JP2014063640A - 走査電子顕微鏡 - Google Patents

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Abstract

【課題】電磁偏向により電子線が通過する絞り穴の切り替えと、電子線の開き角の制御とを同時に行える走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】レンズギャップ121aが電子源50側に向いている第1のコンデンサレンズ121とレンズギャップ122aが対物レンズ13側に向いている第2のコンデンサレンズ122が電子源50と対物レンズ13との間に設置され、第1のコンデンサレンズ121の電子線通過開口内に第1の偏向手段133が配置されるとともに、第2のコンデンサレンズ122電子線通過開口内に第2の偏向手段136が配置されており、口径の異なる複数の孔113aを有する絞り部材113が第1の偏向手段133と第2の偏向手段136との間に設けられ、電子線通過孔102aを有する電子検出器102が第2の偏向手段136と対物レンズ13との間に設けられている。
【選択図】図3

Description

本発明は、電子線を試料上で走査することにより試料の走査像を取得する走査電子顕微鏡に関する。
一般的な走査電子顕微鏡の構成を図1に示す。図1(A)は、走査電子顕微鏡におけるレンズ配置を示し、図1(B)は、当該レンズ配置における電子線(電子ビーム)の軌道を示している。なお、電子線の軌道は、わかりやすくするために、角度を10倍程度拡大して表現している。
電子源である電子銃50は、エミッタ1、引出電極2及び加速電極3を備えている。引出電極2に印加された引出電圧によりエミッタ1から引き出された電子は、加速電極3に印加された加速電圧により加速され、電子線1bとして試料14に向けて放出される。
電子銃50と試料14との間には、第1コンデンサレンズ11、第2コンデンサレンズ101及び対物レンズ13が配置されている。ここで、第2コンデンサレンズ101は、開き角制御レンズと呼ばれることもある。
第1コンデンサレンズ11に対して試料14側には、対物絞り12が配置されている。また、第2コンデンサレンズ101に対して試料14側には、電子検出器102が配置されている。これら対物絞り12及び電子検出器102には、電子線が通過するための穴12a,102aが形成されおり、これらの穴12a,102aは電子光学系光軸1a上に位置している。
第1コンデンサレンズ11は、試料14に照射される電子線の電流値(照射電流値)を変化させる働きを有する。第2コンデンサレンズ101は、対物レンズ13の収差に対して最適な電子光学系となるように電子線の軌道の調整を行う。図1(B)では、一例として、第1コンデンサレンズ11の駆動を実像結像モード、第2コンデンサレンズ101の駆動を虚像結像モードとしている。
このようなレンズ系で電子線の照射電流値を変更する場合、第1コンデンサレンズ11の励磁を変える(例えば、弱励磁にする)若しくは対物絞り12の穴12aを手動で別の口径の穴に切り替えることとなる。このとき、第2コンデンサレンズ101の励磁状態も、試料14上での電子線のプローブ径が最小となるように変更される。
また、他のレンズ配置の構成としては、図2に示すものもある。図2(A)は、その走査電子顕微鏡におけるレンズ配置を示し、図2(B)は、当該レンズ配置における電子線の軌道を示している。なお、図2において、図1に示す構成要素と同様のものには、同一の番号が付されている。
図2に示す構成において、対物絞り113には口径の異なる複数の穴113aが形成されている。そして、対物絞り113において電子線1bが通過する穴113aを選択して切り替えるための偏向器111,112が、対物絞り113の上下に対応して配置されている。この場合、偏向器111,112及び対物絞り113は、電子銃50に近い場所に配置されるのが望ましい。
上記何れのレンズ配置の例においても、電子検出器102は、電子光学系光軸1aに沿った位置に配置されているので、電子線照射により試料14から放出される電子は、電子検出器102によって検出されるまでに電子光学系のレンズ作用を受けることとなる。そのため、電子光学系設計においては、検出対象となる電子の挙動も同時に検討される必要がある。
このように電子光学系光軸1aに沿った位置に配置される電子検出器は、電子光学系光軸1aを基準(角度0°)とする放出角度の小さい(5〜30°程度)の弾性散乱電子を検出するために用いられることが多い。ここで、試料14から放出される電子は、その放出角度によって異なる球面収差の影響を受ける。
球面収差は、試料14からの電子のうち放出角度が大きい電子に対して、より強い集束作用を発生させる収差である。よって、放出角度の小さい弾性散乱電子ほど球面収差による影響が小さくなり、試料14に照射される電子線(一次電子線)の軌道と同様な軌道をとる。そのため、放出角度の小さい弾性散乱電子を検出するには、一次電子線の軌道が広がる位置に電子検出器を配置する必要がある。
従って、図1に示す構成では、電子検出器102は、対物レンズ13に近づけることにより、放出角度が小さい散乱電子を効率良く検出することができる。このことは、図2に示す構成においても同様である。また、電子検出器102における穴102aの穴径を小さくすることも、より放出角度の小さい弾性散乱電子を検出することにつながる。
なお、弾性散乱電子を検出する公知技術としては、例えば、米国特許第7425701号に記載がある。ただし、この公知技術は、検出対象として、エネルギーの小さい電子とエネルギーの大きい電子とを選別する方法であり、弾性散乱電子の検出角度についての記載はない。
また、特開2008−153158号公報には、電子検出器とその後段に配置されたレンズの作用を利用して、検出対象となる電子を選別する方法が記載されている。
米国特許第7425701号 特開2008−153158号公報
図1に示した例においては、対物絞り12の穴12aを別の口径の穴に切り替えるためには、手動での対物絞り12の駆動機構、調整機構が必要となる。また、当該装置を操作する操作者は、対物絞り12を動かして穴12aを切り替えるごとに、該穴12aの軸調整を手動で行わなくてはならない。
これに対して、図2に示した例では、電子線が通過する対物絞り113の穴113aの切り替えとその軸調整は、同一の偏向系による偏向作用によって行われるので、図1の例における手動操作による煩わしさは不要となる。
しかしながら、図2の例においては、対物絞り113及び偏向器111,112の配置に制約があるという問題がある。
すなわち、対物絞り113には複数の穴113aが形成されており、対物絞り113が電子源から離れていると、対物絞り113に到達する電子線は広がることとなり、選択された穴113a以外の非選択の穴113aを通過する電子線の割合が増えることとなる。そのため、対物絞り113及び偏向器111,112は、できるだけ電子源の近くに配置する必要がある。
しかし、図2の構成では、偏向器111の上側に第1コンデンサレンズ11が位置しているので、対物絞り113及び偏向器111,112を、これ以上電子源側に配置することができない。
また、図2に示す例においては、第1コンデンサレンズ11を実像モードで駆動することができない構成となっている。すなわち、図2の構成では、第1コンデンサレンズ11が強励磁になると、その集束場と上側偏向器111の偏向場との間に干渉が起こり、当該集束場が当該偏向場に対して回転作用を与え、電子線の制御が困難となる。
これにより第1コンデンサレンズ11の駆動が虚像モードに限定されるため、電子線の照射電流を増やすと、対物レンズ13での開き角は小さくなる。分解能を上げるための開き角は、照射電流の増加に伴って大きくなるので、虚像結像モードとされた第1コンデンサレンズ11に合わせて、下側偏向器112の後段に実像結像モードとされる第2コンデンサレンズを設けることも考えられる。
しかしながら、第1コンデンサレンズ11と同様に、第2コンデンサレンズによる集束場と下側偏向器112による偏向場との干渉が発生する問題が生じるため、第2コンデンサレンズを配置するには、そのスペースを確保しなければならない。特に、この場合、第2コンデンサレンズは第1コンデンサレンズ11よりも強励磁となるように駆動しなければならないので、それに対応する第2コンデンサレンズのスペース分だけ装置を長くしなければならない。
また、検出側において、電子検出器を試料側に近づけすぎると、放出角度の大きい弾性散乱電子や非弾性散乱電子を検出するための汎用検出器を別途配置できなくので、電子検出器の配置についての自由度はほとんどない。ここで、放出角度の小さい弾性散乱電子は、立体角が小さく、全体に対する信号割合が小さいので、上記汎用検出器により検出された電子による像も同時に取得できるほうが使い勝手が良くなって望ましい。
なお、電子検出器の穴径について、電子検出器の位置での電子線の広がりは数十μmから数百μm程度であるが、それに対して実際に電子検出器に形成されている穴の穴径は、mmオーダーである。これは、レンズの組み立て誤差や外乱などの影響で電子線が電子光学系光軸1aから外れてしまうことを想定して、電子検出器の穴径を大きくして余裕をもたせている。
ここで、下側偏向器112は、軸調整について、電子線の対物レンズ13に対する軸調整機能を有しており、電子線の電子検出器102(穴102a)に対する軸ずれを調整するために使用することはできない。電子検出器専用の軸調整機構をもたせると、装置の調整が煩雑となる。
本発明は、図2の構成に対して、第1コンデンサレンズ及び第2コンデンサレンズにおけるポールピースの形状を工夫することにより、各コンデンサレンズによる集束場と偏向器(偏向手段)による偏向場とが重ならないようにすることで、電磁偏向により電子線が通過する絞り穴の切り替えと、電子線の開き角の制御とを同時に行える走査電子顕微鏡を提供することを目的とする。
この場合、散乱ビーム制限絞りを組み合わせて使用することもできる。さらに、散乱制限絞りの機能を電子検出器にもたせることもでき、これにより放出角度の小さい弾性散乱電子を効率的に検出することができる。
なお、本発明と特許文献2に記載の発明との違いは、コンデンサレンズの集束作用を電子線の選別に利用しているか否かにあり、本発明においては、コンデンサレンズの集束作用の強弱によらずに放出角度の小さい弾性散乱電子を検出することができる点にある。さらに、特許文献2に記載の発明では、エネルギー選別が主であるのに対し、本発明は、角度選別が主となっている。
本発明に基づく走査電子顕微鏡は、電子源から放出された電子線を対物レンズにより集束し、走査偏向器により試料上を走査させ、これにより試料から発生する被検出電子を検出する走査電子顕微鏡であって、レンズギャップが電子源側に向いている第1のコンデンサレンズとレンズギャップが対物レンズ側に向いている第2のコンデンサレンズが電子源と対物レンズとの間に設置され、第1のコンデンサレンズの電子線通過開口内に第1の偏向手段が配置されるとともに、第2のコンデンサレンズの電子線通過開口内に第2の偏向手段が配置されており、口径の異なる複数の孔を有する絞り部材が第1の偏向手段と第2の偏向手段との間に設けられ、電子線通過孔を有する電子検出器が第2の偏向手段と対物レンズとの間に設けられており、第1のコンデンサレンズによるレンズ作用を受けた電子線が第1の偏向手段の駆動に応じて偏向され、これにより絞り部材の複数の孔のうち選択された孔を該電子線が通過し、該孔を通過した電子線が、第2の偏向手段の駆動に応じて偏向されるとともに第2のコンデンサレンズによるレンズ作用を受け、これにより該電子線が電子検出器の電子線通過孔を通過して試料に到達することを特徴とする。
本発明においては、第1のコンデンサレンズのレンズギャップが電子源側に向いているとともに、第2のコンデンサレンズのレンズギャップが対物レンズ側に向いており、第1及び第2の偏向手段が、それぞれ第1及び第2のコンデンサレンズの各電子線通過開口内に配置され、口径の異なる複数の孔を有する絞り部材が第1の偏向手段と第2の偏向手段との間に設けられている。
このような構成により、各コンデンサレンズによる集束場と各偏向手段による偏向場とが重ならないようにすることができ、両者の干渉を防ぐことができる。これによって、絞り部材において電子線が通過する孔の切り替えを良好に行えるとともに、該孔を通過した電子線の開き角の制御を適切に行うことができる。
さらに、第1及び第2のコンデンサレンズの電子線通過開口内に、それぞれ第1及び第2の偏向手段が配置されているので、装置の大型化を防ぐことができる。
従来技術における一般的な走査電子顕微鏡を示す概略構成図である。 従来技術における他の例の走査電子顕微鏡を示す概略構成図である。 本発明の第1実施例における走査電子顕微鏡を示す概略構成図である。 対物絞りの構成を示す平面図である。 コンデンサレンズの形状変化によるレンズ磁場変化を示す図である。 第1及び第2のコンデンサレンズによる集束レンズの位置を示す図である。 対物絞りにおける中央の穴が選択されたときの電子線の軌道を示す図である。 対物絞りにおける中央以外の穴が選択されたときの電子線の軌道を示す図である。 本発明の変形例における走査電子顕微鏡を示す概略構成図である。 本発明の他の変形例における走査電子顕微鏡を示す概略構成図である。 本発明の第2実施例における走査電子顕微鏡を示す概略構成図である。
以下、図面を参照して、本願発明について説明する。図3は、本願発明の第1実施例における走査電子顕微鏡を示す概略構成図である。図3(A)は、当該走査電子顕微鏡におけるレンズ配置を示しており、図3(B)は、当該レンズ配置における電子線(電子ビーム)の軌道を示している。なお、図3において、図2に示す構成要素と同様のものには、同一の番号が付されている。
電子源である電子銃50には、エミッタ1、引出電極2及び加速電極3が備えられている。引出電極2に印加された引出電圧によりエミッタ1から引き出された電子は、加速電極3に印加された加速電圧により加速され、電子線1bとして試料13に向けて放出される。
電子銃50と試料14との間には、第1コンデンサレンズ121、第2コンデンサレンズ122及び対物レンズ13が配置されている。第1コンデンサレンズ121の電子線通過開口121b内には、2段の偏向コイル131,132からなる上側偏向器(上側偏向手段)133が配置されている。第2コンデンサレンズ122の電子線通過開口122b内には、2段の偏向コイル134,135からなる下側偏向器(下側偏向手段)136が配置されている。
上側偏向器133と下側偏向器136との間には、対物絞り(絞り部材)113が配置されている。対物絞り113には、複数の穴(孔)113aが形成されている。
図4に、対物絞り113の平面図を示す。同図に示すように、対物絞り113の中心には穴113bが形成されており、該穴113bの口径は、図示のごとく90〜120μmとされている。対物絞り113の中心は、電子光学系光軸1a上に位置している。
また、この対物絞り113において、中心位置(電子光学系光軸1aの位置に相当)を中心とする同心円上となる位置には、別途4個の穴113cが形成されている。これら4個の穴113cの口径は異なる寸法となっており、それぞれ図示のごとく、10〜30μm、30〜60μm、60〜90μm、及び120〜150μmとされている。
このように各穴の口径を変えておくことにより、該穴の選択に基づいて試料14への電子線1bの照射電流値を変えることができる。
下側偏向器136の下段側には、散乱ビーム制限絞り(制限絞り部材)123が配置されている。散乱ビーム制限絞り123は、第2コンデンサレンズ122のレンズ主面付近に位置している。この散乱ビーム制限絞り123の中心には、穴123aが設けられている。この穴123aは、電子光学系光軸1a上に位置するようにされている。
さらに、散乱ビーム制限絞り123の下段側には、電子検出器102が配置されている。この電子検出器102の中心には、穴102aが形成されている。この穴102aも、電子光学系光軸1a上に位置するようにされている。
電子検出器102の下段側には、対物レンズ13が位置している。この対物レンズ13における電子線通過開口13a内には、電子線1bを試料14上で走査するための走査偏向器137が配置されている。
ここで、第1コンデンサレンズ121における磁極の形状は、通常のレンズ構成に対して変更されており、第1コンデンサレンズ121のレンズギャップ121aが電子銃50側に向くように構成されている。
また、同様に第2コンデンサレンズ122における磁極の形状にも変更が加えられており、第2コンデンサレンズ122のレンズギャップ122aが対物レンズ13側に向くように構成されている。
このようなコンデンサレンズの形状変更により、レンズ磁場は、図5に示すように変化する。同図において、図中右側に示す形状変更後のコンデンサレンズ(一部分表示)の磁場は、図中左側に示された形状変更前のコンデンサレンズ(一部分表示)の磁場に対して、そのピーク位置がレンズの外側(図の例では、下方)に移動することとなる。なお、図中右側に示す形状変更後のレンズは、図3における第2コンデンサレンズ122の構成を想定したものであり、第1コンデンサレンズ121の場合には、図5における当該形状変更後のレンズ構成の上下が逆転することとなる。
この結果、図6に示すように、第1コンデンサレンズ121による集束レンズの位置は、図中141で示した位置となり、第2コンデンサレンズ122による集束レンズの位置は、図中142で示した位置となる。
これにより、コンデンサレンズ121,122の電子線通過開口121b,122b内に偏向器133,136が配置されていても、上記各集束レンズの位置を偏向器133,136による偏向場から十分に離間させることができ、該集束レンズによるレンズ場と該偏向場との干渉を回避させることができる。なお、散乱ビーム制限絞り123の位置は、上述のごとく、第2コンデンサレンズ122による集束レンズの主面付近となっている。
電子銃50から放出された電子線1bは、第1コンデンサレンズ121(レンズ場141)によるレンズ作用により集束され、さらに上側偏向器133による偏向作用によって電子光学系光軸1a上から偏向される。これにより、該電子線1は、対物絞り113において選択された何れかの穴113aを通過することとなる。
そして、該穴113を通過した電子線1bは、下側偏向器136による偏向作用によって電子光学系光軸1a上に振り戻され、さらに第2コンデンサレンズ122(レンズ場142)によるレンズ作用により集束されて、散乱ビーム制限絞り123の穴123a及び電子検出器102の穴102aを通過する。
ここで、対物絞り113において、その中心に位置する穴113bが選択された状態を図7に示す。この場合、電子銃50から放出された電子線1bの大部分は、対物絞り113の中心に形成された穴113bを通過することとなる。
この穴113bを通過した電子線1b(1c)は、散乱ビーム制限絞り123の穴123a及び電子検出器102の穴102aを通過し、試料14に到達する。なお、対物絞り113における他の穴113aを通過した一部の電子線1b(1d)は、散乱ビーム制限絞り123により遮蔽される。
一方、対物絞り113において、その中心から同心円上に位置する穴113cのうちの何れかの穴113dが選択された状態を図8に示す。この場合、電子銃50から放出された電子線1bの大部分は、対物絞り113における該穴113dを通過することとなる。
この穴113dを通過した電子線1b(1e)は、散乱ビーム制限絞り123の穴123a及び電子検出器102の穴102aを通過し、試料14に到達する。ここで、対物絞り113における他の穴113aを通過した一部の電子線1b(1f)は、散乱ビーム制限絞り123により遮蔽されることとなる。なお、図7及び図8においては、走査偏向器の図示は省略している。
次に、本発明における走査電子顕微鏡の動作について説明する。電子銃50から放出された電子線1bは、上述のごとく、第1コンデンサレンズによる集束作用を受け、さらに上側偏向器133による偏向作用を受けて、これにより対物絞り113において選択された所定の穴113aを通過する。
このときの第1コンデンサレンズ121の駆動条件は、図3(B)に示すごとく、虚像結像モードである。電子線1bによる試料14への照射電流値が10nAmのオーダであれば、第1コンデンサレンズ121の駆動条件は、虚像結像モードでも実現可能である。
選択された穴113aを通過した電子線1bは、上述のごとく、下側偏向器136による偏向作用を受けて振り戻され、さらに第2コンデンサレンズによる集束作用を受けて、散乱ビーム制限絞り123(穴123a)及び電子検出器102(穴102a)を通過する。このときの第2コンデンサレンズ122の駆動条件は、実像結像モードである。
このようにして、電子検出器102を通過した電子線1bは、一次電子線として、対物レンズ13により試料14上で集束される。このとき、走査偏向器137は、試料14上での集束電子線1bの走査を行う。
集束電子線1bの走査が行われた試料14からは、弾性散乱電子や非弾性散乱電子などの電子が発生する。このうち、本発明において検出対象となる放出角度の小さい弾性散乱電子151は、対物レンズ13により集束作用を受けながら上昇していき、電子検出器102により検出される。なお、検出側の動作については、第2コンデンサレンズ122を実像結像モードとしたときが、検出効率として最大の効果が得られることとなる。
この電子検出器102による検出信号と、電子線(集束電子線)1bの走査信号とに基づき、試料14の像となる走査像が形成され、図示しない表示装置により該走査像が表示される。
なお、変形例として、第2コンデンサレンズの形状をさらに変更して、図9に示す第2コンデンサレンズ152の形状とすることもできる。同図における第2コンデンサレンズ152は、下側磁極片152b,152cが下方に延長された構成となっている。これによりレンズギャップ152aの位置が下側に移動している。
この結果、第2コンデンサレンズ152のレンズ位置が、上記例の場合に対応する142の位置から、さらに143の位置に移動する。これにより、第2コンデンサレンズ152による集束場と下側偏向器136による偏向場との干渉をより確実に回避することができ、第2コンデンサレンズ152による励磁をより強く動作させることができる。
また、上記の各例においては、散乱ビーム制限絞り123が第2コンデンサレンズ122のレンズ主面付近に設けられている。これに対して、さらに図10に示す構成のように、散乱ビーム制限絞りを設けずに、電子検出器102を第2コンデンサレンズ122のレンズ主面付近に配置することもできる。この場合、電子検出器102の上面(電子銃50側に向いている面)が、散乱ビーム制限絞りの役割を果たす。なお、図10においては、走査偏向器の図示は省略している。
ここで、第2コンデンサレンズがどのような励磁状態でも、そのレンズ主面に位置は、大きく変化しない。よって、第2コンデンサレンズが実像結像モードで動作している限り、電子検出器102の位置がこの位置にあれば、放出角度の小さい弾性散乱電子が広がった状態で効率良く検出することができる。
さらに、上記の各例においては、第1コンデンサレンズを虚像結像モード、第2コンデンサレンズを実像結像モードとして駆動したが、図11に示すように、第1コンデンサレンズを実像結像モード、第2コンデンサレンズを虚像結像モードとして駆動することもできる(第2実施例)。この場合、対物絞り113の穴113aの選択切替えを行った状態での十分な分解能を得るために、各偏向器による偏向角が25mrad以下となるように、対物絞り113における穴113aの配置を設定することが望ましい。
このように、本発明における走査電子顕微鏡は、電子源50から放出された電子線1bを対物レンズ13により集束し、走査偏向器137により試料14上を走査させ、これにより試料14から発生する被検出電子151を検出する走査電子顕微鏡であって、レンズギャップ121aが電子源50側に向いている第1のコンデンサレンズ121とレンズギャップ122a(152a)が対物レンズ13側に向いている第2のコンデンサレンズ122(152)が電子源50と対物レンズ13との間に設置され、第1のコンデンサレンズ121の電子線通過開口内に第1の偏向手段133が配置されるとともに、第2のコンデンサレンズ122(152)の電子線通過開口内に第2の偏向手段136が配置されており、口径の異なる複数の孔113aを有する絞り部材113が第1の偏向手段133と第2の偏向手段136との間に設けられ、電子線通過孔102aを有する電子検出器102が第2の偏向手段136と対物レンズ13との間に設けられており、第1のコンデンサレンズ121によるレンズ作用を受けた電子線1bが第1の偏向手段133の駆動に応じて偏向され、これにより絞り部材113の複数の孔113aのうち選択された孔113aを該電子線1bが通過し、該孔113aを通過した電子線1bが、第2の偏向手段136の駆動に応じて偏向されるとともに第2のコンデンサレンズ122(152)によるレンズ作用を受け、これにより該電子線1bが電子検出器123の電子線通過孔123aを通過して試料14に到達することを特徴とする。
第1の偏向手段133及び第2の偏向手段136は、それぞれ2段の偏向器から構成されている。電子検出器102は、第2コンデンサレンズ122(152)の主面近傍に配置することができる。
また、第2の偏向手段136と電子検出器102との間に、電子線通過孔123aが形成された制限絞り部材123を配置することもできる。この場合、制限絞り部材123は、第2コンデンサレンズ122(152)の主面近傍に配置することができる。
第1のコンデンサレンズ121によるレンズ場は、電子線1bに対して虚像結像となるように作用するとともに、第2のコンデンサレンズ122(152)によるレンズ場は、電子線1bに対して実像結像となるように作用するよう各レンズを制御することができる。
一方、第1のコンデンサレンズ121によるレンズ場は、電子線1bに対して実像結像となるように作用するとともに、第2のコンデンサレンズ122(152)によるレンズ場は、電子線1bに対して虚像結像となるように作用するよう各レンズを制御することもできる。
本発明においては、第1及び第2コンデンサレンズ121,122(152)と偏向手段133,136とを組み合わせた電子光学系において、第1コンデンサレンズ121のレンズギャップ121aの向きを電子源50側にするとともに、第2コンデンサレンズ122(152)のレンズギャップ122a(152a)の向きを対物レンズ13側にすることにより、装置サイズはコンパクトなまま集束場と偏向場が重畳しないようにすることができる。
また、散乱ビーム制限絞り50がない場合には、対物絞り113は電子源50の近くに配置する必要があったが、散乱ビーム制限絞り123を配置することにより、対物絞り113の配置の自由度が上がることとなる。この場合、散乱ビーム制限絞りは、電子検出器102により代用することもできる。
電子検出器102を第2コンデンサレンズ122(152)の主面近傍に配置することで、検出対象とされる放出角度の小さい弾性散乱電子が広がった状態で検出することができ、当該電子を効率良く検出することができる。
1…エミッタ、1a…電子光学系光軸、1b…電子線、2…引出電極、3…加速電極、50…電子銃(電子源)、102…電子検出器、102a…電子線通過孔、113…対物絞り(絞り部材)、113a…穴(孔)、121…第1コンデンサレンズ、121a…レンズギャップ、121b…電子線通過開口、122…第2コンデンサレンズ、122a…レンズギャップ、122b…電子線通過開口、123…散乱ビーム制限絞り(制限絞り部材)、133…上側偏向器(偏向手段)、136…下側偏向器(偏向手段)、137…走査偏向器、151…弾性散乱電子(被検出電子)、152…第2コンデンサレンズ、152a…レンズギャップ

Claims (7)

  1. 電子源から放出された電子線を対物レンズにより集束し、走査偏向器により試料上を走査させ、これにより試料から発生する被検出電子を検出する走査電子顕微鏡であって、レンズギャップが電子源側に向いている第1のコンデンサレンズとレンズギャップが対物レンズ側に向いている第2のコンデンサレンズが電子源と対物レンズとの間に設置され、第1のコンデンサレンズの電子線通過開口内に第1の偏向手段が配置されるとともに、第2のコンデンサレンズの電子線通過開口内に第2の偏向手段が配置されており、口径の異なる複数の孔を有する絞り部材が第1の偏向手段と第2の偏向手段との間に設けられ、電子線通過孔を有する電子検出器が第2の偏向手段と対物レンズとの間に設けられており、第1のコンデンサレンズによるレンズ作用を受けた電子線が第1の偏向手段の駆動に応じて偏向され、これにより絞り部材の複数の孔のうち選択された孔を該電子線が通過し、該孔を通過した電子線が、第2の偏向手段の駆動に応じて偏向されるとともに第2のコンデンサレンズによるレンズ作用を受け、これにより該電子線が電子検出器の電子線通過孔を通過して試料に到達することを特徴とする走査電子顕微鏡。
  2. 第1の偏向手段及び第2の偏向手段は、それぞれ2段の偏向器から構成されることを特徴とする請求項1記載の走査電子顕微鏡。
  3. 電子検出器は、第2コンデンサレンズの主面近傍に配置されていることを特徴とする請求項1又は2記載の走査電子顕微鏡。
  4. 第2の偏向手段と電子検出器との間に、電子線通過孔が形成された制限絞り部材が設けられていることを特徴とする請求項1乃至3何れか記載の走査電子顕微鏡。
  5. 制限絞り部材は、第2コンデンサレンズの主面近傍に配置されていることを特徴とする請求項4記載の走査電子顕微鏡。
  6. 第1のコンデンサレンズによるレンズ場は、電子線に対して虚像結像となるように作用するとともに、第2のコンデンサレンズによるレンズ場は、電子線に対して実像結像となるように作用することを特徴とする請求項1乃至5何れか記載の走査電子顕微鏡。
  7. 第1のコンデンサレンズによるレンズ場は、電子線に対して実像結像となるように作用するとともに、第2のコンデンサレンズによるレンズ場は、電子線に対して虚像結像となるように作用することを特徴とする請求項1乃至5何れか記載の走査電子顕微鏡。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017084537A (ja) * 2015-10-26 2017-05-18 東方晶源微電子科技(北京)有限公司 電子ビーム検査・測長装置用の電子ビーム径制御方法及び電子ビーム径制御装置、並びに電子ビーム検査・測長装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4560878A (en) * 1980-05-19 1985-12-24 Hughes Aircraft Company Electron and ion beam-shaping apparatus
JPH06325719A (ja) * 1993-05-14 1994-11-25 Nikon Corp 荷電粒子線装置
JP2001006591A (ja) * 1999-06-18 2001-01-12 Jeol Ltd 荷電粒子ビーム装置
JP2004127930A (ja) * 2002-09-11 2004-04-22 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線装置及び荷電粒子線照射方法
JP2008204675A (ja) * 2007-02-19 2008-09-04 Hitachi High-Technologies Corp 電子顕微鏡及びそれに用いられる絞り板並びに絞り板の製造方法
JP2011029185A (ja) * 2009-07-24 2011-02-10 Carl Zeiss Nts Gmbh 絞りユニットを有する粒子ビーム装置および粒子ビーム装置のビーム電流を調整する方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2488043A1 (fr) * 1980-07-30 1982-02-05 Le N Proizv Dispositif a optique electronique pour l'etude d'echantillons
DE4243489A1 (de) * 1992-12-22 1994-06-23 Zeiss Carl Fa Verfahren zur Beleuchtung mit einem fokussierten Elektronenstrahl und zugehöriges elektronen-optisches Beleuchtungssystem
JP3299647B2 (ja) * 1994-11-30 2002-07-08 株式会社日立製作所 電子線描画装置および電子線描画方法
JP2003331773A (ja) * 2002-05-13 2003-11-21 Jeol Ltd 電子顕微鏡
DE10301579A1 (de) 2003-01-16 2004-07-29 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Elektronenstrahlgerät und Detektoranordnung
EP1798751A1 (en) * 2005-12-13 2007-06-20 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Protecting aperture for charged particle emitter
JP4874780B2 (ja) 2006-12-20 2012-02-15 日本電子株式会社 走査形電子顕微鏡
DE102008062450B4 (de) * 2008-12-13 2012-05-03 Vistec Electron Beam Gmbh Anordnung zur Beleuchtung eines Substrats mit mehreren individuell geformten Partikelstrahlen zur hochauflösenden Lithographie von Strukturmustern
US8329381B2 (en) * 2009-04-16 2012-12-11 Samsung Electronics Co., Ltd. Pattern forming method

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4560878A (en) * 1980-05-19 1985-12-24 Hughes Aircraft Company Electron and ion beam-shaping apparatus
JPH06325719A (ja) * 1993-05-14 1994-11-25 Nikon Corp 荷電粒子線装置
JP2001006591A (ja) * 1999-06-18 2001-01-12 Jeol Ltd 荷電粒子ビーム装置
JP2004127930A (ja) * 2002-09-11 2004-04-22 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線装置及び荷電粒子線照射方法
JP2008204675A (ja) * 2007-02-19 2008-09-04 Hitachi High-Technologies Corp 電子顕微鏡及びそれに用いられる絞り板並びに絞り板の製造方法
JP2011029185A (ja) * 2009-07-24 2011-02-10 Carl Zeiss Nts Gmbh 絞りユニットを有する粒子ビーム装置および粒子ビーム装置のビーム電流を調整する方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017084537A (ja) * 2015-10-26 2017-05-18 東方晶源微電子科技(北京)有限公司 電子ビーム検査・測長装置用の電子ビーム径制御方法及び電子ビーム径制御装置、並びに電子ビーム検査・測長装置

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