JP2014084323A - 総数が22以下の床を有する直列した2基の吸着器により構成される、疑似向流によるパラキシレンの製造方法および装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、疑似向流(SCC)によるキシレンの分離方法であって、総数Ntが22以下の床を有する直列した2基の吸着器を使用し、所定の操作条件(温度、圧力、流量比、再循環比、循環時間、平均線速度、含水量)において操作する。本発明の方法には、新たな装置を用いて実施されるケースと、既存の装置のリモデリングによって実施されるケースとがある。
【選択図】図2
Description
・帯域1:脱着剤Dの注入とエキストラクトEの除去との間に含まれる、パラキシレン脱着帯域;
・帯域2:エキストラクトEの除去と、分別されるべき供給原料Fの注入との間に含まれる、パラキシレン異性体脱着帯域;
・帯域3:供給原料Eの注入とラフィネートRの抜出しとの間に含まれる、パラキシレン吸着帯域;
・帯域4:ラフィネートRの抜出しと脱着剤Dの注入との間に位置する帯域。
・第1の吸着器の最下床は、少なくとも1つの再循環ポンプと、場合により流量計、圧力センサ等の他の装置とを含んだラインを通じて、第2の吸着器の最上床に接続される;
・第2の吸着器の最下床は、少なくとも1つの再循環ポンプと、場合により流量計、圧力センサ等の他の装置とを含んだラインを通じて、第1の吸着器の最上床に接続される;
・2基の吸着器からなるアセンブリ(assembly)は、1つの供給原料導入口、1つの溶離剤(脱着剤)導入口、1つのラフィネート抜出し口、および1つのエキストラクト抜出し口を有する。
・特許文献5および特許文献4には、いくつかの吸着工程を用いる方法が示されている。その第1の工程は、商業的に使用可能となるには不十分な純度(99重量%未満)を有するパラキシレンに富む流れを生じさせることを目的としている。第2の工程は、非常に高い純度のパラキシレンを得るために使用することができる。特に、特許文献4の図5には、供給原料の前処理のための吸着器を追加することによって、従来の24床SCC装置の課題が解決されることが示されている;
・特許文献6、特許文献7、および特許文献3には、結晶化と組み合せたSSC吸着工程を用いる方法が示されている。その第1の工程は、SSCにより、商業的に使用可能となるには不十分な純度(一般に90重量%程度)を有するパラキシレンに富む流れを生じさせることを目的としている。第2の工程は、非常に高い純度のパラキシレンを結晶化によって得るために使用することができる。特に、特許文献3の図5には、2基の並列な吸着器を用いた吸着方法を改良すること、およびエキストラクトの後処理のための結晶化工程を追加することにより、従来の24床SSC装置(2基の12床吸着器からなる)の課題が解決されることが示されている。
・ケース1:本発明の方法が、新たな装置を用いて実施される;
・ケース2:それぞれが12個の床を有する2基の吸着器によって構成されるパラキシレン分離装置(時に24床装置として知られる装置)が既に存在しており、この装置が、床の数を減らすことによって、本発明の装置を得るために改造される。
・帯域1:脱着剤Dの注入(供給位置)とエキストラクトEの除去(抜出し位置)との間に含まれる、パラキシレン脱着帯域;
・帯域2:エキストラクトEの除去(抜出し位置)と、分別されるべき供給原料Fの注入(供給位置)との間に含まれる、パラキシレン異性体脱着帯域;
・帯域3:供給原料の注入(供給位置)とラフィネートRの抜出し(抜出し位置)との間に含まれる、パラキシレン吸着帯域;
・帯域4:ラフィネートの抜出し(抜出し位置)と脱着剤の注入(供給位置)との間に位置する帯域;
に分割されており、
また、2基の吸着器は、直列で機能する、即ち、第1の吸着器の最後の床が、再循環ポンプを含むラインを通じて第2の吸着器の最初の床に接続され、第2の吸着器の最後の床が、前述の再循環ポンプとは異なる再循環ポンプを含むラインを通じて第1の吸着器の最初の床に接続されるものである。
・帯域1:脱着剤Dの注入(供給位置)とエキストラクトEの除去(抜出し位置)との間に含まれる、パラキシレン脱着帯域;
・帯域2:エキストラクトEの除去(抜出し位置)と、分別されるべき供給原料Fの注入(供給位置)との間に含まれる、パラキシレン異性体脱着帯域;
・帯域3:供給原料の注入(供給位置)とラフィネートRの抜出し(抜出し位置)との間に含まれる、パラキシレン吸着帯域;
・帯域4:ラフィネートの抜出し(抜出し位置)と脱着剤の注入(供給位置)との間に位置する帯域;
に分割されており、
また、2基の吸着器は、直列で機能する、即ち、第1の吸着器の最後の床が、再循環ポンプを含むラインを通じて第2の吸着器の最初の床に接続され、第2の吸着器の最後の床が、前述の再循環ポンプとは異なる再循環ポンプを含むラインを通じて、第1の吸着器の最初の床に接続されており、各吸着器の床は、各吸着器の床どうしの間に床を介在させ得るだけの空隙がないという点で、コンパクトなアセンブリを構成する。
・少なくとも1つの吸着器のヘッドプレートおよび/またはボトムプレートを、最上部および/または最下部において除去された吸着剤の床の数に対応する高さだけ変位すること;
・除去された床に対応する中間ネットワークおよび中間プレートを除去すること;
・除去されたネットワークに対応する入口装置/出口装置を塞ぐこと;
・ヘッドプレートおよびボトムプレートの位置が変更された場合には、ヘッドプレートおよび/またはボトムプレートからの捕集プレートにそれぞれ供給するため、ヘッドオクトパスマニホールドおよび/またはボトムオクトパスマニホールドを改造すること、
を含んでなる方法に関するものである。
本明細書の以下の部分においては、不明確さを避けるため、第1の状況(新たな装置)と、第2の状況(リモデリングされた装置)のうちいずれにあるのかを明記するものとする。
・各プレートについて、流体の供給または抜出しのための複数のプログラムされた開閉弁であって、これらの弁は、典型的には対応するプレートのすぐ近くに位置し、また、各プレートPiについて、それぞれ、2つの流体Fおよび流体Dの供給と、2つの流体Fおよび流体Rの抜出しのための、少なくとも4つのプログラムされた二方開閉弁を含んでなる;
・または、全てのプレートにわたる流体の供給または抜出しのための1つの回転多方弁。
・第1の装置は、所与のプレートの注入/抜出しネットワークを、脱着剤または比較的純粋なパラキシレンで洗い流す(flushing)ことからなる。この目的のため、例えば、(帯域1に関連したネットワークが洗い流されるようにするため)1つの流れが帯域1から抜き出され、また、(帯域2に関連したネットワークが洗い流されるようにするため)前記流れが帯域2に再注入される。エキストラクトまたは蒸留後のパラキシレンの小さい流れを、エキストラクト抜出し口に最も近い帯域2のプレートに注入することも可能である。注入および抜出しによる洗浄については、他の可能性もあり得る。そのような装置は、特に、米国特許第3201491号明細書、米国特許第5750820号明細書、米国特許第5912395号明細書、米国特許第6149874号明細書、および国際公開第2006/096394号パンフレットに記載されている。好ましくは、この洗浄装置は、全プレートにわたる流体の供給または抜出しが、1つの回転多方弁を使用して実施される場合に用いられる。
・第2の装置は、主要な流れの大部分を吸着器の内部に流し、また、その流れの僅かな部分(典型的には主要な流れの1〜20%)を、連続したプレート間の外部バイパスラインを通じて外側に流すことからなる。上部プレートから来た流れによる、1つのプレートにおける注入/抜出しネットワークの、この洗い流し(flushing)は、一般に連続的に行われ、注入/抜出しネットワークのラインおよび帯域が、もはや「働かない(dead)」のではなく、絶え間なく洗い流されるようにする。そのような装置は、特に、仏国特許発明第2935100号明細書、仏国特許発明第2935101号明細書、および仏国特許発明第2944215号明細書に記載されている。好ましくは、この洗浄装置は、全プレートにわたる流体の供給または抜出しが、複数のプログラムされた開閉弁によって行われる場合に用いられる。
・温度は、100〜250℃、好ましくは120〜180℃である;
・圧力は、本方法の温度におけるキシレンの沸点圧と、30×105Pa(1バール=105Pa)との間である;
・供給原料に対する脱着剤の流量比は、0.7〜2.5である;
・再循環比は、2.5〜12、好ましくは3.5〜6の範囲内である。再循環比は、種々の吸着剤床中を流れる平均流量と、この吸着器内に注入される供給原料の流量との間の比として定義される;
・吸着器による循環時間は、14〜30分、好ましくは18〜23分の範囲内である;
・空の反応器に対する(液体流れの)平均線速度は、0.7〜1.4cm/s、好ましくは0.85〜1.1cm/sの範囲内である;
・液相における含水量は、70〜140重量ppm、好ましくは80〜120重量ppmの範囲内に維持される。
Nz1=(N total×5/24)×(1±0.2);
Nz2=(N total×9/24)×(1±0.2);
Nz3=(N total×7/24)×(1±0.2);
Nz4=(N total×3/24)×(1±0.2);
・既存の24床方法の全プレートにわたる流体の供給または抜出しが、複数のプログラムされた開閉弁によって行われている場合、除去されなかった供給および抜出しネットワークに対し、何ら補足的な改造を行う必要はない。
・既存の24床方法の全プレートにわたる流体の供給または抜出しが、1つの回転多方弁を使用することによって行われている場合、この後者は:
a)複数のプログラムされた開閉弁を通じて、本方法のプレートのセットにわたり、流体を供給または抜き出すための装置、
b)または、床の数が減らされた方法に適合した、新たな回転多方弁、
によって置き換えられるであろう。
長さ1.1mおよび内径1.05mの24個の床により構成され、1つの供給原料注入口、1つの脱着剤注入口、1つのエキストラクト抜出し口、および1つのラフィネート抜出し口を備えた、SCC装置を対象とした。
・供給原料については、0.637m3.min−1;
・脱着剤については、0.805m3.min−1。
比較例1に記載の従来技術の装置から始まり、それぞれ8個の床を有する2基の吸着器によって構成される本発明の装置となるよう、リモデリングを行なった。
・供給原料については、0.637m3.min−1;
・脱着剤については、0.805m3.min−1。
一方が8個の床を有し、他方が7個の床を有する2基の吸着器によって構成された装置を対象とした。各床は、長さ1.1mおよび内径1.05mであった。
・供給原料については、0.637m3.min−1;
・脱着剤については、0.805m3.min−1。
Claims (6)
- 2基の吸着器を使用した疑似向流(SCC)によるキシレンの分離方法であって、総数Ntが22以下の床を有しており、供給原料(F)を導入するラインと、溶離剤(eluent)すなわち脱着剤(D)を導入するラインと、エキストラクト(E)を抜き出すラインと、ラフィネート(R)を抜き出すラインとを有しており、以下のように定義される4つのクロマトグラフィー帯域:
・帯域1:脱着剤(D)の注入とエキストラクト(E)の除去との間に含まれる、パラキシレン脱着帯域;
・帯域2:エキストラクト(E)の除去と、分別されるべき供給原料(F)の注入との間に含まれる、パラキシレン異性体脱着帯域;
・帯域3:供給原料(F)の注入とラフィネート(R)の抜出しとの間に含まれる、パラキシレン吸着帯域;
・帯域4:ラフィネート(R)の抜出しと脱着剤(D)の注入との間に位置する帯域;
に分割されており、
前記2基の吸着器は、直列で機能する、即ち、第1の吸着器の最後の床が、再循環ポンプを含むラインを通じて第2の吸着器の最初の床に接続され、前記第2の吸着器の最後の床が、前述の再循環ポンプとは異なる再循環ポンプを含むラインを通じて、前記第1の吸着器の最初の床に接続されるものであり、また、前記方法は、以下の操作条件:
・温度が100〜250℃、好ましくは120〜180℃であり;
・圧力が、本方法の温度におけるキシレンの沸点圧と、30×105Pa(1バール=105Pa)との間の範囲内であり;
・供給原料に対する脱着剤の流量比が0.7〜2.5であり;
・吸着器の種々の床中の平均流量と、前記吸着器に注入される供給原料の流量との間の比として定義される再循環比が、2.5〜12、好ましくは3.5〜6であり;
・吸着器による循環時間が、14〜30分、好ましくは18〜23分の範囲内であり;
・空の反応器に対する液体流れの平均線速度が、0.7〜1.4cm/sの範囲、好ましくは0.85〜1.1cm/sの範囲内であり;
・液相の含水量が、70〜140重量ppmの範囲、好ましくは80〜120重量ppmの範囲内である;
において操作する、該方法。 - 前記2基の吸着器にわたって分配される床の総数Ntが、18以下である、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の吸着器の床の数N1と、前記第2の吸着器の床の数N2とが等しい、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の吸着器の床の数N1が12である、請求項1に記載の方法。
- それぞれ12個の床を有する2基の吸着器から構成される既存の装置を使用した疑似向流(SCC)によるキシレンの分離方法であって、前記装置は、最終的に総数Ntが22以下の床を有するものとなるよう改造され、また、前記装置は、供給原料(F)を導入するラインと、溶離剤(eluent)すなわち脱着剤(D)を導入するラインと、エキストラクト(E)を抜き出すラインと、ラフィネート(R)を抜き出すラインとを有しており、以下のように定義される4つのクロマトグラフィー帯域:
・帯域1:脱着剤(D)の注入とエキストラクト(E)の除去との間に含まれる、パラキシレン脱着帯域;
・帯域2:エキストラクト(E)の除去と、分別されるべき供給原料(F)の注入との間に含まれる、パラキシレン異性体脱着帯域;
・帯域3:供給原料(F)の注入とラフィネート(R)の抜出しとの間に含まれる、パラキシレン吸着帯域;
・帯域4:ラフィネート(R)の抜出しと脱着剤(D)の注入との間に位置する帯域;
に分割されており、
前記2基の吸着器は、直列で機能する、即ち、第1の吸着器の最後の床が、再循環ポンプを含むラインを通じて第2の吸着器の最初の床に接続され、前記第2の吸着器の最後の床が、前述の再循環ポンプとは異なる再循環ポンプを含むラインを通じて、前記第1の吸着器の最初の床に接続されるものであり、前記総数Ntの床は、前記総数Ntの床の間に床を介在させ得るだけの空隙がないという点で、コンパクトなアセンブリ(compact assembly)を構成しており、前記方法において、閉栓された入口および出口が、全てヘッドプレートよりも上方に設置されており、また、前記方法は、以下の操作条件:
・温度が100〜250℃、好ましくは120〜180℃であり;
・圧力が、本方法の温度におけるキシレンの沸点圧と、30×105Pa(1バール=105Pa)との間の範囲内であり;
・供給原料に対する脱着剤の流量比が0.7〜2.5であり;
・吸着器の種々の床中の平均流量と、前記吸着器に注入される供給原料の流量との間の比として定義される再循環比が、2.5〜12、好ましくは3.5〜6であり;
・吸着器による循環周期が、14〜30分、好ましくは18〜23分の範囲内であり;
・空の反応器に対する液体流れの平均線速度が、0.7〜1.4cm/sの範囲、好ましくは0.85〜1.1cm/sの範囲内であり;
・液相の含水量が、70〜140重量ppmの範囲、好ましくは80〜120重量ppmの範囲内に維持される;
において操作する、該方法。 - それぞれ12個の床を有する直列した2基の吸着器から構成される疑似移動床パラキシレン製造方法を、請求項5に記載の方法においてリモデリングする方法であって、以下の工程:
・少なくとも1つの吸着器のヘッドプレートおよび/またはボトムプレートを、頂部および/または底部において除去された吸着剤の床の数に対応する高さだけ変位させること;
・除去された床に対応する中間ネットワークおよび中間プレートを除去すること;
・除去されたネットワークに対応する入口装置および/または出口装置を閉栓すること;
・前記ヘッドプレートに供給するように、ヘッドオクトパスマニホールド(head octopus manifold)を改造すること;
を含んでなることを特徴とする、該方法。
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