JP2014064965A - 異物除去装置、異物除去方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】フォトマスク等の対象物上の個々の異物を容易に除去できる異物除去装置等を提供する。
【解決手段】異物除去装置1は、レーザーアブレーションによりフォトマスク20上の異物30の除去を行う。異物除去装置1は、コントローラ11、パルスレーザー10を出射するレーザー照射部13、パルスレーザー10を集光し、フォトマスク20上の異物30に照射する光学系15等を備える。コントローラ11は、フォトマスク20とパルスレーザー10の焦点101とを離間させ、その離間距離を、フォトマスク20上のレーザー強度分布21の最大値が異物30を除去できる強度22以上フォトマスク20に対する許容強度23以下となり、かつ、フォトマスク20上のレーザー強度分布21において、異物30を除去できる強度22以上となる範囲が異物30のサイズ以上となるように設定する。
【選択図】図1
【解決手段】異物除去装置1は、レーザーアブレーションによりフォトマスク20上の異物30の除去を行う。異物除去装置1は、コントローラ11、パルスレーザー10を出射するレーザー照射部13、パルスレーザー10を集光し、フォトマスク20上の異物30に照射する光学系15等を備える。コントローラ11は、フォトマスク20とパルスレーザー10の焦点101とを離間させ、その離間距離を、フォトマスク20上のレーザー強度分布21の最大値が異物30を除去できる強度22以上フォトマスク20に対する許容強度23以下となり、かつ、フォトマスク20上のレーザー強度分布21において、異物30を除去できる強度22以上となる範囲が異物30のサイズ以上となるように設定する。
【選択図】図1
Description
本発明は、レーザー照射により異物除去を行う異物除去装置等に関する。
フォトマスクは、半導体集積回路やカラーフィルタ等の製造時に、露光によるパターンを形成するために用いられる。フォトマスクは、エッチングの手法を用いて基板上にクロム等からなる遮光膜のパターンを形成することで製造できる。
フォトマスクに異物が付着すると、半導体集積回路やカラーフィルタの製造時に不良品等が発生する原因になる。従って、フォトマスクの製造時には、工程中で適宜ウエット洗浄による全面洗浄が行われる。しかしながら、ウエット洗浄にて異物が除去できない場合もある。また、ウエット洗浄後に埃などが異物として付着することもある。
従って、フォトマスクの製造時には、最終的な検査工程にて異物が残っていないか検査し、異物が残っていた場合には再洗浄を行い、その後異物が残っていないか再検査して異物が残っていない場合に出荷するようにしている。
しかしながら、最終的な工程として上記のような再洗浄と再検査を行うと、フォトマスクの製造に要する時間が長くなるので、その工程短縮が望まれる。
上記の工程を短縮する方法の一つとしては、最終的な検査で発見された異物を、再洗浄時に個々に確実に除去し、再検査の工程を省略することが考えられる。異物を個々に除去する技術としては、例えばレーザー照射を利用するものがある。特許文献1には、レーザーを被処理基板上の異物に集中させて衝撃を与え吹き飛ばすものが記載されている。
特許文献1の方法では、所望の効果が得られるようにレーザーのエネルギーを調整するが、異物の除去にレーザー照射を用いる場合には、レーザーによりフォトマスクのパターンにダメージを与えてしまう恐れがあるので注意が必要である。特に近年、半導体集積回路などの高密度化によるフォトマスクのパターンの微細化に伴い、パターンのダメージケアと異物除去を両立させることは難しくなっている。
また、特許文献1の方法は、吹き飛ばした異物が再度被処理基板上に付着しないようにガスを供給して流れを形成する必要がある。またガスの組成、温度、圧力を一定に保つ必要もあり、必ずしも制御が容易ではない場合もある。
本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、フォトマスク等の対象物上の個々の異物を容易に除去できる異物除去装置を提供することを目的とする。
前述した目的を達成するための第1の発明は、レーザーアブレーションにより対象物上の異物の除去を行う異物除去装置であって、パルスレーザーを照射するレーザー照射部と、前記パルスレーザーを集光し、対象物上の異物に照射する光学系と、前記対象物と前記パルスレーザーの焦点とを離間させ、前記対象物と前記パルスレーザーの焦点との離間距離を、前記対象物上のパルスレーザーの強度分布の最大値が、前記異物を除去できる強度以上かつ前記対象物に対する許容強度以下となるように設定する制御部と、を備えることを特徴とする異物除去装置である。
本発明の異物除去装置では、レーザーアブレーションにより異物を除去する。レーザーアブレーションは、超短パルスレーザーを無機物、有機物等に照射し、そのエネルギーにより高速で昇華させるものである。これにより、レーザーによる熱の発生を低減してフォトマスク等の対象物に与えるダメージを抑えることができる。
特に本発明では、パルスレーザーの焦点を対象物上に合わせるのではなく、対象物から離間させデフォーカスすることにより、対象物上のレーザー強度分布を変化させ、対象物に限度を超えるダメージを与えることなく異物を除去するように設定できる。また、デフォーカスにより、レーザー強度分布において異物を除去できる強度以上となる範囲も可変となるので、異物のサイズに応じた設定も容易である。さらに前記したようなガス等の供給も特に必要でなく、制御も容易になる。
特に本発明では、パルスレーザーの焦点を対象物上に合わせるのではなく、対象物から離間させデフォーカスすることにより、対象物上のレーザー強度分布を変化させ、対象物に限度を超えるダメージを与えることなく異物を除去するように設定できる。また、デフォーカスにより、レーザー強度分布において異物を除去できる強度以上となる範囲も可変となるので、異物のサイズに応じた設定も容易である。さらに前記したようなガス等の供給も特に必要でなく、制御も容易になる。
これにより、例えばフォトマスク等の製造時における最終的な検査工程で検出された数箇所の異物のそれぞれに対し、局所的なパルスレーザー照射を行い、異物を容易かつ確実に除去できる。従って前記のような再検査の必要が無く、フォトマスク等の製造に要する時間の短縮が図れる。
また、前記制御部は、前記対象物上のパルスレーザーの強度分布において、前記異物を除去できる強度以上となる範囲が前記異物の平面上のサイズ以上となるように、前記離間距離を設定することが望ましい。
これにより、異物が一度に除去できるようになる。
これにより、異物が一度に除去できるようになる。
第2の発明は、レーザーアブレーションにより対象物上の異物の除去を行う異物除去方法であって、レーザー照射部から照射したパルスレーザーを、光学系により集光して対象物上の異物に照射する際、制御部により、前記対象物と前記パルスレーザーの焦点とを離間させ、前記対象物と前記パルスレーザーの焦点との離間距離を、前記対象物上のパルスレーザーの強度分布の最大値が、前記異物を除去できる強度以上かつ前記対象物に対する許容強度以下となるように設定することを特徴とする異物除去方法である。
また、前記制御部は、前記対象物上のパルスレーザーの強度分布において、前記異物を除去できる強度以上となる範囲が前記異物の平面上のサイズ以上となるように、前記離間距離を設定することが望ましい。
また、前記制御部は、前記対象物上のパルスレーザーの強度分布において、前記異物を除去できる強度以上となる範囲が前記異物の平面上のサイズ以上となるように、前記離間距離を設定することが望ましい。
本発明によれば、フォトマスク等の対象物上の個々の異物を容易に除去できる異物除去装置等を提供することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。
(1.異物除去装置1の構成)
図1は、異物除去装置1の構成を示す図である。図に示すように、異物除去装置1は、コントローラ11、レーザー照射部13、光学系15、ステージ17を備える。
図1は、異物除去装置1の構成を示す図である。図に示すように、異物除去装置1は、コントローラ11、レーザー照射部13、光学系15、ステージ17を備える。
この異物除去装置1は、フォトマスク20上の異物30にパルスレーザー10を照射してレーザーアブレーションにより除去するものである。前記した通り、レーザーアブレーションは、超短パルスレーザーを無機物、有機物等に照射し、そのエネルギーにより高速で昇華させるものであり、レーザーによる熱の発生を低減してフォトマスク20のパターンに与えるダメージを抑えることができる。
ステージ17には、異物30の除去を行う対象物であるフォトマスク20が載せられている。このフォトマスク20は、透明の基板上にクロム等からなる遮光膜のパターンを形成したものである。ただし、異物を除去する対象物はこれに限らず、半導体集積回路や、カラーフィルタなどであってもよい。
また、異物30は、フォトマスク20の製造時にウエット洗浄による全面洗浄処理で除去できなかったものや、ウエット洗浄後に付着したものである。その例としては、レジストの残渣、鉄粉、繊維、タンパク質などがある。ただしパルスレーザー10を吸収できるものであればこれらに限らない。なお、異物30の平面上のサイズ(以下、単に「サイズ」という)は直径1.0μm程度以下の微小なものであり、ここでは、直径0.5μm程度であるものとする。
レーザー照射部13は、コントローラ11による制御に従ってパルスレーザー10を出射する。このパルスレーザー10は、パルス幅(レーザー照射時間)が1ピコ秒以下である超短パルスレーザーである。パルスレーザー10としては、YAGレーザー等を使用することができる。
光学系15では、レーザー照射部13から出射されたパルスレーザー10がミラー151で反射され、レンズ153に到達する。パルスレーザー10は、レンズ153により集光され、フォトマスク20上の異物30へ照射される。
ステージ17は、フォトマスク20の詳細な位置決めを行うものである。ステージ17は、コントローラ11による制御に基づき、平面上で直交するx方向とy方向、およびこれと直交する高さ方向であるz方向を移動可能である。
コントローラ11は、パラメータDB111に登録した情報をもとに、レーザー照射部13、ステージ17の制御等を行う制御部である。
特に本実施形態では、コントローラ11によりステージ17のz方向の位置制御を行い、パルスレーザー10の焦点をフォトマスク20上から離間(デフォーカス)させる。その離間距離を、異物30の材料特性やサイズ等の条件に合わせて設定することで、パルスレーザー10がフォトマスク20のパターンに限度を超えるダメージを与えずに異物30を除去できるように、フォトマスク20上に照射されるパルスレーザー10の強度分布が設定できる。
パラメータDB111には、レーザー照射部13、ステージ17の制御等に必要な情報が登録される。この情報は、例えば、
・異物30での吸収効率が高くフォトマスク20のパターンでの吸収効率が低い波長
・フォトマスク20上のパルスレーザー10の強度分布の最大値が、異物30を除去できる強度以上、フォトマスク20に対する許容強度以下となり、かつ、フォトマスク20上のパルスレーザー10の強度分布において、異物30を除去できる強度以上となる範囲が異物30のサイズ以上となる離間距離
・出射するパルスレーザー10のエネルギーであるパルスエネルギー、パルス幅、パルス数
などであり、異物30やフォトマスク20のパターンの材料特性、異物30のサイズ等に応じて定められている。なお、上記の離間距離は、これと対応する値であるスポット径として定められている。スポット径については後述する。
・異物30での吸収効率が高くフォトマスク20のパターンでの吸収効率が低い波長
・フォトマスク20上のパルスレーザー10の強度分布の最大値が、異物30を除去できる強度以上、フォトマスク20に対する許容強度以下となり、かつ、フォトマスク20上のパルスレーザー10の強度分布において、異物30を除去できる強度以上となる範囲が異物30のサイズ以上となる離間距離
・出射するパルスレーザー10のエネルギーであるパルスエネルギー、パルス幅、パルス数
などであり、異物30やフォトマスク20のパターンの材料特性、異物30のサイズ等に応じて定められている。なお、上記の離間距離は、これと対応する値であるスポット径として定められている。スポット径については後述する。
ここで、フォトマスク20に対するパルスレーザー10の許容強度とは、フォトマスク20においてパルスレーザー10によるダメージを許容できる強度、すなわち、パルスレーザー10によりダメージが与えられた後でも、フォトマスク20が所定の遮光性能を維持できるような強度をいう。例えば、パルスレーザー10により遮光膜の一部が除去され薄くなった後でも、該遮光膜の遮光率が許容値以上となっているような場合である。上記の許容強度は、フォトマスク20が最終的に満たすべき遮光性能(遮光膜の遮光率)を考慮して定めることができる。
なお、パルスレーザー10の許容強度は、上記のフォトマスク20の他、前述したカラーフィルタや半導体集積回路など、異物を除去する対象物によっても異なる。対象物に対する許容強度は、各対象物が最終的に満たすべき性能に応じて定めることができる。
(2.異物除去装置による異物除去)
次に、異物除去装置1による異物除去について説明する。図2は、異物除去装置1による異物除去の手順を示すフローチャートである。
次に、異物除去装置1による異物除去について説明する。図2は、異物除去装置1による異物除去の手順を示すフローチャートである。
本実施形態では、例えばフォトマスク製造時の最終的な検査工程により、フォトマスク20上の異物30が検出され、その位置やサイズが特定されているものとする。これら異物30の位置やサイズは、異物除去装置1のコントローラ11に入力される。また、異物30やフォトマスク20のパターンの材料特性は、予め選択、設定されコントローラ11に入力されている。
コントローラ11は、以上の情報に基づき、パラメータDB111を参照し、レーザー照射条件の設定を行う(S1)。
すなわち、異物30の位置にパルスレーザー10のスポット(照射範囲)の位置を合わせるとともに、ステージ17のz位置を制御して、パルスレーザー10の焦点とフォトマスク20との離間距離を、上記で入力された異物30やフォトマスク20のパターンの材料特性、異物30のサイズに対応する、パラメータDB111に予め登録された値に設定する。また、パルスレーザー10の波長を、異物30での吸収効率が高くパターンでの吸収効率が低い適切なものに定め、パルスエネルギー、パルス幅、パルス数の設定を行う。
その後、コントローラ11は、レーザー照射部13を制御してパルスレーザー10を出射させる。このパルスレーザー10は、光学系15のミラー151で反射され、レンズ153で集光されてフォトマスク20上の異物30に照射される。異物30は、このパルスレーザー10によるレーザーアブレーションにより除去される(S2)。
(3.離間距離とレーザー強度分布)
次に、パルスレーザー10の焦点の離間距離と、フォトマスク20上に照射されるパルスレーザー10の強度分布の関係について図3、4を参照して説明する。
次に、パルスレーザー10の焦点の離間距離と、フォトマスク20上に照射されるパルスレーザー10の強度分布の関係について図3、4を参照して説明する。
図3(a)、(b)は、フォトマスク20に照射されるパルスレーザー10について示す図である。本実施形態では、図3(a)に示すように、S1において、パルスレーザー10の焦点101の位置をフォトマスク20上から離間距離Dだけ離間させ、パルスレーザー10をフォトマスク20上に照射する。なお、図3(b)はフォトマスク20上にパルスレーザー10の焦点101が合っている状態を示す図であり、比較のために図示している。
図4(a)、(b)は、それぞれ、図3(a)、(b)の状態におけるフォトマスク20上のレーザー強度分布21を示す図である。図において22は、異物30をレーザーアブレーションにより昇華させて除去できるパルスレーザー10の強度、23は、フォトマスク20に対するパルスレーザー10の許容強度であり、それぞれ異物30やフォトマスク20のパターンの材料特性等により定まる。また、24はフォトマスク20上のパルスレーザー10のスポットである。
図に示すように、フォトマスク20上のレーザー強度分布21は、スポット中心部を最大強度として周囲で低下する。焦点101の位置をフォトマスク20上に合わせた場合では、図4(b)に示すように、パルスレーザー10の最大強度は大きく、スポット径は小さい。また、パルスレーザー10の強度は、スポット中心部から周囲にゆくに従って急に低下し、前記の強度22以上となる範囲は小さい。
一方、焦点101をフォトマスク20上から離間させた場合では、図4(a)に示すように、パルスレーザー10の最大強度は小さく、スポット径は大きい。また、パルスレーザー10の強度は、スポット中心部から周囲にゆくに従って緩やかに低下し、前記の強度22以上となる範囲は大きくなる。
このように、焦点101をフォトマスク20上から離間させた場合、離間距離Dが大きくなるに従って、パルスレーザー10の最大強度はより小さく、スポット径はより大きくなる。また、離間距離Dがある値となるまでは、離間距離Dが大きくなるに従って強度22を上回る部分の面積は大きくなる。
本実施形態では、前記したように、パラメータDB111において、異物30やフォトマスク20のパターンの材料特性、異物30のサイズ等に応じた適切な離間距離Dがスポット径として予め登録されている。そして、前記のS1では、コントローラ11が、入力された異物30のサイズ、異物30やフォトマスク20のパターンの材料特性などに応じて、パラメータDB111から、スポット径として適切な離間距離Dを取得する。
これにより、図4(a)に示すように、離間距離Dを、フォトマスク20上のレーザー強度分布21の最大値が、異物30を除去できる強度22以上、フォトマスク20に対する許容強度23以下となり、かつ、レーザー強度分布21において、異物30を除去できる強度22以上となる範囲が異物30のサイズ以上となるように設定する。
具体的な例としては、例えば図4(b)に示すように、スポット径が直径1.0μm程度のパルスレーザー10を照射した際、許容強度23がレーザー強度分布21の最大強度の半分程度の値の場合、図4(a)に示すようにスポット径(離間距離D)をより大きい値に設定し、直径1.5μm程度とすることで、パルスレーザー10の最大強度を約半分に減少させて異物30を除去できる強度22以上、許容強度23以下とし、異物30の周辺のパターンには限度を超えるダメージを与えることなくパルスレーザー10を照射する。また、異物30を除去できる強度22以上の範囲は、異物30のサイズ(直径0.5μm程度)より大きくなり、該範囲内に異物30を収めて一度に除去できる。
以上説明したように、本実施形態の異物除去装置1では、レーザーアブレーションにより異物を除去する。特に本実施形態では、パルスレーザー10の焦点をフォトマスク20から離間させデフォーカスすることにより、フォトマスク20上のレーザー強度分布21を変化させ、フォトマスク20に限度を超えるダメージを与えることなく異物除去できるように設定できる。また、デフォーカスにより、レーザー強度分布21において異物30を除去できる強度22以上となる範囲も可変であるので、異物30のサイズに応じた設定も容易である。さらに前記したようなガス等の供給も特に必要でなく、制御も容易になる。
これにより、フォトマスク20の製造時における最終的な検査工程で検出された数箇所の異物30のそれぞれに対し、局所的なパルスレーザー照射を行い、異物30を容易かつ確実に除去できる。従って前記のような再検査の必要が無く、フォトマスク20の製造に要する時間の短縮が図れる。
また、本実施形態では、コントローラ11により、フォトマスク20上のレーザー強度分布21において、異物30を除去できる強度22以上となる範囲が異物30のサイズ以上となるように、離間距離Dを設定するので、異物30が一度に除去できるようになる。
ただし、本発明はこれに限ることはない。例えば異物30のサイズが大きい場合などでは、離間距離Dの設定の際に、フォトマスク20上のレーザー強度分布21において、異物30を除去できる強度22以上となる範囲が異物30のサイズより小さくなっていてもよい。ただし、この場合では複数回にわけてレーザー照射し異物30を除去する必要がある。
また、本実施形態では、予め異物30のサイズ、異物30やフォトマスク20のパターンの材料特性などに応じた離間距離DをパラメータDB111に登録しておき、前記のS1において、コントローラ11に入力されるこれらの情報に応じた適切な離間距離Dを取得するようにしているが、これに限ることはない。
例えば、S1では、コントローラ11に入力される異物30のサイズ、異物30やフォトマスク20のパターンの材料特性などに応じて、コントローラ11が前記の図4(a)等で説明した条件を満たす離間距離Dを算出するようにしてもよい。この場合、処理時間は長くなるが、異物30のサイズ等に合わせたより適切な離間距離Dを設定することも可能になる。さらに、コントローラ11は、オペレータの指示操作に応じて図4(a)等で説明した条件を満たす適切な離間距離Dを設定するようにしてもよい。
その他、本実施形態ではステージ17のz方向の位置制御を行いデフォーカスを行ったが、光学系15の制御を行うことによりデフォーカスを行うことも可能である。
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
1:異物除去装置
10:パルスレーザー
11:コントローラ
13:レーザー照射部
15:光学系
17:ステージ
20:フォトマスク
21:レーザー強度分布
22:強度
23:許容強度
24:スポット
30:異物
101:焦点
10:パルスレーザー
11:コントローラ
13:レーザー照射部
15:光学系
17:ステージ
20:フォトマスク
21:レーザー強度分布
22:強度
23:許容強度
24:スポット
30:異物
101:焦点
Claims (4)
- レーザーアブレーションにより対象物上の異物の除去を行う異物除去装置であって、
パルスレーザーを照射するレーザー照射部と、
前記パルスレーザーを集光し、対象物上の異物に照射する光学系と、
前記対象物と前記パルスレーザーの焦点とを離間させ、前記対象物と前記パルスレーザーの焦点との離間距離を、前記対象物上のパルスレーザーの強度分布の最大値が、前記異物を除去できる強度以上かつ前記対象物に対する許容強度以下となるように設定する制御部と、
を備えることを特徴とする異物除去装置。 - 前記制御部は、前記対象物上のパルスレーザーの強度分布において、前記異物を除去できる強度以上となる範囲が前記異物の平面上のサイズ以上となるように、前記離間距離を設定することを特徴とする請求項1記載の異物除去装置。
- レーザーアブレーションにより対象物上の異物の除去を行う異物除去方法であって、
レーザー照射部から照射したパルスレーザーを、光学系により集光して対象物上の異物に照射する際、
制御部により、前記対象物と前記パルスレーザーの焦点とを離間させ、前記対象物と前記パルスレーザーの焦点との離間距離を、前記対象物上のパルスレーザーの強度分布の最大値が、前記異物を除去できる強度以上かつ前記対象物に対する許容強度以下となるように設定することを特徴とする異物除去方法。 - 前記制御部は、前記対象物上のパルスレーザーの強度分布において、前記異物を除去できる強度以上となる範囲が前記異物の平面上のサイズ以上となるように、前記離間距離を設定することを特徴とする請求項3記載の異物除去方法。
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