JP2014072234A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置1は、スピンチャック5と、処理液ノズル8、9、10と、筒状のガード35と、筒状の仕切板7と、洗浄液ノズル39とを含む。ガード35は、基板Wを平面視において取り囲む環状のガード開口縁35aと、ガード開口縁35aの周囲で斜め下に外方に延びる環状の傾斜面35bとを含む。仕切板7は、ガード開口縁35aを平面視において取り囲む環状の下開口縁7bと、下開口縁7bから上方に延びる筒状の内周面7cとを含む。洗浄液ノズル39は、仕切板7の内周面7cに向けて下向きに洗浄液を吐出することにより、下開口縁7bを経由して仕切板7の内周面7cからガード35の傾斜面35bに流れる洗浄液の流れを形成する。
【選択図】図1
Description
仕切板の内周面に供給された洗浄液は、重力等によって仕切板の下開口縁に集まり、仕切板の下開口縁から下方に流下する。この構成によれば、仕切板の下開口縁の開口面積が狭いので、下開口縁のより広い範囲を洗浄液で覆うことができる。すなわち、汚染雰囲気の濃度が高い基板の近傍に位置する部分(下開口縁)を洗浄液で確実に覆うことができる。これにより、汚染雰囲気が仕切板に付着することを抑制または防止できる。
この構成によれば、洗浄液ノズルは、複数の吐出口から仕切板の内周面に向けて洗浄液を吐出する。ある吐出口から吐出された洗浄液は、他の吐出口から吐出された洗浄液が着液する位置とは周方向に離れた位置に着液する。そして、仕切板の内周面内の複数の位置に着液した洗浄液は、仕切板の内周面に沿って下方に流れる。したがって、仕切板の内周面内のより広い範囲が洗浄液によって保護される。これにより、汚染雰囲気が仕切板に付着することを抑制または防止できる。
洗浄液ノズルから吐出された洗浄液は、仕切板の内周面に沿って下方に流れる。この構成によれば、仕切板に設けられたアーム差込口に向かって下方に流れる洗浄液が、液除けガイドによってアーム差込口の側方に案内される。したがって、ノズルアームがアーム差込口に差し込まれている状態であっても、洗浄液がノズルアームに掛かることを抑制または防止できる。洗浄液がノズルアームに掛かると、基板に向かって飛散する洗浄液の液滴が形成され、洗浄液が基板に付着する場合がある。したがって、アーム差込口に向かう洗浄液を液除けガイドによって迂回させることにより、基板の処理品質を安定させることができる。
図1は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置1に備えられたチャンバー4内の構成を水平に見た模式図である。図2は、仕切板7およびカップ6の模式的な平面図である。図3は、仕切板7に設けられたアーム差込口42を示す模式的な斜視図である。
図1に示すように、基板処理装置1は、半導体ウエハなどの円板状の基板Wを一枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置1は、基板Wを処理する処理ユニット2と、基板処理装置1に備えられた装置の動作やバルブの開閉を制御する制御装置3とを含む。
なお、本実施形態の装置では、上述のように各ガード32〜35を昇降させることにより、使用された処理液をその種類等に応じた任意の処理液カップ29〜31に導いて回収または廃棄の経路を任意に選択することができるが、以下の処理の説明では簡単のためにかかる処理液の回収または廃棄の経路の選択はおこなわないこととし、基板Wに液を供給する際には常にPort40の状態として、基板Wに供給される全ての液は処理液カップ31を経て回収することとする。
たとえば、図6に示すように、処理ユニット2は、前述の実施形態に係る構成に加えて、仕切板7を昇降させる仕切板昇降機構46をさらに備えていてもよい。
図6に示す仕切板昇降機構46は、仕切板7をチャンバー4内で上下方向に移動させる。仕切板昇降機構46は、第4ガード35の高さを変更せずに、仕切板7の下端7bと第4ガード35の上端35aとの距離を変化させることができる。そのため、仕切板昇降機構46は、仕切板7の下端7bを第4ガード35の上端35aに近接させて、第4ガード35および仕切板7の内部の密閉性を高めることができる。さらに、仕切板昇降機構46は、仕切板7の下端7bを第4ガード35の上端35aから遠ざけることにより、仕切板7と第4ガード35との間に処理液ノズルが通過する空間を確保することができる。したがって、図6に示す構成では、ノズルアームが差し込まれるアーム差込口42(図3参照)が省略されてもよい。
また、前述の実施形態では、仕切板7の下開口縁が、仕切板7の下端7bによって構成されている場合について説明したが、下開口縁は、仕切板7の下端よりも上方の部分によって構成されていてもよい。
また、前述の実施形態では、処理ユニット2は、FFU13と仕切板7との間に配置された整流板15を備えている場合について説明したが、処理ユニット2は、整流板15を備えていなくてもよい。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
5 :スピンチャック(基板保持装置)
7 :仕切板
7a :上端(上開口縁)
7b :下端(下開口縁)
7c :内周面
8 :薬液ノズル(処理液ノズル)
9 :リンス液ノズル(処理液ノズル)
10 :溶剤ノズル(処理液ノズル)
13 :FFU(送風ユニット)
14 :排気装置
15 :整流板
24 :第1ノズルアーム(ノズルアーム)
25 :第1ノズル移動機構(ノズル移動機構)
26 :第2ノズルアーム(ノズルアーム)
27 :第2ノズル移動機構(ノズル移動機構)
35 :第4ガード(ガード)
35a :上端(ガード開口縁)
35b :上面(傾斜面)
39 :洗浄液ノズル
39a :吐出口
42 :アーム差込口
43 :液除けガイド
46 :仕切板昇降機構
W :基板
Claims (9)
- 基板を保持する基板保持装置と、
前記基板保持装置に保持されている基板に向けて処理液を吐出する処理液ノズルと、
前記基板保持装置に保持されている基板を平面視において取り囲む環状のガード開口縁と、前記ガード開口縁に連なっており斜め下に外方に延びる環状の傾斜面とを含み、前記ガード開口縁が前記基板よりも上方に位置するように配置された筒状のガードと、
前記ガード開口縁を平面視において取り囲む環状の下開口縁と、前記下開口縁から上方に延びる筒状の内周面とを含み、前記下開口縁が前記ガード開口縁よりも上方に位置するように配置された筒状の仕切板と、
前記仕切板の内周面に向けて洗浄液を吐出することにより、前記下開口縁を経由して前記仕切板の内周面から前記ガードの傾斜面に流れる洗浄液の流れを形成する洗浄液ノズルとを含む、基板処理装置。 - 前記仕切板の上方から前記仕切板の内部に気体を送る送風ユニットと、
前記ガードの下部から前記ガード内の気体を排出する排気装置とをさらに含む、請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記仕切板は、前記下開口縁よりも上方に配置されており、前記下開口縁よりも開口面積が広い環状の上開口縁をさらに含む、請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記洗浄液ノズルは、前記仕切板の周方向に離れた前記仕切板の内周面内の複数の位置に向けて洗浄液を吐出する複数の吐出口を含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記仕切板の上方から前記仕切板の内部に気体を送る送風ユニットと、
前記送風ユニットから前記仕切板に向かう気流を整える整流板とをさらに含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記仕切板の内周面の少なくとも一部は、鉛直方向に対して上向きに傾いている、請求項1〜5のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記処理液ノズルを前記仕切板の内部で保持しており、前記仕切板の外部と前記仕切板の内部とを接続するアーム差込口に差し込まれたノズルアームと、
前記ノズルアームを移動させることにより、前記処理液ノズルを移動させるノズル移動機構とをさらに含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記仕切板の内部で前記アーム差込口の周縁に沿って延びており、前記仕切板の内周面上を前記アーム差込口に向かって下方に流れる洗浄液を前記アーム差込口の側方に案内する液除けガイドをさらに含む、請求項7に記載の基板処理装置。
- 前記処理液ノズルを保持するノズルアームと、
前記ノズルアームを移動させることにより、前記処理液ノズルを移動させるノズル移動機構と
前記仕切板を上下方向に移動させることにより、前記ガードと前記仕切板とを上下方向に相対移動させる仕切板移動機構とをさらに含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載の基板処理装置。
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