、各シロキサン単位中に共加水分解並びに縮合反応の途中で副生するシラノール基を含有しても良い。該シラノール基の量は、全シロキサン単位に対して10モル%以下(0〜10モル%)、好ましくは5モル%以下(0〜5モル%)である。
また、この(B)成分のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算重量平均分子量は500〜1,000,000、特に500〜10,000の範囲にある固体のものが作業性、硬化性などの点から好適である。
このようなオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、各単位の原料となる化合物を、特定のモル比となるように組み合わせ、共加水分解を行うことによって合成することができる。
ここで各単位は、g単位及びh単位に対するf単位のモル比を(g+h)/fで表わしたとき、(g+h)/fの値0.002〜1、好ましくは0.003〜0.l、特に好ましくは0.004〜0.01となる割合で組み合わされていることが好ましい。
(B) 成分は、各単位源となる化合物を、(g+h)/fの値が上記範囲内となるようなモル比で混合し、例えば、酸の存在下で共加水分解を行なうことによって容易に合成することができる。
ここで、f単位源としては、以下に示す有機ケイ素化合物が挙げられる。
Figure 2014098115
また、g単位源としては、以下に示す有機ケイ素化合物が挙げられる。
Figure 2014098115
また、h単位源としては、以下に示す有機ケイ素化合物が挙げられる。
Figure 2014098115
また、i単位源としては、以下に示す有機ケイ素化合物が挙げられる。
Figure 2014098115
また、j単位源としては、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、トリス(ハイドロジェンジメチルシロキシ)メチルシラン、トリス(ハイドロジェンジメチルシロキシ) フェニルシラン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、MeHSiO0.5単位とMeSiO0.5単位とSiO単位とからなる共重合体、MeHSiO0.5単位とSiO単位とからなる共重合体、MeHSiO0.5単位とSiO単位とPhSiO0.5単位とからなる共重合等の有機ケイ素化合物等が挙げられる。
−(C)白金族金属系触媒−
この触媒成分は、本発明の組成物の付加硬化反応を生じさせるために配合されるものであり、白金系、パラジウム系、ロジウム系のものがあるが、コスト等の見地から白金、白金黒、塩化白金酸などの白金系のもの、例えば、HPtCl・mHO,KPtCl,KHPtCl・mHO,KPtCl,KPtCl・mHO,PtO・mHO,40PtCl・mHO,PtCl,HPtCl・mHO(mは、正の整数)等や、これらと、オレフィン等の炭化水素、アルコール又はビニル基含有オルガノポリシロキサンとの錯体等を例示することができ、これらは単独でも、2種以上の組み合わせでも使用することができる。これらの触媒成分の配合量は、所謂触媒量でよく、通常、前記(A)、(B)成分の合計量に対して白金族金属の重量換算で0.1〜500ppm、特に好ましくは0.5〜100ppmの範囲で使用される。
−(D)生ゴム状オルガノポリシロキサン−
生ゴム状オルガノポリシロキサン(以下、単に「生ゴム」と略記する)は耐クラック性向上のために添加しており、たとえば平均組成式:R 2aSiO2−aで示される。式中、Rは独立に炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数1〜6のアルキル基、及び、炭素数6〜12のシクロヘキシル基又はアリール基から選ばれた基である。aは1〜1.5の数である。本成分は1分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合アルケニル基を有する。このアルケニル基の結合位置は、側鎖でも末端でもよく、またその両方でもよい。本成分の分子構造は、直鎖状または一部に分岐を有する直鎖状である。本成分の重量平均分子量は50,000以上である。本成分は単一重合体でも共重合体でもよく、あるいはこれらの重合体の混合物でもよい。本成分を構成する単位の具体例としては、ジメチルシロキサン単位,メチルビニルシロキサン単位,メチルフェニルシロキサン単位,フェニルビニルシロキサン単位が挙げられる。また、本成分の分子鎖末端基としては、トリメチルシロキシ基,シラノール基,ジメチルビニルシロキシ基,メチルフェニルビニルシロキシ基が例示される。このようなオルガノポリシロキサン生ゴムとしては、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体生ゴム,両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン生ゴム,両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体生ゴム,両末端メチルビニルヒドロキシシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体生ゴムが挙げられる。
(D)成分の添加量は、(A)成分及び(B)成分の量の合計100質量部に対して0.01質量部〜30質量部であり、好ましくは0.05質量部〜25質量部、さらに好ましくは0.1質量部〜20質量部である。添加量が0.01質量以上であれば、生ゴム成分の補強効果が表れる必要量としては充分であるため、耐クラック性を有し、30質量部以下であれば、生ゴムの(A)成分または(B)成分に対する割合が高くなり過ぎないので、生ゴム成分が析出する恐れがなく好ましい。
また、本発明に示される接着性シリコーン組成物は、上記のとおり全置換基の90%以上がメチル基からなるシリコーン組成物である必要がある。なお、該組成物における全置換基中の90%以上がメチル基を置換基として持ち、また(A)成分及び(B)成分において、固体状の性状を維持できる範囲内でタック性をなくすため、連続する(CHSiO単位を2〜18にしたり、(A)成分及び(B)成分を共加水分解並びに縮合反応によって合成する際に、途中で副生するシラノール基をトリメチルシリル化することで封鎖したりすることで達成できる。
本発明の組成物には、上述した(A)〜(D)成分以外にも、必要に応じて、それ自体公知の各種の添加剤を配合することができる。
−その他の任意成分−
本発明の組成物には、上記(A)成分〜(D)成分のほかに、その他の任意成分を配合することができる。その他の任意成分としては、例えば、無機蛍光体、老化防止剤、ラジカル禁止剤、紫外線吸収剤、接着性改良剤、難燃剤、界面活性剤、保存安定改良剤、オゾン劣化防止剤、光安定剤、増粘剤、可塑剤、カップリング剤、酸化防止剤、熱安定剤、導電性付与剤、帯電防止剤、放射線遮断剤、核剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、金属不活性化剤、物性調整剤、有機溶媒等が挙げられる。これらの任意成分は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
無機フィラーを配合すると、得られる硬化物の光の散乱や組成物の流動性が適切な範囲となったり、該組成物を利用した材料が高強度化されたりする等の効果がある。無機フィラーとしては、特に限定されないが、光学特性を低下させない微粒子状のものが好ましく、例えば、アルミナ、水酸化アルミニウム、溶融シリカ、結晶性シリカ、超微粉無定型シリカ、疎水性超微粉シリカ、タルク、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等が挙げられる。無機蛍光体としては、例えば、LEDに広く利用されている、イットリウム、アルミニウム、ガーネット系のYAG系蛍光体、ZnS系蛍光体、YS系蛍光体、赤色発光蛍光体、青色発光蛍光体、緑色発光蛍光体等が挙げられる。
前記シリコーン組成物は、前記(A)成分〜(D)成分、および場合により含有される任意成分を均一に混合することによって調製される。具体的には、例えば、(A)成分及び(B)成分のオルガノポリシロキサンと(C)成分の触媒、(D)生ゴムおよび上記任意成分を、通常、市販の攪拌機(例えば、THINKY CONDITIONING MIXER((株)シンキー製)等)に入れて、1〜5分間程度、均一に混合することによって、調製することができる。通常は、硬化が進行しないように2液に分けて保存され、使用時に2液を混合して硬化を行う。低温保管を前提に1液として用いることもできる。
前記シリコーン組成物は、無溶剤の状態でフィルム状等に成形してもよいが、該シリコーン組成物を有機溶媒に溶解してワニスとしてもよい。この場合、有機溶媒としては、特に限定されないが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒;メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール系溶媒;オクタメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン等が挙げられ、更にセロソルブアセテート、シクロヘキサノン、ブチロセロソルブ、メチルカルビトール、カルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルカルビトール、シクロヘキサノール、ジグライム、トリグライムなどの溶剤である。これらの有機溶媒は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
<接着性シリコーン組成物シート>
本発明の接着性シリコーン組成物シートは、前記シリコーン組成物からなるシートであり、通常1〜500μm、好ましくは10〜300μmの厚さで使用されるが、添加物の含有量や発光効率等によって適宜調整される。
前記組成物をシート状に加工し、例えば冷凍して保存する。そして、必要時に加熱することにより直ちに硬化させ、高い硬度と表面タックのない可撓性硬化物を形成できる。
前記組成物をシート状に加工する手段として、例えばフィルムコータ、熱プレス機等をあげることができる。これらの手段を用いて組成物をシート状に加工するには、例えば組成物を、溶剤とともにフィルムコータを用い、60〜180℃の温度で数分加熱してシート状に加工する。また、前記組成物を加圧用ベースフィルムと剥離フィルムとの間に挟み、熱プレス機を用いて通常60〜120℃、好ましくは70〜100℃の温度で、0.5〜10t/cm、好ましくは1〜7t/cmの圧力下で、約1〜約30分間、好ましくは2〜10分間圧縮成形を行う。
加圧用ベースフィルムとしてはPETフィルム、フッ素系樹脂フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等があげられ、剥離フィルムとしては、フッ素系樹脂コートしたPETフィルム、シリコーン樹脂コートしたPETフィルム、フッ素系樹脂フィルム等があげられる。
前記シリコーン組成物からなる接着性シリコーン組成物シートは、未硬化状態において室温で固体状であるため取り扱いが容易であり、LEDチップ等の半導体素子の表面に容易に接着させることができる。
<シート状硬化物(樹脂硬化層)>
本発明の接着性シリコーン組成物シートにより得られる硬化物は、耐熱性、耐紫外線性、光学的透明性、強靭性および接着性に優れる。また、本発明は、400nmから350nmでの光透過率が90%以上である硬化物を提供することができる。このため、該硬化物は、発光ダイオード(LED)、有機電界発光素子(有機EL)、レーザーダイオード、LEDアレイ等の光半導体素子の封止材等として好適に利用することができる。
LED素子のチップの表面に、前記接着性シリコーン組成物シートが積層され、該組成物シートを加熱硬化させて樹脂硬化層で前記LED素子のチップ表面が被覆される。LED素子のチップ表面のほか装置全面が樹脂硬化層で被覆されてもよい。
なお、本発明の接着性シリコーン組成物シートは被覆するべき範囲、例えば、チップ表面またはチップ表面を含むLED素子の装置全面の大きさに応じて小片化した状態で使用することができる。すなわち、例えば上述したようにして得られた接着性シリコーン組成物シートをこれに積層している剥離フィルムごとチップサイズに切断して小片化することができる。得られた接着性シリコーン組成物シート片の剥離フィルムをはがし、被覆すべき表面に接触するようにチップ上に配置し密着させた後に、チップ表面上に残った組成物シート片を加熱成形後硬化して被覆しようとする表面に樹脂硬化層を形成し、ベースフィルムを剥離するがベースフィルムは先に剥離しても良い。
また、前記接着性シリコーン組成物シート(片)を硬化させる際には、例えば、60〜180℃で1〜12時間程度行うことができるが、60〜150℃の範囲でステップキュアをすることにより溶剤の揮発を穏やかに行うことで、硬化物の均一性が増すため好ましい。
例えば、ステップキュアは、2段階または3段階以上を経て、好ましくは以下の3段階を経て行うことができる。まず、前記接着性シリコーン組成物シート(片)を25〜60℃で低温硬化させる。硬化時間は0.5〜2時間程度の範囲でよい。次いで、該接着性シリコーン組成物シート片を60〜120℃で加熱硬化させる。硬化時間は0.5〜2時間程度の範囲でよい。最後に、該接着性シリコーン組成物シート(片)を150〜180℃で加熱硬化させる。硬化時間は1〜10時間程度の範囲でよい。より具体的には、該接着性シリコーン組成物シート(片)を60℃で1時間低温硬化させ、次いで100℃で1〜2時間加熱硬化させ、さらに150℃で3〜8時間加熱硬化させることが好ましい。
上記方法よって得られた、本発明の接着性シリコーン組成物シート(高分子量のオルガノポリシロキサン)を硬化させた被膜は、高強度で、かつ可撓性、接着性が良好であり、更に50μm以上の厚膜のフィルム形成が可能な優れた特性を有するものである。
本発明の接着性シリコーン組成物シートを硬化させて得られる硬化物のガラス転移点(Tg)は、通常、市販の測定器(例えば、真空理工(株)製の熱機械試験器(商品名:TM−7000、測定範囲:25〜200℃)では検出されないほど高いことから、得られる硬化物は極めて耐熱性に優れたものとなる。
また、前記接着性シリコーン組成物シート(片)をLED素子のチップ表面に圧着する場合または圧着しながら加熱硬化させる場合には、圧着は通常0.01〜10MPa加圧下で行うことができ、好ましくは0.1〜5MPa、特に好ましくは0.5〜5MPaである。圧着時の硬化温度は、通常室温〜300℃で、好ましくは50〜200℃、特に70〜180℃で、圧着時の硬化時間は1〜30分、特に2〜10分である。また、圧着・硬化後にポストキュア(二次硬化)を行うことができる。その温度は50〜200℃、好ましくは70〜180℃で、その時間は0.1〜10時間、好ましくは1〜4時間である。
以下、合成例及び実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。また、重量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算値である。Phはフェニル基、Meはメチル基、Viはビニル基を示す。
[合成例1]
−ビニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(A1)−
1Lセパラブルフラスコに還流冷却器、温度計、及び攪拌機を取り付けた。このフラスコに、(MeSiO1.5(OH)(OMe)(ただし、kは50〜100、lは4〜20、mは2〜10の範囲である):500g、テトラヒドロフラン:2000g、Kw−2200;0.8gを仕込み、水を内温40℃以下に保って、ビニルジメチルクロロシラン;43.9g、ビニルメチルジクロロシラン;25.8g、ClMeSiO(MeSiO)SiMeCl;50.34gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌し、続いて水:200g、ピリジン;72gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌した。その後、中和及び水洗を行い、共沸脱水後、ろ過をした後に加熱減圧下で溶剤をストリップし、ビニル基含有樹脂(A1)を得た。
[合成例2]
−ヒドロシリル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(B1)−
1Lセパラブルフラスコに還流冷却器、温度計、及び攪拌機を取り付けた。このフラスコに、(MeSiO1.5(OH)(OMe)(ただし、kは50〜100、lは4〜20、mは2〜10の範囲である):300g、テトラヒドロフラン:2000g、Kw−2200;0.6gを仕込み、水を内温40℃以下に保って、ジメチルクロロシラン;41.33g、メチルジクロロシラン;25.12g、ClMeSiO(MeSiO)SiMeCl;50.34gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌し、続いて水:200g、ピリジン;86gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌した。その後、中和及び水洗を行い、共沸脱水後、ろ過をした後に加熱減圧下で溶剤をストリップし、ヒドロシリル基含有樹脂(B1)を得た。
[合成例3]
−ビニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(A2)−
1Lセパラブルフラスコに還流冷却器、温度計、及び攪拌機を取り付けた。このフラスコに、(MeSiO1.5(OH)(OMe)(ただし、kは50〜100、lは4〜20、mは2〜10の範囲である):500g、テトラヒドロフラン:2000g、Kw−2200;0.8gを仕込み、水を内温40℃以下に保って、ビニルジメチルクロロシラン;43.9g、ビニルメチルジクロロシラン;25.8g、ClMeSiO(MeSiO)16SiMeCl;252.22gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌し、続いて水:200g、ピリジン;72gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌した。その後、中和及び水洗を行い、共沸脱水後、ろ過をした後に加熱減圧下で溶剤をストリップし、ビニル基含有樹脂(A2)を得た。
[合成例4]
−ヒドロシリル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(B2)−
1Lセパラブルフラスコに還流冷却器、温度計、及び攪拌機を取り付けた。このフラスコに、(MeSiO1.5(OH)(OMe)(ただし、kは50〜100、lは4〜20、mは2〜10の範囲である):300g、テトラヒドロフラン:2000g、Kw−2200;0.6gを仕込み、水を内温40℃以下に保って、ジメチルクロロシラン;41.33g、メチルジクロロシラン;25.12g、ClMeSiO(MeSiO)16SiMeCl;252.22gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌し、続いて水:200g、ピリジン;86gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌した。その後、中和及び水洗を行い、共沸脱水後、ろ過をした後に加熱減圧下で溶剤をストリップし、ヒドロシリル基含有樹脂(B2)を得た。
[比較合成例1]
−ビニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(A3)−
1Lセパラブルフラスコに還流冷却器、温度計、及び攪拌機を取り付けた。このフラスコに、(MeSiO1.5(OH)(OMe)(ただし、kは50〜100、lは4〜20、mは2〜10の範囲である):500g、テトラヒドロフラン:2000g、Kw−2200;0.8gを仕込み、水を内温40℃以下に保って、ビニルジフェニルクロロシラン;43.9g、ビニルフェニルジクロロシラン;25.8g、ジメチルジクロロシラン;23.04gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌し、続いて水:200g、ピリジン;72gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌した。その後、中和及び水洗を行い、共沸脱水後、ろ過をした後に加熱減圧下で溶剤をストリップし、ビニル基含有樹脂(A3)を得た。
[比較合成例2]
−ヒドロシリル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(B3)−
1Lセパラブルフラスコに還流冷却器、温度計、及び攪拌機を取り付けた。このフラスコに、(MeSiO1.5(OH)(OMe)(ただし、kは50〜100、lは4〜20、mは2〜10の範囲である):300g、テトラヒドロフラン:2000g、Kw−2200;0.6gを仕込み、水を内温40℃以下に保って、ジフェニルクロロシラン;41.33g、フェニルジクロロシラン;25.12g、ジメチルジクロロシラン;23.04gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌し、続いて水:200g、ピリジン;86gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌した。その後、中和及び水洗を行い、共沸脱水後、ろ過をした後に加熱減圧下で溶剤をストリップし、ヒドロシリル基含有樹脂(B3)を得た。
[比較合成例3]
−ビニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(A4)−
1Lセパラブルフラスコに還流冷却器、温度計、及び攪拌機を取り付けた。このフラスコに、(MeSiO1.5(OH)(OMe)(ただし、kは50〜100、lは4〜20、mは2〜10の範囲である):500g、テトラヒドロフラン:2000g、Kw−2200;0.8gを仕込み、水を内温40℃以下に保って、ビニルジメチルクロロシラン;43.9g、ビニルメチルジクロロシラン;25.8g、ジメチルジクロロシラン;23.04gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌し、続いて水:200g、ピリジン;72gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌した。その後、中和及び水洗を行い、共沸脱水後、ろ過をした後に加熱減圧下で溶剤をストリップし、ビニル基含有樹脂(A4)を得た。
[比較合成例4]
−ヒドロシリル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(B4)−
1Lセパラブルフラスコに還流冷却器、温度計、及び攪拌機を取り付けた。このフラスコに、(MeSiO1.5(OH)(OMe)(ただし、kは50〜100、lは4〜20、mは2〜10の範囲である):300g、テトラヒドロフラン:2000g、Kw−2200;0.6gを仕込み、水を内温40℃以下に保って、ジメチルクロロシラン;41.33g、メチルジクロロシラン;25.12g、ジメチルジクロロシラン;23.04gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌し、続いて水:200g、ピリジン;86gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌した。その後、中和及び水洗を行い、共沸脱水後、ろ過をした後に加熱減圧下で溶剤をストリップし、ヒドロシリル基含有樹脂(B4)を得た。
[比較合成例5]
−ビニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(A5)−
1Lセパラブルフラスコに還流冷却器、温度計、及び攪拌機を取り付けた。このフラスコに、(MeSiO1.5(OH)(OMe)(ただし、kは50〜100、lは4〜20、mは2〜10の範囲である):500g、テトラヒドロフラン:2000g、Kw−2200;0.8gを仕込み、水を内温40℃以下に保って、ビニルジメチルクロロシラン;43.9g、ビニルメチルジクロロシラン;25.8g、ClMeSiO(MeSiO)18SiMeCl;279.13gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌し、続いて水:200g、ピリジン;72gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌した。その後、中和及び水洗を行い、共沸脱水後、ろ過をした後に加熱減圧下で溶剤をストリップし、ビニル基含有樹脂(A5)を得た。
[比較合成例6]
−ヒドロシリル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(B5)−
1Lセパラブルフラスコに還流冷却器、温度計、及び攪拌機を取り付けた。このフラスコに、(MeSiO1.5(OH)(OMe)(ただし、kは50〜100、lは4〜20、mは2〜10の範囲である):300g、テトラヒドロフラン:2000g、Kw−2200;0.6gを仕込み、水を内温40℃以下に保って、ジメチルクロロシラン;41.33g、メチルジクロロシラン;25.12g、ClMeSiO(MeSiO)18SiMeCl;279.13gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌し、続いて水:200g、ピリジン;86gを90分かけて滴下した。滴下終了後60分攪拌した。その後、中和及び水洗を行い、共沸脱水後、ろ過をした後に加熱減圧下で溶剤をストリップし、ヒドロシリル基含有樹脂(B5)を得た。
[比較合成例7]
−ビニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(A6)−
PhSiClで示されるオルガノシラン:5724mol、ClMeSiO(MeSiO)33SiMeCl:2499g、MeViSiCl:426gをトルエン溶媒に溶解後、水中に滴下し、共加水分解し、更に水洗、アルカリ洗浄にて中和、脱水後、溶剤をストリップし、ビニル基含有樹脂(A6)を合成した。
[比較合成例8]
−ヒドロシリル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(B6)−
PhSiClで示されるオルガノシラン:5724g、ClMeSiO(MeSiO)33SiMeCl:2499g、MeHSiCl:334gをトルエン溶媒に溶解後、水中に滴下し、共加水分解し、更に水洗、アルカリ洗浄にて中和、脱水後、溶剤をストリップし、ヒドロシリル基含有樹脂(B6)を合成した。
[実施例1]
合成例1のビニル基含有樹脂(A1):189g、合成例2のヒドロシリル基含有樹脂(B1):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液:0.1gを加えた組成物を60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌し、シリコーン樹脂組成物を調製した。この組成物は、25℃において可塑性の固体であった。
[実施例2]
合成例1のビニル基含有樹脂(A1):189g、合成例2のヒドロシリル基含有樹脂(B1):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液:0.1g、生ゴムとして重量平均分子量が500、000の両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体生ゴム18.9gを加えた組成物を60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌し、シリコーン樹脂組成物を調製した。この組成物は、25℃において可塑性の固体であった。
[実施例3]
合成例3のビニル基含有樹脂(A2):189g、合成例4のヒドロシリル基含有樹脂(B2):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液:0.1gを加えた組成物を60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌し、シリコーン樹脂組成物を調製した。この組成物は、25℃において可塑性の固体であった。
[実施例4]
合成例3のビニル基含有樹脂(A2):189g、合成例4のヒドロシリル基含有樹脂(B2):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液:0.1g、生ゴムとして重量平均分子量が500,000の両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体生ゴム18.9gを加えた組成物を60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌し、シリコーン樹脂組成物を調製した。この組成物は、25℃において可塑性の固体であった。
[比較例1]
比較合成例5のビニル基含有樹脂(A3):189g、比較合成例6のヒドロシリル基含有樹脂(B3):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液:0.1gを加えた組成物を60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌し、シリコーン樹脂組成物を調製した。この組成物は、25℃において可塑性の固体であった。
[比較例2]
比較合成例5のビニル基含有樹脂(A4):189g、比較合成例6のヒドロシリル基含有樹脂(B4):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液:0.1gを加えた組成物を60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌し、シリコーン樹脂組成物を調製した。この組成物は、25℃において可塑性の固体であった。
[比較例3]
比較合成例5のビニル基含有樹脂(A4):189g、比較合成例6のヒドロシリル基含有樹脂(B4):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液:0.1g、生ゴムとして重量平均分子量が500,000の両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体生ゴム18.9gを加えた組成物を60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌し、シリコーン樹脂組成物を調製した。この組成物は、25℃において可塑性の固体であった。
[比較例4]
比較合成例5のビニル基含有樹脂(A5):189g、比較合成例6のヒドロシリル基含有樹脂(B5):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液:0.1gを加えた組成物を60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌し、シリコーン樹脂組成物を調製した。この組成物は、25℃において可塑性の固体であった。
[比較例5]
比較合成例5のビニル基含有樹脂(A5):189g、比較合成例6のヒドロシリル基含有樹脂(B5):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液:0.1g、生ゴムとして重量平均分子量が500,000の両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体生ゴム18.9gを加えた組成物を60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌し、シリコーン樹脂組成物を調製した。この組成物は、25℃において可塑性の固体であった。
[比較例6]
比較合成例5のビニル基含有樹脂(A6):189g、比較合成例6のヒドロシリル基含有樹脂(B6):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液:0.1gを加えた組成物を60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌し、シリコーン樹脂組成物を調製した。この組成物は、25℃において可塑性の固体であった。
硬化被膜の特性(耐クラック性、表面タック性、耐熱性、硬化物の外観、耐UV照射試験)について検討した結果を表1、2に示した。
<評価方法>
(1)メチル基含有率及び組成
得られたシリコーン組成物シートを以下の条件で29Si−NMRスペクトル測定を行った。ここでTはMeSiO1.5単位を、DはMeSiO単位、MはMeSiO0.5単位を表す。
[測定条件]
装置:日本電子株式会社 JNM−LA300WB FT−NMR SYSTEM
測定温度:室温
積算回数:600回
(2)耐クラック性
得られたシリコーン組成物シートを50mm×50mm×2mmのテフロン(登録商標)コートを施した金型に入れ、60℃で1時間、次いで100℃で1時間、さらに150℃で4時間のステップキュアを行うことにより、厚さ1mmの硬化膜を作製した。この硬化膜のクラックの有無を目視で観察した。前記硬化膜にクラックが認められない場合を「良好」と評価してAと示し、ややクラックが認められる場合を「やや良好」と評価してBと示し、クラックが認められる場合を「不良」と評価してCと示す。また、前記硬化膜が作成できなかった場合を「測定不可」と評価してDと示す。
(3)表面のタック性
上記機械特性の評価と同様に2次硬化させた硬化物表面のタック性を指触にて確認した。更に、市販の銀紛(平均粒径5μm)中に硬化物を置き、取り出し後、エアーを吹き付けて表面に埃のように付着した銀粉が取れるか試験した。その結果を表1、2に示す。
(4)耐熱性
得られたシリコーン組成物シートを50mm×50mm×2mmのテフロン(登録商標)コートを施した金型に入れ、60℃で1時間、次いで100℃で1時間、さらに150℃で4時間のステップキュアを行うことにより、厚さ1mmの硬化膜を作成した。この硬化膜を250℃のオーブンに入れ、500時間経過後の残存重量減少率(%)を測定した。この残存重量減少率を耐熱性(%)として示す。
(5)硬化物の外観
得られたシリコーン組成物シートを50mm×50mm×300μmのテフロン(登録商標)コートを施した金型に入れて、その後60℃で1時間、次いで100℃で1時間、さらに150℃で4時間のステップキュアを行うことにより、厚さ200μmの硬化膜を作成した。得られた硬化膜の表面を目視で観察した。(クラックがある場合、クラックがない部分の表面を目視で観察した。)
(6)耐UV照射試験
ガラス基板に、得られたシリコーン樹脂組成物をスポイトで0.1g滴下し、60℃で1時間、次いで100℃で1時間、さらに150℃で4時間のステップキュアを行うことにより、ガラス基板上に硬化物を形成させた。その硬化物に対して、UV照射装置(商品名:アイ紫外硬化用装置、アイグラフィックス(株)製)によりUV照射(30mW)を24時間行った。UV照射後の硬化物の表面を目視により観察した。前記硬化物の表面に全く劣化が認められない場合を「良好」と評価しAと示し、やや劣化が認められる場合を「やや劣化あり」と評価しBと示し、著しい劣化が認められる場合を「劣化」と評価しCと示した。
なお、以下の表1、2において、レジンの組成で示される記号は、以下のものを示す。
Figure 2014098115
Figure 2014098115
Figure 2014098115
表1、2から明らかなように、実施例のように全置換基中の90%以上がメチル基を置換基としてもち、タック性のない接着性シリコーン組成物シートの硬化物は、耐クラック性、耐熱性、硬化物の外観の透明性、耐UV照射試験に優れているが、比較例1〜3、6のようにメチル基の含有率が90%未満であったり、比較例4、5のようにメチル基の含有率が90%以上であっても、表面にタック性を有するものは、埃が付着してしまう。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に含有される。

Claims (4)

  1. 未硬化状態において室温でタック性の無い固体状であり、全置換基中の90%以上がメチル基を置換基としてもつシリコーン組成物からなるものであることを特徴とする接着性シリコーン組成物シート。
  2. 前記シリコーン組成物が、
    (A)一分子中に1個以上の脂肪族不飽和結合を有し、成分中に2〜18の連続する(RSiO単位をもつ、RSiO1.5単位、(RSiO単位及び(RSiO単位、(RSiO0.5単位及び(RSiO0.5単位を含むレジン構造の固体状オルガノポリシロキサン(ここで、Rは独立に炭素数1〜6のアルキル基、及び、炭素数6〜12のシクロアルキル基又はアリール基から選ばれた基であり、Rは独立に炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数1〜6のアルキル基、及び、炭素数6〜12のシクロヘキシル基又はアリール基から選ばれた基である。ただし、(RSiO単位中及び(RSiO0.5単位中に1個以上のアルケニル基を含有する)、
    (B)一分子中に1個以上のケイ素原子に結合する水素原子を有し、成分中に2〜18の連続する(RSiO単位をもつ、RSiO1.5単位、(RSiO単位及び(RSiO単位、(RSiO0.5単位及び(RSiO0.5単位を含むレジン構造の固体状オルガノポリシロキサン(ここで、Rは独立にケイ素原子に結合する水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、及び、炭素数6〜12のシクロアルキル基又はアリール基であり、ただし、(RSiO単位中及び(RSiO0.5単位中にそれぞれ1個以上のケイ素原子に結合する水素原子を含有する。Rは前記と同じである):(A)成分中のアルケニル基に対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子がモル比で0.1〜4.0となる量、
    (C)白金族系触媒:硬化有効量、
    (D)25℃で生ゴム状であり、重量平均分子量が100,000以上であるオルガノポリシロキサン:(A)成分及び(B)成分の量の合計100質量部に対して0.01質量部〜30質量部、
    を含むものであることを特徴とする請求項1に記載の接着性シリコーン組成物シート。
  3. 前記シリコーン組成物の(A)成分及び(B)成分の一方又は両方がシラノール基またはアルコキシシリル基を含有するものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の接着性シリコーン組成物シート。
  4. 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の接着性シリコーン組成物シートを積層し、加熱硬化して得られる硬化物であって、400nmから350nmでの光透過率が90%以上であることを特徴とするシート状硬化物。
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JP2020085835A (ja) * 2018-11-30 2020-06-04 日亜化学工業株式会社 タックの評価方法
CN112322253A (zh) * 2020-11-11 2021-02-05 南京清尚新材料科技有限公司 低表面粘性的压敏胶黏剂及其和功能胶带的制备方法

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