JP2014090191A - 発光装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】半導体発光素子の端面から出射する光を効率的に反射させ、発光装置の光取り出し効率を向上させる。
【解決手段】透光性基板上に第1導電型の第1半導体層と第2導電型の第2半導体層とが順に設けられ、第1半導体層の露出部に第1電極、第2半導体層に第2電極がそれぞれ設けられた半導体発光素子100と、半導体発光素子が載置される支持基板9と、を備える発光装置であって、半導体発光素子は、平面視で矩形であり、少なくとも第1の辺11と、第1の辺と異なる第2の辺12とを有し、第1の辺側から出射される光は、第2の辺側から出射される光よりも強く、半導体発光素子が2つ以上、第1の辺が互いに略平行に向かい合うように、支持基板に列状にフリップチップ実装された発光装置
【選択図】図2A

Description

本発明は、半導体発光素子を利用した発光装置に関わり、特に複数の半導体発光素子が
実装された発光装置に関わる。
半導体発光素子は、支持基板やパッケージなどに種々の方法で実装される。同一面側に正
負電極が設けられた半導体発光素子は、正負電極側を支持基板などに接合してフリップチ
ップ実装とすることで、素子の基板側から光を取り出すことができる。半導体発光素子を
フリップチップ実装する方法としては、例えば、まず、半導体発光素子を載置可能な支持
基板の主面に設けられる導体配線にバンプを形成し、次に、同一面側に正負一対の電極が
設けられている半導体発光素子の電極面をバンプと対向させ、半導体素子の正負両電極と
バンプとを接触させ、導体配線と半導体発光素子の電極とを接合する。このようにして、
バンプを介して支持基板の導体配線と半導体発光素子の正負両電極とを接合し、両者の電
気的導通が図られる。
1つの発光装置に、複数の半導体発光素子を実装することもできる(例えば、特許文献1
〜4)。その一例を図20に示す。図20に示す発光装置は、ガラスを含有するAl
基板51の表面に、W、Ni、Auを含有する回路パターン52が形成され、3個×3
個の配列で合計9個のGaN系LED素子53がAuバンプを介して回路パターン52に
フッリップチップ実装されている。また、GaN系LED素子53の電極構造は省略して
いるが、回路パターン52に対応して設けられている。
このように発光素子がフリップチップ実装された発光装置では、発光素子内で発生した光
のほとんどが素子の基板側の面や側面から出射される。素子側面の端面から出射した光は
、通常、発光装置に設けられた反射板などで反射されて発光観測面側に取り出される。
WO2004/082036 特開2005−85548号公報 特開2005−109434号公報 特開2006−66700号公報
しかしながら、素子端面から出射した光は、反射板で反射されるまでに支持基板や封止
樹脂などによってその一部が吸収されてしまう。このため、従来の発光装置では、素子端
面からの光は発光装置の光として取り出される前に減衰してしまい、発光装置全体の発光
に十分に寄与していなかった。
そこで、本発明者は、複数の半導体発光素子を実装する際に半導体発光素子を特定の電
極構造として列状に実装することで、素子端面からの光を効率的に取り出せることを見出
し、本発明に至ったものである。
上述したような問題を解決するために、本発明の発光装置は、透光性基板上に第1導電
型の第1半導体層と第2導電型の第2半導体層とが順に設けられ、第1半導体層の露出部
に第1電極、第2半導体層に第2電極がそれぞれ設けられた半導体発光素子と、半導体発
光素子が載置される支持基板と、を備える発光装置であって、半導体発光素子は、平面視
で矩形であり、少なくとも第1の辺と、第1の辺と異なる第2の辺とを有し、第1の辺側
の素子端面から出射される光は、前記第2の辺側の素子端面から出射される光よりも強く
、前記半導体発光素子が2つ以上、前記第1の辺が互いに略平行に向かい合うように、前
記支持基板に列状にフリップチップ実装される。
また、本発明の発光装置は、上述の構成に加えて、以下の構成を組み合わせることができ
る。
(1)各半導体発光素子の第1の辺は、該辺の対向辺の方向にみて、第1の辺側の第1半
導体層の露出部及び対向辺と向き合っており、その領域の第2電極の面積をR、第1の
辺の長さをLとし、第2の辺は、該辺の対向辺の方向にみて、第2の辺側の第1半導体
層の露出部及び対向辺と向き合っており、その領域の第2電極の面積をR、第2の辺の
長さをLとしたとき、RとLの比R/Lは、RとLの比R/Lよりも
小さい。
(2)第1の辺の対向辺は、第1の辺の方向にみて、対向辺側の第1半導体層の露出部及
び第1の辺と向き合っており、その領域の第2電極の面積をR1´、第1の辺の長さをL
1´としたとき、R1´とL1´の比R1´/L1´は、R/Lと略等しい。
(3)第2の辺は、第1の辺に隣接する辺である。
(4)各半導体発光素子の第2電極は、第1の辺側に、第1の辺と露出部に挟まれた第1
挟域部と、該挟域部よりも素子の内側に延びた第1延長部とを有し、第1の辺の長さ方向
において、第1挟域部が第1延長部よりも長い。
(5)第2電極は、第2の辺側に第2延長部を有し、第2延長部で第2の辺側の第2電極
が構成されてなる。
(6)第2電極は、第2の辺側に、第2挟域部と、該第2挟域部よりも素子の内側に延び
た第2延長部とを有し、第1の辺の長さ方向における第1挟域部の長さAと第1の辺の
長さLの比A/Lは、第2の辺の長さ方向における第2挟域部の長さAと第2の
辺の長さLの比A/Lと、略等しいかそれよりも大きい。
(7)第2の辺の長さ方向において、第2挟域部が第2延長部よりも短い。
(8)平面視で、半導体発光素子の1つの辺と、該辺の対向辺及び第2半導体層と、で挟
まれる領域の面積Sと、該辺の長さLとの比S/Lは、第1の辺のS/Lが、第2の
辺のS/Lと略等しい。
(9)平面視で、半導体発光素子の1つの辺と、該辺の対向辺及び第2半導体層と、で挟
まれる領域の面積Sと、該辺の長さLとの比S/Lは、第1の辺のS/Lが、第2の
辺のS/Lよりも小さい。
(10)第2の辺は、第1の辺の対向辺と異なる辺であり、第1の辺及び第1の辺の対向
辺は、S/Lが略同一であり、第2の辺及び第2の辺の対向辺もS/Lが略同一である。
(11)第2電極は、第1電極よりも第1の辺側に設けられている。
(12)半導体発光素子は、第1半導体層と第2半導体層との間に発光層を有し、第1半
導体層の露出部と第2電極が設けられた第2半導体層との間で、発光層の端面が露出して
おり、支持基板は、半導体発光素子の第1及び第2電極が接続される配線電極を有し、配
線電極は、少なくとも、平面視で発光層の端面露出部の下に設けられる。
本発明の発光装置によれば、複数の半導体発光素子の向かい合う端面において、各素子
の端面から出射した光を効率的に反射することができ、発光装置の光取り出し効率を向上
させることができる。
〔実施形態1〕
図1、図2A及び図2Bは、本実施形態にかかる半導体発光素子100及び発光装置10
1を示す模式的な上面図である。
図1に示す半導体発光素子100は、透光性基板上に、第1導電型の第1半導体層と第
2導電型の第2半導体層とがこの順に形成され、第1半導体層の一部が第2半導体層から
露出されており、平面視で第2半導体層及び第1半導体層の積層構造を含む発光領域1と
、第1半導体層が露出した露出領域である露出部2とを有する。発光領域1の第2半導体
層表面には第2電極3、露出領域2の第1半導体層表面には第1電極4が、それぞれ設け
られており、各辺側の端面から光を出射可能である。半導体発光素子100の第1の辺1
1側の端面から出射される光は、第2の辺12側の端面から出射される光よりも強い。
図1に示す半導体発光素子100は、図2Aに示すように、第1の辺11が互いに略平
行且つ対向して列状に配置されて、支持基板9にフリップチップ実装される。図2の発光
装置101では、同じ構造の発光素子100を2つ並べて実装しており、各素子はバンプ
などの導電部材を介して支持基板9表面の導体配線10a〜10cに接続される。このと
き、図2Aに示すように、1つの素子の第2電極の外部接続領域15と第1電極の外部接
続領域16は、異なる導体配線に接続される。
このような発光装置101とすることにより、2つの発光素子の対向する端面において、
各素子の端面から出射した光を効率的に反射することができ、支持基板への吸収などによ
る光の損失を抑えることができるので、光取り出し効率を向上させることができる。つま
り、図4に概念図で示すように、複数の半導体発光素子を、各素子の端面が略平行に向か
い合うように隣接してフリップチップ実装すると、一方の発光素子端面から出射した光を
他方の素子端面で反射させることができ、これによって発光観測面側、典型的には透光性
基板側へ取り出すことができる。本実施形態の発光装置101では、第2の辺12よりも
端面から出射される光の強い第1の辺11が互いに向かい合うように2つの素子を配置し
ているため、向かい合う素子端面で反射されて発光観測面側に取り出される光を、第2の
辺12を向かい合わせる場合よりも強くできる。
具体的には、半導体発光素子100は、図2Bに示すように、右下がりの斜線で示す領
域の面積Rが、右上がりの斜線で示す領域の面積Rよりも小さい。半導体発光素子1
00の第1の辺11は、該辺の対向辺13の方向にみて、第1の辺11側の第1半導体層
の露出部2及び対向辺13と向き合っており、その領域の第2電極3を、図2Bにおいて
左側の素子に右下がりの斜線で示す。また、第2の辺12は、該辺の対向辺14の方向に
みて、第2の辺13側の第1半導体層の露出部2及び対向辺14と向き合っており、その
領域の第2電極3を、図2Bにおいて右側の素子に右上がりの斜線で示す。ここで、フリ
ップチップ実装用の素子において、典型的には第2電極は発光領域のほぼ全面に設けられ
、第2電極と発光領域の形状や面積はほぼ等しいものとなるため、上述したR、R
後述する挟域部、延長部等、第2電極や発光領域に関する記載は、第2電極と発光領域の
どちらにでも採用することができる。
図2Bに示す半導体発光素子100のように、右下がりの斜線で示す領域の面積R
右上がりの斜線で示す領域の面積Rよりも小さい発光素子とすると、後述するように減
衰の小さい光を第1の辺11側の端面から出射することができ、各素子の第1の辺11側
の端面で反射され取り出される光を強めることができる。半導体発光素子100は、第2
電極3が設けられた発光領域1が発光する。このため、図2Bにおいて右下がりの斜線で
示す領域の面積Rを小さくすることで、第1の辺11側の端面から出射される光が素子
内で伝播する距離を総合的に小さくすることができる。これにより、図4に概念図で示す
ように、第1の辺11側の端面から出射されるまでに素子内で吸収される光を少なくし、
第1の辺11側から出射される光の減衰を抑制することができる。一方、第2の辺12側
の端面から出射される光は、第1の辺11側の端面から出射する光よりも、素子内で伝播
する距離が総合的に大きいため、第2の辺12側端面から出射されるまでに素子内で吸収
されやすく、減衰が大きくなりやすい。したがって、図2Bに示すように、右下がりの斜
線で示す領域の面積Rが右上がりの斜線で示す領域の面積Rよりも小さい素子とする
ことで、第1の辺11側の端面から出射される光の減衰を相対的に抑制することができ、
このような端面が向かい合うように複数の発光素子を配置することで光取り出し効率の向
上した発光装置とすることができる。
また、半導体発光素子100の第2電極3は、第1の辺11と露出部2に挟まれた挟域
部6a及び6bと、挟域部6a及び6bよりも素子の内側に延びた延長部5とを有する。
言い換えると、半導体発光素子100の発光領域1は、平面視で、半導体発光素子100
の第1の辺11側に配置された線状の独立部6a及び6bと、独立部6a及び6bを素子
内部と接続する接続部5とを有する。第1の辺11の辺方向の長さは、挟域部6aの長さ
と挟域部6bの長さAとを合わせた長さが、延長部5の長さBよりも長い。また、
挟域部6a及び6bと延長部5は、それぞれ表面を第2電極3で覆われている。一方、第
1の辺と隣接する第2の辺12側は、発光領域1が延長部7で構成されている。
図1に示す半導体発光素子100のように、他の素子と向かい合う第1の辺11側に延
長部5よりも長い挟域部6a及び6bを設けた発光素子とすると、後述するように減衰の
小さい光を第1の辺11側の端面から出射することができ、各素子の第1の辺11側の端
面で反射され取り出される光を強めることができる。図1に示す半導体発光素子100は
、第2電極3が設けられた発光領域1で発光する。このため、第2電極3の挟域部6a及
び6bを第1の辺11に近い位置に設けることで、第1の辺11側の端面から出射される
までに素子内で吸収される光を少なくし、第1の辺11側から出射される光の減衰を抑制
することができる。一方、延長部5は、挟域部6a及び6bよりも素子内部に延在されて
おり、この延長部5で発生した光は第1の辺11側から出射されるまでに素子内で吸収さ
れ、減衰が大きくなりやすい。したがって、図1に示すように、第1の辺11側の挟域部
6a及び6bの長さを延長部5よりも長くすることで、第1の辺11側の端面から出射さ
れる光の減衰を相対的に抑制することができ、このような端面が向かい合うように複数の
発光素子を配置することで光取り出し効率の向上した発光装置とすることができる。
端面から出射される光の強度は、第1の辺側が、第1の辺と異なる第2の辺側よりも大き
いことが好ましく、つまり、発光領域の平面視形状や各辺までの距離を第1の辺側と第2
の辺側とで異なるものとすることが好ましい。以下、各辺側の発光領域について詳述する
〔発光素子とその発光領域〕
本発明の発光素子は、実施形態1で説明したように、支持基板上に相互に隣接して配置
される複数の素子において、互いに向かい合う辺、つまり第1の辺における第2電極を特
定の構造とすること、また、特に第2の辺が素子間で隣接しない辺である場合に、第2の
辺と第1の辺を特定の構造とすることで、発光出力に優れた発光装置とするものである。
その主要な構成、下記第1〜3の構成について、以下に説明する。
第1の構成は、素子の構造に依っては後述の第1、2の構成をも包含する構成であり、
つまりそれは、第1の辺の対向方向において、第1の辺と発光領域又は第2電極の遠距離
端部との対向領域の大きさ、具体的には第1の辺側の発光領域又は第2電極における第1
の辺側の端部に対向する端部、例えば第1の辺の対向辺側の端部と、第1の辺とで挟まれ
る領域の面積の大きさを設計して、特定の構造とすることで、素子隣接に好適な発光強度
の光を第1の辺から出射させることができる。また、この第1の構成と後述の第3の構成
とを組み合わせて、後述する第3の構成における第1の辺と第1の辺側の発光領域端部と
の領域Sと、第1の構成における第1の辺と第1の辺側端部に対向する第2電極端部との
領域と、の差分により、第1の辺側の第2電極の部分領域を所望に設計した特定の構造に
よって、上記好適な発光装置を得ることもできる。また、各領域の面積は、2つ以上の辺
を比較する場合には、各辺の長さで規格化して評価する。
第2の構成は、素子間で隣接する第1の辺において、第2電極又は発光領域を、特定の
構造、すなわち後述する挟域部と延長部を有する構造とすること、特に第1の辺に占める
割合を設計することで、素子隣接に好適な発光強度の光を第1の辺から出射させることが
できる。
第3の構成は、第1の辺と第2電極又は発光領域との距離を小さくすること、具体的に
は、第1の辺側の第2電極又は発光領域の端部(第1の辺から近距離の端部)と第1の辺
との距離を第2の辺に比して小さくして、素子隣接に好適な発光強度の光を、第1の辺か
ら出射させることができる。
上記第1の構成では、図4に示すように、第1の辺側から見て、第1の辺側の発光領域
端部(上記近距離端部)に対向する上記遠距離端部である背面側端部、すなわち、第1の
辺側の発光領域における第1の辺側端部とは反対側にある発光領域の端部(背面側端部)
が第1の辺側の端面に近い距離に配置される。然るに、その発光領域の内部反射面が第1
の辺側の近くに配置されることで、そこからの光を強くできる。また、図4に示すように
、この第1の辺側の発光領域内部における反射の繰り返しによる内部での光吸収があるた
め、その発光領域内部の伝搬距離を小さくすることでこれを抑えることができる。すなわ
ち、第1の辺側の発光領域において、上記背面側端部との距離を小さくすることや、その
発光領域の幅、上記端部(第1の辺側端部と背面側端部)間距離、上記発光領域の部分領
域を小さくすることが好ましく、全てを満たすことがさらに好ましい。具体的には、隣接
素子に対向する第1の辺と、隣接素子に対向せずに隣接素子の外側に向いた辺、例えば発
光装置の窓部や反射部に向いた辺、例えば第2の辺、との比較で、その隣接素子の対向辺
(第1の辺)を、非対向辺に比して、上記幅、距離、領域面積を小さくする。
この第1の構成とは別に、上述の第3の構成として、第1の辺側の発光領域端部との距
離、つまり第1の辺とその発光領域端部とで挟まれる領域の面積を小さくすることで、素
子端部の近くに光出射端面となる発光領域端部を配置することができ、図4に示すように
、その素子端部の光を強くして、隣接素子端部における反射に好適な光を出射することが
できる。また、第1の構成と組み合わせて用いることで、好適な発光出力の光出射や隣接
素子による反射を得ることができ、その結果として光出力に優れた発光装置を得ることが
できる。また、各辺の光の強さは、この挟域部と他の部とを統合したその辺全体における
領域面積、背面端部との距離、例えば後述の面積S、Rで評価される。第3の構成や、発
光領域と各辺との距離、面積、についても同様である。
以上の第1の構成、第3の構成、及びそれに係る各形態を実現する構造として、上記実
施形態1及び他の実施形態、若しくは後述する挟域部と延長部を第1の辺側に設けた発光
領域に設ける構造があり、これにより上記第2の構成がある。具体的には、挟域部は、上
記第1の構成に係る発光領域の幅・面積や、背面側端部と第1の辺との距離が、他の部分
、例えば延長部に比して小さく、第1の辺側の発光領域内で、その挟域部は、他の部分、
例えば延長部に比して、強い光を出射する部分となり、これを好適に用いた発光素子構造
、例えばその大きさ、形状、第1の辺との距離等を好適に設計した構造となる。以下、上
記各構成の形態に係る構造について説明する。なお、隣接素子に対向する第1の辺、又は
それと異なる若しくは非対向辺の第2の辺について説明したが、素子の他の辺にも適用で
きる。また、素子が3つ以上配列されるような場合に、2つ以上の隣接素子がある場合に
は、各対向辺を第1の辺とすることが好ましい。
(発光領域の面積)
挟域部や延長部の長さの他、上記第1の構成にかかる各辺側の発光領域の面積を、第1
の辺側と第2の辺側で異なるものとすることで、端面から出射される光の強度を変えるこ
とができる。具体的には、平面視で、素子の1つの辺に最も近い第2電極の端部と、該端
部の次に近い第2電極の端部と、で挟まれる領域の面積Rと、該辺の長さLとの比R/L
を、第1の辺のR/Lが第2の辺のR/Lよりも小さくする。これにより、発光
領域全体でみて、発光領域で発生した光が素子端面から出射するまでに素子内を通過する
距離を、第2の辺側よりも第1の辺側で短くでき、第1の辺側から出射される光の強い素
子とすることができる。
(各辺と発光領域との距離)
また、上記第3の構成に係る形態として、第1の辺から発光領域までの距離を近くする
ことで、発光領域からの光を隣接する他の素子端面に到達する光量を多くできる。発光領
域までの距離は、第1の辺と第2の辺とで略等しいか、若しくは第1の辺の方が近いこと
が好ましく、具体的には、平面視で、1つの辺を基準としてそれに対向する発光領域との
間の領域が小さい方が好ましい。例えばその基準辺と、その基準辺の対向辺若しくは対向
辺より該辺の近くに配置された発光領域と、で挟まれる領域の面積Sと、辺の長さLとの
比S/Lが、第1の辺のS/Lと第2の辺のS/Lとで略等しいか、若しくは第
1の辺のS/Lの方が小さいことが好ましい。これにより、第1の辺側の端面から出
射される光の減衰を、第2の辺側と略等しいか、若しくは小さくして、光量を大きくする
ことができる。
例えば、第1の辺及びその辺の対向辺からなる第1の組のS/Lを、第1の組とは異な
る互いに対向する辺の第2の組のS/Lより小さく、また各組内の辺同士はS/L同一と
することができる。つまり、第2の辺が第1の辺の対向辺と異なる辺である場合、第1の
辺及び第1の辺の対向辺におけるS/Lが略同一であり、第2の辺及び第2の辺の対向辺
においてもS/Lが略同一である素子とすることができ、さらには第1の辺のS/Lを第
2の辺のS/Lより小さくすることができる。この時、各組の辺は、相互に略同一のS/
Lとし、このような2組の辺を有する素子としては、平面視で矩形状のものが好ましい。
このように、発光領域との距離を、第1の辺及びその対向辺の組で、異なる組よりも近く
なるように設けることで、第1の辺側及びその対向辺側の端面から出射される光の減衰の
程度を、異なる組の辺側よりも小さくすることができ、端面から出射される光を強くする
ことができる。
例えば、図1の素子において、S/Lは、第1の辺11とその対向辺13とで略等しく、
また、第1の辺11に隣接する辺12とその対向辺14とで略等しい。図1に、辺12と
それに対向する発光領域との間の領域、具体的には辺12と、該辺の対向辺14若しくは
辺14より該辺12の近くに配置された発光領域1と、で挟まれる領域を斜線で示す。第
1の辺11側及びその対向辺13側では発光領域1の端部と各辺とが一致しており、第1
の辺11と発光領域1との間の領域が無く、S/Lは0であることから、この例では第1
の組のS/Lは、第1の組と第2の組のS/Lより小さい。
一方、第1の組と第2の組のS/Lとを、略等しくすることもできる。これにより、発
光領域が各辺からほぼ等しい距離に設けられるため、各辺側の端面から出射される光の強
度が、発光領域の平面視形状に依存しやすい素子とすることができる。また、第1の辺の
/Lを第2の辺のS/Lよりも小さい素子とすると、それが略等しい場合と比
べて、各素子の第1の辺を向かい合わせることによる効果、すなわち第2の辺を向かい合
わせた場合と比較して発光出力が高くなる効果を、大きくできる。
以下、上記第1の構成に係る挟域部及び又は延長部を有する構造、上記各構成の形態に
係る構造について説明する。
(挟域部と延長部の長さ)
上記第2の構成に係る構造は、隣接素子に対向する第1の辺において、その第2電極又
は発光領域の内、他の部分より比較的強い光を出射する挟域部の、第1の辺に占める割合
を大きくすることで、その素子端部で強い光を出射でき、その隣接素子の対向辺、つまり
隣接素子の端部における反射に好適な光を出射することができる。具体的には、上記実施
形態1のように、第1の辺における第2電極又は発光領域に占める挟域部の割合を、上記
第1の構成に係る発光領域の幅、背面端部との距離、各領域の面積が小さい他の部分、例
えば延長部に比して、それよりも大きくする。好適には、挟域部が占める割合として、辺
の長さの半分以上、さらに好ましくは2/3以上であると良い。ここで、各辺に占める各
部の割合は、各辺の長さLにおける、その辺方向における各部の長さ(挟域部A、延長部
B)の比、つまり、挟域部の占める割合[A/L]、延長部の占める割合[B/L]、上
記他の部(非挟域部)の占める割合[(L−A)/L]として、評価できる。
また、第2の辺との比較においては、第2の辺は具体的には隣接素子に対向しない辺で
あるので、対向する第1の辺と異なる辺における挟域部と、第1の辺における挟域部とを
比較する。第2の辺側の発光領域は、延長部を有し、かつ、延長部よりも辺の長さ方向に
短い挟域部を有するか、または、延長部で第2の辺側の発光領域が構成されてなる。ここ
で、発光領域の挟域部の長さAと辺の長さLとの比A/Lは、第1の辺のA/Lが第
2の辺のA/Lよりも大きいことが好ましい。これにより、第2の辺側から出射され
る光の減衰の程度が第1の辺側から出射される光よりも大きく、端面から出射される光の
強度が第1の辺側で大きい素子とすることができる。ここで、図1に示す素子のように、
延長部で第2の辺側の発光領域が構成されてなる場合は、第2の辺の挟域部の長さA
0である。さらには、挟域部の長さAと延長部の長さBとの比A/Bは、第1の辺のA
/Bが第2の辺xのA/Bよりも大きいことが好ましい。
一方、挟域部の長さAと辺の長さLとの比A/Lを、第1の辺のA/Lと第2の辺
のA/Lとが略等しくなるように形成することもできる。この場合、第1の辺側の挟
域部の幅を第2の辺側の挟域部の幅よりも小さくすることで、挟域部で発生した光が素子
内を通過する距離を相対的に短くすることができ、第1の辺側から出射する光の減衰の程
度を小さくすることができる。ここで、第2電極又は発光領域の幅の他に、背面側端部と
各辺との距離、つまり両者で挟まれる領域の面積Rで比較して、第1の辺を第2の辺より
小さくする構造とすることもできる。
(第1の辺の対向辺側)
好ましくは、第1の辺の対向辺側は、以下のような構成とする。第1の辺の対向辺は、
第1の辺の方向にみて、対向辺側の第1半導体層の露出部及び第1の辺と向き合っており
、その領域の第2電極の面積をR1´、第1の辺の長さをL1´としたとき、R1´とL
1´の比R1´/L1´は、上述のR/Lと略等しい。また、第1の辺の対向辺側の
第2電極は、第1の辺側のように、挟域部と延長部とを有し、挟域部の対向辺方向の長さ
が延長部よりも長くなるように形成される。これらの構成により、対向辺側の端面におい
ても光の減衰を抑制し、強い光を出射することができ、特に他の素子を対向辺側にも配置
する場合に好ましい。さらに、図1に示す素子のように、第1の辺側とその対向辺側とで
発光領域の平面視形状を同じにすると、対向辺側の端面から出射する光の強度を第1の辺
側と同様なものとできる。
(各辺側の第2電極若しくは各部及びその配置)
第2電極の挟域部は、各辺側で第1半導体層の露出領域である露出部などによって素子
内部、若しくは対向辺側の第2電極と隔たれた部分であり、すなわち、露出領域などによ
る分離部と各辺とで挟まれた発光領域であり、その分離部の対向辺側にも第2電極が設け
られる。第1の辺側の挟域部は、好ましくは露出領域に設けられる第1電極よりも第1の
辺側に配置される。これにより、図4に示すように、挟域部を第1の辺側に近づけて設け
ることができ、また、発光領域の端面からの光を第1電極に遮られずに第1の辺側から取
り出すことができる。電極に遮られずに端面から光を取り出すためには、第1の辺側若し
くは各辺側の半導体層端面が、光出射可能な露出面を少なくとも一部に有することが好ま
しく、さらには端面のほぼ全面が光出射面となることが好ましい。具体的には、遮光性の
金属から露出している構造、例えば反射膜や電極から露出している構造や、透光性の保護
膜で覆われている構造などであることが好ましい。第2半導体層と第1半導体層の間に発
光層を有する場合は、少なくとも発光層の端面が露出していることが好ましい。
発光素子は、その一部に第1電極が設けられる第1電極領域を有する第1半導体層の露
出部が設けられ、その残りの領域に発光領域が設けられる。露出部は非発光領域である。
このため、上述したように挟域部及び/又は延長部を、第1の辺側やその他の辺側に配置
して、上述した第1〜3の構成及びその形態を用いて、好適な発光素子構造を形成する。
第1の辺では、上述のように、挟域部を有することでその端面からの光を好適なものとで
きるが、このとき、延長部を有していなくても良い。しかし、上記第1、3の構成で説明
したように、第1の辺側との間の距離若しくは領域面積を小さくすると、発光領域は幅狭
の領域や小面積の領域となるため、その上の第2電極に設けられる外部接続用の領域が小
さくなるか、若しくは領域形成が困難となる。そのため、挟域部と組み合わせて延長部を
設けることで、その問題を解決する。すなわち、延長部により接続される、素子内側の発
光領域、若しくは露出領域や第1電極領域を挟んで各辺の対向側に配置された発光領域に
、その外部接続用の領域を設けることができる。これにより、所望の辺側、例えば第1の
辺側で、上記第1、3の構成による好適な挟域部を、上記第2の構成による辺に占める割
合を高くした構造とできる。また、延長部を介して素子内側や対向辺側に発光領域が延設
されることで、素子に占める発光面積の割合を大きくでき、また、電流拡散性、均一性、
それによる発光均一性、効率向上が図れるため、延長部を有することが好ましい。
上記挟域部の一部において、その他の部分より幅広とすること、また、上記各領域の面
積(S、R)の一部分の面積を大きくすることによって、その部分を外部接続用の領域と
することができる。このように、挟域部が、外部接続されず電流拡散や配線の構造を備え
る配線領域と、外部接続される外部接続領域と、を有する構造としても良い。第1の辺側
では少なくとも配線領域を有することが好ましく、素子の寸法等に応じて、非発光・発光
領域、その領域内の第1電極領域と露出領域、挟域部及びその各領域と延長部若しくはそ
の他の部分、が形成される。ここで、外部接続領域は、上記配線領域の機能を備えること
ができ、また延長部に設けることもできる。この時、外部接続領域は、延長部の辺に隣接
する隣接辺の挟域部を構成することもできる。非発光領域には、主に、上記下層側の第1
導電型の第1半導体層が露出された露出領域や、その一部に設けられる第1電極領域が含
まれ、その他、基板上の半導体層が露出した基板露出領域、第2導電型の第2半導体層上
で第2電極の非形成領域などの非電流注入部、電流阻止部などを含むこともできる。
電極が形成されていない半導体層露出領域を介して、各辺の発光領域や、その各部を配
置しても良く、上記実施形態1で示すように、各辺の端面を発光領域の半導体層端面とす
ることで、素子端面と発光領域端面の距離、つまりその領域(後述する面積S)を0とで
き好ましい。この素子外周部の露出領域は、後述の各実施形態に示すように、その外周部
で分離することで形成されるため、素子のリーク防止ができる。発光領域を素子端面とす
る場合は、発光領域で素子を分離することで形成する。
また、半導体層の露出領域などの非発光領域の内、第1電極が形成される露出領域にお
いて、発光領域がその外周を囲むように形成すると、その外周部を構成する発光領域に効
率的に電流注入することや発光させることができる。特に、第2半導体層がp型層、第1
半導体層がn型層である場合に、第2電極からの電流を第1電極の全周囲から効率的に抽
出することができ、好ましい。
以下、本発明における発光領域の他の例に係る各実施形態について、図5〜図11を用い
て説明する。図5〜図11では、図1〜3と同じ部材は同じ符号で示す。いずれの例にお
いても、同じ構造の2つの素子が、第1の辺が互いに向かい合うように支持基板にフリッ
プチップ実装されている。また、支持基板の導体配線は省略しているが、素子の各電極に
対応して設けることができる。
〔実施形態2〕
本実施形態2の発光装置に用いられる図5Aに示す発光素子は、素子内部の発光領域と
、素子外側の発光領域とを有する構造である。実施形態1に比して、素子外側の発光領域
は、その大部分が、第1の辺とその対向辺側にそれぞれ設けられ、第1の辺の隣接辺側に
は、第1の辺及びその対向辺の延長部が第1の辺の両端部に配置され、その一部が延長部
を構成し、さらにそれが延在して挟域部が設けられている。加えて、図5Aに示す発光素
子は線対称の構造であり、その中心線は、辺長さの半分超を占める第2電極が設けられた
第1辺又はその隣接辺に平行である。尚、第2電極は隣接辺側に外部接続領域が設けられ
、そこから素子内側に延在してそれより幅狭の配線領域が設けられており、第1の辺及び
その対向辺の発光領域の分離部と、隣接辺の同分離部とを構成している。第2電極は、第
1の辺の端部より内側に延長部を有して上記内側発光領域と接続し、両端部の延長部や挟
域部に外部接続領域が設けられる。以上の構造により、つまり幅広、大面積の内側の発光
領域を有することにより、半導体層表面に垂直な軸状の正面に取り出される光を高くでき
る。また、内側の発光領域より幅狭、小面積の外側の発光領域を有することにより、素子
隣接配置に好適な端面発光を実現する。
図5Aに示す発光装置において、各半導体発光素子の第2電極3は、第1の辺11と隣
接する第2の辺12側にも挟域部8a及び8bと延長部7a及び7bを有する。第2の辺
12の辺方向において、挟域部8aの長さA8a及び挟域部8bの長さA8bの合計は、
延長部7aの長さB7a及び延長部7bの長さB7bの合計とほぼ等しい。また、第1の
辺11側の挟域部6a及び6bの長さは、第2の辺12側の挟域部8a及び8bの長さよ
りも長い。ここで、図5Aに示す発光素子は実質的に正方形であることから、第1の辺1
1側の挟域部6a及び6bの長さAと第1の辺11の長さLの比A/Lは、第2
の辺12側の挟域部8a及び8bの長さAと第2の辺12の長さLの比A/L
りも大きい。また、第1の辺11及び第2の辺12は、各辺の対向辺の方向にみて、各辺
側の第1半導体層露出部2及び各対向辺と向き合っており、その領域の第2電極3の面積
、Rをそれぞれ図5Bに示す。左側の素子において右下がりの斜線で示す領域の面
積がR、右側の素子において右上がりの斜線で示す領域の面積がRであり、R、R
はそれぞれ、素子全体の面積の約21%、約49%を占めている。ここで、図5Bに示
す素子は平面視で実質的に正方形であることから、R/LはR/Lよりも小さい
。これにより、第1の辺側の端面から出射される光の強度を、第2の辺側よりも大きくで
きる。実質的に正方形とは、本発明の効果が得られる程度に正方形であればよい。また、
第2の辺12の対向辺側も、第2の辺12側と同様の形状である。
〔実施形態3〕
本実施形態3の発光装置に用いられる図6Aに示す発光素子は、実施形態2に比して、
内側の第2電極がより幅広、大面積となり、それに対して、外側の第2電極の一部である
挟域部の幅、上記各領域の面積が小さくなっている。これにより、第1電極の外部接続領
域は、隣接辺の各部に接続する第1の辺及びその対向辺の両端部の延長部に設け、第1の
辺及びその対向辺の内側の挟域部及び延長部は配線領域となっている。これにより、外側
の発光領域において、端面出射光の輝度を高め、内側の発光領域で正面輝度を高めること
ができる。
図6Aに示す発光装置は、図5Aに示す発光装置と、各半導体発光素子の第2の辺12
側の第2電極3及び発光領域1の形状が異なる。図6Aの半導体発光素子は、第2の辺1
2側の挟域部8a及び8bの長さが延長部7a及び7bよりも長く、かつ、第1の辺11
側の挟域部6a及び6bの長さAが、第2の辺12側の挟域部8a及び8bの長さA
と略等しく、つまり、第1の辺11のA/Lが第2の辺12のA/Lと略等しい
。しかし、第1の辺11側と第2の辺12側とでは、各辺側の挟域部の幅が異なり、第1
の辺11側の挟域部6a及び6bの幅が第2の辺12側の挟域部8a及び8bよりも小さ
い。また、第1の辺11及び第2の辺12は、各辺の対向辺の方向にみて、各辺側の第1
半導体層露出部2及び各対向辺と向き合っており、その領域の第2電極3の面積R、R
をそれぞれ図6Bに示す。左側の素子において右下がりの斜線で示す領域の面積がR
、右側の素子において右上がりの斜線で示す領域の面積がRであり、R、Rはそれ
ぞれ、素子全体の面積の約20%、約33%を占めている。ここで、図6Bに示す素子は
平面視で実質的に正方形であることから、R/LはR/Lよりも小さい。これら
のことから、端面から出射される光が、第2の辺側よりも第1の辺側で強い素子とするこ
とができる。
〔実施形態4〕
本実施形態4の発光装置に用いられる図7Aに示す発光素子は、各辺が挟域部と延長部
を各々有する発光領域の構造であり、実施形態2、3に比して、内側の発光領域が、隣接
辺を互いに接続する延長部として設けられ、その延長部は、対向方向に幅が異なり、幅広
な発光領域は相互に対向する2つの隣接辺側に設けられている。また第1電極は、実施形
態2、3が隣接辺の対向方向に分離して各隣接辺側に配置されていたが、この実施形態4
では、第1の辺の対向方向に分離した構造となっている。また、第1の辺及びその対向辺
側では、その挟域部が辺方向に幅の異なる構造となっており、幅広な端部側には外部接続
領域が設けられ、また延長部は、実施形態2、3と異なり、内側のそれが無くなり、端部
側の延長部だけが設けられている。この発光素子では、隣接辺側に挟域部が設けられ、そ
の挟域部を介して第1電極が辺から離間されたため、実施形態2、3に比して、その辺か
らの端面発光が強くなり、隣接辺側と、第1の辺及びその対向辺側との発光強度の分布の
差が小さい構造となっている。
図7Aに示す発光装置は、各半導体発光素子の発光領域が、露出領域2及びその表面の
第1電極4の周囲を囲むように設けられている。また、第1の辺11及び第2の辺12は
、各辺の対向辺の方向にみて、各辺側の第1半導体層露出部2及び各対向辺と向き合って
おり、その領域の第2電極3の面積R、Rをそれぞれ図7Bに示す。左側の素子にお
いて右下がりの斜線で示す領域の面積がR、右側の素子において右上がりの斜線で示す
領域の面積がRであり、R、Rはそれぞれ、素子全体の面積の約22%、約35%
を占めている。ここで、図7Bに示す素子は平面視で実質的に正方形であることから、R
/LはR/Lよりも小さい。これにより、第1の辺側から出射される光の減衰の
度合いを、発光領域全体でみて、第2の辺側よりも小さくできる。また、第1の辺11及
び第2の辺12の対向辺のR/Lは、それぞれ第1の辺11及び第2の辺12のR/Lと
ほぼ等しい。
〔実施形態5〕
本実施形態5の発光装置に用いられる図8Aに示す発光素子は、実施形態4に比して、
第2電極の外部接続領域が、内側の発光領域に設けられ、第1の辺及びその対向辺におけ
る外側の第2電極は幅が狭くなって配線領域とされ、均一幅の挟域部、延長部が配置され
、隣接辺側では、その内側の第2電極が延長部を構成する構造となっている。また素子全
体では、同一幅の外周部の第2電極と、内側の第2電極とが設けられた構造となっている
。均一幅の挟域部により、均一性の高い端面発光が第1の辺及び第2の辺側でなされ、他
方、隣接辺において、対向方向に延長部が同一幅であるため、その端面発光が低下し、実
施形態4に比して第1の辺及びその対向辺と隣接辺との間の発光差が大きくなるが、実施
形態2、3よりは均一性の高い素子となる。
上述のS/Lが全ての辺でほぼ等しい例を、図8Aに示す。図8Aの発光装置において
、各半導体発光素子は、素子の外周及び内部に露出部2が設けられており、第1電極4は
素子内部の露出部2に形成されている。図8Aに、第1の辺11と、該辺の対向辺若しく
は該対向辺より辺11の近くに配置された発光領域1と、で挟まれる領域(その面積S
)を左側の素子に右下がりの斜線で示し、第2の辺12と、該辺の対向辺若しくは該対向
辺より辺12の近くに配置された発光領域1と、で挟まれる領域(その面積S)を右側
の素子に右上がりの斜線で示す。図8Aに示す素子は実質的に正方形であり、図8Aに示
すように、第1の辺11のS/Lは第1の辺12のS/Lと略等しい。また、第
1の辺11及び第2の辺12は、それぞれの対向辺とS/Lが略等しいことから、全ての
辺のS/Lは略等しい。これにより、発光領域の形状が各辺側で異なることによる効果が
得られやすい。また、第1の辺11及び第2の辺12は、各辺の対向辺の方向にみて、各
辺側の第1半導体層露出部2及び各対向辺と向き合っており、その領域の第2電極3の面
積R、Rをそれぞれ図8Bに示す。左側の素子において右下がりの斜線で示す領域の
面積がR、右側の素子において右上がりの斜線で示す領域の面積がRであり、R
はそれぞれ、素子全体の面積の約20%、約45%を占めている。ここで、図8Bに
示す素子は平面視で実質的に正方形であることから、R/LはR/Lよりも小さ
い。
〔実施形態6〕
本実施形態6の発光装置に用いられる図9に示す発光素子は、実施形態1〜5に比して
、隣接辺で左右非対称の構造であり、一方の第1の辺11側に第2電極の挟域部及び延長
部が配置され、その対向辺13側には、第1電極が配置され、その第1電極は両端部の配
線領域と内側の外部接続領域を有する構造である。実施形態2〜5同様に、隣接辺側に挟
域部と延長部が配置され、その延長部は相互に接続して、各隣接辺の一方端部側に配置さ
れ、第1の辺側の各部を構成している。この素子では、実施形態1〜5に比して、第1の
辺及びその対向辺が異なるため、その発光差が大きく、他方第1の辺とその両端の隣接辺
とで、挟域部及び延長部が各辺に占める割合の差が小さく、同様に、上記各領域の面積S
、Rの各辺における値(S/L、R/L)の差も小さく、隣接素子を各辺側に配置しても
出力差の小さい発光装置とできる。
図9には、上述のS/Lの値が3種ある例を示す。図9に示す発光装置の各半導体発光素
子は、平面視で実質的に正方形である。図9に、第1の辺11の対向辺13と、第1の辺
11若しくは辺11より辺13の近くに配置された発光領域1と、で挟まれる領域を左側
の素子において右下がりの斜線で示し、第2の辺12と、該辺の対向辺若しくは該対向辺
より辺12の近くに配置された発光領域1と、で挟まれる領域を右側の素子において右上
がりの斜線で示す。このような領域は第1の辺11側には存在せず、S/Lは、第1の辺
11で最も小さく、次いで第2の辺12及びその対向辺、そして第1の辺の対向辺13が
最も大きい。このような素子は、図9に示すように、S/Lの最も小さい第1の辺11が
互いに向かい合うように配置される。また、辺12側の挟域部を延長部よりも長くして、
辺12が向かい合うように配置することもでき、このような構造は特に3以上の素子を配
置する場合に好ましい。
〔実施形態7〕
本実施形態7の発光装置に用いられる発光素子は、図10Aの例では、実施形態1〜6
に比して、長手形状であり、実施形態2、3同様に素子長手方向の隣接辺の対向方向に分
離した第1電極が各隣接辺側に配置され、内側の第2電極が第1の辺及びその対向辺の延
長部を構成して、実施形態5同様に共通の延長部となっている。また、挟域部は、実施形
態1同様に、第1の辺及びその対向辺側に設けられ、隣接辺側に比して、端面発光が強い
素子とできる。図11Aの例では、上記図10Aの例において、実施形態6と同様であり
、相違点として非対称な方向、隣接辺の対向方向に長手形状として、隣接辺側で相互に異
なる構造であり、実施形態4同様に、第1の辺及びその対向辺の辺方向において、幅の異
なる挟域部が設けられ、幅広の挟域部に外部接続領域が設けられる構造としている。この
長辺を形成する第1の辺により、隣接素子との対向辺が幅広とでき、隣接素子による好適
な光反射が実現できる。
さらに、図10A及び図11Aに示すように、平面視で長方形の半導体発光素子とする場
合は、他の素子と向かい合う第1の辺を第2の辺よりも長くすると、より強い光を第1の
辺側から出射でき、また、隣の素子と向かい合う端面の面積を広くできるので、より強い
光を向かい合う端面で反射して取り出すことができ、好ましい。また、図11Aに示すよ
うに、第1の辺11側の挟域部6が、辺11の垂直二等分線を軸としたときに非対称であ
る場合は、一方の素子を180度回転させて配置すると、発光強度の弱い端面と強い端面
を向かい合わせることができ、発光分布の偏りを緩和することができる。
また、図10A及び図11Aの素子において、第1の辺11及び第2の辺12は、各辺
の対向辺の方向にみて、各辺側の第1半導体層露出部2及び各対向辺と向き合っており、
その領域の第2電極3の面積R、Rをそれぞれ図10B、図11Bに示す。左側の素
子において右下がりの斜線で示す領域の面積がR、右側の素子において右上がりの斜線
で示す領域の面積がRであり、素子全体の面積に占める各領域の割合は、図10Bにお
いては、Rが約51%、Rが約63%、図11Bにおいては、Rが約51%、R
が約58%である。ここで、第1の辺11の長さと第2の辺12の長さの比は、図10B
の素子と図11Bの素子とで等しく、およそ2:1であることから、図10Bの素子はR
/Lが約26、R/Lが約63、図11Bの素子はR/Lが約26、R
が約58となり、いずれもR/LがR/Lよりも小さい。
〔本発明のその他の構成及び形態〕
以下、本発明、上記各実施形態における各構成について詳述する。
(第2半導体層、第1半導体層)
第1及び第1半導体層としては、GaNやその他の半導体を使用したものを挙げることが
できる。半導体発光素子を蛍光物質で覆う場合には、その蛍光物質を効率良く励起できる
短波長が発光可能な窒化物半導体(InAlGa1−X−YN、0≦X、0≦Y、X
+Y≦1)が好適に挙げられる。半導体層の構造としては、MIS接合、PIN接合やp
n接合などを有するホモ構造、ヘテロ構造あるいはダブルへテロ構成のものが挙げられる
。半導体層の材料やその混晶比によって発光波長を種々選択することができる。また、発
光領域の第2半導体層と第1半導体層との間に、半導体活性層を量子効果が生ずる薄膜に
形成させた単一量子井戸構造や多重量子井戸構造を有する構造とすることもできる。窒化
物半導体を使用した場合、半導体層の成長用基板にはサファイア、スピネル、SiC、S
i、ZnO等の材料が好適に用いられ、結晶性の良い窒化物半導体を量産性よく形成させ
るためにはサファイア基板を用いることが好ましい。
また、第1導電型の半導体層は、第2導電型の半導体層の一部を除去して露出されており
、発光素子の発光に寄与しない第1導電型の半導体層が露出された領域を減らし第2導電
型の半導体層の領域を相対的に増やすことで、発光素子の光取り出し効率を向上させるこ
とができる。また、第1及び第1導電型層の半導体層の間に設けられる発光層が第1の辺
側で露出していると、第1の辺側から出射される光の減衰を抑制でき、好ましい。
(第2電極、第1電極)
第2電極は、典型的には、第2導電型の半導体層に、発光素子に投入された電流を第2導
電型の半導体層の全面に広げるための電流拡散電極として設けられる。第2電極は、好ま
しくは第2導電型の半導体層のほぼ全面に設けられる。特に第2導電型の半導体層がp型
層である場合には、電流が面内方向に広がりにくいためこのような構造とすることが好ま
しい。第2電極には、バンプなどの導電部材と接続する第2導電型層側の台座電極を設け
ることもできる。第1電極は、第1導電型の半導体層表面に、バンプなどの導電部材と接
続する台座電極として設けられる。
第2電極及び第1電極の形成は、エッチング等の方法により第1導電型の半導体層を露
出させた後、蒸着法やスパッタリング法により行う。本実施形態において、第2電極は、
発光素子からの光を発光素子の透光性基板方向へ反射させる材料とすることが好ましい。
例えば、Ag、Al、Rh、Rh/Irが挙げられる。その他、p型半導体層の全面にI
TO(インジウム(In)とスズ(Sn)の複合酸化物)、ZnOのような酸化物導電膜
や、Ni/Au等の金属薄膜を透光性電極として形成させることができる。また、第2電
極は、挟域部のような幅の狭い部分においても素子を発光させることができる程度の厚み
で形成され、例えば100nm〜1μm程度の膜厚が選択される。
(半導体発光素子)
本発明の半導体発光素子としては、少なくとも発光装置に配置され相互に隣接する素子
間で相互に対向する第1の辺を有するものであり、例えば、1辺とそれ以外が半円など、
一部に曲線を有するような素子とすることもできるが、好適には多角形であり、さらに好
ましくは第1の辺とその対向辺の2辺、さらに第1の辺とその隣接辺の3辺、さらに好ま
しくはそれら4辺を有する多角形、さらには四辺形であり、例えば平行四辺形、台形など
とすることもできる。好ましい四辺形として、具体的には、平面視で正方形や長方形など
、矩形のものを用いる。他の素子と向かい合う第1の辺は、他の辺、特に隣接辺に比して
、同一長さの辺(正方形)や長辺(長方形)であることが好ましく、これにより、隣接素
子からの光を反射可能な端面を大きくすることができ、本発明の効果が得られやすい。ま
た、隣接素子間で、各第1の辺の長さが異なる形態、辺の一部だけが対向する形態などと
することもできるが、好適には、同一長さで、辺全体で対向するように正対する形態であ
ることで、隣接素子による好適な反射がなされ好ましい。また、隣接素子の第1の辺を相
互に交差する方向に傾斜して対向させることもできるが、傾斜した方向への光反射により
、その発光が強くなり、指向性が悪くなる場合があるため、好ましくは相互に略平行とす
る。
本発明の発光素子の寸法として、第1の辺に挟域部、延長部など、若しくは上記各領域
を有する所望の第2電極及び発光領域が設けられるため、その構造部の面積を要し、具体
的には、300μm以上とする。また、第1の辺とその対向辺側、若しくは隣接辺にも、
所望の第2電極及び発光領域の構造、例えば上記延長部、挟域部、第1電極領域や、上記
素子外側及び内側の第2電極を設けるには、さらに大きな面積を要する。具体的には60
0μm以上とすることが好ましく、上限は、通常、数mm程度が選択される。複数の半導
体発光素子間の距離は、小さくすることで、向かい合う端面間で効率よく反射させること
ができ、具体的には約200μm以下とすることが好ましい。また、第1の辺の長さ以下
や、第1の辺の長さの20%以下とすることもできる。また、下限は素子の実装精度によ
って決定され、例えば数十μm以上とすることができる。
成長用基板として、サファイア等の透光性基板を用いることで、成長用基板からも光を
取り出すことができ、また、成長用基板の厚みを研磨などにより薄くして、発光素子の成
長用基板面から光を取り出しやすくすることができる。このとき、成長用基板に積層され
た半導体層の厚みは通常数μm程度と薄いため、成長用基板は少なくとも半導体層以上の
厚みで残しておくことが好ましく、例えば10μm〜500μm程度、さらには50μm
〜200μm程度の範囲とすることができる。
(支持基板)
本実施形態における支持基板としては、発光素子の電極に対向する面に導体配線が施され
、フリップチップ実装された発光素子を固定・支持するための部材を用いることができる
。さらに、支持基板をリード電極に導通させるときには、発光素子に対向する面からリー
ド電極に対向する面にかけて導電部材により導体配線が施される。支持基板の材料は、発
光素子と熱膨張係数がほぼ等しいもの、例えば窒化物半導体発光素子に対しては窒化アル
ミニウムが好ましく、これにより支持基板と発光素子との間に発生する熱応力の影響を緩
和することができる。あるいは、静電保護素子の機能を備えさせることもでき安価でもあ
るシリコンを用いることもできる。その他に、複数の素子が接続される回路が設けられた
プリント基板、発光装置の窓部、凹部などにある実装基体などを用いても良い。
(導体配線)
導体配線の材料とする金属は、Auや銀白色の金属であるAlなどが用いられる。反射
率の高い銀白色の金属とすることにより、発光素子からの光が支持基板と反対側の方向に
反射され、発光装置の光取り出し効率が向上するため好ましい。ここで、導体配線の材料
とする金属は、金属相互間の接着性の良さ、いわゆる濡れ性等を考慮して選択されること
が好ましい。例えば、Auバンプを介して、Auを含むLEDチップの電極とを超音波ダ
イボンドにより接合するとき、導体配線は、AuまたはAuを含む合金とする。
図3に、図2Aの発光装置にかかる導体配線10a〜10cのパターンを示す。図2A及
び図3に示される支持基板9には、第1の導体配線10aが、一方の発光素子の第2電極
3に対向する位置に設けられ、同様に、第2の導体配線10bが、他方の発光素子の第2
電極4に対向する領域に設けられている。さらに、一方の発光素子の第1電極4と他方の
発光素子の第2電極3とを電気的に接続させ、両素子を直列接続とさせる第3の導体配線
10cが設けられている。ここで、各素子は、半導体層の端部が電極などの遮光性部材か
ら露出されて光出射可能であり、この端部に対向する支持基板の表面には、各素子の第1
電極4に接合する第2の導体配線10b及び第3の導体配線10cの一部が延伸して設け
られている。これにより、図4に示すように、平面視で第1、2電極間領域において、そ
こから漏れる光を導体配線で反射させることができ、特に図2Aに示すように素子外縁部
において素子外側に延伸する配線部により、発光装置の光束をさらに高めることができる
。特に、支持基板の材料として窒化アルミニウムなど発光素子からの光を吸収しやすいも
のを用いる場合に、高い効果が得られる。また、導体配線は2つの素子の間を覆うように
設けることが好ましい。
また、第1電極4と接続する導体配線のパターンは、図2Aに示すように、第2電極3
のパターンと一致するように設けること、具体的には平面視で主に素子の内側における第
1電極に隣接する第2電極において、第2電極がその導体配線に重なり合い、各端部が略
一致するように構成することが好ましい。また、第1半導体層の露出部と第2電極が設け
られた第2半導体層との間で、発光層の端面が露出している素子を用いるときに、配線電
極は、少なくとも、平面視で発光層の端面露出部の下に設けられることが好ましい。これ
により、図4に示すように、上記第1電極端部から延設される配線部により、第2電極3
と第1電極4との間から漏れる光を第1電極4と接続する導体配線で反射できるとともに
、第2電極3と接続する導体配線の面積を大きくすることができる。このとき、平面視で
、第1電極端部より隣接する第2電極方向外側に延在して、その導体配線が設けられるこ
とが好ましい。
なお、図2Aでは、各素子の半導体層露出部分に対応して設けられる導体配線を、第1電
極と接続する導体配線としたが、第2電極と接続する導体配線としてもよい。図1に示す
素子のように第1電極が第2電極よりも面積が小さい場合は、第2電極と接続する導体配
線を半導体層露出部分に対応する位置まで延在させると、第1電極と接続する導体配線の
面積が小さくなり、電極と導体配線との接続にさらに高い精度が必要となり、また、図4
に示すように発光領域端部から外方向、第1電極の導体配線、に多くの光が到達するため
、図2Aに示すようなパターンとすることが好ましい。
(発光装置)
本実施形態の発光装置では、半導体発光素子が複数、支持基板に実装され、各素子は第1
の辺が互いに略平行に向かい合うように配置される。これにより、複数の素子の向かい合
う端面間で効率よく反射でき、発光装置の光取り出し効率を向上させることができる。ま
た、図2Aに示す発光装置は2つの発光素子を直列接続としているが、並列接続とするこ
ともできる。並列接続とすると、直列接続とした場合と比較して、導体配線が簡略化され
、放熱性を向上させることができる。本発明の発光装置は、各素子を、電極形成面側を発
光面側として、その対向面側を実装面側とするフェースアップ実装やフリップチップ実装
とすることができる。特にフリップチップ実装とすることが好ましく、光を成長用基板側
から取り出すフリップチップ実装とすることで、フェースアップ実装における発光領域上
面の発光で反射された光が基板と素子の端面から出射する光の割合をフェースアップ実装
よりも大きく、上記隣接素子による反射を好適に利用できるためである。
上述の各例では、発光領域の形状が同一の半導体発光素子を複数配置する場合について示
した。これにより、出射される光の強度が同程度の部分を向かい合わせることができ、ま
た、第1の辺の長さが同じであるので、向かい合う端面間において効率よく反射できる。
一方、第2電極の形状や素子のサイズなどが異なる発光素子を並べて配置することもでき
、この場合も同様に、各素子の第1の辺が略平行に互いに向かい合うように列状に配置す
る。
本実施形態において、半導体発光素子の電極と支持基板の導体配線とを接合する導電部
材としては、バンプと呼ばれる金属材料を用いることができる。実装された発光素子と発
光素子との間に生じた間隙は、透光性の樹脂層により封止することができる。樹脂層の材
料としては、例えばシリコン樹脂やエポキシ樹脂等が挙げられる。また、素子間を封止す
る樹脂層は、素子間を架設するように連続して、光学的に接続されていることが好ましい
。樹脂層と別の部材との界面が素子間にあると、一方の素子の端面から出射した光が樹脂
層の界面で屈折または反射されてしまい、隣接する他方の素子端面まで到達しにくいため
である。また、素子間や素子の上面を封止する樹脂層に蛍光体を含有させて波長変換部材
とすることもできる。波長変換部材は、該発光素子からの光の少なくとも一部を吸収し異
なる波長を有する光を発する蛍光体を含有する。
本実施例にかかる発光装置について、図12Aに示す。本実施例における発光装置201
は、同構造の2つの半導体発光素子が同一の支持基板29にバンプにより、列状にフリッ
プチップ実装されてなる。各素子は第1の辺211が互いに略平行に向かい合うように、
支持基板29表面の導体配線210a〜210cに接続される。このとき、図12Aに示
すように、1つの素子の第2電極の外部接続領域215と第1電極の外部接続領域216
は、異なる導体配線に接続される。
本実施例における発光素子は、各辺が約1mmの平面視で実質的に正方形の素子であり、
半導体層成長用の透光性基板220上に、n型半導体層とp型半導体層との積層構造を含
む発光領域21を有し、p型半導体層表面に第2電極としてp電極23、p型半導体層か
ら露出されたn型半導体層を含む露出領域22の表面に第1電極としてn電極24が、そ
れぞれ設けられている。p電極23は、素子の第1の辺211側に挟域部26a及び26
bと延長部25とを有しており、第1の辺211の辺方向の長さは、挟域部26a及び2
6bが約330μmずつで合計約660μm、延長部25が約244μmであり、挟域部
26a及び26bの長さが延長部25よりも長い。また、図12Bに示すように、右側の
素子において右上がりの斜線で示すRは発光領域全体の面積と等しくなるため、左側の
素子において右下がりの斜線で示すRの方がRよりも小さい。具体的には、第1の辺
211及びその対向辺213におけるR/Lがそれぞれ約0.29mm/mmであり、
第2の辺212及びその対向辺214におけるR/Lがそれぞれ約0.41mm/mm
である。
一方、第1の辺211と隣接する第2の辺212側には、延長部27のみが配置されてい
る。また、1つの辺と、該1つの辺の対向辺若しくは対向辺より該1つの辺の近くに配置
された発光領域と、で挟まれる領域の面積Sと、該辺の長さLとの比S/Lは、第1の辺
211及びその対向辺213がそれぞれ約0.12mm/mm、第2の辺212及びそ
の対向辺214がそれぞれ約0.24mm/mmと、第1の辺211と対向辺213の
組が第2の辺212と対向辺214の組よりも小さく、つまり発光領域21は、第1の辺
211の組の方が、第2の辺212の組よりも近い。本実施例の各半導体層及び電極の平
面視形状は、素子の正方形中心を軸とする180度回転対称であり、第1の辺又は第2の
辺に平行な中心線を対称軸とする線対称である。また、2つの素子間の距離は100μm
程度である。
本実施例における発光素子は、活性層としてIn0.3Ga0.7N半導体を有し、ド
ミナント波長が455nmの窒化物半導体発光素子を用いる。発光素子は、サファイア基
板上にMOCVD法で窒化物半導体を成膜させることにより形成させることができ、サフ
ァイア基板上に、バッファ層を介して、Siがドープされたn型の窒化物半導体層、バリ
ア層としてGaN層、井戸層としてInGaN層を1セットとして複数層積層された多重
量子井戸構造の活性層、Mgがドープされたp型の窒化物半導体層が順次積層される。
本実施例の発光素子は、エッチングにより、p型窒化物半導体層、活性層、及びn型窒
化物半導体層の一部を除去して、n型窒化物半導体層の表面を露出させ、窒化物半導体の
同一面側でp型窒化物半導体層およびn型窒化物半導体層の各表面を露出させている。ま
た、素子外周部分は、各半導体層が除去され、透光性基板の表面を露出させている。p型
窒化物半導体層表面のほぼ全面には、Ni、Ag、Ti、Ptを材料とするp電極23が
設けられている。このような電極とすることにより、p電極23を流れる電流がp型コン
タクト層の広範囲に広がるようにし、半導体発光素子の発光効率を向上させることができ
る。また、p電極を反射性の電極とすることで、発光素子からの光がp電極23で反射さ
れサファイア基板側から出射することができ、フリップチップ実装された発光素子からの
光取り出し効率を向上させることができる。さらに、p電極23表面には、Au、Rh、
Pt、Niを材料とするp側台座電極が設けられており、また、n型窒化物半導体層層2
2の表面には、Al-Si-Cu合金、W、Pt、Au、Niを材料とするn電極24が設
けられている。ここで、p側台座電極とn電極を同一材料とし、同時に形成させることで
、電極を形成するための工程数を減らすこともできる。さらに、各電極と半導体層の表面
を覆うように、ケイ素酸化物からなる絶縁性の保護膜が形成されている。保護膜は、p電
極及びn電極のバンプ接合位置に開口部を有する。
図12Aに示すように、本実施例に使用される支持基板29は、窒化アルミニウムのプ
レートにAuを材料とする導体配線210a〜210cが施され、Auバンプを介して発
光素子のp電極23およびn電極24側が接合される。さらに、導体配線の、発光素子の
p電極23に対向する領域の面積は、n電極24に対向する領域の面積より大きい。また
、本実施例における発光素子は、2つの素子が直列接続とされたものである。導体配線の
うち発光素子の正電極と対向する領域の面積は、発光素子の負電極と対向する領域より大
きく、載置されるバンプの数も多くされる。図12Aに示す導体配線は、一方の発光素子
のp電極23に対応する第1の導体配線210aと、他方の発光素子のn電極24に対応
する第2の導体配線210bと、一方の素子のn電極24と他方の素子のp電極23とを
電気的に接続させ両素子を直列接続とさせる第3の導体配線210cとが設けられている
。また、発光素子を覆うように、波長変換部材として、YAG系蛍光体を含有するシリコ
ン樹脂がスクリーン印刷されている。波長変換部材は、発光素子の上面や側面を覆ってお
り、2つの素子の間にも充填される。支持基板は、パッケージに搭載して導電性ワイヤを
介して外部電極と接続させ、発光装置とすることができる。
ここで、比較例1として、図13に示すように、半導体発光素子の第2の辺212が互
いに向かい合うように配置する以外は、実施例1と同様の発光装置を作製する。実施例1
と比較例1にかかる発光装置の光束は、それぞれ電流約700mAで、実施例1が228
.2lm、比較例1が220.7lmであり、実施例1の発光装置とすることで光束が約
3.4%向上する。また、発光強度分布については、発光素子の向かい合う端面間の発光
強度は、実施例1で比較例1よりも強く、本実施例の発光装置とすることで、素子端面か
ら出射した光を隣接する素子間で効率的に反射でき、発光装置の光束を向上させることが
できる。
図14は、実施例2にかかる半導体発光素子を示す模式的な上面図であり、図15Aは、
実施例2にかかる発光装置の上面外観を模式的に示す上面図である。本実施例における発
光装置301は、同構造の2つの半導体発光素子が同一の支持基板39の導体配線310
a〜310cに列状にフリップチップ実装されてなり、実施例1の発光装置とは実装され
る半導体発光素子の発光領域の形状が異なる。また、導体配線310a〜310cの負電
極と接続する部分は発光素子の正負電極間の発光層端部に対向する位置まで延伸して設け
られており、このような導体配線の端部はp電極33のn電極34側の端部とほぼ一致し
ている。また、図15Aに示すように、1つの素子の第2電極の外部接続領域315と第
1電極の外部接続領域316は、異なる導体配線に接続される。
図14に示す本実施例の発光素子は、各辺が約1mmの平面視で実質的に正方形の素子で
あり、半導体層成長用の透光性基板320上に、n型半導体層とp型半導体層との積層構
造を含む発光領域31を有し、p型半導体層表面に第2電極としてp電極33、p型半導
体層から露出されたn型半導体層を含む露出領域32の表面に第1電極としてn電極34
が、それぞれ設けられている。p電極33は、素子の第1の辺311側に挟域部36と延
長部35a及び35bとを有しており、第1の辺311の辺方向の長さは、挟域部36が
約704μm、延長部35a及び35bが約111μmずつで合計約222μmであり、
挟域部36の長さが延長部35a及び35bよりも長い。また、発光領域31は開口部を
有し、開口部内に露出された露出領域32表面にn電極34が設けられている。
一方、第1の辺311と隣接する第2の辺312側には、延長部37a〜37dのほかに
、挟域部38a〜38cが配置されている。第2の辺312の辺方向において、延長部3
7a及び37dの長さはそれぞれ約80μm、延長部37b及び37cの長さはそれぞれ
228μm、挟域部38a及び38cの長さはそれぞれ約58μm、挟域部38bの長さ
は約194μmである。よって、挟域部38a〜38cの長さは合計約310μmとなり
、延長部37a〜37dの長さの合計約616μmよりも小さい。また、図15Bに示す
ように、右側の素子において右上がりの斜線で示すRは発光領域全体の面積と等しくな
るため、左側の素子において右下がりの斜線で示すRの方がRよりも小さい。具体的
には、第1の辺311及びその対向辺313におけるR/Lがそれぞれ約0.26mm
/mmであり、第2の辺312及びその対向辺314におけるR/Lがそれぞれ約0.4
3mm/mmである。また、S/Lは、いずれの辺も約0.082mm/mmで、ほ
ぼ等しい。
比較例2として、図16に示すように、半導体発光素子を第2の辺312が向かい合う
ように配置する以外は実施例2と同様の発光装置を作製する。実施例2及び比較例2にか
かる発光装置の光束は、電流約700mAにおいて、それぞれ、実施例2が240.4l
m、比較例2が235.6lmであり、実施例2の発光装置とすることで光束が約2%向
上する。このように、本実施例の発光装置とすることによって、発光装置の光束を向上さ
せることができる。
図17は、実施例3にかかる半導体発光素子を示す模式的な上面図であり、図18Aは、
実施例3にかかる発光装置の上面外観を模式的に示す上面図である。本実施例における発
光装置401は、同構造の2つの半導体発光素子が同一の支持基板49の導体配線410
a〜410cに列状にフリップチップ実装されてなり、実施例1及び2の発光装置とは実
装される半導体発光素子の発光領域の形状が異なる。また、実施例2と同様に、導体配線
410a〜410cの負電極と接続する部分は発光素子の正負電極間の発光層端部に対向
する位置まで延伸して設けられており、導体配線の端部はp電極43のn電極44側の端
部とほぼ一致している。また、図18Aに示すように、1つの素子の第2電極の外部接続
領域415と第1電極の外部接続領域416は、異なる導体配線に接続される。
図17に示す本実施例の発光素子は、各辺が約1mmの平面視で実質的に正方形の素子で
あり、半導体層成長用の透光性基板420上に、n型半導体層とp型半導体層との積層構
造を含む発光領域41を有し、p型半導体層表面に第2電極としてp電極43、p型半導
体層から露出されたn型半導体層を含む露出領域42の表面に第1電極としてn電極44
が、それぞれ設けられている。p電極43は、素子の第1の辺411側に挟域部46a〜
46cと延長部45a〜45dとを有しており、第1の辺411の辺方向の長さは、挟域
部46a〜46cの合計が約552μm、延長部45a〜45dの合計が約372μmで
あり、挟域部46a〜46cの長さが延長部45a〜45dよりも長い。また、発光領域
41は開口部を有し、開口部内に露出された露出領域42表面にn電極44が設けられて
いる。
一方、第2の辺412側には、延長部47a〜47cと、挟域部48a及び48bが配置
されている。第2の辺412の辺方向において、挟域部48a及び48bの長さの合計は
約408μmとなり、延長部47a〜47cの長さの合計約516μmよりも小さい。ま
た、図18Bに示すように、右側の素子において右上がりの斜線で示すRは発光領域全
体の面積と等しくなるため、左側の素子において右下がりの斜線で示すRの方がR
りも小さい。具体的には、第1の辺411及びその対向辺413におけるR/Lがそれぞ
れ約0.42mm/mmであり、第2の辺412及びその対向辺413におけるR/L
がそれぞれ約0.51mm/mmである。また、S/Lは、いずれの辺も約0.071
mm/mmで、ほぼ等しい。このような実施例3にかかる発光装置を2つ並べて配置し
たとき、つまり、4つの発光素子が一列に並ぶように配置したときの光束は、電流約65
0mAにおいて約476.8lmであった。
比較例3として、図19に示すように、半導体発光素子を第2の辺412が向かい合う
ように配置する以外は実施例3と同様の発光装置を作製する。実施例3と比較例3の発光
装置で光束を比較すると、実施例3の方が光束が高くなる。
図1は、本発明の実施形態にかかる半導体発光素子を示す模式的な平面図である。 図2Aは、本発明の実施形態にかかる発光装置の上面外観を模式的に示す平面図である。 図2Bは、本発明の実施形態にかかる発光素子の領域(その面積RとR)を模式的に示す平面図である。 図3は、本発明の実施形態にかかる支持基板を示す模式的な平面図である。 図4は、本発明を説明するための概念図である。 図5Aは、本発明の実施形態にかかる発光装置を示す模式的な平面図である。 図5Bは、本発明の実施形態にかかる発光素子の領域(その面積RとR)を模式的に示す平面図である。 図6Aは、本発明の実施形態にかかる発光装置を示す模式的な平面図である。 図6Bは、本発明の実施形態にかかる発光素子の領域(その面積RとR)を模式的に示す平面図である。 図7Aは、本発明の実施形態にかかる発光装置を示す模式的な平面図である。 図7Bは、本発明の実施形態にかかる発光素子の領域(その面積RとR)を模式的に示す平面図である。 図8Aは、本発明の実施形態にかかる発光装置を示す模式的な平面図である。 図8Bは、本発明の実施形態にかかる発光素子の領域(その面積RとR)を模式的に示す平面図である。 図9は、本発明の実施形態にかかる発光装置を示す模式的な平面図である。 図10Aは、本発明の実施形態にかかる発光装置を示す模式的な平面図である。 図10Bは、本発明の実施形態にかかる発光素子の領域(その面積RとR)を模式的に示す平面図である。 図11Aは、本発明の実施形態にかかる発光装置を示す模式的な平面図である。 図11Bは、本発明の実施形態にかかる発光素子の領域(その面積RとR)を模式的に示す平面図である。 図12Aは、本発明の実施例1にかかる発光装置の上面外観を模式的に示す平面図である。 図12Bは、本発明の実施形態にかかる発光素子の領域(その面積RとR)を模式的に示す平面図である。 図13は、本発明の比較例1にかかる発光装置の上面外観を模式的に示す平面図である。 図14は、本発明の実施例2にかかる半導体発光素子を示す模式的な平面図である。 図15Aは、本発明の実施例2にかかる発光装置の上面外観を模式的に示す平面図である。 図15Bは、本発明の実施形態にかかる発光素子の領域(その面積RとR)を模式的に示す平面図である。 図16は、本発明の比較例2にかかる発光装置の上面外観を模式的に示す平面図である。 図17は、本発明の実施例3にかかる半導体発光素子を示す模式的な平面図である。 図18Aは、本発明の実施例3にかかる発光装置の上面外観を模式的に示す平面図である。 図18Bは、本発明の実施形態にかかる発光素子の領域(その面積RとR)を模式的に示す平面図である。 図19は、本発明の比較例3にかかる発光装置の上面外観を模式的に示す平面図である。 図20は、従来の発光装置の上面外観を模式的に示す平面図である。
1、21、31、41 発光領域
2、22、32、42 露出部
3 第2電極
4 第1電極
5、5a、5b、25、35a、35b、45a〜45d 延長部
6、6a、6b、6c、6d、26a、26b、36、46a〜46c 挟域部
7、7a、7b、7c、27、37a〜37d、47a〜47c 第2の辺側の延長部
8、8a、8b、8c、38a〜38c、481、48b 第2の辺側の挟域部
9、29、39、49 支持基板
10a〜10c、210a〜210c、310a〜310c、410a〜410c 導体
配線
11、211、311、411 第1の辺
12、212、312、412 第2の辺
13、213、313、413 第1の辺の対向辺
14、214、314、414 第2の辺の対向辺
15、215、315、415 第2電極の外部接続領域
16、216、316、416 第1電極の外部接続領域
100 半導体発光素子
101、201、301、401 発光装置
23、33、43 p電極
24、34、44 n電極
220、320、420 透光性基板
51 Al基板
52 回路パターン
53 GaN系LED素子

Claims (13)

  1. 透光性基板上に第1導電型の第1半導体層と第2導電型の第2半導体層とが順に設けら
    れ、前記第1半導体層の露出部に第1電極、前記第2半導体層に第2電極がそれぞれ設け
    られた半導体発光素子と、前記半導体発光素子が載置される支持基板と、を備える発光装
    置であって、
    前記半導体発光素子は、平面視で矩形であり、少なくとも第1の辺と、前記第1の辺と
    異なる第2の辺とを有し、
    前記第1の辺側の素子端面から出射される光は、前記第2の辺側の素子端面から出射され
    る光よりも強く、
    前記半導体発光素子が2つ以上、前記第1の辺が互いに略平行に向かい合うように、前
    記支持基板に列状にフリップチップ実装された発光装置。
  2. 前記各半導体発光素子の前記第1の辺は、該辺の対向辺の方向にみて、前記第1の辺側
    の前記第1半導体層の露出部及び前記対向辺と向き合っており、その領域の前記第2電極
    の面積をR、前記第1の辺の長さをLとし、
    前記第2の辺は、該辺の対向辺の方向にみて、前記第2の辺側の前記第1半導体層の露
    出部及び前記対向辺と向き合っており、その領域の前記第2電極の面積をR、前記第2
    の辺の長さをLとしたとき、
    とLの比R/Lは、RとLの比R/Lよりも小さい請求項1に記載
    の発光装置。
  3. 前記第1の辺の対向辺は、前記第1の辺の方向にみて、前記対向辺側の前記第1半導体
    層の露出部及び前記第1の辺と向き合っており、その領域の前記第2電極の面積をR1´
    、前記第1の辺の長さをL1´としたとき、
    1´とL1´の比R1´/L1´は、前記R/Lと略等しい請求項2に記載の発
    光装置。
  4. 前記第2の辺は、前記第1の辺に隣接する辺である請求項1〜3のいずれか1項に記載
    の発光装置。
  5. 前記各半導体発光素子の前記第2電極は、前記第1の辺側に、前記第1の辺と前記露出
    部に挟まれた第1挟域部と、該挟域部よりも素子の内側に延びた第1延長部とを有し、
    前記第1の辺の長さ方向において、前記第1挟域部が前記第1延長部よりも長い請求項
    1〜4のいずれか1項に記載の発光装置。
  6. 前記第2電極は、前記第2の辺側に第2延長部を有し、前記第2延長部で前記第2の辺
    側の第2電極が構成されてなる請求項5に記載の発光装置。
  7. 前記第2電極は、前記第2の辺側に、第2挟域部と、該第2挟域部よりも素子の内側に
    延びた第2延長部とを有し、
    前記第1の辺の長さ方向における前記第1挟域部の長さAと前記第1の辺の長さL
    の比A/Lは、前記第2の辺の長さ方向における前記第2挟域部の長さAと前記第
    2の辺の長さLの比A/Lと、略等しいかそれよりも大きい請求項5に記載の発光
    装置。
  8. 前記第2の辺の長さ方向において、前記第2挟域部が前記第2延長部よりも短い請求項
    7に記載の発光装置。
  9. 平面視で、前記半導体発光素子の1つの辺と、該辺の対向辺及び前記第2半導体層と、
    で挟まれる領域の面積Sと、該辺の長さLとの比S/Lは、
    前記第1の辺のS/Lが、前記第2の辺のS/Lと略等しい請求項1〜8のい
    ずれか1項に記載の発光装置。
  10. 平面視で、前記半導体発光素子の1つの辺と、該辺の対向辺及び前記第2半導体層と、
    で挟まれる領域の面積Sと、該辺の長さLとの比S/Lは、
    前記第1の辺のS/Lが、前記第2の辺のS/Lよりも小さい請求項1〜8の
    いずれか1項に記載の発光装置。
  11. 前記第2の辺は、前記第1の辺の対向辺と異なる辺であり、
    前記第1の辺及び前記第1の辺の対向辺は、前記S/Lが略同一であり、前記第2の辺
    及び前記第2の辺の対向辺も前記S/Lが略同一である請求項9又は10に記載の発光装
    置。
  12. 前記第2電極は、前記第1電極よりも前記第1の辺側に設けられている請求項1〜11の
    いずれか1項に記載の発光装置。
  13. 前記半導体発光素子は、前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に発光層を有し、
    前記第1半導体層の露出部と前記第2電極が設けられた前記第2半導体層との間で、前記
    発光層の端面が露出しており、
    前記支持基板は、前記半導体発光素子の前記第1及び第2電極が接続される配線電極を
    有し、
    前記配線電極は、少なくとも、平面視で前記発光層の端面露出部の下に設けられる請求
    項1〜12のいずれか1項に記載の発光装置。
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