JP2014063791A5 - - Google Patents
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Description
前記接合工程後に、基板同士が接合された重合基板を温度調節装置に搬送し、当該温度調節装置において前記重合基板の温度を調節してもよい。
前記接合工程後に、基板同士が接合された重合基板を検査装置に搬送し、当該検査装置において少なくとも重合基板の内部の検査又は重合基板の接合状態の検査を行ってもよい。
Claims (12)
- 接着剤を介して基板同士を接合する接合システムであって、
基板に所定の処理を行う処理ステーションと、
基板又は基板同士が接合された重合基板を前記処理ステーションに対して搬入出する搬入出ステーションと、を有し、
前記処理ステーションは、
一の基板に前記接着剤を塗布する塗布装置と、
前記接着剤が塗布された一の基板を熱処理する熱処理装置と、
前記熱処理された一の基板の位置調節を行い、且つ前記一の基板と接合される他の基板の位置調節を行うと共に、当該他の基板の表裏面を反転させる位置調節装置と、
前記接着剤を介して前記位置調節が行われた基板同士を押圧して接合する複数の接合装置と、
前記塗布装置、前記熱処理装置、前記位置調節装置及び前記複数の接合装置に対して、基板又は重合基板を搬送するための搬送領域と、を有することを特徴とする、接合システム。 - 前記処理ステーションは、前記熱処理装置で熱処理された一の基板の外周部を洗浄する外周部洗浄装置を有することを特徴とする、請求項1に記載の接合システム。
- 前記処理ステーションは、前記接合装置で接合された重合基板の温度を調節する温度調節装置を有することを特徴とする、請求項1又は2に記載の接合システム。
- 前記処理ステーションは、少なくとも重合基板の内部の検査又は重合基板の接合状態の検査を行う検査装置を有することを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の接合システム。
- 前記位置調節装置は、前記塗布装置で前記接着剤が塗布される前の一の基板の位置調節を行うことを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の接合システム。
- 接着剤を介して基板同士を接合する接合方法であって、
塗布装置において一の基板に前記接着剤を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程で前記接着剤が塗布された一の基板を熱処理装置に搬送し、当該熱処理装置において前記一の基板を熱処理する熱処理工程と、
前記熱処理工程で熱処理された一の基板を位置調節装置に搬送し、当該位置調節装置において前記一の基板の位置調整を行う第1の位置調節工程と、
前記位置調節装置において、前記一の基板と接合される他の基板の位置調節を行うと共に、当該他の基板の表裏面を反転させる第2の位置調節工程と、
前記第1の位置調節工程が行われた一の基板を接合装置に搬送すると共に、前記第2の位置調節工程が行われた他の基板を前記接合装置に搬送し、当該接合装置において、前記接着剤を介して前記一の基板と前記他の基板を押圧して接合する接合工程と、を有し、
前記塗布装置、前記熱処理装置、前記位置調節装置及び複数の前記接合装置を備えた接合システムにおいて、前記接合工程は複数の前記一の基板と複数の前記他の基板に対して並行して行われることを特徴とする、接合方法。 - 前記熱処理工程後であって前記第1の位置調節工程前に、前記一の基板を外周部洗浄装置に搬送し、当該外周部洗浄装置において前記一の基板の外周部を洗浄することを特徴とする、請求項6に記載の接合方法。
- 前記接合工程後に、基板同士が接合された重合基板を温度調節装置に搬送し、当該温度調節装置において前記重合基板の温度を調節することを特徴とする、請求項6又は7に記載の接合方法。
- 前記接合工程後に、基板同士が接合された重合基板を検査装置に搬送し、当該検査装置において少なくとも重合基板の内部の検査又は重合基板の接合状態の検査を行うことを特徴とする、請求項6〜8のいずれかに記載の接合方法。
- 前記塗布工程前に、前記位置調節装置において前記接着剤が塗布される前の一の基板の位置調節を行うことを特徴とする、請求項6〜9のいずれかに記載の接合方法。
- 請求項6〜10のいずれかに記載の接合方法を接合システムによって実行させるために、当該接合システムを制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項11に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012206555A JP2014063791A (ja) | 2012-09-20 | 2012-09-20 | 接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
PCT/JP2013/072709 WO2014045803A1 (ja) | 2012-09-20 | 2013-08-26 | 接合システム、接合方法及びコンピュータ記憶媒体 |
TW102133489A TW201423834A (zh) | 2012-09-20 | 2013-09-16 | 接合系統、接合方法及電腦記憶媒體 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012206555A JP2014063791A (ja) | 2012-09-20 | 2012-09-20 | 接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014063791A JP2014063791A (ja) | 2014-04-10 |
JP2014063791A5 true JP2014063791A5 (ja) | 2015-01-22 |
Family
ID=50341126
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012206555A Pending JP2014063791A (ja) | 2012-09-20 | 2012-09-20 | 接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014063791A (ja) |
TW (1) | TW201423834A (ja) |
WO (1) | WO2014045803A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6165102B2 (ja) * | 2014-05-20 | 2017-07-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム、および情報記憶媒体 |
EP3712929B1 (en) | 2017-11-17 | 2023-09-13 | Hamamatsu Photonics K.K. | Suction method |
JP7299685B2 (ja) | 2018-10-11 | 2023-06-28 | キヤノン株式会社 | 膜形成装置、膜形成方法および物品製造方法 |
KR102610837B1 (ko) * | 2020-12-29 | 2023-12-06 | 세메스 주식회사 | 기판과 기판을 접합하기 위한 기판 접합 설비에서의 기판 보관 및 정렬 장치 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5027460B2 (ja) * | 2006-07-28 | 2012-09-19 | 東京応化工業株式会社 | ウエハの接着方法、薄板化方法、及び剥離方法 |
JP2008182016A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Tokyo Electron Ltd | 貼り合わせ装置、貼り合わせ方法 |
KR20100108418A (ko) * | 2008-11-14 | 2010-10-06 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 접합 장치 및 접합 방법 |
TWI497244B (zh) * | 2008-11-21 | 2015-08-21 | 尼康股份有限公司 | A holding member managing means, a stacked semiconductor manufacturing apparatus, and a holding member managing method |
JP5671265B2 (ja) * | 2010-06-10 | 2015-02-18 | 東京応化工業株式会社 | 基板の加工方法 |
JP5538282B2 (ja) * | 2010-08-23 | 2014-07-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 接合装置、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
JP5352546B2 (ja) * | 2010-08-25 | 2013-11-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
-
2012
- 2012-09-20 JP JP2012206555A patent/JP2014063791A/ja active Pending
-
2013
- 2013-08-26 WO PCT/JP2013/072709 patent/WO2014045803A1/ja active Application Filing
- 2013-09-16 TW TW102133489A patent/TW201423834A/zh unknown
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