JP2014089066A - 電気泳動用試験具およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】高精度かつ信頼性の高い電気泳動を行うことができる電気泳動用試験具を提供すること。
【解決手段】ゲル層を乾燥させた乾燥膜が基材上に形成されてなる電気泳動用試験具であって、
前記乾燥膜は、ｐＨ勾配を有すると共に、前記ｐＨ勾配の方向に前記乾燥膜の膜厚が変化する厚さ勾配を有し、
前記乾燥膜を膨潤させて復元するゲル層の厚さ勾配は、前記乾燥膜の前記厚さ勾配よりも小さいことを特徴とする電気泳動用試験具。
【選択図】図２

Description

本発明は、電気泳動用試験具およびその製造方法に関する。

近年、生物が有する全タンパク質の構造および機能を網羅的に解析することを目的とするプロテオーム解析の一環として、前記の２つの電気泳動法を組み合わせた二次元電気泳動法が利用されている。二次元電気泳動法では、一次元目に等電点電気泳動が行われ、続く二次元目にSDS-PAGEが行われる。これにより、数千種類ものタンパク質を高い分解能で一挙に分離することが可能となった。

このように、ゲル電気泳動法はタンパク質などの生体高分子の分離分析に不可欠な手法であるが、いずれの電気泳動法においても分析の精度および再現性は、用いるゲルの品質によるところが大きい。したがって、当該分野においては、分解能の高いゲルを搭載した電気泳動用試験具を安定して製造可能な技術の開発が望まれている。

例えば、特許文献１には、濃度が異なる２種類のゲル原液を撹拌槽で混合し、その混合液をゲル容器内へ底部から導入してゲル化（重合）させることにより濃度勾配を有するゲルシートを作製する方法が開示されている。この場合、ゲル容器内へ導入する混合液中の各ゲル原液の割合を変化させることによって、所定の濃度勾配を有するSDS-PAGE用ゲルシートが得られる。また、特許文献１に記載のグラジェントメイカーを用い、ｐＨが異なる２種類のゲル原液を撹拌槽で混合し、その混合液をゲル容器内へ底部から導入してゲル化させることによりｐＨ勾配を有するゲルシートを作製することができる。この場合、ゲル容器内へ導入する混合液中の各ゲル原液の割合を変化させることによって、所定のｐＨ勾配を有するゲルシートが得られ、このゲルシートをｐＨ勾配方向に所定の幅で切断して細長いプレート上に貼り付けることにより、等電点電気泳動用のゲルプレートが得られる。

特許文献１に記載のゲルプレート製造方法では、ゲル容器内でのｐＨ勾配の管理が難しく、安定した品質のゲルプレートが得られ難いという面があった。そこで、ｐＨ勾配を精度よく管理できる技術として、プレート上にモノマー溶液を塗布するゲルプレート製造方法（インクジェット法）が特許文献２に開示されている。すなわち、基材上に液たまりを形成し、液たまりにモノマー溶液を吐出した後、重合開始剤を塗布して塗布膜をゲル化させることにより、基材上にゲル層を形成する。この場合、ｐＨが異なる２種類のモノマー溶液を塗布量を変化させながら液たまりに塗布することにより、所定のｐＨ勾配を有する等電点電気泳動用のゲルプレート（電気泳動用試験具）が得られる。なお、電気泳動用試験具は、プレート上のゲル層を乾燥して乾燥膜を形成することにより保存可能とされ、使用時に乾燥膜を膨潤溶液にて膨潤させることによりゲル層が復元する。

特開昭６２−１６７４５９号公報 特開２０１２−２７３９号公報

図８は特許文献２の電気泳動用試験具およびその製造方法を説明する概念図である。なお、図８はそれぞれ上下５段から構成されている。図８の上から１段目は、後述するゲル製造時に用いる２種類のｐＨ緩衝溶液である酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液の塗布量の変化を面積で示している。図８の２段目は、酸性モノマー溶液（細線）と塩基性モノマー溶液（太線）の吐出量の変化および単位面積当たりの吐出量を線グラフで示している。図８の３段目は、酸性モノマー溶液中のｐＨ緩衝剤の濃度（細線）と塩基性モノマー溶液中のｐＨ緩衝剤の濃度（太線）の変化を線グラフで示している。図８の４段目は、ゲル層の乾燥膜を膨潤させたときの膜厚の厚さ勾配を示している。図８の５段目は、ゲル層の電気泳動方向位置におけるｐＨを線グラフで示している。

特許文献２の場合、図８の５段目の線グラフのようなｐＨ勾配となるよう、すなわち、基材Ｓの一端Ｓ₁から他端Ｓ₂に向かってｐＨ値が直線的に増加するように、インクジェットヘッドにて塗布量を変化させながら酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液を液たまりに塗布する。このとき、酸性および塩基性モノマー溶液の単位面積当たりの塗布量合計は一定である（図８の１〜２段目参照）。

ところで、特定のｐＨ緩衝剤（強酸性側および強塩基性側のもの）はモノマー溶液のゲル化をある程度阻害する要因となっている。そのため、図８の３段目に示すように、ｐＨ緩衝剤濃度が高い溶液層（塗布膜）における基材Ｓの一端Ｓ₁側および他端Ｓ₂側の部分は、これら両端の間の中間部分よりもゲル化の度合い（重合度や架橋度）が低下してしまう。よって、ゲル層を乾燥させた乾燥膜を膨潤溶液にて膨潤させてゲル層を復元する場合、図８の４段目に示すように、ゲル化の度合いが低い乾燥膜の両端部分は膨潤溶液を多く取り込んで大きく膨潤し、ゲル化の度合いが高い乾燥膜の中間部分は膨潤溶液を多く取り込まないため小さく膨潤する。

この結果、膨潤後のゲル層Ｇの厚さが均一にならず、厚みムラが発生する。そのため、この厚みムラを有するゲル層ＧをＩＰＧゲルとして二次元電気泳動の一次元目電気泳動に用いた後、ゲル層Ｇを二次元目のＰＡＧＥゲルに押し当ててタンパク質を転写する際、ゲル層ＧとＰＡＧＥゲルとの接触不良が発生し、タンパク質をゲル層Ｇからゲルシートへ正しい位置に転写できなくなる。また、接触できた領域でも、接触領域の高低差が発生してしまい、ＰＡＧＥゲル内での分子量分離時のバラツキ要因になってしまう。このようなことから、二次元目電気泳動の正確な結果を得ることができなくなる。

本発明は、このような課題を鑑みてなされたものであり、高精度かつ信頼性の高い電気泳動を行うことができる電気泳動用試験具、およびこの試験具を容易に製造できる製造方法を提供することを目的とする。

かくして、本発明によれば、ゲル層を乾燥させた乾燥膜が基材上に形成されてなる電気泳動用試験具であって、
前記乾燥膜は、ｐＨ勾配を有すると共に、前記ｐＨ勾配の方向に前記乾燥膜の膜厚が変化する厚さ勾配を有し、
前記乾燥膜を膨潤させて復元するゲル層の厚さ勾配は、前記乾燥膜の前記厚さ勾配よりも小さい電気泳動用試験具が提供される。

また、本発明の別の観点によれば、基材上に２種以上の溶液を塗布してゲル材料とｐＨ緩衝剤とが混合した溶液層を形成する溶液塗布工程と、前記溶液層をゲル化してゲル層を形成するゲル化工程とを含み、
前記溶液塗布工程において、前記溶液層にｐＨ勾配およびこのｐＨ勾配の方向の厚さ勾配が形成される電気泳動用試験具の製造方法が提供される。

ゲル層を乾燥させた乾燥膜を基材上に有する本発明の電気泳動用試験具は、ｐＨ勾配を有する乾燥膜を膨潤させて復元するゲル層の厚さムラが抑えられ、均一な厚さを有する。そのため、本発明におけるゲル層をＩＰＧゲルとして二次元電気泳動の一次元目電気泳動に用いた後、ゲル層を二次元目のＰＡＧＥゲルに押し当ててタンパク質を転写する際、ゲル層とＰＡＧＥゲルとが隙間無く密着し、タンパク質をゲル層からゲルシートへ正しい位置に転写することができる。この結果、二次元目電気泳動の正確な結果を得ることができる。

また、本発明の電気泳動用試験具の製造方法によれば、高精度なタンパク質の分離測定を行うことができるゲル層を備えた電気泳動用試験具を製造することが可能となる。

本発明の実施形態１の電気泳動用試験具の使用可能な状態を示す斜視図である。 図１（Ａ）の電気泳動用試験具におけるゲル層を乾燥した後の保存可能な状態を示す斜視図である。 実施形態１の電気泳動用試験具およびその製造方法を説明する概念図である。 実施形態１の電気泳動用試験具を製造することができる装置を示す構成図である。 図３の製造装置におけるインクジェットヘッドを下方から見た概略底面図である。 図３の製造装置におけるインクジェットヘッドのノズル孔群を示す拡大図である。 図３の製造装置を用いて基材へ酸性モノマー溶液を塗布する状態を示す説明図である。 図６（Ａ）から引き続いて基材へ塩基性モノマー溶液を塗布する状態を示す説明図である。 図６（Ｂ）から引き続いて基材へ重合開始剤を塗布する状態を示す説明図である。 図３の製造装置によるゲル材料液の塗布が終了した状態を示す説明図である。 従来（特許文献２）の電気泳動用試験具およびその製造方法を説明する概念図である。

（実施形態１）
＜電気泳動用試験具について＞
図１（Ａ）に示す実施形態１の電気泳動用試験具ＧＰ₁は、ｐＨ勾配を有する蒲鉾状のゲル層Ｇ₁が基材Ｓ上に形成されたものである。このゲル層Ｇ₁は、緩やかな凸曲面となった上面（基材と反対側の面）を有すると共に、電気泳動方向である長手方向（以下、「Ｘ方向」という場合がある）にｐＨ勾配を有している。Ｘ方向と直交する方向が基材Ｓの幅方向（以下、「Ｙ方向」という場合がある）である。
実施形態１の場合、ゲル層Ｇ₁は、基材ＳのＸ方向の一端Ｓ₁から他端Ｓ₂に向かってｐＨ値がｐＨ３〜１１に増加するｐＨ勾配を有している（図２参照）。

電気泳動用試験具ＧＰ₁の基材Ｓの形態は、特に限定されるものではなく、例えば、細長プレート、所定形状に成型したチップ等が挙げられる。基材Ｓの材料としては、電気泳動用試験具の基材としての機能が発揮できるものであれば特に限定されず、例えば、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）等の樹脂、アルミナ、低温同時焼成セラミック等のセラミックスなどが挙げられる。また、基材が疎水性材料からなる場合、基材Ｓにおけるゲル層Ｇ₁が形成される面を親水性処理してもよく、これにより基材Ｓに対する後述のモノマー溶液の濡れ性が向上し、モノマー溶液がゲル化したゲル層Ｇ₁と基材Ｓとの密着性が向上する。親水性処理としては、硫酸を用いたニトロ化、硝酸を用いたスルホン化、酸素プラズマ処理等が挙げられる。

電気泳動用試験具ＧＰ₁のゲル層Ｇ₁の材料は、電気泳動用試験具のゲル層としての機能が発揮できるものであれば特に限定されず、例えば、一般的なポリアクリルアミドゲルの材料としては、アクリルアミド（モノマー）、ビスアクリルアミド（架橋剤）、ｐＨ調整材料（ｐＨバッファ）、テトラメチルエチレンジアミン（ＴＥＭＥＤ：重合促進剤）、重合開始剤および純水が挙げられる。重合開始剤としては、過硫酸アンモニウム（ＡＰＳ）、過酸化ベンゾイル等の熱重合開始剤、あるいはリボフラビン類、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン等のアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アゾイソブチロニトリル類等の光重合開始剤を用いることができる。

このゲル層Ｇ₁を含水率５％以下に乾燥させることにより、ゲル層Ｇ₁が乾燥して乾燥膜Ｄ₁となった図１（Ｂ）に示す等電点電気泳動用試験具ＧＰＤ₁が得られる。なお、図１（Ａ）で示されたゲル層Ｇ₁は、製造直後のゲル層であり、乾燥膜Ｄ₁を膨潤させて復元したゲル層でもある。

本発明において、ゲル層Ｇ₁の長さおよび幅は、基材Ｓの長さおよび幅と同じである。
基材Ｓの長さおよび幅は特に限定されないが、一例としては、長さは50〜250ｍｍ程度であり、幅は0.5〜5ｍｍ程度である。ゲル層Ｇ₁の厚さは特に限定されないが、例えば、195〜1010μｍ程度である。
このゲル層Ｇ₁を乾燥した乾燥膜Ｄ₁の厚さは100μｍ以下に収縮するが、長さおよび幅はほとんど変化しない。

図２は実施形態１の電気泳動用試験具およびその製造方法を説明する概念図である。なお、図２はそれぞれ上下５段から構成されている。図２の上から１段目は、後述するゲル製造時に用いる２種類のｐＨ緩衝溶液である酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液の塗布量の変化を面積で示している。図２の２段目は、酸性モノマー溶液（細線）と塩基性モノマー溶液（太線）の吐出量の変化および単位面積当たりの吐出量を線グラフで示している。図２の３段目は、酸性モノマー溶液中のｐＨ緩衝剤の濃度（細線）と塩基性モノマー溶液中のｐＨ緩衝剤の濃度（太線）の変化を線グラフで示している。図２の４段目は、ゲル層の乾燥膜を膨潤させたときの膜厚の厚さ勾配を示している。図２の５段目は、ゲル層の電気泳動方向位置におけるｐＨを線グラフで示している。

本発明の主たる特徴は、乾燥膜Ｄ₁を膨潤させて復元するゲル層Ｇ₁の厚さ勾配は、乾燥膜Ｄ₁の厚さ勾配よりも小さいことである。以下、「乾燥膜Ｄ₁を膨潤させて復元するゲル層Ｇ₁」を短縮して「復元ゲル層Ｇ₁」と言う。

具体的には、復元ゲル層Ｇ₁において、最も厚い部分の膜厚をＴ_H1とし、最も薄い部分の膜厚をＴ_L1とすると、厚さ勾配はＴ_L1／Ｔ_H1で表すことができ、Ｔ_L1／Ｔ_H1の値が１に近づくほど厚さ勾配は小さくなる。
また、乾燥膜Ｄ₁において、最も厚い部分の膜厚をＴ_H2とし、最も薄い部分の膜厚をＴ_L2とすると、厚さ勾配はＴ_L2／Ｔ_H2で表すことができ、Ｔ_L2／Ｔ_H2の値が１に近づくほど厚さ勾配は小さくなる。
そして、本発明において、復元ゲル層Ｇ₁の厚さ勾配は、乾燥膜Ｄ₁の厚さ勾配よりも小さい。換言すると、Ｔ_L1／Ｔ_H1の値はＴ_L2／Ｔ_H2の値よりも１に近い。

ここで、復元ゲル層Ｇ₁の厚さ勾配を表すＴ_L1／Ｔ_H1の値は１に近い程好ましい（つまり、復元ゲル層Ｇ₁の厚さは均一であることが好ましい）が、１でなくとも乾燥膜Ｄ₁の厚さ勾配を表すＴ_L2／Ｔ_H2の値よりも大きければよい。
例えば、Ｔ_L1／Ｔ_H1が０．９であるとき、Ｔ_L2／Ｔ_H2は０．９未満の値となる。

実施形態１において、復元ゲル層Ｇ₁および乾燥膜Ｄ₁は、一端Ｓ₁側に酸性領域（ｐＨ３〜６近傍）、他端Ｓ₂側に塩基性領域（ｐＨ８近傍〜１１）、それらの間に中性領域（ｐＨ７およびその近傍）を有している。
この乾燥膜Ｄ₁において、最も厚い箇所は中性領域であり、最も薄い箇所は酸性領域（ｐＨ３付近）と塩基性領域（ｐＨ１１付近）の両方または一方であり、このような厚さ勾配の向きとなっている。
一方、復元ゲル層Ｇ₁において、厚さ勾配の向きは特に限定されず、復元ゲル層Ｇ₁の厚さ勾配が乾燥膜Ｄ₁の厚さ勾配よりも小さければ、乾燥膜Ｄ₁の厚さ勾配の向きと同じでも逆でもどちらでもよい。

本発明では、復元ゲル層Ｇ₁の厚さ勾配が乾燥膜Ｄ₁の厚さ勾配よりも小さくなるように、乾燥膜Ｄ₁が形成されている。これにより、復元ゲル層Ｇ₁の厚みムラが小さく抑えられることになる。したがって、本発明における復元ゲル層Ｇ₁をＩＰＧゲルとして二次元電気泳動の一次元目電気泳動に用いた後、復元ゲル層Ｇ₁を二次元目のＰＡＧＥゲルに押し当ててタンパク質を転写する際、復元ゲル層Ｇ₁とＰＡＧＥゲルとが隙間無く密着し、タンパク質を復元ゲル層Ｇ₁からゲルシートへ正しい位置に転写することができる。この結果、二次元目電気泳動の正確な結果を得ることができる。

次に、図１（Ａ）に示す試験具ＧＰ₁を製造することができる装置について説明し、その後でこの装置を用いて試験具ＧＰ₁を製造する方法について説明する。

図３は実施形態１の電気泳動用試験具を製造することができる装置を示す構成図である。この試験具製造装置は、基材Ｓがセットされるステージ１０と、塗布部としてのインクジェット装置３０と、ステージ１０を直線方向に移動させる移動機構４０と、これらを収納する密閉可能なケース５０と、図示しない制御部とを備える。なお、ケース５０には図示しない開閉扉が設けられている。

移動機構４０は、ステージ１０を支持する支持台４０ａを有し、この支持台４０ａが図示しないリニアガイド機構によって直線方向に往復移動可能とされている。
図３において、実線で示された支持台４０ａは待機位置にあり、塗布工程において２点鎖線で示された位置まで支持台４０ａ、ステージ１０および基材Ｓは直進する。これにより、ステージ１０上にセットされた基材Ｓは、後述する第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ、３２ｂ、３３ｂの真下を通過する。

インクジェット装置３０は、酸性溶液吐出部３１と、塩基性溶液吐出部３２と、重合開始剤吐出部３３と、負圧調整部３４とを備える。
酸性溶液吐出部３１は、酸性モノマー溶液Ａを貯蔵する第１タンク３１ａと、第１インクジェットヘッド３１ｂと、第１タンク３１ａから第１インクジェットヘッド３１ｂへ酸性モノマー溶液Ａを送る第１パイプ３１ｃとを有し、水頭差を利用して第１タンク３１ａから第１インクジェットヘッド３１ｂへ酸性モノマー溶液Ａが供給されるように構成されている。なお、酸性モノマー溶液Ａは、１種以上のｐＨバッファによって所定ｐＨ（例えば、ｐＨ２〜７）に設定されている。

塩基性溶液吐出部３２は、塩基性溶液Ｂを貯蔵する第２タンク３２ａと、第２インクジェットヘッド３２ｂと、第２タンク３２ａから第２インクジェットヘッド３２ｂへ塩基性溶液Ｂを送る第２パイプ３２ｃとを有し、水頭差を利用して第２タンク３２ａから第２インクジェットヘッド３２ｂへ塩基性モノマー溶液Ｂが供給されるように構成されている。なお、塩基性モノマー溶液Ｂは、１種以上のｐＨバッファによって所定ｐＨ（例えば、ｐＨ７〜１２）に設定されている。

重合開始剤吐出部３３は、重合開始剤Ｃを貯蔵する第３タンク３３ａと、第３インクジェットヘッド３３ｂと、第３タンク３３ａから第３インクジェットヘッド３３ｂへ重合開始剤Ｃを送る第３パイプ３３ｃとを有し、水頭差を利用して第３タンク３３ａから第３インクジェットヘッド３３ｂへ重合開始剤Ｃが供給されるように構成されている。

第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂとしては、サーマルジェット方式、ピエゾジェット方式、静電駆動方式等が挙げられるが、インクジェット装置３０における各液（酸性モノマー溶液Ａ、塩基性モノマー溶液Ｂ、重合開始剤Ｃ）を冷却する場合は、各液に熱を加えるサーマルジェット方式を用いず、ピエゾジェット方式または静電駆動方式を用いることが望ましい。

負圧調整部３４は、第１〜第３タンク３１ａ〜３３ａとパイプ３５〜３７にて接続されており、第１から第３のタンク内の気圧を管理し、第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂのノズル孔Ｈ（図５参照）から液が垂れ落ちない所定の圧力となるよう、第１〜第３タンク３１ａ〜３３ａ内を大気圧より低い所定圧で一定になるように調整する。

第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂは一体化されて１組の吐出ヘッドユニットＵが構成されており、この吐出ヘッドユニットＵは図示しない固定部材にて固定されている。そして、図４に示すように、この基材Ｓの移動軌跡Ｅ上に、第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂは一列で配置されているが、ヘッド配置順はこの順番に限定されない。なお、実施形態１の場合、基材Ｓの移動方向の上流側から第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂの順で配置されている。

また、図４と図５に示すように、基材Ｓの移動軌跡Ｅと対向する第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂの下面には、移動軌跡Ｅの方向と直交する方向に複数のノズル孔Ｈが１列で設けられている。すなわち、１列のノズル孔群ＨＧが、移動軌跡Ｅの方向と直交する方向に、かつ移動軌跡Ｅの幅を超える長さで延びている。ノズル孔径Ｄおよびノズル孔間隔Ｐは特に限定されないが、ノズル孔Ｈの径は10〜100μｍ程度が適当であり、ノズル孔間隔Ｐは100〜200μｍ程度が適当である。なお、ノズル列が直線状に配置されている場合、ヘッド向きを傾けることで見掛け上、ノズル孔間隔を狭くする方法も使用できる。また、第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂにおいて、ノズル孔群ＨＧは２列以上の複数列で設けられていてもよい。

＜電気泳動用試験具の製造方法について＞
次に、前記構成を有する試験具製造装置を用いて試験具ＧＰ₁を製造する方法の一例について説明する。

本発明の電気泳動用試験具の製造方法は、基材上に２種以上の溶液を塗布してゲル材料とｐＨ緩衝剤とが混合した溶液層を形成する溶液塗布工程と、前記溶液層をゲル化してゲル層を形成するゲル化工程とを含み、
前記溶液塗布工程において、前記溶液層にｐＨ勾配およびこのｐＨ勾配の方向の厚さ勾配が形成される。

実施形態１における溶液塗布工程では、基材上にゲル材料液の液たまりを形成し、その液たまり上にｐＨ緩衝溶液を塗布する。この場合、液たまりとしては、予め重合開始剤を添加したモノマー溶液（重合開始剤入りゲル材料液）を用いる場合と、重合開始剤以外の架橋剤、重合促進剤等を混合したモノマー溶液（重合開始剤を含まないゲル材料液）を用いる場合と、重合開始剤を用いる場合とを包含する。なお、溶液塗布方法はこれに限定されるものではなく、例えば、ｐＨ緩衝剤を含むモノマー溶液を基材に直接塗布してもよく、この際、１回または２回以上繰り返して塗布してもよい。

また、実施形態１における溶液塗布は、インクジェット装置が用いられる。インクジェットヘッドを用いれば、細長い基材の所定領域にも高精度かつ定量的に微小液滴を塗布することができるため、得ようとするゲル層の形成領域、膜厚、ｐＨ勾配および濃度勾配等を容易かつ高精度に制御することができる。なお、溶液塗布方法はこれに限定されるものではなく、基材上面の所定領域にゲル材料液を塗布できるものであればよく、例えば、ピペッター、ディスペンサー等が挙げられる。

図３に示すインクジェット装置３０を用いた溶液塗布工程では、まず、待機位置にあるステージ１０上に細長い矩形の基材Ｓをセットする。この基材Ｓ上には予め液たまり（溶液層）Ｌ０が形成されている。なお、液たまりＬ０としては、モノマーを純水で希釈したモノマー溶液が用いられ、このモノマー溶液中に架橋剤および重合促進剤が添加されていてもよい。

次に、所定のプログラムに基づく常温大気圧下での塗布工程が行われる。すなわち、図６（Ａ）、（Ｂ）および図７（Ａ）、（Ｂ）に示すように、移動機構４０により支持台４０ａが矢印Ｍ方向に断続的に移動すると共に、第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂから微小液滴Ｌａ、Ｌｂ、Ｌｃが断続的に吐出して、液たまりＬ０と微小液滴Ｌａ、Ｌｂ、Ｌｃとが混合した溶液層Ｌ３が形成される。

詳しく説明すると、図６（Ａ）に示すように、基材Ｓの一端Ｓ₁がインクジェット装置３０の第１インクジェットヘッド３１ｂのノズル孔群ＨＧの真下位置まで移動したところで、第１インクジェットヘッド３１ｂから酸性モノマー溶液の微小液滴Ｌａが吐出されて液たまりＬ０上に塗布される。これにより、図６（Ｂ）に示すように、液たまりＬ０と酸性モノマー溶液とが混合した溶液層Ｌ１が基材Ｓの一端Ｓ₁側に形成される。

この場合、ステージ１０上に微小液滴Ｌａが吐出されないように、第１インクジェットヘッド３１ｂにおけるノズル孔群ＨＧのうちから微小液滴Ｌａを吐出するノズル孔Ｈが選択されており、これについては第２および第３インクジェットヘッド３２ｂ、３３ｂでも同様である。また、第１インクジェットヘッド３１ｂから基材Ｓ上に吐出される微小液滴Ｌａの単位面積当たりの塗布量は、基材Ｓが所定距離ずつ断続的に移動する毎に（所定の吐出間隔毎に）所定量に制御されるが、これについて詳しくは後述する。

そして、基材Ｓの一端Ｓ₁が第２インクジェットヘッド３２ｂのノズル孔群ＨＧの真下位置まで移動したところで、第２インクジェットヘッド３２ｂから塩基性モノマー溶液の微小液滴Ｌｂが吐出されて溶液層Ｌ１上に塗布される。これにより、図７（Ａ）に示すように、溶液層Ｌ１と塩基性モノマー溶液とが混合した溶液層Ｌ２が基材Ｓの一端Ｓ₁側に形成される。この場合も、第２インクジェットヘッド３２ｂから吐出される微小液滴Ｌｂの単位面積当たりの塗布量は、基材Ｓが所定距離ずつ断続的に移動する毎に（所定の吐出間隔毎に）所定量に制御されるが、これについて詳しくは後述する。

そして、基材Ｓの一端Ｓ₁が第３インクジェットヘッド３３ｂのノズル孔群ＨＧの真下位置まで移動したところで、第３インクジェットヘッド３３ｂから重合開始剤の微小液滴Ｌｃが吐出されて溶液層Ｌ２上に塗布される。これにより、溶液層Ｌ２と重合開始剤とが混合した溶液層Ｌ３が基材Ｓの一端Ｓ₁側に形成され（図７（Ｂ）参照）、このようにして基材Ｓの一端Ｓ₁側から他端Ｓ₂側に向かって連続的に溶液層Ｌ３が形成されていく。そして、基材Ｓの他端Ｓ₂が第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂを順次通過した時点で、図７（Ｂ）に示すように、第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂからの液滴吐出が順次停止する。

次に、図２および図６（Ａ）〜図７（Ｂ）を参照しながら酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液の塗布量制御について説明する。以下、「酸性モノマー溶液」を「溶液Ａ」と言い、「塩基性モノマー溶液」を「溶液Ｂ」と言う。
図６（Ａ）〜図７（Ｂ）の溶液塗布工程では、基材Ｓの一端側領域Ａ₁と他端側領域Ａ₂の塗布量よりも、それらの間の領域Ａ₃の塗布量が多くなるように行われる。具体的には、次のように塗布量が決定される。

一端側領域Ａ₁から他端側領域Ａ₂に亘って、溶液Ａを吐出量ｄ₀〜０まで直線的に減少させながら溶液Ｂを吐出量０〜ｄ₀まで直線的に増加させ、かつこれらの単位面積当たりの合計吐出量は一定となるように、第１ベース塗布量が決定される。この第１ベース塗布量は、図２の１段目に示されたベース塗布量である。
また、一端側領域Ａ₁から他端側領域Ａ₂に亘って、溶液Ａを吐出量ｄ₁〜０まで直線的に減少させながら溶液Ｂを吐出量０〜ｄ₁まで直線的に増加させ、かつこれらの単位面積当たりの合計吐出量は一定となるように、第２ベース塗布量が決定される。

基材Ｓの一端側領域Ａ₁から他端側領域Ａ₂に亘って吐出量（ｄ₁−ｄ₀）で溶液ＡおよびＢを塗布した塗布量は、第２ベース塗布量から第１ベース塗布量を差し引いた塗布量である。この塗布量から一端側領域Ａ₁の塗布量と他端側領域Ａ₂の塗布量を差し引いた分が、それらの間の領域Ａ₃に上乗せされる上乗せ塗布量である（図１の１段目参照）。このようにして、溶液ＡおよびＢは、基材Ｓ上の一端側領域Ａ₁から他端側領域Ａ₂に亘ってベース塗布量で塗布され、さらに一端側領域Ａ₁と他端側領域Ａ₂の間の領域Ａ₃には上乗せ塗布量で塗布される。なお、重合開始剤Ｃの塗布量は、一端側領域Ａ₁から他端側領域Ａ₂に亘って一定である。

次に、図２（主に２段目）および図６（Ａ）〜図７（Ｂ）を参照しながら溶液Ａと溶液Ｂの吐出量制御について説明する。
まず、基材Ｓの一端側領域Ａ₁では、第１インクジェットヘッド３１ｂから溶液Ａが吐出量ｄ₀から０に向かう直線上の吐出量ｄ₀〜ｄ₂まで直線的に減少する吐出量で吐出され、かつ第２インクジェットヘッド３２ｂから溶液Ｂが吐出量０からｄ₀に向かう直線上の吐出量０〜ｄ₃まで直線的に増加する吐出量で吐出される。
次の領域Ａ₃では、第１インクジェットヘッド３１ｂから溶液Ａが吐出量ｄ₁から０に向かう直線上の吐出量ｄ₄〜ｄ₅まで直線的に減少する吐出量で吐出され、かつ第２インクジェットヘッド３２ｂから溶液Ｂが吐出量０からｄ₁に向かう直線上の吐出量ｄ₅〜ｄ₄まで直線的に増加する吐出量で吐出される。

そして、次の他端側領域Ａ₂では、第１インクジェットヘッド３１ｂから溶液Ａが吐出量ｄ₀から０に向かう直線上の吐出量ｄ₃〜０まで直線的に減少する吐出量で吐出され、かつ第２インクジェットヘッド３２ｂから溶液Ｂが吐出量０からｄ₀に向かう直線上の吐出量ｄ₂〜ｄ₀まで直線的に増加する吐出量で吐出される。

このような塗布量制御および吐出量制御により、基材Ｓ上には直線的なｐＨ勾配を有する溶液層Ｌ３が形成される（図７（Ｂ）参照）。なお、この溶液層Ｌ３において、領域Ａ₃の膜厚は、一端側および他端側領域Ａ₁、Ａ₂の膜厚よりも厚くなっている。なお、このような塗布工程における試験具製造装置の一連の動作は、所定のプログラムに基づいて制御部が各駆動部を制御することにより行われる。
その後、支持台４０ａが待機位置まで戻り、塗布工程が終了する。

塗布工程後、ケース５０の扉を開けて基材Ｓを取り出し、ゲル化工程用のケース内に収納し、そのケース内で溶液層Ｌ３のゲル化工程を常温下で行う。なお、常温下でのゲル化完了までには３〜５時間程度の時間を要する。ゲル化完了後は、図１（Ａ）に示すように、四方の端部に丸みを有する蒲鉾形のゲル層Ｇ₁が基材Ｓ上に形成された等電点電気泳動用試験具ＧＰ₁が得られる。なお、本発明において、電気泳動用試験具ＧＰ₁は未完成品である。

次に、得られた電気泳動用試験具ＧＰ₁のゲル層Ｇ₁を乾燥することにより、図１（Ｂ）に示す完成品としての本発明の電気泳動用試験具ＧＰＤ₁が得られる。この乾燥工程において、ゲル層Ｇ₁を乾燥する方法は特に限定されず、例えば、ゲル層Ｇ₁をヒータにて加熱する、あるいはゲル層Ｇ₁に熱風を吹き付けて乾燥する方法が挙げられる。さらに、乾燥工程後に、乾燥膜Ｄ₁を−２０℃以下に冷却する冷却工程を行ってもよい。あるいは、乾燥工程および冷却工程の代わりに、フリーズドライ工程を行ってもよい。

得られた乾燥膜Ｄ₁において、一端側領域Ａ₁はｐＨ３程度の強酸性領域であり、他端側領域Ａ₂はｐＨ１１程度の強塩基性領域であり、これらの間の領域Ａ₃における中間付近がｐＨ７程度の中性領域である。強酸性領域および強塩基性領域はｐＨ緩衝剤濃度が最も高くかつ最も薄い膜厚Ｔ_L2を有し、中性領域はｐＨ緩衝剤濃度が最も低くかつ最も厚い膜厚Ｔ_H2を有している。
この乾燥膜Ｄ₁において、例えば、最も薄い膜厚Ｔ_L2は０．８であり、最も厚い膜厚Ｔ_H2は１である。このとき、乾燥膜Ｄ₁の厚さ勾配Ｔ_L2／Ｔ_H2は０．８である。

この乾燥膜Ｄ₁に膨潤液を塗布することにより、乾燥膜Ｄ₁のｐＨ勾配と同じｐＨ勾配を有する復元ゲル層Ｇ₁が復元する。
この復元ゲル層Ｇ₁において、例えば、最も薄い膜厚Ｔ_L1は９であり、最も厚い膜厚Ｔ_H2は９．８である。このとき、復元ゲル層Ｇ₁の厚さ勾配Ｔ_L2／Ｔ_H2は０．９であり、乾燥膜Ｄ₁の厚さ勾配より小さい。

（実施形態２）
実施形態１では、基材Ｓが一端Ｓ₁側から吐出ヘッドユニットＵの下を１回通過する間に塗布工程が終了する場合を例示した。
一方、実施形態２では、図示省略するが、基材Ｓが吐出ヘッドユニットＵの下を１回通過する間に、基材Ｓの一端側領域Ａ₁から他端側領域Ａ₂に亘ってベース塗布量の溶液ＡおよびＢを塗布する。このとき、第１インクジェットヘッド３１ｂから溶液Ａが吐出量ｄ₀から０に向かう直線上の吐出量ｄ₀〜０まで直線的に減少する吐出量で吐出され、かつ第２インクジェットヘッド３２ｂから溶液Ｂが吐出量０からｄ₀に向かう直線上の吐出量０〜ｄ₀まで直線的に増加する吐出量で吐出される。その後、基材Ｓが他端Ｓ₂側から吐出ヘッドユニットＵの下を再度通過する間に、基材Ｓの領域Ａ₃に上乗せ塗布量の溶液ＡおよびＢを塗布する。このとき、溶液Ａの吐出量は直線的に増加し、かつ溶液Ｂの吐出量は直線的に減少するように吐出制御する。

また、実施形態１では、重合開始剤として過硫酸アンモニウム（ＡＰＳ）、過酸化ベンゾイル等の熱重合開始剤を用いて、モノマーを熱重合させてゲル化する場合を例示した。一方、実施形態２では重合開始剤としてリボフラビン類、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン等のアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アゾイソブチロニトリル類等の光重合開始剤を用いて、モノマーを光重合させてゲル化する。

実施形態２の場合、例えば、図３で説明した電気泳動用試験具の製造装置において、吐出ヘッドユニットＵの基材搬送方向（矢印Ｍ１方向）の下流側に図示しない光照射器を設け、基材Ｓ上の塗布膜に光を照射することによりゲル化させる。この光照射器は、所定波長の光（例えば、２００〜６００ｎｍ程度）を所定光量で照射することができ、その照射光波長は使用する光重合開始剤の種類に応じて適切に設定される。また、光照射器は、基板上の塗布膜の一部または全体を照射できるものであればよい。

実施形態２の電気泳動用試験具の製造方法は、実施形態１（図６（Ａ）〜図７（Ｂ）での説明）と同様にして基板上に塗布膜を形成した後、基板を光照射器側へ移動させて塗布膜上に光を照射してゲル化させる。このとき、光照射器が塗布膜の一部に光を照射するタイプのものである場合は、基板を一端側から他端側へ移動させながら塗布膜上に光を照射する。光照射器が塗布膜全体に光を照射するタイプのものである場合は、基板を光照射器の真下に移動させた後、基板を静止させた状態で塗布膜上に光を照射する。
なお、実施形態２におけるその他の事項は実施形態１と同様である。

（他の実施形態）
１．実施形態１では、復元ゲル層の中性領域が強酸性領域および強塩基性領域よりも厚い場合を例示したが、復元ゲル層の厚さ勾配が乾燥膜の厚さ勾配より小さくなるのであれば、復元ゲル層の中性領域が強酸性領域および強塩基性領域より薄くてもよい。

２．実施形態１では、強酸性領域から中性領域を経て強塩基性領域に亘る（ｐＨ３〜１１のｐＨ勾配を有する）ゲル層Ｇ₁を形成する場合を例示したが、例えば、酸性領域（ｐＨ３〜５のｐＨ勾配）のみを有するゲル層、塩基性領域（ｐＨ９〜１１のｐＨ勾配）のみを有するゲル層、酸性領域と中性領域（ｐＨ３〜８のｐＨ勾配）を有するゲル層、あるいは中性領域と塩基性領域（ｐＨ６〜１１のｐＨ勾配）を有するゲル層を形成してもよい。この場合、中性（ｐＨ６〜８）に近づくほど乾燥膜の膨潤度合いが小さくなることを考慮して、溶液層における強酸性領域および／または強塩基性領域の膜厚を中性に近い領域の膜厚よりも薄く設定する。

３．実施形態１では、塗布工程において、基材上に常温状態の塗布膜を形成する場合を例示したが、ペルチェ素子やタンク冷却部を備えた装置を用い、基材上に冷却下で塗布膜を形成してもよい。また、実施形態１では、塗布工程において大気下で塗布膜を形成する場合を例示したが、窒素雰囲気下で塗布膜を形成してもよい。

４．実施形態１では、モノマー溶液と重合開始剤を個別に基材上へ塗布する場合を例示したが、重合開始剤入りゲル材料液を基材上へ塗布して液たまりＬ０を形成してもよい。この場合、塗布工程中に重合開始剤入りゲル材料液のゲル化が進行しないよう、冷却状態の重合開始剤入りゲル材料液が用いられる。それに加え、基材を冷却してもよい。

５．実施形態１では、吐出ヘッドユニットＵの下を基材Ｓが１度通過することにより溶液層Ｌ３が形成される場合を例示したが、基材Ｓを１往復以上移動させて溶液層Ｌ３を形成してもよい。この場合、重合開始剤の塗布時期を、例えば、毎回の移動時、所定回の移動時、あるいは最後の移動時に設定することができる。

（まとめ）
本発明の電気泳動用試験具ＧＰ₁は、ゲル層Ｇ₁を乾燥させた乾燥膜Ｄ₁が基材Ｓ上に 形成されてなる電気泳動用試験具であって、
前記乾燥膜Ｄ₁は、ｐＨ勾配を有すると共に、前記ｐＨ勾配の方向に前記乾燥膜Ｄ₁の膜厚が変化する厚さ勾配Ｔ_L2／Ｔ_H2を有し、
前記乾燥膜Ｄ₁を膨潤させて復元するゲル層Ｇ₁の厚さ勾配Ｔ_L1／Ｔ_H1は、前記乾燥膜Ｄ₁の前記厚さ勾配Ｔ_L2／Ｔ_H2よりも小さい。

本発明の電気泳動用試験具ＧＰ₁は、次のように構成されてもよく、それらが適宜組み合わされてもよい。
（１）前記乾燥膜Ｄ₁は、前記ｐＨ勾配における中性近傍領域に厚い膜厚を有すると共に、前記ｐＨ勾配における前記中性近傍領域から離れた領域に薄い膜厚を有してもよい。
このようにすれば、例えば、ｐＨ３〜１１のｐＨ勾配を有する乾燥膜の膜厚は、相対的に、ｐＨ３付近とｐＨ１１付近では薄く、ｐＨ７付近では厚くなる。また、ｐＨ３〜５のｐＨ勾配を有する乾燥膜の膜厚は、相対的に、ｐＨ３付近では薄く、ｐＨ５付近では厚くなる。また、ｐＨ９〜１１のｐＨ勾配を有する乾燥膜の膜厚は、ｐＨ９付近では厚く、ｐＨ１１付近では薄くなる。このように、本発明では、強酸性から強塩基性に亘るｐＨ勾配を有する電気泳動用試験具、強酸性から弱酸性に亘るｐＨ勾配を有する電気泳動用試験具は、および弱塩基性から強塩基性に亘るｐＨ勾配を有する電気泳動用試験具に適応することができる。

（２）前記乾燥膜Ｄ₁は、前記ｐＨ勾配を形成するｐＨ緩衝剤を含んでおり、前記ｐＨ緩衝剤の濃度が低い領域に厚い膜厚を有すると共に、前記ｐＨ緩衝剤の濃度が高い領域に薄い膜厚を有してもよい。
このようにしても、前記（１）と同様に、強酸性領域から強塩基性領域の間の所望の領域にｐＨ勾配を有する電気泳動用試験具に適応することができる。

（３）前記乾燥膜Ｄ₁は、前記ｐＨ勾配の方向の両端部の間にｐＨ値が中性である中性領域を有しており、
前記中性領域の膜厚が前記両端部の膜厚よりも厚くてもよい
このようにしても、前記（１）と同様に、強酸性領域から強塩基性領域の間の所望の領域にｐＨ勾配を有する電気泳動用試験具に適応することができる。

本発明の電気泳動用試験具の製造方法は、基材上に２種以上の溶液を塗布してゲル材料とｐＨ緩衝剤とが混合した溶液層を形成する溶液塗布工程と、前記溶液層をゲル化してゲル層を形成するゲル化工程とを含み、
前記溶液塗布工程において、前記溶液層にｐＨ勾配およびこのｐＨ勾配の方向の厚さ勾配が形成される。

本発明の電気泳動用試験具ＧＰ₁の製造方法は、次のように構成されてもよく、それらが適宜組み合わされてもよい。
（Ｉ）前記２種以上の溶液が、前記ゲル材料としてのモノマーおよび酸性側ｐＨ緩衝剤を含む酸性モノマー溶液Ａと、前記ゲル材料としてのモノマーおよび塩基性側ｐＨ緩衝剤を含む塩基性モノマー溶液Ｂとを有してなり、
前記溶液塗布工程において、前記酸性モノマー溶液Ａおよび前記塩基性モノマー溶液Ｂを単位面積当たりの塗布量を変化させながら前記基材Ｓ上に塗布してもよい。

このようにすれば、個別のインクジェットヘッドにて酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液を連続的に効率よく、かつ高精度に塗布量を制御しながら基材上に塗布することができる。この結果、基材上に理想的なｐＨ勾配と膜厚の厚さ勾配を有する溶液層を形成することができる。

（ＩＩ）前記溶液塗布工程において、前記ｐＨ勾配における中性近傍領域に厚い溶液層を形成すると共に、前記ｐＨ勾配における前記中性近傍領域から離れた領域に薄い溶液層を形成してもよい。
このようにすれば、前記（１）に記載の電気泳動用試験具の製造方法として適用できる。

（ＩＩＩ）前記溶液塗布工程において、前記ｐＨ緩衝剤の濃度が低くかつ厚い膜厚を有する溶液層部分と、前記ｐＨ緩衝剤の濃度が高くかつ薄い膜厚を有する溶液層部分を形成してもよい。
このようにすれば、前記（２）に記載の電気泳動用試験具の製造方法として適用できる。

（ＩＶ）前記溶液塗布工程において、前記ｐＨ勾配の方向の両端部の間にｐＨ値が中性である中性領域を有し、かつ前記中性領域の膜厚が前記両端部の膜厚よりも厚い前記溶液層を形成してもよい。
このようにすれば、前記（３）に記載の電気泳動用試験具の製造方法として適用できる。

（Ｖ）前記ゲル層Ｇ₁を乾燥させる乾燥工程をさらに含んでもよい。
このようにすれば、前記効果を有する本発明の電気泳動用試験具を製造することができる。

なお、開示された実施の形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上述の説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。

Ａ 酸性モノマー溶液
Ｂ 塩基性モノマー溶液
Ｃ 重合開始剤
Ｄ₁ 乾燥膜
ＧＰ₁ 使用可能な状態となった等電点電気泳動用試験具（ゲルプレート）
ＧＰＤ₁ 保存可能な状態となった等電点電気泳動用試験具
Ｇ₁ ゲル層（復元ゲル層）
Ｓ 基材
Ｔ_H1、Ｔ_H2 最も厚い膜厚
Ｔ_L1、Ｔ_L2 最も薄い膜厚

Claims (10)

1. ゲル層を乾燥させた乾燥膜が基材上に形成されてなる電気泳動用試験具であって、
   前記乾燥膜は、ｐＨ勾配を有すると共に、前記ｐＨ勾配の方向に前記乾燥膜の膜厚が変化する厚さ勾配を有し、
   前記乾燥膜を膨潤させて復元するゲル層の厚さ勾配は、前記乾燥膜の前記厚さ勾配よりも小さいことを特徴とする電気泳動用試験具。
2. 前記乾燥膜は、前記ｐＨ勾配における中性近傍領域に厚い膜厚を有すると共に、前記ｐＨ勾配における前記中性近傍領域から離れた領域に薄い膜厚を有する請求項１に記載の電気泳動用試験具。
3. 前記乾燥膜は、前記ｐＨ勾配を形成するｐＨ緩衝剤を含んでおり、前記ｐＨ緩衝剤の濃度が低い領域に厚い膜厚を有すると共に、前記ｐＨ緩衝剤の濃度が高い領域に薄い膜厚を有する請求項１または２に記載の電気泳動用試験具。
4. 前記乾燥膜は、前記ｐＨ勾配の方向の両端部の間にｐＨ値が中性である中性領域を有しており、
   前記中性領域の膜厚が前記両端部の膜厚よりも厚い請求項１〜３のいずれか１つに記載の電気泳動用試験具。
5. 基材上に２種以上の溶液を塗布してゲル材料とｐＨ緩衝剤とが混合した溶液層を形成する溶液塗布工程と、前記溶液層をゲル化してゲル層を形成するゲル化工程とを含み、
   前記溶液塗布工程において、前記溶液層にｐＨ勾配およびこのｐＨ勾配の方向の厚さ勾配が形成されることを特徴とする電気泳動用試験具の製造方法。
6. 前記２種以上の溶液が、前記ゲル材料としてのモノマーおよび酸性側ｐＨ緩衝剤を含む酸性モノマー溶液と、前記ゲル材料としてのモノマーおよび塩基性側ｐＨ緩衝剤を含む塩基性モノマー溶液とを有してなり、
   前記溶液塗布工程において、前記酸性モノマー溶液および前記塩基性モノマー溶液を単位面積当たりの塗布量を変化させながら前記基材上に塗布する請求項５に記載の電気泳動用試験具の製造方法。
7. 前記溶液塗布工程において、前記ｐＨ勾配における中性近傍領域に厚い溶液層を形成すると共に、前記ｐＨ勾配における前記中性近傍領域から離れた領域に薄い溶液層を形成する請求項６に記載の電気泳動用試験具の製造方法。
8. 前記溶液塗布工程において、前記ｐＨ緩衝剤の濃度が低くかつ厚い膜厚を有する溶液層部分と、前記ｐＨ緩衝剤の濃度が高くかつ薄い膜厚を有する溶液層部分を形成する請求項６または７に記載の電気泳動用試験具の製造方法。
9. 前記溶液塗布工程において、前記ｐＨ勾配の方向の両端部の間にｐＨ値が中性である中性領域を有し、かつ前記中性領域の膜厚が前記両端部の膜厚よりも厚い前記溶液層を形成する請求項５〜８のいずれか１つに記載の電気泳動用試験具の製造方法。
10. 前記ゲル層を乾燥させる乾燥工程をさらに含む請求項５〜９のいずれか１つに記載の電気泳動用試験具の製造方法。