JP2014006192A - 溶液塗布方法、それを用いた等電点電気泳動用試験具の製造方法および製造装置 - Google Patents

Abstract

【課題】理想的な機能勾配を有する塗布膜の形成が容易となる溶液塗布方法を提供すること。
【解決手段】被塗布材上の塗布領域にモノマーを含む第１溶液を塗布する第１溶液塗布工程と、該第１工程後の前記被塗布材上の塗布領域に前記第１溶液をゲル化させるゲル化剤を含む第２溶液を塗布する第２溶液塗布工程とを含み、前記第１溶液塗布工程と前記第２溶液塗布工程を交互に複数回繰り返すことを特徴とする溶液塗布方法。
【選択図】図５

Description

本発明は、溶液塗布方法、それを用いた等電点電気泳動用試験具の製造方法および製造装置に関する。

電気泳動法は、溶液またはこれに浸漬した親水性の支持体などの媒体に電圧をかけることによって、該媒体中の荷電物質がその電荷に応じて電界中を移動する現象を利用した分離分析法である。特に、媒体としてゲルを用いる電気泳動（ゲル電気泳動法）は、タンパク質および核酸のような生体高分子を分離する手法として、生化学、分子生物学などの生命科学分野や臨床検査の分野などにおいて広く利用されている。

タンパク質の電気泳動法には、主として、タンパク質の大きさ（分子量）により分離する方法と、電荷（等電点）により分離する方法とがある。分子量による分離には、ポリアクリルアミドゲルを用いて、ドデシル硫酸ナトリウム（SDS）の存在下で行う電気泳動（SDS-PAGE法）が広く利用されている。SDS-PAGE法では、タンパク質は一定の割合でSDSと結合してその電荷密度が一定となり、この状態でタンパク質が網目状構造を有するポリアクリルアミド中を移動することで、タンパク質は分子ふるい効果により、その分子量に応じて分離される。

等電点による分離には、pH勾配の存在下で行う電気泳動（等電点電気泳動法）が利用されている。等電点電気泳動法では、pH勾配中で、タンパク質が自身の等電点と等しいpHの位置に集まることによって、タンパク質が分離される。等電点電気泳動法の媒体として、従来は両性担体が用いられていたが、近年では、通電中にpH勾配が崩れることのない固定化pH勾配（Immobilized pH Gradient：IPG）ゲルがよく用いられている。

近年では、生物が有する全タンパク質の構造および機能を網羅的に解析することを目的とするプロテオーム解析の一環として、上記の２つの電気泳動法を組み合わせた二次元電気泳動法が利用されている。二次元電気泳動法では、一次元目に等電点電気泳動が行われ、続く二次元目にSDS-PAGEが行われる。これにより、数千種類ものタンパク質を高い分解能で一挙に分離することが可能となった。

このように、ゲル電気泳動法はタンパク質などの生体高分子の分離分析に不可欠な手法であるが、いずれの電気泳動法においても分析の精度および再現性は、用いるゲルの品質によるところが大きい。したがって、当該分野においては、分解能の高いゲルを搭載した電気泳動用試験具を安定して製造可能な技術の開発が望まれている。

例えば、特許文献１には、濃度が異なる２種類のゲル原液を撹拌槽で混合し、その混合液をゲル容器内へ底部から導入してゲル化（重合）させることにより濃度傾斜を有するゲルシートを作製する方法が開示されている。この場合、ゲル容器内へ導入する混合液中の各ゲル原液の割合を変化させることによって、所定の濃度傾斜を有するSDS-PAGE用ゲルシートが得られる。また、特許文献１に記載のグラジェントメイカーを用い、ｐＨが異なる２種類のゲル原液を撹拌槽で混合し、その混合液をゲル容器内へ底部から導入してゲル化させることによりｐＨ傾斜を有するゲルシートを作製することができる。この場合、ゲル容器内へ導入する混合液中の各ゲル原液の割合を変化させることによって、所定のｐＨ傾斜を有するゲルシートが得られ、このゲルシートをｐＨ傾斜方向に所定の幅で切断して細長いプレート上に貼り付けることにより、等電点電気泳動用のゲルプレートが得られる。

特許文献１に記載のゲルプレート製造方法では、ゲル容器内での濃度傾斜またはｐＨ傾斜の管理が難しく、安定した品質のゲルプレートが得られ難いという面があった。そこで、濃度傾斜またはｐＨ傾斜を精度よく管理できる技術として、プレート上にモノマー溶液を塗布するゲルプレート製造方法が特許文献２に開示されている。すなわち、プレート上に液たまりを形成し、液たまりにモノマー溶液を吐出した後、ゲル化剤溶液を塗布して塗布膜をゲル化させることにより、基材上にゲル層を形成する。この場合、濃度またはｐＨが異なる２種類のモノマー溶液を混合比率を変化させながら混合して液たまりに塗布することにより、所定の濃度傾斜を有するSDS-PAGE用ゲルプレートまたは所定のｐＨ傾斜を有する等電点電気泳動用のゲルプレートが得られる。

特許文献１および２のようにして作製されたゲル層を長期間保存できるようにするために、通常はゲル層を乾燥する。そして、使用時に乾燥膜に試料溶液を吸収させ膨潤させることにより、ゲル層を復元する。

特開昭６２−１６７４５９号公報 特開２０１２−２７３９号公報

特許文献２に記載のゲル製造方法では、酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液を個別に基材上の液たまりに塗布する際、酸性および塩基性モノマー溶液の単位面積当たりの塗布量の合計を一定とし、かつ各溶液の塗布量の比率を変化させながら基材上に１回塗布する。その後、基材上の酸性および塩基性モノマー溶液を含む塗布膜上にゲル化剤溶液を１回塗布することにより、塗布膜をゲル化させ、一方向にｐＨ勾配を有するゲルを形成する。このゲル製造方法によれば、次の問題がある。

すなわち、図１１に示すように、一方の溶液をＸ方向に１回で塗布する際、塗布量を階段状に増加させながら塗布することになり、階段上に塗布された塗布膜の高さが高くなると、重力により階段状の塗布膜の形状が崩れて均一な高さに変形する。あるいは、他方の溶液をＸ方向に１回で塗布する際、塗布量を階段状に減少させながら塗布することになり、塗布の初期段階で最も多い塗布量となるため、初期段階で塗布膜の形状が崩れる。なお、図１１は従来の溶液塗布方法での塗布量分布を説明図する概念図であり、図１１中の符号Ｓは基材を表している。

この結果、想定した塗布量からずれた量で基材Ｓ上の特定領域に各溶液が塗布されたことになってしまい、塗布膜のｐＨ勾配が理想的状態から大きく逸脱してしまう。したがって、その後のゲル化工程を経て得られるゲル層は、理想的状態から大きく逸脱したｐＨ勾配を有するゲル層となるため、高精度かつ信頼性の高い等電点電気泳動を行うことが困難となる。このように、異なる２種類の溶液を被塗布材に塗布してｐＨや濃度等の機能勾配を形成する場合、従来の塗布方法では理想的な機能勾配を得ることが困難であった。

また、酸性および塩基性モノマー溶液が混合した厚いモノマー塗布膜上にゲル化剤溶液を塗布するため、モノマー塗布膜の上層と下層ではゲル化剤の濃度にむらが生じ、膜厚方向に重合むらが発生し、この結果、膜厚方向でゲル孔サイズが異なるゲル層が形成されるという問題もある。

本発明は、このような課題を鑑みてなされたものであり、理想的な機能勾配を有する塗布膜の形成が容易となる溶液塗布方法を提供し、さらには、高精度かつ信頼性の高い等電点電気泳動を行うことができる試験具を前記溶液塗布方法に基づいて製造する方法および製造装置を提供することを目的とする。

かくして、本発明によれば、被塗布材上の塗布領域にモノマーを含む第１溶液を塗布する第１溶液塗布工程と、該第１工程後の前記被塗布材上の塗布領域に前記第１溶液をゲル化させるゲル化剤を含む第２溶液を塗布する第２溶液塗布工程とを含み、前記第１溶液塗布工程と前記第２溶液塗布工程を交互に複数回繰り返す溶液塗布方法が提供される。

本発明の溶液塗布方法では、モノマーを含む第１溶液（以下、「モノマー溶液」と言う場合がある）と、ゲル化剤を含む第２溶液（以下、「ゲル化剤溶液」と言う場合がある）とを交互に被塗布材上に塗布するため、モノマー溶液が塗布された直後に必ずゲル化剤溶液が塗布されることになる。これにより、モノマー溶液の塗布膜の１層毎にゲル化剤が混合してゲル化が進行するため、膜厚方向に均一にゲル化したゲル層を得ることができる。

また、前記第１および第２溶液塗布工程を交互に複数回繰り返すため、第１および第２溶液塗布工程１回当たりの塗布膜の高さを低くすることができることに加え、ゲルが進行して増粘したモノマー溶液の塗布膜上に、次のモノマー溶液を塗布することができる。この結果、上層のモノマー溶液と下層のモノマー溶液とが相互に拡散および混合する、下層のゲルの形状が崩れる、といった問題が生じない。この効果は、特に、理想的なｐＨ傾斜を有するゲルを形成する場合に有効である。

したがって、本発明の溶液塗布方法に基づく電点電気泳動用試験具の製造方法によれば、膜厚方向の重合度が均一で、かつ理想的なｐＨ傾斜を有するゲル層の形成が容易となり、高精度かつ信頼性の高い等電点電気泳動を行うことができる試験具を製造することが可能となる。

本発明の等電点電気泳動用試験具の製造方法で製造された試験具の実施形態１を示す斜視図である。 図１（Ａ）の等電点電気泳動用試験具におけるゲル層を乾燥した後の保存可能な状態を示す斜視図である。 実施形態１の電気泳動用試験具を製造することができる装置を示す構成図である。 図２の製造装置におけるインクジェットヘッドを下方から見た概略底面図である。 図２の製造装置におけるインクジェットヘッドのノズル孔群を示す拡大図である。 本発明の溶液塗布方法での塗布工程を説明する概念図である。 図２の製造装置を用いて基材へ酸性モノマー溶液を塗布する状態を示す説明図である。 図６（Ａ）から引き続いて基材へ塩基性モノマー溶液を塗布する状態を示す説明図である。 図６（Ｂ）から引き続いて基材へゲル化剤溶液を塗布する状態を示す説明図である。 図６（Ｃ）から引き続いて基材上の塗布膜へ光を照射する状態を示す説明図である。 図７（Ａ）から引き続く１回目の塗布工程および一部ゲル化工程が終了した状態を示す説明図である。 図７（Ｂ）から引き続く２回目の塗布工程および一部ゲル化工程に入る前段階を示す説明図である。 ｎ回目の塗布工程後の状態を示す説明図である。 図８（Ａ）から引き続くゲル化完結工程を示す説明図である。 図８（Ｂ）から引き続くゲル化完結工程後の状態を示す説明図である。 実施形態２の電気泳動用試験具を製造することができる装置による１回目の塗布工程を示す説明図である。 図９（Ａ）から引き続く１回目の一部ゲル化工程を示す説明図である。 ｎ回目の塗布工程後に引き続くゲル化完結工程を示す説明図である。 実施形態３の電気泳動用試験具を製造することができる装置による製造方法を示す説明図である。 図１０（Ａ）から引き続く１回目の塗布工程および一部ゲル化工程が終了した状態を示す説明図である。 図１０（Ｂ）から引き続く２回目の塗布工程および一部ゲル化工程を示す説明図である。 従来の溶液塗布方法での塗布量分布を説明する概念図である。

本発明の溶液塗布方法は、被塗布材上の塗布領域にモノマーを含む第１溶液を塗布する第１溶液塗布工程と、該第１工程後の前記被塗布材上の塗布領域に前記第１溶液をゲル化させるゲル化剤を含む第２溶液を塗布する第２溶液塗布工程とを含み、前記第１溶液塗布工程と前記第２溶液塗布工程を交互に複数回繰り返す。これにより、厚み方向の重合度が均一なゲル層を得ることができる。
本発明の溶液塗布方法において、モノマーを含む第１溶液は、１種類でも複数種類でもよく、特に、複数種類の場合は次のように構成されてもよい。

（１）前記第１溶液は、第１のｐＨを有する第１モノマー溶液と、前記第１のｐＨとは異なる第２のｐＨを有する第２モノマー溶液とを含む複数種類の溶液からなり、
前記第１溶液塗布工程は、前記被塗布材上の塗布領域に前記第１モノマー溶液を単位面積当たりの塗布量を変化させながら一方向に塗布する第１モノマー塗布工程と、前記被塗布材上の塗布領域に前記第２モノマー溶液を単位面積当たりの塗布量を変化させながら一方向に塗布する第２モノマー塗布工程とを含んでもよい。
この構成によれば、ｐＨ傾斜を有するゲル層を形成する場合に、ｐＨ傾斜材料が前記一方向へ過度に拡散することを防止でき、ｐＨ傾斜度、ｐＨ位置ぶれ、ぼやけのないｐＨ傾斜を有するゲル層を形成することができる。

（２）前記第１溶液塗布工程において、前記第１モノマー溶液と前記第２モノマー溶液の単位面積当たりの塗布量合計が前記塗布領域全体に亘って均一であるように塗布してもよい。
この構成によれば、被塗布材の塗布領域全体に亘って均一な厚さの塗布膜（表面に凹凸がない塗布膜）を形成することができる。また、第１および第２モノマー溶液のモノマー濃度が等しい場合に、塗布領域全体に亘ってモノマー濃度が均一な塗布工程を行うことができる。この結果、ゲル孔サイズが均一なゲル層を形成することができる。

（３）前記第１溶液の塗布および前記第２溶液の塗布が、インクジェット装置を用いて行われてもよい。インクジェット装置を用いれば、得ようとする塗布膜の形成領域、膜厚、ｐＨ傾斜等を容易かつ高精度に制御することができる。

（４）前記第２溶液塗布工程と、第２溶液塗布工程後に行う前記第１溶液塗布工程との間に、前記第１および第２溶液を含む塗布膜の一部を進行させる一部ゲル化工程を含んでもよい。
この構成によれば、下層のモノマー溶液を増粘する程度にゲル化させ、半ゲル化した下層ゲル上に次のモノマー溶液を塗布することができるため、上層ゲルと下層ゲルとの間でゲルの結合性および均一性が損なわれることがない。

（５）前記第２溶液に含まれるゲル化剤が光重合剤であり、
前記一部ゲル化工程において、前記被塗布材上の前記第１および第２溶液を含む塗布膜に、この塗布膜の一部がゲル化する光量の光を照射してもよい。
この構成によれば、一部ゲル化工程を、低コストで容易かつ高精度に制御することができる。
なお、本発明において、一部ゲル化工程はこの方法に限定されず、例えば、ゲル化剤として、熱によりモノマー溶液の重合反応の活性度が増加する熱重合開始剤を用い、第１および第２溶液を含む塗布膜を昇温させてゲル化の一部を進行させてもよい。

また、本発明の別の観点によれば、前記溶液塗布方法に基づいて前記被塗布材上に前記第１および第２溶液を含む塗布膜を形成した後、この塗布膜のゲル化を完結させるゲル化完結工程を行う等電点電気泳動用試験具の製造方法が提供される。

また、本発明のさらに別の観点によれば、前記等電点電気泳動用試験具の製造方法に用いられる等電点電気泳動用試験具の製造装置であって、ステージと、該ステージ上に設置された前記被塗布材上の塗布領域に前記第１溶液を塗布する第１溶液塗布部と、前記被塗布材上の塗布領域に前記第２溶液を塗布する第２溶液塗布部と、前記被塗布材上の前記第１および第２溶液を含む塗布膜中のゲル化を促進させるゲル化促進部とを備えた等電点電気泳動用試験具の製造装置が提供される。

以下、図面を参照しながら本発明の溶液塗布方法、それを用いた等電点電気泳動用試験具の製造方法および製造装置の実施形態について詳説する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。

（実施形態１）
図１（Ａ）は本発明の等電点電気泳動用試験具の製造方法で製造された試験具ＧＰ₁の実施形態１を示す斜視図であり、図１（Ｂ）は図１（Ａ）の等電点電気泳動用試験具ＧＰ₁におけるゲル層Ｇ₁を乾燥した後の保存可能な状態を示す斜視図である。

図１（Ａ）に示す等電点電気泳動用試験具ＧＰ₁は、基材Ｓ上に蒲鉾状のゲル層Ｇ₁が形成されたものである。このゲル層Ｇ₁は、緩やかな凸曲面となった上面（基材と反対側の面）を有している。ゲル層Ｇ₁を含水率５％以下に乾燥させることにより、ゲル層Ｇ₁が乾燥して乾燥膜Ｄ₁となった図１（Ｂ）に示す等電点電気泳動用試験具ＧＰＤ₁が得られる。

本発明において、ゲル層Ｇ₁の長さおよび幅は、基材の長さおよび幅と同じである。基材の長さおよび幅は特に限定されないが、一例としては、長さは50〜250ｍｍ程度であり、幅は0.5〜5ｍｍ程度である。ゲル層Ｇ₁の膜厚は特に限定されないが、例えば、195〜1010μｍ程度である。
このゲル層を乾燥した乾燥膜の膜厚は100μｍ以下に収縮するが、長さおよび幅はほとんど変化しない。

電気泳動用試験具の基材Ｓの形態は、特に限定されるものではなく、例えば、細長プレート、所定形状に成型したチップ等が挙げられる。基材Ｓの材料としては、電気泳動用試験具の基材としての機能が発揮できるものであれば特に限定されず、例えば、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）等の樹脂、アルミナ、低温同時焼成セラミック等のセラミックスなどが挙げられる。また、基材Ｓが疎水性材料からなる場合、基材Ｓにおけるゲル層が形成される面を親水性処理してもよく、これにより基材Ｓに対するモノマー溶液の濡れ性が向上し、モノマー溶液がゲル化したゲル層と基材Ｓとの密着性が向上する。親水性処理としては、硫酸を用いたニトロ化、硝酸を用いたスルホン化、酸素プラズマ処理等が挙げられる。

電気泳動用試験具ＧＰ₁のゲル層Ｇ₁の材料は、電気泳動用試験具のゲル層としての機能が発揮できるものであれば特に限定されず、例えば、一般的なポリアクリルアミドゲルの材料としては、アクリルアミド（モノマー）、ビスアクリルアミド（架橋剤）、ｐＨ調整材料（ｐＨバッファ）、テトラメチルエチレンジアミン（ＴＥＭＥＤ：重合促進剤）、重合開始剤および純水が挙げられる。重合開始剤として、モノマーを光重合させる場合はリボフラビン類、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン等のアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アゾイソブチロニトリル類等の光重合開始剤を用いることができ、モノマーを熱重合させる場合は過硫酸アンモニウム（ＡＰＳ）過酸化ベンゾイル等の熱重合開始剤を用いることができる。

本発明において、基材Ｓ上にゲル材料を塗布する方法は特に限定されず、基材Ｓ上面の所定領域にゲル材料を塗布できるものであればよく、例えば、ピペッター、ディスペンサー、インクジェット装置等が挙げられる。これらの中でも、高精度に微小液滴を吐出して基材に付着させるインクジェットヘッドを備えたインクジェット装置を用いることが好ましい。インクジェットヘッドを用いれば、細長い基材Ｓの所定領域にも高精度かつ定量的に微小液滴を塗布することができるため、得ようとするゲル層Ｇ₁の形成領域、膜厚、ｐＨ勾配および濃度勾配等を容易かつ高精度に制御することができる。

次に、図１（Ａ）に示す試験具ＧＰ₁を製造することができる装置について説明し、その後でこの装置を用いて試験具ＧＰ₁を製造する方法について説明する。

図２は実施形態１の電気泳動用試験具を製造することができる装置を示す構成図である。この試験具製造装置は、基材Ｓがセットされるステージ１０と、塗布部としてのインクジェット装置３０と、ステージ１０を直線方向に移動させる移動機構４０と、ゲル化促進部と、これらを収納する密閉可能なケース６０と、図示しない制御部とを備える。なお、ケース６０には図示しない開閉扉が設けられている。

移動機構４０は、ステージ１０を支持する支持台４０ａを有し、この支持台４０ａが図示しないリニアガイド機構によって直線方向（矢印Ｍ１、Ｍ２方向）に往復移動可能とされている。
図２において、実線で示された支持台４０ａは待機位置にあり、塗布工程において２点鎖線で示された位置まで支持台４０ａ、ステージ１０および基材Ｓは直進することができる。これにより、ステージ１０上にセットされた基材Ｓは、後述する第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ、３２ｂ、３３ｂの真下を通過する。

インクジェット装置３０は、第１溶液塗布部と、第２溶液塗布部と、負圧調製部３４とを備える。実施形態１の場合、第１溶液塗布部は酸性溶液吐出部３１と塩基性溶液吐出部３２からなり、第２溶液塗布部はゲル化剤溶液吐出部３３からなる。
酸性溶液吐出部３１は、酸性モノマー溶液Ａを貯蔵する第１タンク３１ａと、第１インクジェットヘッド３１ｂと、第１タンク３１ａから第１インクジェットヘッド３１ｂへ酸性モノマー溶液Ａを送る第１パイプ３１ｃとを有し、水頭差を利用して第１タンク３１ａから第１インクジェットヘッド３１ｂへ酸性モノマー溶液Ａが供給されるように構成されている。

塩基性溶液吐出部３２は、塩基性溶液Ｂを貯蔵する第２タンク３２ａと、第２インクジェットヘッド３２ｂと、第２タンク３２ａから第２インクジェットヘッド３２ｂへ塩基性溶液Ｂを送る第２パイプ３２ｃとを有し、水頭差を利用して第２タンク３２ａから第２インクジェットヘッド３２ｂへ塩基性モノマー溶液Ｂが供給されるように構成されている。

ゲル化剤溶液吐出部３３は、ゲル化剤溶液Ｃを貯蔵する第３タンク３３ａと、第３インクジェットヘッド３３ｂと、第３タンク３３ａから第３インクジェットヘッド３３ｂへゲル化剤溶液Ｃを送る第３パイプ３３ｃとを有し、水頭差を利用して第３タンク３３ａから第３インクジェットヘッド３３ｂへゲル化剤溶液Ｃが供給されるように構成されている。なお、実施形態１の場合、ゲル化剤としては光重合開始剤が用いられている。

第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂとしては、サーマルジェット方式、ピエゾジェット方式、静電駆動方式等が挙げられるが、インクジェット装置３０における各液（酸性モノマー溶液Ａ、塩基性モノマー溶液Ｂ、ゲル化剤溶液Ｃ）を冷却する場合は、各液に熱を加えるサーマルジェット方式を用いず、ピエゾジェット方式または静電駆動方式を用いることが望ましい。

負圧調整部３４は、第１〜第３タンク３１ａ〜３３ａとパイプ３５〜３７にて接続されており、第１から第３のタンク内の気圧を管理し、第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂのノズル孔Ｈ（図４参照）から液が垂れ落ちない所定の圧力となるよう、第１〜第３タンク３１ａ〜３３ａ内を大気圧より低い所定圧で一定になるように調整する。

第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂは一体化されて１組の吐出ヘッドユニットＵ１が構成されており、この吐出ヘッドユニットＵ１は図示しない固定部材にて固定されている。そして、図３に示すように、この基材Ｓの移動軌跡Ｅ上に、第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂは一列で配置されているが、ヘッド配置順はこの順番に限定されない。なお、実施形態１の場合、基材Ｓの搬送方向（矢印Ｍ１方向）の上流側から第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂの順で配置されている。

また、図３と図４に示すように、基材Ｓの移動軌跡Ｅと対向する第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂの下面には、移動軌跡Ｅの方向と直交する方向に複数のノズル孔Ｈが１列で設けられている。すなわち、１列のノズル孔群ＨＧが、移動軌跡Ｅの方向と直交する方向に、かつ移動軌跡Ｅの幅を超える長さで延びている。ノズル孔径Ｄおよびノズル孔間隔Ｐは特に限定されないが、ノズル孔Ｈの径は10〜100μｍ程度が適当であり、ノズル孔間隔Ｐは100〜200μｍ程度が適当である。なお、ノズル列が直線状に配置されている場合、ヘッド向きを傾けることで見掛け上、ノズル孔間隔を狭くする方法も使用できる。また、第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂにおいて、ノズル孔群ＨＧは２列以上の複数列で設けられていてもよい。

図２と図３に示すように、ゲル化促進部は、基材Ｓ上の塗布膜に光を照射する光照射器５０であり、吐出ヘッドユニットＵ１の基材搬送方向（矢印Ｍ１方向）の下流側の側面に設けられている。この光照射器は、所定波長の光（例えば、２００〜６００ｎｍ程度）を所定光量で照射することができ、その下面には光照射口５０ａが設けられている。なお、照射光波長は、使用する光重合開始剤の種類に応じて適切に設定される。

次に、前記構成を有する試験具製造装置を用いて試験具ＧＰ₁を製造する方法の一例について説明するが、等電点電気泳動用試験具ＧＰ₁は、本発明の溶液塗布方法に基づく製造方法によって製造することができるため、先ず、溶液塗布方法について説明する。

図５は本発明の溶液塗布方法での塗布量分布を説明する概念図である。
本発明の溶液塗布方法は、被塗布材Ｓｘ上の塗布領域にモノマーを含む第１溶液を塗布する第１溶液塗布工程と、第１工程後の被塗布材Ｓｘ上の塗布領域に第１溶液をゲル化させるゲル化剤を含む第２溶液を塗布する第２溶液塗布工程とを含み、第１溶液塗布工程と第２溶液塗布工程を交互に複数回繰り返す方法である。この場合、第１溶液は前記酸性モノマー溶液Ａと前記塩基性モノマー溶液Ｂの２種類からなり、第２溶液は前記ゲル化剤溶液Ｃからなる。

第１溶液塗布工程において、塗布方向は矢印Ｘ方向であれば、左から右でも右から左でもどちらでもよく、左から右へ塗布する場合、塗布領域に酸性モノマー溶液を単位面積当たりの塗布量を徐々に減少しながら塗布し、かつ塗布領域に塩基性モノマー溶液を単位面積当たりの塗布量を徐々に増加させながら塗布する。右から左へ塗布する場合はこの逆である。また、塗布領域全体に亘って酸性モノマー溶液の塗布量と塩基性モノマー溶液の塗布量の合計は均一である。

第２溶液塗布工程においても、塗布方向は矢印Ｘ方向であれば、左から右でも右から左でもどちらでもよいが、第１溶液塗布工程と並行して第２溶液塗布工程を行う場合は、第１溶液塗布工程と同じ塗布方向とする。また、第２溶液塗布工程において、ゲル化剤溶液の塗布量は、塗布領域全体に亘って均一である。

この溶液塗布方法によれば、最終的に得ようとする塗布膜の厚みを、１回の塗布で形成するのではなく、複数回の塗布により徐々に厚く形成していくため、塗布１回当たりの塗布量を低減することができる。この結果、各回の塗布における塗布膜の形状崩れによる移動を抑制することができ、理想的なｐＨ傾斜を有する塗布膜を形成し易くなる。

それに加え、例えば、塗布１回目において、酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液とが混合し、理想的なｐＨ傾斜を有する混合モノマー塗布膜が形成され、混合モノマー塗布膜上にゲル化剤溶液が塗布されるため、理想的なｐＨ傾斜を維持した状態で混合モノマー塗布膜のゲル化が進行して増粘していく。そして、塗布２回目以降も同様に行われるが、増粘した混合モノマー塗布膜（半固化ゲル）上に、次の酸性および塩基性モノマー溶液が塗布されるため、塗布２回目以降の酸性および塩基性モノマー溶液によって下層の半固化ゲルの液移動が生じ難くなっている。このことが、理想的なｐＨ傾斜を維持した状態で各層の混合モノマー塗布膜をゲル化させることに繋がる。

この溶液塗布方法において、第１溶液塗布工程と第２溶液塗布工程を交互に繰り返す回数、第１および第２溶液の組成等は特に限定されないが、１回目に行った第１および第２溶液塗布工程と全く同じ条件で２回目以降を繰り返す必要がある。これにより、１回目の第１および第２溶液塗布工程によって被塗布材Ｓｘ上に理想的なｐＨ傾斜を有するモノマー塗布膜が形成され、２回目以降は理想的なｐＨ傾斜を維持しながらモノマー塗布膜が段階的に厚くなっていく。

ところで、第１および第２溶液塗布工程によって、酸性および塩基性モノマー溶液が混合した混合モノマー塗布膜上にゲル化剤溶液を塗布することで、混合モノマー塗布膜のゲル化が進行していくが、この際のゲル化進行速度を制御しない場合は下記の問題が発生する可能性がある。
通常、ゲル化進行速度を制御しない場合は、混合モノマー塗布膜上にゲル化剤溶液を塗布した直後からゲル化が開始し、その後ゲル化終了前までほぼ一定の速度でゲル化が進行し、ゲル化終了時点でゲル化速度が略ゼロとなる。
ここで、混合モノマー塗布膜のゲル化進行速度が遅過ぎる場合は、ゲル化終了までに時間がかかり過ぎるため、その間にｐＨ傾斜が崩れてしまうおそれがある。

反対に、ゲル化進行速度が速過ぎる場合、次回のモノマー溶液を塗布するタイミングとしては、（Ａ）モノマー溶液のゲル化が概ね終了し、ゲル化剤の活性が概ね失われた状態と、（Ｂ）モノマー溶液のゲル化が継続中であり、ゲル化剤が活性な状態の２種類が想定される。
（Ａ）の場合、次回の混合モノマーを塗布する時間までに、混合モノマー塗布膜のゲル化が概ね終了するほどまでにゲル化が過剰に進行することで、混合モノマー塗布膜の上層が固化しているため、次の第１溶液塗布工程で塗布した第１溶液（酸性および塩基性モノマー溶液）の液滴が混合モノマー塗布膜の上層とほとんど混合せずにたまる。この結果、上層と下層の界面でゲル層の結合力が低下し、全体として均質なゲル層が形成できなくなるおそれがある。
（Ｂ）の場合、次回のモノマー溶液は小体積の液滴で前回のモノマー溶液中に塗布されるため、塗布されたモノマー溶液は前回モノマー溶液中のゲル化剤によって液滴の形状で瞬時にゲル化され、粒状のゲルとなって前回のモノマー溶液の上層に積層することになる。よって、このような場合であっても全体としてゲル層の均質性が損なわれるおそれがある。

上記の問題より、材料の拡散防止の観点からはゲル化進行速度は速いことが望ましく、ゲル全体の均一性向上の観点からはゲル化進行速度が遅いことが望ましい。よって、ゲル化進行速度を制御しない場合は、これらの要望を同時に満たすことができない。

そこで、本発明の溶液塗布方法の好ましい実施形態では、第２溶液塗布工程と、第２溶液塗布工程後に行う第１溶液塗布工程との間に、第１および第２溶液を含む塗布膜のゲル化の一部を進行させる一部ゲル化工程が含まれる。つまり、この一部ゲル化工程では、酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液とゲル化剤溶液とが混合してなるゲル化剤含有塗布膜を、ゲル化が完結しない（ゲル化が飽和しない）程度にゲル化を進行させる。これにより、より膜厚方向に均質なゲル層を形成することが可能となる。
実施形態１の場合、一部ゲル化工程において、ゲル化剤含有塗布膜に光を照射してモノマーの光重合を促進させる。このとき、ゲル化含有塗布膜が完全にゲル化しない程度の光量の光を、各第２溶液塗布工程の後の被塗布材Ｓｘ上のゲル化剤含有塗布膜に照射する。

等電点電気泳動用試験具ＧＰ₁の製造方法では、前記溶液塗布方法に基づいて被塗布材Ｓｘ上に第１および第２溶液を含む塗布膜を形成した後、この塗布膜のゲル化を完結させるゲル化完結工程を行う。これにより、全体的に均質であり、かつ理想的なｐＨ勾配を有するゲル層を形成することができる。

以下、前記構成を有する試験具製造装置を用いて試験具ＧＰ₁を製造する方法の一例について説明する。
先ず、図２に示すように、待機位置にあるステージ１０上に細長い矩形の基材Ｓをセットする。

次に、所定のプログラムに基づく常温大気圧下での塗布工程が行われる。詳しく説明すると、図６（Ａ）に示すように、基材Ｓの一端Ｓ₁がインクジェット装置３０の第１インクジェットヘッド３１ｂのノズル孔群ＨＧの真下位置まで移動したところで、第１インクジェットヘッド３１ｂから酸性モノマー溶液の微小液滴Ｌａが吐出されて基材Ｓ上に塗布される。これにより、酸性モノマー溶液の塗布膜Ｌ１が基材Ｓの一端Ｓ₁側に形成される。この場合、ステージ１０上に微小液滴Ｌａが吐出されないように、第１インクジェットヘッド３１ｂにおけるノズル孔群ＨＧのうちから微小液滴Ｌａを吐出するノズル孔Ｈが選択されており、これについては第２および第３インクジェットヘッド３２ｂ、３３ｂでも同様である。

そして、図６（Ｂ）に示すように、基材Ｓの一端Ｓ₁が第２インクジェットヘッド３２ｂのノズル孔群ＨＧの真下位置まで移動したところで、第２インクジェットヘッド３２ｂから塩基性モノマー溶液の微小液滴Ｌｂが吐出されて塗布膜Ｌ１上に塗布される。これにより、酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液とが混合した混合モノマー溶液の塗布膜Ｌ２が基材Ｓの一端Ｓ₁側に形成される。

そして、図６（Ｃ）に示すように、基材Ｓの一端Ｓ₁が第３インクジェットヘッド３３ｂのノズル孔群ＨＧの真下位置まで移動したところで、第３インクジェットヘッド３３ｂからゲル化剤溶液の微小液滴Ｌｃが吐出されて塗布膜Ｌ２上に塗布される。これにより、酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液とゲル化剤溶液とが混合した混合溶液の塗布膜Ｌ３が基材Ｓの一端Ｓ₁側に形成される。

そして、図７（Ａ）に示すように、基材Ｓの一端Ｓ₁が光照射器５０に接近したところで、光照射器５０から下方に向かって所定波長の光５０Ｌ₁が照射される。このときの光５０Ｌ₁の光量は、酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液とゲル化剤溶液とが混合した混合溶液の塗布膜Ｌ３のゲル化が完結しない程度に設定されている。塗布膜Ｌ３に光５０Ｌ₁が照射されることにより、塗布膜Ｌ３は完全にゲル化しない程度にゲル化し、基材Ｓ上に半固化ゲルＬｇ₁が形成される。

このように、酸性モノマー溶液、塩基性モノマー溶液およびゲル化剤溶液が順次基材Ｓの塗布領域全体に塗布され、これらの混合溶液の塗布膜Ｌ３全体に光照射器５０からの光５０Ｌ₁が照射される。そして、基材Ｓの他端Ｓ₂が第１〜第３インクジェットヘッド３１ｂ〜３３ｂのノズル孔群ＨＧの真下位置を通過すると、酸性モノマー溶液、塩基性モノマー溶液およびゲル化剤溶液の吐出が停止し、１回目の第１および第２溶液塗布工程が終了する。また、基材Ｓの他端Ｓ₂が光照射器５０の真下を通過すると、光照射器５０からの光照射が停止し、１回目の一部ゲル化工程が終了する。

次に、図７（Ｃ）に示すように、移動機構４０の支持台４０ａが逆方向（矢印Ｍ２方向）に移動してステージ１０と共に基材Ｓが逆方向に移動し、２回目の第１および第２溶液塗布工程の待機位置へ戻る。その後は、図６（Ａ）〜図７（Ｃ）を所定回数繰り返す。これにより、基材Ｓ上に半固化ゲルＬｇ₁が複数積層されて、図８（Ａ）に示す所望の厚さの半固化ゲルＬｇ_nが形成される。

その後、基材Ｓが矢印Ｍ１方向に移動すると共に、図８（Ｂ）に示すように、光照射器５０から光５０Ｌ₂が半固化ゲルＬｇ_nに照射される。このときの光５０Ｌ₂の光量は、半固化ゲルＬｇ_nのゲル化が完結する程度に設定されている。そして、半固化ゲルＬｇ_n全体に光５０Ｌ₂が照射されることにより、図８（Ｂ）に示すように、基材Ｓ上に完全にゲル化したゲル層Ｇ₁を有する等電点電気泳動用試験具ＧＰ₁が得られる（図１（Ａ）参照）。なお、このような塗布工程における試験具製造装置の一連の動作は、所定のプログラムに基づいて制御部が各駆動部を制御することにより行われる。

等電点電気泳動用試験具ＧＰ₁のゲル層Ｇ₁を乾燥することにより、図１（Ｂ）に示す等電点電気泳動試験具ＧＰＤ₁が得られる。この乾燥工程において、ゲル層Ｇ₁を乾燥する方法は特に限定されず、例えば、ゲル層Ｇ₁をヒーターにて加熱する、あるいはゲル層Ｇ₁に熱風を吹き付けて乾燥する方法が挙げられる。さらに、乾燥工程後に、乾燥膜Ｄ₁を−２０℃以下に冷却する冷却工程を行ってもよい。あるいは、乾燥工程および冷却工程の代わりに、フリーズドライ工程を行ってもよい。

（実施形態２）
図９は実施形態２の電気泳動用試験具を製造することができる装置による製造方法を示す説明図である。なお、図９において、図６（Ａ）〜図８（Ｃ）中の要素と同様の要素には同一の符号を付している。
実施形態１では、各回の第１および第２溶液塗布工程と並行して各回の一部ゲル化工程を行う場合を例示した。実施形態２では、各回の第１および第２溶液塗布工程が終了した時点で各回の一部ゲル化工程を行う場合を説明する。

実施形態２の電気泳動用試験具の製造装置では、実施形態１における光照射器５０の代わりに、停止した基材Ｓ全体に光を照射できるランプＫが設けられる。このランプＫは、吐出ヘッドユニットＵ１の基材移動方向の下流側に配置される。なお、実施形態３の電気泳動用試験具の製造装置におけるその他の構成は、実施形態１と同様である。

実施形態２の溶液塗布方法は、図９（Ａ）に示すように、基材Ｓが矢印Ｍ１方向に移動する際は、実施形態１の図６（Ａ）〜（Ｃ）と同様の工程が行われ、それにより基材Ｓ上に酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液とゲル化剤溶液とを含む塗布膜Ｌ３が形成されていく。そして、図９（Ｂ）に示すように、基材Ｓの他端Ｓ₂が吐出ヘッドユニットＵ１を通過し、基材Ｓ全体がランプＫの真下で停止した後、基材Ｓ上の塗布膜Ｌ３に向かってランプＫから光Ｋｘ₁が照射されて一部ゲル化工程が行われる。このときの光Ｋｘの波長および光量は、実施形態１の光照射器５０の光５０Ｌ₁の波長および光量と同様である。
そして、図９（Ａ）と（Ｂ）で示した工程を複数回繰り返すことにより、図９（Ｃ）に示すように、所定厚さまで基材Ｓ上に塗布膜Ｌｇ_nが形成され、その後、塗布膜Ｌｇ_nに向かってランプＫから光Ｌｘ₂が照射されてゲル化完結工程が行われる。

（実施形態３）
図１０（Ａ）は実施形態３の電気泳動用試験具を製造することができる装置による製造方法を示す説明図であり、図１０（Ｂ）は図１０（Ａ）から引き続く１回目の塗布工程および一部ゲル化工程が終了した状態を示す説明図であり、図１０（Ｃ）は図１０（Ｂ）から引き続く２回目の塗布工程および一部ゲル化工程を示す説明図である。なお、図１０（Ａ）〜（Ｃ）において、図６（Ａ）〜図８（Ｃ）中の要素と同様の要素には同一の符号を付している。
実施形態１では、基材Ｓが一方向（矢印Ｍ１方向）に移動したときに、第１・第２溶液塗布工程および一部ゲル化工程を行うことができる場合を例示した。実施形態３では、基材Ｓが往復移動する間に、第１・第２溶液塗布工程および一部ゲル化工程を行うことができる場合を説明する。

実施形態１で説明した吐出ヘッドユニットＵ１では、矢印Ｍ１方向の上流側から酸性モノマー溶液を吐出する第１インクジェットヘッド３１ｂ、塩基性モノマー溶液を吐出する第２インクジェットヘッド３２ｂ、およびゲル化剤溶液を吐出する第３インクジェットヘッド３３ｂがこの順に配置され、最下流側に光照射器５０が配置されている。
実施形態３における吐出ヘッドユニットＵ２では、ゲル化剤溶液を吐出する第４インクジェットヘッド３４ｂと光照射器５１がさらに１個ずつ追加されている点が、実施形態１とは大きく異なる。追加された第４インクジェットヘッド３４ｂは、吐出ヘッドユニットＵ２の矢印Ｍ１方向の最上流側に配置され、追加された光照射器５１は第４インクジェットヘッド３４ｂの上流側に配置されている。図示省略するが、第４インクジェットヘッド３４ｂは、ゲル化剤溶液吐出部３３（図２参照）の第３パイプ３３ｃの分岐した分岐パイプと接続されており、第３パイプ３３ｃのもう一方の分岐パイプは第３インクジェットヘッド３３ｂと接続されている。なお、実施形態２の電気泳動用試験具の製造装置におけるその他の構成は、実施形態１と同様である。

実施形態３の溶液塗布方法は、図１０（Ａ）に示すように、基材Ｓが矢印Ｍ１方向に移動する際は、実施形態１の図６（Ａ）〜図７（Ｂ）と同様の工程が行われ、それにより、図１０（Ｂ）に示すように、基材Ｓ上に半固化ゲルＬｇ₁が形成される。その後、図１０（Ｃ）に示すように、基材Ｓが逆方向（矢印Ｍ２方向）に移動し、２回目の第１溶液塗布工程および一部ゲル化工程が行われる。このとき、第１溶液塗布工程では、基材Ｓの他端Ｓ₂側から塩基性モノマー溶液の微小液滴Ｌｂ、酸性モノマー溶液の微小液滴Ｌａ、およびゲル化剤溶液の微小液滴Ｌｄがこの順で塗布される。また、一部ゲル化工程では、光照射器５１から光５１Ｌ₁が照射される。

そしてこの後は、基材Ｓを往復移動しながら同様の工程を行うことができる。実施形態２によれば、基材Ｓの往復移動中に第１・第２溶液塗布工程および一部ゲル化工程を行うことができるため、実施形態１よりも効率よく所定厚さの半固化ゲルを形成することができる。

（実施形態４）
実施形態４では、実施形態２におけるランプＫ（図９（Ａ）参照）を、実施形態３における光照射器５０、５１を有さない吐出ヘッドユニットＵ２（図１０参照）の基材移動方向の両側に配置する。これにより、実施形態３のように基材が往復移動する間に第１・第２溶液塗布工程および一部ゲル化工程を行うことができる。

（他の実施形態）
１．実施形態１および２では、第１溶液として、モノマーを含む酸性溶液とモノマーを含む塩基性溶液の２種類を用いて、ｐＨ傾斜を有するゲル層を形成する場合を例示したが、第１溶液としてはモノマーを含みかつｐＨバッファを含まないモノマー溶液の１種類のみを用いることもできる。この場合、基材上に第１溶液（モノマーを含みかつｐＨバッファを含まないモノマー溶液）を塗布量を変化させながらあるいは均一濃度で塗布する。続いて、第２溶液（ゲル化剤）を塗布したのち、一部ゲル化工程を行う。以後、これらの工程を繰り返すことで、積層構造のゲル層を形成できる。このようにして形成したゲルは、例えば、二次元電気泳動における二次元目のSDS-PAGEに用いることができる。

２．実施形態１および２では、光重合によりモノマーを重合させてゲルを形成する場合を例示したが、熱重合によりモノマーを重合させてゲルを形成してもよい。この場合、電気泳動用試験具の製造装置において、基材Ｓを載置するステージを環状軌道上を一方向に移動するよう構成すると共に、環状軌道に沿って吐出ヘッドユニットＵ１およびヒーターを配置する。このようにすれば、基材Ｓ上に１回目の混合モノマー溶液の塗布膜が形成されると、この塗布膜がヒーターにて加温されてゲル化の一部が進行し、その後、これらの工程を繰り返し行うことができ、最後に、ゲル化が完結する温度で塗布膜を加熱してゲル化完結工程を行うことができる。

３．実施形態１および２では、塗布工程において、基材上に常温状態の塗布膜を形成する場合を例示したが、ペルチェ素子やタンク冷却部を備えた装置を用い、基材上に冷却下で塗布膜を形成してもよい。また、実施形態１では、塗布工程において大気下で塗布膜を形成する場合を例示したが、窒素雰囲気下で塗布膜を形成してもよい。

本発明の溶液塗布方法は、実施形態１で説明したようなｐＨ勾配を有する塗布膜およびゲル層を形成するのに好適であるが、これ以外にも、例えば、濃度の異なる２種類の溶液を被塗布材上に塗布して所定の濃度勾配を有する塗布膜を形成する場合にも適用できる。さらには、粒子径の異なる微粒子が溶媒中に分散した２種類の微粒子分散液を被塗布材上に塗布して、大きい粒子径の割合が徐々に増加する粒子径勾配を有する塗布膜を形成する場合にも本発明の溶液塗布方法を適用できる。

Ａ 酸性モノマー溶液
Ｂ 塩基性モノマー溶液
Ｃ ゲル化剤溶液
Ｄ₁ 乾燥膜
ＧＰ₁ 使用可能な状態となった等電点電気泳動用試験具（ゲルプレート）
ＧＰＤ₁ 保存可能な状態となった等電点電気泳動用試験具
Ｇ₁ ゲル層
Ｓ 基材
Ｓｘ 被塗布材

Claims (10)

1. 被塗布材上の塗布領域にモノマーを含む第１溶液を塗布する第１溶液塗布工程と、該第１工程後の前記被塗布材上の塗布領域に前記第１溶液をゲル化させるゲル化剤を含む第２溶液を塗布する第２溶液塗布工程とを含み、前記第１溶液塗布工程と前記第２溶液塗布工程を交互に複数回繰り返すことを特徴とする溶液塗布方法。
2. 前記第１溶液は、第１のｐＨを有する第１モノマー溶液と、前記第１のｐＨとは異なる第２のｐＨを有する第２モノマー溶液とを含む複数種類の溶液からなり、
   前記第１溶液塗布工程は、前記被塗布材上の塗布領域に前記第１モノマー溶液を単位面積当たりの塗布量を変化させながら一方向に塗布する第１モノマー塗布工程と、前記被塗布材上の塗布領域に前記第２モノマー溶液を単位面積当たりの塗布量を変化させながら一方向に塗布する第２モノマー塗布工程とを含む請求項１記載の溶液塗布方法。
3. 前記第１溶液塗布工程において、前記第１モノマー溶液と前記第２モノマー溶液の単位面積当たりの塗布量合計が前記塗布領域全体に亘って均一であるように塗布する請求項２記載の溶液塗布方法。
4. 前記第１溶液の塗布および前記第２溶液の塗布が、インクジェット装置を用いて行われる請求項１〜３のいずれか１つに記載の溶液塗布方法。
5. 前記第２溶液塗布工程と、第２溶液塗布工程後に行う前記第１溶液塗布工程との間に、前記第１および第２溶液を含む塗布膜のゲル化の一部を進行させる一部ゲル化工程を含む請求項１〜４のいずれか１つに記載の溶液塗布方法。
6. 前記第２溶液に含まれるゲル化剤が光重合剤であり、
   前記一部ゲル化工程において、前記被塗布材上の前記第１および第２溶液を含む塗布膜に、この塗布膜の一部がゲル化する光量の光を照射する請求項５に記載の溶液塗布方法。
7. 請求項１〜６のいずれか１つに記載の溶液塗布方法に基づいて前記被塗布材上に前記第１および第２溶液を含む塗布膜を形成した後、この塗布膜のゲル化を完結させるゲル化完結工程を行う等電点電気泳動用試験具の製造方法。
8. 請求項７に記載の等電点電気泳動用試験具の製造方法に用いられる等電点電気泳動用試験具の製造装置であって、ステージと、該ステージ上に設置された前記被塗布材上の塗布領域に前記第１溶液を塗布する第１溶液塗布部と、前記被塗布材上の塗布領域に前記第２溶液を塗布する第２溶液塗布部と、前記被塗布材上の前記第１および第２溶液を含む塗布膜中のゲル化を促進させるゲル化促進部とを備えたことを特徴とする等電点電気泳動用試験具の製造装置。
9. 前記ゲル化促進部が、前記塗布膜に光を照射する光照射器である請求項８に記載の等電点電気泳動用試験具の製造装置。
10. 前記第１および第２溶液塗布部が、インクジェット装置からなる請求項８または９に記載の等電点電気泳動用試験具の製造装置。