JP2014074435A - 継手及び配管システム - Google Patents

Abstract

【課題】液体ソース用の配管を接続する継手と配管システムにおいて、当該継手から配管を外したときに液体ソースが漏れるのを防止すること。
【解決手段】第１の内周面２１ａにより第１の流路Q1を画定するソケット２１と、ソケット２１に脱着自在に嵌合し、第１の流路Q1に接続される第２の流路Q2を第２の内周面２７ａにより画定するプラグ２７と、ソケット２１とプラグ２７のいずれか一方に設けられた係止片４１と、ソケット２１にプラグ２７が嵌合した状態で、加圧ガスGにより係止片４１を変位させることにより、係止片４１でソケット２１とプラグ２７とをロックするロック機構４０とを有する継手による。
【選択図】図７

Description

本発明は、継手及び配管システムに関する。

LSI等の半導体装置の製造工程では、半導体基板に対して処理を行うために様々な液体ソースが使用される。

液体ソースは専用の容器から配管を介して処理室に供給され、その容器が空になると液体ソースが充填された新しい容器と交換する。交換に際しては使用済みの容器から配管を外すことになるが、その容器に液体ソースが残留していると、配管を外したときに容器から液体ソースが漏れるおそれがある。

特に、人体に有害な液体ソースを扱う場合には、このような液漏れを伴う容器の交換作業は作業者を危険に曝すことになる。

液体ソース用の配管を接続する継手と配管システムにおいて、継手から配管を外したときに液体ソースが漏れるのを防止することを目的とする。

以下の開示の一観点によれば、第１の内周面により第１の流路を画定するソケットと、前記ソケットに脱着自在に嵌合し、前記第１の流路に接続される第２の流路を第２の内周面により画定するプラグと、前記ソケットと前記プラグのいずれか一方に設けられた係止片と、前記ソケットに前記プラグが嵌合した状態で、加圧ガスにより前記係止片を変位させることにより、前記係止片で前記ソケットと前記プラグとをロックするロック機構とを有する継手が提供される。

また、その開示の他の観点によれば、加圧ガスが流れる第１の配管と、第２の配管と、前記第１の配管と前記第２の配管とを接続する継手とを備え、前記継手は、第１の内周面により第１の流路を画定するソケットと、前記ソケットに脱着自在に嵌合し、前記第１の流路に接続される第２の流路を第２の内周面により画定するプラグと、前記ソケットと前記プラグのいずれか一方に設けられた係止片と、前記ソケットに前記プラグが嵌合した状態で、前記加圧ガスにより前記係止片を変位させることにより、前記係止片で前記ソケットと前記プラグとをロックするロック機構とを有する配管システムが提供される。

以下の開示によれば、接続対象の第１の配管と第２の配管に供給される加圧ガスを利用して継手のソケットとプラグとをロックする。これによれば、第１の配管内や第２の配管内の圧力が大気圧よりも高い状態ではソケットとプラグとがロックされ、当該圧力が大気圧に下がったときにロックが解除される。よって、ロックが解除されたときに各配管内に残留する加圧ガスが原因で継手から液体ソースが漏れ出す危険が低減され、作業者の安全を確保することができる。

図１は、調査に使用した配管システムの構成図である。 図２は、ワンタッチ継手を境にして配管システムから取り外した容器の断面図である。 図３は、ソケットからプラグを外した状態のワンタッチ継手の断面図である。 図４は、ソケットにプラグを接続した状態のワンタッチ継手の断面図である。 図５は、第１実施形態に係る配管システムの構成図である。 図６は、第１実施形態において、ソケットからプラグを外した状態における継手の断面図である。 図７は、第１実施形態において、ソケットにプラグが嵌合した状態における継手の断面図である。 図８は、継手のソケットとプラグとをロックした状態での第１実施形態に係る配管システムの構成図である。 図９は、継手のソケットからプラグを外した状態での第１実施形態に係る配管システムの構成図である。 図１０は、第２実施形態に係る継手の断面図である。 図１１は、第２実施形態において、板バネの一方の主面から見た継手の側面図である。 図１２（ａ）は第２実施形態に係るソケットをその先端側から見た正面図であり、図１２（ｂ）は第２実施形態に係るプラグをその先端側から見た正面図である。 図１３は、ソケットにプラグが嵌合した状態における第２実施形態に係る継手の断面図である。 図１４は、第３実施形態に係る継手の断面図である。 図１５は、第３実施形態において、板バネの一方の主面から見た継手の側面図である。 図１６（ａ）は第３実施形態に係るソケットをその先端側から見た正面図であり、図１６（ｂ）は第３実施形態に係るプラグをその先端側から見た正面図である。 図１７は、ソケットにプラグが嵌合した状態における第３実施形態に係る継手の断面図である。

本実施形態の説明に先立ち、本願発明者の調査結果について説明する。

図１は、その調査に使用した配管システムの構成図である。

この配管システム１は、半導体製造装置の処理チャンバ１１に液体ソースを供給するものであって、第１の配管２と、第２の配管５と、容器３とを備える。

このうち、容器３には液体ソース４が溜められており、その液体ソース４の液面４ａよりも高い位置に第１の配管２の開口端２ａが位置すると共に、液面４ａよりも低い位置に第２の開口５の開口端５ａが位置する。

液体ソース４の材料は処理チャンバ１１内で行う処理に応じて選択される。例えば、処理チャンバ１１内においてはんだバンプの表面の酸化膜を除去する処理を行う場合には、酸化膜を還元して除去する作用のある蟻酸を液体ソース４として使用する。

容器３は、第２の配管５を介して処理チャンバ１１に接続される。処理チャンバ１１の内部には、処理対象のシリコン基板Wを載置する基板載置台１２が設けられると共に、基板載置台１２と対向する位置に液体ソース４を噴霧するためのシャワーヘッド１３が設けられる。

なお、処理チャンバ１１内の圧力は特に限定されず、大気圧と減圧のいずれであってもよい。

このような配管システム１においては、大気圧よりも高い圧力に加圧された加圧ガスGを第１の配管２から容器３に供給することで液面４ａを押し下げ、第２の配管５を介して処理チャンバ１１に液体ソース４を供給する。

液体ソース４の供給量は、第２の配管５の途中に設けられたマスフローメータ等の流量調節部１０により調節される。なお、流量調節部１０は、第２の配管５を閉状態にする機能も有しており、処理チャンバ１１で処理を行わない場合には第２の配管５を閉状態にして液体ソース４の供給を停止する。

ここで、容器３における液体ソース４の残量が少なくなると、配管システム１から容器３を取り外してその容器を材料メーカに送り、材料メーカが容器３に液体ソース４を再充填することになる。

配管システム１から容器３を簡単に取り外せるように、第１の配管２と第２の配管５の各々の途中にはワンタッチ継手１６が設けられる。また、取り外し時に加圧ガスGの供給を停止するために、第２の配管５においてワンタッチ継手１６よりも上流側には開閉弁１４が設けられる。

ワンタッチ継手１６は脱着自在なソケット２１とプラグ２７とを備えており、上記の開閉弁１４を閉じた状態で作業者がソケット２１からプラグ２７を外すことにより、配管システム１から容器３を取り外すことができる。

図２は、ワンタッチ継手１６を境にして配管システム１から取り外した容器３の断面図である。作業者は、この状態で容器３を材料メーカに返送することになる。

図３は、ソケット２１からプラグ２７を外した状態のワンタッチ継手１６の断面図である。

図３に示すように、ソケット２１は、その第１の内周面２１ａにより第１の流路Q1を画定すると共に、内部に第１の弁体２２を有する。

第１の内周面２１ａには第１の弁座２１ｂと第１の筒底面２１ｃが形成される。第１の弁座２１ｂは、第１の流路Q1の第１の軸方向D1から傾斜した傾斜面で形成され、第１の筒底面２１ｃは第１の軸方向D1に垂直な面内に形成される。

そして、第１の弁体２２は、上記の第１の弁座２１ｂと略平行な第１の傾斜部２２ｘと、第１の傾斜部２２ｘから第１の軸方向D1に延在する第１の軸部２２ｙと、第１のバネ座２２ｚとを有する。

このうち、第１の傾斜部２２ｘには第１のOリング２３が装着され、第１の軸部２２ｙには第１のバネ２４が装着される。なお、第１のOリング２３は第１のシール部の一例である。

第１のバネ２４は、上記の第１の筒底面２１ｃと第１のバネ座２２ｚとの間で座屈されており、第１の流路Q1の第１の軸方向D1に第１の弁体２２を付勢する。

一方、プラグ２７は、その第２の内周面２７ａにより第２の流路Q2を画定すると共に、内部に第２の弁体２８を有する。

第２の内周面２７ａには第２の弁座２７ｂと第２の筒底面２７ｃが形成される。第２の弁座２７ｂは、第２の流路Q2の第２の軸方向D2から傾斜した傾斜面で形成され、第２の筒底面２７ｃは第２の軸方向D2に垂直な面内に形成される。

そして、第２の弁体２８は、上記の第２の弁座２７ｂと略平行な傾斜面を備えた第２の傾斜部２８ｘと、第２の傾斜部２８ｘから段落ちした第２のバネ座２８ｚと、第２のバネ座２８ｚからから第２の軸方向D2に延在する第２の軸部２８ｙとを有する。

このうち、第２の傾斜部２８ｘには第２のOリング２９が装着され、第２の軸部２８ｙには第２のバネ３０が装着される。なお、第２のOリング２９は第２のシール部の一例である。

第２のバネ３０は、上記の第２の筒底面２７ｃと第２のバネ座２８ｚとの間で座屈されており、第２の軸方向D2に第２の弁体２８を付勢する。

図３のようにソケット２１とプラグ２７とを脱離させた状態においては、第１のバネ２４の付勢力によって第１のOリング２３が第１の弁座２１ｂに圧着されるため、ソケット２１内において第１の流路Q1が遮断される。同様に、プラグ２７内においては、第２のバネ３０の付勢力によって第２のOリング２９が第２の弁座２７ｂに圧着され、第２の流路Q2が遮断される。

なお、各部品の大きさや材料は特に限定されない。ソケット２１、プラグ２７、第１のべ弁体２２、及び第２の弁体２８の材料としては、ステンレス等の金属やフッ素樹脂等の樹脂を採用し得る。また、ソケット２１とプラグ２７の各々の直径は２cm程度であり、ソケット２１とプラグ２７とを合せた長さは３cm〜４cm程度である。

図４は、ソケット２１にプラグ２７を接続した状態のワンタッチ継手１６の断面図である。
接続に際しては、作業者がソケット２１にプラグ２７を挿入する。これにより、ソケット２１の第１の内周面２１ａとプラグ２７の外周側面２７ｄとの摩擦力によってソケット２１とプラグ２７とが互いに係止される。

また、第１の弁体２２と第２の弁体２８とが互いに当接することにより、第１のOリング２３と第１の弁座２１ｂとが離間してこれらの間に第１の流路Q1が確保される。そして、第２のOリング２９と第２の弁座２７ｂとが離間してこれらの間に第２の流路Q2が確保され、その第２の流路Q2が第１の流路Q1と連通するようになる。

このようなワンタッチ継手１６においては、図３に示したように、ソケット２１からプラグ２７を外したときに、第１のOリング２３や第２のOリング２９の各々のシール機能を利用して第１の流路Q1や第２の流路Q2を遮断する。

この構造では、第１のOリング２３や第２のOリング２９が劣化するとそれらのシール機能が不十分となり、ソケット２１からプラグ２７を外したときに継手１６から液体ソース４が漏れ出すおそれがある。

また、第１のバネ２４や第２のバネ３０の劣化によってもシール機能が不十分となってこのような液漏れを招いてしまう。

特に、図１の配管システム１においては、加圧ガスGの圧力を利用して容器３から液体ソース４を押し出すようにしているため、配管システム１から容器３を外す際には当該容器３の内部は大気圧よりも高い状態にある。その圧力は、第２の配管５に接続されたワンタッチ継手１６において上記の液漏れを助長するように働き、液体ソース４が有害な場合には作業者を危険に曝してしまう。

以下、本実施形態について説明する。

（第１実施形態）
図５は、本実施形態に係る配管システムの構成図である。なお、図５において、図１で説明したのと同じ要素には図１におけるのと同じ符号を付し、以下ではその説明を省略する。

この配管システム３８は、加圧ガスGを利用して処理チャンバ１１に液体ソース４を供給するものであって、容器３と第１〜第５の配管３１〜３５とを備える。

このうち、第１の配管３１は容器３に加圧ガスGを供給するのに使用され、第１の配管３１の途中には三方弁３７が設けられる。その三方弁３７を切り替えることにより、加圧ガスGを分岐配管３９に逃がしたり、容器３に加圧ガスGを供給したりすることができる。

容器３には処理チャンバ１１で使用される液体ソース４が溜められており、その液体ソース４の液面４ａよりも高い位置に第２の配管３２の開口端３２ａが位置すると共に、液面４ａよりも低い位置に第３の配管３３の開口端３３ａが位置する。

液体ソース４の材料は特に限定されない。液体ソース４としては、既述の蟻酸の他に、TEOS(tetraethyl orthosilicate)やジクロロエチレンも使用し得る。

また、この配管システム３８は同一構造の二つの継手４３を備えており、一方の継手４３により第１の配管３１と第２の配管３２とが接続され、他方の継手４３によって第３の配管３３と第４の配管３４とが接続される。

各継手４３は、互いに脱着自在なソケット２１とプラグ２７とを有する。これらのうち、プラグ２７には、係止片４１によってソケット２１とプラグ２７とをロックするロック機構４０が設けられる。なお、係止片４１の材料は特に限定されず、金属や樹脂で係止片４１を形成し得る。

そして、そのロック機構４０には第１の配管３１から分岐した第５の配管３５が接続されており、その第５の配管３５を通じてロック機構４０に加圧ガスGが供給される。

ここで、既述のように、容器３における液体ソース４の残量が少なった場合には、容器３に液体ソース４を再充填するために、ソケット２１からプラグ２７を外して配管システム３８から容器３を取り外す。

次に、その継手４３の脱着機構について説明する。

図６は、ソケット２１からプラグ２７を外した状態における継手４３の断面図である。なお、図６において、図３で説明したのと同じ要素には図３におけるのと同じ符号を付し、以下ではその説明を省略する。

図６に示すように、本実施形態に係るロック機構４０は加圧ガスGが供給されるシリンダ４２を備え、既述の係止片４１はそのシリンダ４２に挿入されたピストンである。

その係止片４１の端部にはバネ座４１ａが設けられており、そのバネ座４１ａとシリンダ４２の筒底面４２ａとの間に第３のバネ４４が座屈状態で設けられる。

シリンダ４２に加圧ガスGが供給された状態ではその加圧ガスGによって係止片４１がシリンダ４２から押し出され、シリンダ４２内の圧力が大気圧に下がると第３のバネ４４の付勢力によって係止片４１がシリンダ４２に後退する。

一方、ソケット２１には、上記の係止片４１に嵌合する穴２１ｄとして貫通孔が設けられる。

図７は、ソケット２１にプラグ２７が嵌合した状態における継手４３の断面図である。

図７に示すように、この状態では、加圧ガスGによりシリンダ４２から押し出された係止片４１が穴２１ｄに嵌合し、ソケット２１とプラグ２７とがロックされる。

また、これと同時に、第１の弁体２２と第２の弁体２８の各々が当接することにより、第１の弁体２２が変位して第１の弁座２１ｂと第１のOリング２３とが離間する。同様に、第２の弁体２８が変位して第２の弁座２７ｂと第２のOリング２９とが離間する。

これにより、第１の流路Q1と第２の流路Q2とが連通し、継手４３の内部を加圧ガスGや液体ソース４が流通できるようになる。

次に、この配管システム３８の使用方法について説明する。

図８は、継手４３のソケット２１とプラグ２７とをロックした状態での配管システム３８の構成図である。

この状態にするには、まず、作業者がソケット２１にプラグ２７を挿入する。そして、三方弁３７の流路を制御して第１の配管３１に加圧ガスGを供給することにより、その加圧ガスGの圧力で係止片４１を押し下げ、その係止片４１によりソケット２１とプラグ２７とをロックする。

なお、この状態では三方弁３７は分岐配管３９に対して閉状態となっており、分岐配管３９に加圧ガスGは供給されない。

一方、図９は、継手４３のソケット２１からプラグ２７を外した状態での配管システム３８の構成図である。

この状態にするには、まず、三方弁３７を制御することにより第１の配管３１と第５の配管３５への加圧ガスGの供給を停止し、加圧ガスGを分岐配管３９に逃がす。

このようにすると、容器３に加圧ガスGが供給されなくなるため、流量調節部１０（図５参照）を開状態にすることで容器３内の圧力が徐々に下がり、当該圧力を大気圧に等しくすることができる。

そして、容器３に連通する第５の配管３５内の圧力が大気圧程度に下がった時点で係止片４１が穴２１ｄ（図７参照）から外れ、作業者がソケット２１からプラグ２７を外すことができる。

このとき、上記のように容器３内の圧力が大気圧となっているので、容器３内に残留する加圧ガスGが原因で継手４３から液体ソース４が漏れ出すおそれがなく、作業者が安全に容器３の交換作業を行うことができる。

以上説明した本実施形態によれば、図８を参照して説明したように、容器３に供給される加圧ガスGを利用して係止片４１を変位させることで、ソケット２１にプラグ２７を簡単にロックすることができる。

更に、容器３内の圧力が大気圧に下がるまではロックが解除されないので、ロックが解除されたときに容器３内に残留する加圧ガスGが原因で継手４３から液体ソース４が漏れ出す危険が低減され、作業者の安全を確保することができる。

なお、本実施形態は上記に限定されない。上記ではプラグ２７にロック機構４０を設けたが、ソケット２１にロック機構を設けてもよい。これについては後述の第２及び第３実施形態でも同様である。

（第２実施形態）
第１実施形態では、ロック機構４０にシリンダ４２を利用した。これに対し、本実施形態では、ロック機構に板バネを利用する。

なお、配管システムの構成は第１実施形態の図５におけるのと同様なので、以下ではその説明を省略する。

図１０は、本実施形態に係る継手６０の断面図である。なお、図１０において、第１実施形態で説明したのと同じ要素には第１実施形態におけるのと同じ符号を付し、以下ではその説明を省略する。

継手６０は、第１実施形態と同様にソケット２１とプラグ２７とを備えており、図１０ではソケット２１からプラグ２７を外した状態が示されている。

ソケット２１の穴２１ｄは、本実施形態ではソケット２１を貫通しておらず、ソケット２１の外周側面に凹部状に形成される。

一方、プラグ２７には、その穴２１ｄを利用してソケット２１をロックするためのロック機構５０が設けられる。

ロック機構５０は、ケーシング５１と、ケーシング５１内に収められたゴム製のチューブ５２と、板バネ５３と、係止片５４とを有する。

このうち、ケーシング５１は、プラグ２７の外周側面に立設された底面５１ａを備えており、板バネ５３の一方の端部５３ａがケーシング５１の内側側面５１ｂから間隔をおいて上記の底面５１ａに固定される。

また、上記のチューブ５２は、ケーシング５１の内側側面５１ｂと板バネ５３の一方の主面５３ｘの各々に当接して設けられる。そして、板バネ５３の他方の主面５３ｙには、樹脂又は金属を材料とする突起状の係止片５４が設けられる。

本実施形態では、既述の第５の配管３５がチューブ５２に連通しており、第５の配管３５から供給される加圧ガスGによってチューブ５２が膨張し、そのチューブ５２によって板バネ５３の一方の主面５３ｘが押圧されて板バネ５３が撓む。

一方、チューブ５２内の圧力が大気圧にまで下がると、板バネ５３は自身の付勢力によって元の位置に戻る。

このように、本実施形態では、チューブ５２に加圧ガスGを供給したりその供給を停止したりすることにより、板バネ５３に設けられた係止片５４を軸方向D1、D2の各々に対して垂直な方向に揺動させることができる。

図１１は、板バネ５３の一方の主面５３ｘから見た継手６０の側面図である。

図１１に示すように、板バネ５３は平面視で矩形状であり、チューブ５２はこの板バネ５３と略同一の幅を有する。

図１２（ａ）はソケット２１をその先端側から見た正面図であり、図１２（ｂ）はプラグ２７をその先端側から見た正面図である。

図１２（ａ）に示すように、穴２１ｄは、円筒状のソケット２１において互いに対向する部位に二つ設けられる。

また、図１２（ｂ）に示すように、ケーシング５１は正面視でその側方が解放されており、チューブ５２はそのケーシング５１の内側側面５１ｂと板バネ５３とで挟まれた扁平形状となっている。

図１３は、ソケット２１にプラグ２７が嵌合した状態の継手６０の断面図である。

図１３に示すように、この状態では、加圧ガスGの供給で膨張したチューブ５２によって板バネ５３が撓み、それにより穴２１ｄに係止片５４が嵌合し、ソケット２１とプラグ２７とがロックされる。

そして、第１実施形態と同様に第１の弁体２２と第２の弁体２８とが互いに当接することによりこれらが変位し、第１の流路Q1と第２の流路Q2とが連通するようになる。

以上説明した本実施形態でも、第１実施形態と同様に、容器３（図５参照）に供給される加圧ガスGを利用して係止片５４を変位させることで、ソケット２１にプラグ２７を簡単にロックすることができる。

また、容器３内の圧力が大気圧に下がることでチューブ５２が収縮してロックが解除されるため、容器３内の圧力が大気圧よりも高いときにソケット２１からプラグ２７が外れることがなく、容器３内の圧力で継手６０から液体ソース４が漏れ出すのを抑制できる。

（第３実施形態）
第２実施形態と同様に、本実施形態でもロック機構に板バネを利用する。

なお、配管システムの構成は第１実施形態の図５におけるのと同様なので、以下ではその説明を省略する。

図１４は、本実施形態に係る継手７０の断面図である。なお、図１４において、第１実施形態や第２実施形態で説明したのと同じ要素にはこれらにおけるのと同じ符号を付し、以下ではその説明を省略する。

継手７０は、第２実施形態で説明したソケット２１とプラグ２７とを備えており、図１３ではソケット２１からプラグ２７を外した状態が示されている。

プラグ２７にはロック機構８０が設けられる。ロック機構８０は、ソケット２１にプラグ２７をロックするものであり、ケーシング７１、片体７２、板バネ７３、係止片７４、及びゴム製のチューブ７５を備える。

このうち、ケーシング７１は、第２の流路Q2の第２の軸方向D2に開口した開口部７１ａを備えており、その開口７１ａに片体７２が挿通される。

また、チューブ７５は、ケーシング７１の内側側面に接するように設けられ、第５の配管３５から供給される加圧ガスGにより膨張する。

上記の片体７２はその一方の端部７２ａがチューブ７５に当接し、チューブ７５が膨張することで片体７２が開口部７１ａから押し出されて第２の軸方向D2に変位する。片体７２の材料は特に限定されず、樹脂や金属で片体７２を形成し得る。

そして、板バネ７３は、その一方の端部７３ａがケーシング７１の外周側面に固定されると共に、他方の主面７３ｙに樹脂製又は金属製の係止片７４が設けられる。また、板バネ７３は、各軸方向D1、D2に対して斜めに固定され、チューブ７５内の圧力が大気圧にまで下がったときに自身の付勢力によって片体７２をケーシング７１内に押し戻すように作用する。

これによれば、チューブ７５の膨張と収縮によって片体７２の他方の端部７２ｂが板バネ７３の一方の主面７３ｘの上を摺接し、係止片７４と板バネ７３の他方の端部７３ｂとが第２の軸方向D2に略垂直な方向に揺動する。

図１５は、板バネ７３の一方の主面７３ｘから見た継手７０の側面図である。図１５に示すように、片体７２と板バネ７３は平面視で矩形状である。

図１６（ａ）はソケット２１をその先端側から見た正面図であり、図１６（ｂ）はプラグ２７をその先端側から見た正面図である。

図１６（ａ）に示すように、本実施形態でも第２実施形態と同様に円筒状のソケット２１において互いに対向する部位に穴２１ｄを二つ設ける。

また、図１６（ｂ）に示すように、板バネ７３は互いに対向するように二つ設けられる。

図１７は、ソケット２１にプラグ２７が嵌合した状態の継手７０の断面図である。

図１７に示すように、この状態では、加圧ガスGの供給によりチューブ７５が膨張しており、これによりケーシング７１から片体７２が押し出される。そして、その片体７２により板バネ７３が撓んで穴２１ｄに係止片７４が嵌合し、ソケット２１とプラグ２７とがロックされる。

更に、第１実施形態と同様に第１の弁体２２と第２の弁体２８とが互いに当接することによりこれらが変位し、第１の流路Q1と第２の流路Q2とが連通するようになる。

上記した本実施形態でも、第１実施形態や第２実施形態と同様に、容器３に供給される加圧ガスGを利用して係止片７４を変位させることで、ソケット２１にプラグ２７を簡単にロックすることができる。

更に、容器３内の圧力が大気圧に下がることでチューブ７５が収縮してロックが解除されるため、容器３内の圧力が大気圧よりも高いときにソケット２１からプラグ２７が外れることがなく、容器３内の圧力で継手６０から液体ソース４が漏れ出すのを抑制できる。

以上説明した各実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。

（付記１） 第１の内周面により第１の流路を画定するソケットと、
前記ソケットに脱着自在に嵌合し、前記第１の流路に接続される第２の流路を第２の内周面により画定するプラグと、
前記ソケットと前記プラグのいずれか一方に設けられた係止片と、
前記ソケットに前記プラグが嵌合した状態で、加圧ガスにより前記係止片を変位させることにより、前記係止片で前記ソケットと前記プラグとをロックするロック機構と、
を有することを特徴とする継手。

（付記２） 前記ソケットの外周側面に穴が設けられ、前記穴に前記係止片が嵌合することにより、前記ソケットと前記プラグとがロックされることを特徴とする付記１に記載の継手。

（付記３） 前記ロック機構は、前記加圧ガスが供給されるシリンダを備え、
前記係止片は、前記シリンダに挿入されたピストンであることを特徴とする付記１又は付記２に記載の継手。

（付記４） 前記ロック機構は、
前記加圧ガスにより膨張するチューブと、
膨張した前記チューブにより一方の主面が押圧される板バネとを備え、
前記係止片が、前記板バネの他方の主面に設けられたことを特徴とする付記１又は付記２に記載の継手。

（付記５） 前記プラグの外周側面に設けられ、前記外周側面に立設された底面を備えたケーシングを更に有し、
前記チューブが前記ケーシング内に収容され、
前記板バネが前記底面に固定されたことを特徴とする付記４に記載の継手。

（付記６） 前記ロック機構は、
前記加圧ガスにより膨張するチューブと、
前記チューブに当接して設けられ、前記チューブの膨張により変位する片体と、
一方の主面が前記片体により押圧される板バネとを備え、
前記係止片が、前記板バネの他方の主面に設けられたことを特徴とする付記１又は付記２に記載の継手。

（付記７） 前記プラグの外周側面に設けられ、前記第２の流路の軸方向に平行な方向に開口した開口部を備えたケーシングを更に有し、
前記片体が前記開口部に挿通されて前記軸方向に可動であると共に、
前記片体の一方の端部に当接するように、前記ケーシングの内側に前記チューブが収容されて、
前記開口部の横の前記ケーシングの外周側面に前記板バネの一方の端部が固定され、
前記チューブの膨張により前記片体が前記開口部から押し出されて、該片体の他方の端部が前記板バネの前記一方の主面の上を摺接し、該板バネの他方の端部が前記軸方向に垂直な方向に揺動することを特徴とする付記６に記載の継手。

（付記８） 前記ソケットの前記内周面に設けられた第１の弁座と、
前記ソケットの内側に設けられ、前記第１の弁座に圧着する第１のシール部を備えた第１の弁体と、
前記プラグの前記内周面に設けられた第２の弁座と、
前記プラグの内側に設けられ、前記第２の弁座に圧着する第２のシール部を備えた第２の弁体とを備え、
前記ソケットに前記プラグが嵌合したとき、前記第１の弁体と前記第２の弁体の各々が当接することにより、前記第１の弁体が変位して前記第１の弁座と前記第１のシール部とが離間すると共に、前記第２の弁体が変位して前記第２の弁座と前記第２のシール部とが離間し、前記第１の流路と前記第２の流路とが連通することを特徴とする付記１乃至付記７のいずれかに記載の継手。

（付記９） 加圧ガスが流れる第１の配管と、
第２の配管と、
前記第１の配管と前記第２の配管とを接続する継手とを備え、
前記継手は、
第１の内周面により第１の流路を画定するソケットと、
前記ソケットに脱着自在に嵌合し、前記第１の流路に接続される第２の流路を第２の内周面により画定するプラグと、
前記ソケットと前記プラグのいずれか一方に設けられた係止片と、
前記ソケットに前記プラグが嵌合した状態で、前記加圧ガスにより前記係止片を変位させることにより、前記係止片で前記ソケットと前記プラグとをロックするロック機構とを有することを特徴とする配管システム。

（付記１０） 前記継手を経由した前記加圧ガスが供給されると共に、液体を収容した容器と、
前記液体の液面よりも下に開口端が位置する第３の配管と、
第４の配管と、
前記第３の配管と前記第４の配管とを接続する継手とを更に有し、
前記継手が、前記第１の配管と前記第２の配管とを接続する前記継手と同一構造であることを特徴とする付記９に記載の配管システム。

１、３８…配管システム、２…第１の配管、３…容器、４…液体ソース、４ａ…液面、５…第２の配管、１１…処理チャンバ、１３…シャワーヘッド、１４…開閉弁、１６…ワンタッチ継手、２１…ソケット、２１ａ…第１の内周面、２１ｂ…第１の弁座、２１ｃ…第１の筒底面、２１ｄ…穴、２２…第１の弁体、２２ｘ…第１の傾斜部、２２ｙ…第１の軸部、２２ｚ…第１のバネ座、２３…第１のOリング、２４…第１のバネ、２７…プラグ、２７ａ…第２の内周面、２７ｂ…第２の弁座、２７ｃ…第２の筒底面、２８…第２の弁体、２８ｘ…第２の傾斜部、２８ｙ…第２のバネ部、２８ｚ…第２のバネ座、２９…第２のOリング、３０…第２のバネ、３１〜３５…第１〜第５の配管、３７…三方弁、３９…分岐配管、４０、５０、８０…ロック機構、４１…係止片、４１ａ…バネ座、４２…シリンダ、４２ａ…筒底面、４３、６０、７０…継手、４４…第３のバネ、５１、７１…ケーシング、５１ｂ…内側側面、５２、７５…チューブ、５３、７３…板バネ、５３ａ…一方の端部、５３ｘ…一方の主面、５３ｙ…他方の主面、５４、７４…係止片、７１ａ…開口部、７２…片体、７３ａ…一方の端部、７３ｂ…他方の端部、７３ｘ…一方の主面、７３ｙ…他方の主面、Q1…第１の流路、Q2…第２の流路、D1…第１の軸方向、D2…第２の軸方向。

Claims (5)

1. 第１の内周面により第１の流路を画定するソケットと、
   前記ソケットに脱着自在に嵌合し、前記第１の流路に接続される第２の流路を第２の内周面により画定するプラグと、
   前記ソケットと前記プラグのいずれか一方に設けられた係止片と、
   前記ソケットに前記プラグが嵌合した状態で、加圧ガスにより前記係止片を変位させることにより、前記係止片で前記ソケットと前記プラグとをロックするロック機構と、
   を有することを特徴とする継手。
2. 前記ソケットの外周側面に穴が設けられ、前記穴に前記係止片が嵌合することにより、前記ソケットと前記プラグとがロックされることを特徴とする請求項１に記載の継手。
3. 前記ロック機構は、前記加圧ガスが供給されるシリンダを備え、
   前記係止片は、前記シリンダに挿入されたピストンであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の継手。
4. 加圧ガスが流れる第１の配管と、
   第２の配管と、
   前記第１の配管と前記第２の配管とを接続する継手とを備え、
   前記継手は、
   第１の内周面により第１の流路を画定するソケットと、
   前記ソケットに脱着自在に嵌合し、前記第１の流路に接続される第２の流路を第２の内周面により画定するプラグと、
   前記ソケットと前記プラグのいずれか一方に設けられた係止片と、
   前記ソケットに前記プラグが嵌合した状態で、前記加圧ガスにより前記係止片を変位させることにより、前記係止片で前記ソケットと前記プラグとをロックするロック機構とを有することを特徴とする配管システム。
5. 前記継手を経由した前記加圧ガスが供給されると共に、液体を収容した容器と、
   前記液体の液面よりも下に開口端が位置する第３の配管と、
   第４の配管と、
   前記第３の配管と前記第４の配管とを接続する継手とを更に有し、
   前記継手が、前記第１の配管と前記第２の配管とを接続する前記継手と同一構造であることを特徴とする請求項４に記載の配管システム。

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