JP2014036190A - 電子部品内蔵基板 - Google Patents

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Abstract

【課題】基板に内蔵された弾性波フィルタの中空カバーの変形を原因として該弾性波フィルタのフィルタ機能部に機能異常や損傷等を生じることを極力回避できる電子部品内蔵基板を提供する。
【解決手段】電子部品内蔵基板は、フィルタ機能部が中空カバー12bによって覆われた構造を備えたSAWフィルタ12が基板11に内蔵されており、該SAWフィルタ12の中空カバー12bと前記基板11の絶縁体層11cを介して向き合う応力緩和層11d3が設けられている。
【選択図】図1

Description

本発明は、電子部品が基板に内蔵された電子部品内蔵基板、特にフィルタ機能部が中空カバーによって覆われた構造を備えた弾性波フィルタが基板に内蔵された電子部品内蔵基板に関する。
高周波フィルタとして着目されている弾性波フィルタ、例えば表面弾性波(Surface Acoustic Wave)を利用したSAWフィルタや、バルク弾性波(Bulk Acoustic Wave)を利用したBAWフィルタ等は、サイズが大きいことから基板の上面に実装されるのが一般的であったが(下記特許文献1を参照)、ウェハーレベルパッケージ技術の進歩による弾性波フィルタの小型化に伴って、最近ではコンデンサやインダクタやレジスタ等の小型電子部品と同様に弾性波フィルタを基板に内蔵する試みが為されている。
しかしながら、弾性波フィルタは一般にフィルタ機能部が中空カバーによって覆われた構造を備えているため、該弾性波フィルタを基板に内蔵すると以下のような不具合を生じる恐れがある。
例えば、弾性波フィルタをその中空カバーが上を向くようにして基板に内蔵する場合、電子部品内蔵基板は該弾性波フィルタの上側に少なくとも絶縁体層を有する構成となる。この電子部品内蔵基板の上面には小型電子部品に加えてICチップ等の大型電子部品が適宜実装されるが、この実装工程や実装前後の工程等において電子部品内蔵基板の上面に下向きの外力が加わり、該外力に基づく下向きの応力が弾性波フィルタの中空カバーに作用すると、該中空カバーが押し潰されるように変形してフィルタ機能部に機能異常や損傷等を生じる恐れがある。
特開2011−176061号公報
本発明の目的は、基板に内蔵された弾性波フィルタの中空カバーの変形を原因として該弾性波フィルタのフィルタ機能部に機能異常や損傷等を生じることを極力回避できる電子部品内蔵基板を提供することにある。
前記目的を達成するため、本発明は、フィルタ機能部が中空カバーによって覆われた構造を備えた弾性波フィルタが内蔵された電子部品内蔵基板であって、前記弾性波フィルタの中空カバーと前記基板の絶縁体層を介して向き合う応力緩和層が設けられている、ことをその特徴とする。
本発明によれば、弾性波フィルタの中空カバーと基板の絶縁体層を介して向き合う応力緩和層が設けられているため、電子部品内蔵基板に電子部品を実装する工程やその前後の工程等において該電子部品内蔵基板に外力が加わり、該外力に基づく応力が弾性波フィルタの中空カバーに作用しようとしても、該応力を応力緩和層で受け止めて緩和することができ、これにより弾性波フィルタの中空カバーが押し潰されるように変形することを確実に抑止して、該変形によってフィルタ機能部に機能異常や損傷等を生じることを確実に防止できる。
本発明の前記目的とそれ以外の目的と、構成特徴と、作用効果は、以下の説明と添付図面によって明らかとなる。
図1(A)は、本発明の第1実施形態に係る電子部品内蔵基板の要部縦断面図;図1(B)は、図1(A)に示した電子部品内蔵基板におけるSAWフィルタと応力緩和層との位置関係等を説明するための図である。 図2(A)は、図1(A)に示したSAWフィルタの上面図;図2(B)は、図2(A)に示したSAWフィルタのフィルタ機能部の構成を示す図である。 図3(A)及び図3(B)は、図1(A)に示したSAWフィルタに代えて用いることができる他のSAWフィルタの上面図である。 図4(A)は、本発明の第2実施形態に係る電子部品内蔵基板の要部縦断面図;図4(B)は、図4(A)に示した電子部品内蔵基板におけるSAWフィルタと応力緩和層との位置関係等を説明するための図である。 図5(A)は、図4(A)に示したSAWフィルタの上面図;図5(B)は、図5(A)に示したSAWフィルタのフィルタ機能部の構成を示す図である。 図6(A)は、本発明の第3実施形態に係る電子部品内蔵基板の要部縦断面図;図6(B)は、図6(A)に示した電子部品内蔵基板におけるSAWフィルタと応力緩和層との位置関係等を説明するための図である。 図7(A)は、本発明の第4実施形態に係る電子部品内蔵基板の要部縦断面図;図7(B)は、図7(A)に示した電子部品内蔵基板におけるSAWフィルタと応力緩和層との位置関係等を説明するための図である。
《第1実施形態》
図1(A)、図1(B)、図2(A)及び図2(B)は本発明の第1実施形態(電子部品内蔵基板)を示すもので、図中の符号11は多層構造の基板、符号12は基板11に内蔵されたSAWフィルタである。因みに、図1(A)は図1(B)のA−A線に沿う断面を示したものであるが、該図1(A)にはSAWフィルタ12の断面の図示を省略してある。
基板11は、図1(A)に示したように、略直方体状の収容部11a1が貫通形成されたコア層11aと、収容部11a1内に収納されたSAWフィルタ12と該収容部11a1の内壁との間隙に設けられた部品固定部11bと、コア層11aの上面(第1の主面)に設けられた第1絶縁体層11cと、第1絶縁体層11cの上面に設けられた第1導体層11dと、第1導体層11dの上面に設けられた第2絶縁体層11eと、第2絶縁体層11eの上面に設けられた第2導体層11fと、コア層11aの下面(第2の主面)に設けられた第3絶縁体層11gと、第3絶縁体層11gの下面に設けられた第3導体層11hと、第3導体層11hの下面に設けられた第4絶縁体層11iと、第4絶縁体層11iの下面に設けられた第4導体層11jを備えている。
コア層11aは銅や銅合金等の金属から成り、その厚さは例えば100〜400μmの範囲内にある。部品固定部11bはエポキシ樹脂やポリイミドやビスマレイミドトリアジン樹脂やこれらに補強用フィラーを含有させたもの等の熱硬化性プラスチックから成る。各絶縁体層11c、11e、11g及び11iはエポキシ樹脂やポリイミドやビスマレイミドトリアジン樹脂やこれらに補強用フィラーを含有させたもの等の熱硬化性プラスチックから成り、その厚さは例えば10〜30μmの範囲内にある。各導体層11d、11f、11h及び11jは銅や銅合金等の金属から成り、その厚さは例えば5〜25μmの範囲内にある。
各導体層11d、11f、11h及び11jには、信号配線又は接地配線として用いられる配線11d1、11f1、11h1及び11j1が2次元的にパターンニングされている。また、第1導体層11dに含まれる接地用配線11d1には、後に詳述するように、SAWフィルタ12の各中空カバー12bの上面と第1絶縁層11cを間において向き合う応力緩和層11d3が該接地用配線11d1と連続して設けられている。
各絶縁体層11c、11e、11g及びは11iには、配線11d1、11f1、11h1及び11j1と連続する又は連続しない導体ビア11d2、11f2及び11h2(配線11j1の導体ビアは図示省略)が設けられている。各導体ビア11d2、11f2及び11h2は銅や銅合金等の金属から成り、その最大直径は例えば10〜30μmの範囲内にある。
配線11d1、11f1、11h1又は11j1の相互間隙と、配線11d1、11f1、11h1又は11j1と非連続型の導体ビア11d2、11f2又は11h2のパッド部分との間隙には、エポキシ樹脂やポリイミドやビスマレイミドトリアジン樹脂やこれらに補強用フィラーを含有させたもの等の熱硬化性プラスチックが充填されている。
SAWフィルタ12は、図1(A)及び図2(A)に示したように、タンタル酸リチウムやニオブ酸リチウム等の圧電体から成る略直方体状のフィルタ本体12aと、フィルタ本体12aの上面に形成されたフィルタ機能部(符号無し)と、フィルタ機能部を覆う3個の中空カバー12bと、入力端子12c(第1の端子)と、出力端子12d(第2の端子)と、3個の接地端子12e(第3の端子)と、フィルタ本体12aの上面に設けられた封止部12fを有しており、全体が略直方体状を成している。1つの態様を例示すれば、3個の接地端子12eのうちの少なくとも2個の接地端子12e(図2(A)中央の2個の接地端子12e)が中空カバー12bに接続されている。
フィルタ機能部は、図2(B)に示したように、例えば、直列接続された3個の共振子REとこれに並列接続された2個の共振子REとから成るラダー型の構成を有しており、各共振子REは櫛歯状電極とその両側に配置された反射器とから成る。
各中空カバー12bは、フィルタ本体12aの上面に接合された略矩形枠状のシールリング(図示省略)と、該シールリングに接合されてその上面開口を覆うカバープレート(図示省略)とから成り、各々の高さは例えば10〜30μmの範囲内にある。シールリング及びカバープレートは銅やニッケルや金やこれらの合金等の金属から成る。つまり、SAWフィルタ12は、フィルタ機能部が各中空カバー12bによって覆われ、該フィルタ機能部が各中空カバー12bによって形成された中空部内に配された構造を有している。
封止部12fは、各中空カバー12bを覆うようにしてフィルタ本体12aの上面に設けられており、各端子12c〜12eは該封止部12fの上面から露出している。封止部12fは液晶ポリマーやシンジオタクチックポリスチレンやポリフェニレンサルファイドやポリエーテルエーテルケトンやポリエーテルニトリル等の耐湿性が高い熱可塑性プラスチックから成り、各中空カバー12b上における厚さは例えば10〜50μmの範囲内にある。
このSAWフィルタ12はフィルタ機能部を覆う各中空カバー12bが上を向くように、且つ、その上面がコア層11aの上面と略面一となるように収容部11a1内に収納され、封止部12fの上面を第1絶縁体層11cによって覆われている。また、SAWフィルタ12の入力端子12cは導体ビア11d2を介して基板11の上面で露出する導体ビア11f2に接続されており、図示を省略したが、出力端子12dも導体ビア11d2を介して基板11の上面で露出する導体ビア11f2に接続されている。さらに、SAWフィルタ12の各接地端子12eは、導体ビア11d2を介して応力緩和層11d3に接続されている。
ここで、図1(A)に示した電子部品内蔵基板におけるSAWフィルタ12と応力緩和層11d3との位置関係等について、図1(A)及び図1(B)を引用して説明する。
応力緩和層11d3は、SAWフィルタ12の上面輪郭よりも大きな略矩形状の輪郭を有し、第1導体層11dに含まれる接地用配線11d1と連続している。この応力緩和層11d3は第1導体層11dの一部によって構成されているため、該応力緩和層11d3は配線11d1(第1導体層11d)と同じ金属から成り、その厚さも配線11d1(第1導体層11d)と略同じである。
つまり、応力緩和層11d3は配線11d1(第1導体層11d)と同じ金属から成るため、該応力緩和層11d3のヤング率(縦弾性係数)は第1絶縁体層11c及び第2絶縁体層11e(何れもプラスチック製)のヤング率よりも高値である。
また、応力緩和層11d3にはSAWフィルタ12の入力端子12c及び出力端子12dそれぞれに接続された導体ビア11d2及びその周囲の環状間隙が含まれているが、該応力緩和層11d3は、第1絶縁体層11cの厚さと封止部12fの中空カバー12b上の部分の厚さの和に略相当する間隔をおいて、SAWフィルタ12の3個の中空カバー12bの上面領域の略全てと略平行に向き合っている。
ところで、図1(A)に示した電子部品内蔵基板の上面には、コンデンサやインダクタやレジスタ等の小型電子部品に加えてICチップ等の大型電子部品が適宜実装される。この実装工程やその前後の工程等において電子部品内蔵基板の上面に図1(A)に白抜き矢印で示すような外力が加わると、該外力に基づく下向きの応力がSAWフィルタ12の各中空カバー12bに作用しようとする。
(効果1)けれども、前記電子部品内蔵基板にあっては、第1絶縁体層11cの上側にSAWフィルタ12の各中空カバー12bの上面と向き合う応力緩和層11d3が設けられているため、前記下向きの応力がSAWフィルタ12の各中空カバー12bに作用しようとしても、該下向きの応力を応力緩和層11d3で受け止めて緩和することができ、これによりSAWフィルタ12の各中空カバー12bが押し潰されるように変形することを確実に抑止して、該変形によってフィルタ機能部に機能異常や損傷等を生じることを確実に防止できる。
つまり、応力緩和層11d3で受け止められた前記応力は該応力緩和層11d3の面全体に分散され、これにより該応力緩和層11d3を介してSAWフィルタ12の各中空カバー12bの上面に加わる単位面積当たりの応力が小さくなるため、該応力によって各中空カバー12bが押し潰されるように変形することが確実に抑止される。
しかも、応力緩和層11d3を設けることにより前記効果が得られると言うことは、前記電子部品内蔵基板におけるSAWフィルタ12の配置場所の制約を無くすことができることに繋がるから、該SAWフィルタ12の配置に係る設計の自由度を高めることができる恩恵も得られる。
加えて、前記電子部品内蔵基板にあっては、第2絶縁体層11eを「加熱加圧による成形及び加熱による硬化が可能な熱硬化性プラスチックの中間材料」を用いて作製する場合、該作製時にも加圧に基づく下向きの応力がSAWフィルタ12の各中空カバー12bに作用しようとするが、この場合も該下向きの応力を応力緩和層11d3で受け止めて緩和することができ、これによりSAWフィルタ12の各中空カバー12bが押し潰されるように変形することを確実に抑止して、該変形によってフィルタ機能部に機能異常や損傷等を生じることを確実に防止できる。
(効果2)また、応力緩和層11d3は各中空カバー12bの上面と略平行であり、しかも、該応力緩和層11d3のヤング率が第1絶縁体層11cのヤング率よりも高値であるため、前記応力緩和作用を的確に発揮して、各中空カバー12bの変形をより確実に抑止して、該変形によってフィルタ機能部に機能異常や損傷等を生じることをより確実に防止できる。
(効果3)さらに、前記電子部品内蔵基板にあっては、応力緩和層11d3が第1導体層11dの一部によって構成され、しかも、該第1導体層11dに含まれる接地用配線11d1と連続したものであるため、第1導体層11dに配線をパターニングするときに該応力緩和層11d3を簡単に作製することができる。
尚、図1及び図2には、SAWフィルタ12として計3個の中空カバー12bを有するものを示したが、計5個の中空カバー12bを有するSAWフィルタ12-1(図3(A)を参照)や、計1個の中空カバー12bを有するSAWフィルタ12-2(図3(B)を参照)をSAWフィルタ12の代わりに用いた場合でも、要するにフィルタ機能部を覆う少なくとも1つの中空カバー12bを有するSAWフィルタを代わりに用いた場合でも、前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。1つの態様を例示すれば、図3(A)に示したSAWフィルタ12-1は、3個の接地端子12eのうちの少なくとも2個の接地端子12e(図3(A)中央の2個の接地端子12e)が中空カバー12bに接続されている。また、図3(A)に示したSAWフィルタ12-2は、2個の接地端子12eのうちの少なくとも1個の接地端子12e(図3(B)中央の1個の接地端子12e)が中空カバー12bに接続されている。
また、図1〜図3には、3個の接地端子12eを有するSAWフィルタ12及び12-1と2個の接地端子12eを有するSAWフィルタ12-2を示したが、1個又は4個以上の接地端子12eを有するSAWフィルタを代わりに用いた場合でも、要するに少なくとも1個の接地端子12eが中空カバー12bの上面に在るSAWフィルタを代わりに用いた場合でも、入力端子12c及び出力端子12dの数に拘わらず前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
さらに、図1には、応力緩和層11d3としてその輪郭がSAWフィルタ12の上面輪郭よりも大きなものを示したが、該応力緩和層11d3が、中空カバー12bの数に拘わらず該中空カバー12bの上面の総面積の約2/3以上と対向するような輪郭を有していれば、好ましくは約3/4以上と対向するような輪郭を有していれば、その輪郭形状及び配置位置に拘わらず前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
さらに、図1〜図3には、フィルタ機能部が中空カバーで覆われた構造を備えた弾性波フィルタとしてSAWフィルタ12、12-1及び12-3を示したが、少なくとも1個の中空カバーによってフィルタ機能部が覆われた構造を備えたBAWフィルタや他の弾性波フィルタを代わりに用いた場合でも、前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
《第2実施形態》
図4(A)、図4(B)、図5(A)及び図5(B)は本発明の第2実施形態(電子部品内蔵基板)を示すもので、該第2実施形態に係る電子部品内蔵基板が前記第1実施形態に係る電子部品内蔵基板と異なるところは、
・SAWフィルタ12に代えて、計3個の中空カバー12bの上面に接地端子12eを有 しないSAWフィルタ12-3(図4(A)、図4(B)及び図5(A)を参照)を用い た点
にある。因みに、図4(A)は図4(B)のA−A線に沿う断面を示したものであるが、該図4(A)にはSAWフィルタ12-3の断面の図示を省略してある。
SAWフィルタ12-3は、図4(A)及び図5(A)に示したように、タンタル酸リチウムやニオブ酸リチウム等の圧電体から成る略直方体状のフィルタ本体12aと、フィルタ本体12aの上面に形成されたフィルタ機能部(符号無し)と、フィルタ機能部を覆う3個の中空カバー12bと、入力端子12cと、出力端子12dと、接地端子12eと、フィルタ本体12aの上面に設けられた封止部12fを有しており、全体が略直方体状を成している。
フィルタ機能部は、図5(B)に示したように、例えば、直列接続された3個の共振子REとこれに並列接続された2個の共振子REとから成るラダー型の構成を有しており、各共振子REは櫛歯状電極とその両側に配置された反射器とから成る。
各中空カバー12bは、フィルタ本体12aの上面に接合された略矩形枠状のシールリング(図示省略)と、該シールリングに接合されてその上面開口を覆うカバープレート(図示省略)とから成り、各々の高さは例えば10〜30μmの範囲内にある。シールリング及びカバープレートは銅やニッケルや金やこれらの合金等の金属から成る。つまり、SAWフィルタ12は、フィルタ機能部が各中空カバー12bによって覆われ、該フィルタ機能部が各中空カバー12bによって形成された中空部内に配された構造を有している。
封止部12fは、各中空カバー12bを覆うようにしてフィルタ本体12aの上面に設けられており、各端子12c〜12eは該封止部12fの上面から露出している。封止部12fは液晶ポリマーやシンジオタクチックポリスチレンやポリフェニレンサルファイドやポリエーテルエーテルケトンやポリエーテルニトリル等の耐湿性が高い熱可塑性プラスチックから成り、各中空カバー12b上における厚さは例えば10〜20μmの範囲内にある。
このSAWフィルタ12はフィルタ機能部を覆う各中空カバー12bが上を向くように、且つ、その上面がコア層11aの上面と略面一となるように収容部11a1内に収納され、封止部12fの上面を第1絶縁体層11cによって覆われている。また、SAWフィルタ12の入力端子12cは導体ビア11d2を介して基板11の上面で露出する導体ビア11f2に接続されており、図示を省略したが、出力端子12dも導体ビア11d2を介して基板11の上面で露出する導体ビア11f2に接続されている。さらに、SAWフィルタ12の接地端子12eは、導体ビア11d2を介して応力緩和層11d3に接続されている。
この第2実施形態に係る電子部品内蔵基板でも、前記《第1実施形態》で説明した効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
尚、図4及び図5には、SAWフィルタ12-3として計3個の中空カバー12bを有するものを示したが、図3(A)に示したような計5個の中空カバー12b(但し、接地端子無し)を有するものや、図3(B)に示したような計1個の中空カバー12b(但し、接地端子無し)を有するものをSAWフィルタ12-3の代わりに用いた場合でも、要するにフィルタ機能部を覆う少なくとも1つの中空カバー12b(但し、接地端子無し)を有するSAWフィルタを代わりに用いた場合でも、前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
また、図4及び図5には、1個の接地端子12eを有するSAWフィルタ12-3を示したが、中空カバー12bの上面以外の位置に2個以上の接地端子12eを有するSAWフィルタを代わりに用いた場合でも、入力端子12c及び出力端子12dの数に拘わらず前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
さらに、図4には、応力緩和層11d3としてその輪郭がSAWフィルタ12-3の上面輪郭よりも大きなものを示したが、該応力緩和層11d3が、中空カバー12bの数に拘わらず該中空カバー12bの上面の総面積の約2/3以上と対向するような輪郭を有していれば、好ましくは約3/4以上と対向するような輪郭を有していれば、その輪郭形状及び配置位置に拘わらず、前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
さらに、図4及び図5と前々段落には、フィルタ機能部が中空カバーで覆われた構造を備えた弾性波フィルタとしてSAWフィルタ12-3他を示したが、少なくとも1個の中空カバーによってフィルタ機能部が覆われた構造を備えたBAWフィルタや他の弾性波フィルタを代わりに用いた場合でも、前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
《第3実施形態》
図6(A)及び図6(B)は本発明の第3実施形態(電子部品内蔵基板)を示すもので、該第3実施形態に係る電子部品内蔵基板が前記第1実施形態に係る電子部品内蔵基板と異なるところは、
・応力緩和層11d3に代えて、前記第1導体層11dに含まれる接地用配線11d1と 非接触で孤立している応力緩和層11d4を用いた点
にある。因みに、図6(A)は図6(B)のA−A線に沿う断面を示したものであるが、該図6(A)にはSAWフィルタ12の断面の図示を省略してある。
この応力緩和層11d4は、図6(A)及び図6(B)に示したように、SAWフィルタ12の上面輪郭よりも小さな略矩形状の輪郭を有し、第1導体層11dに含まれる接地用配線11d1と連続しておらず、該接地用配線11d1と非接触で孤立している。この応力緩和層11d4は、接地用配線11d1と連続していないものの、第1導体層11dの一部によって構成されているため、該応力緩和層11d4は配線11d1(第1導体層11d)と同じ金属から成り、その厚さも配線11d1(第1導体層11d)と略同じである。つまり、応力緩和層11d4は配線11d1(第1導体層11d)と同じ金属から成るため、該応力緩和層11d4のヤング率は第1絶縁体層11c及び第2絶縁体層11e(何れもプラスチック製)のヤング率よりも高値である。また、応力緩和層11d4は、第1絶縁体層11cの厚さと封止部12fの中空カバー12b上の部分の厚さの和に略相当する間隔をおいて、SAWフィルタ12の3個の中空カバー12bの上面領域の約5/6と略平行に向き合っている。
SAWフィルタ12の入力端子12cは導体ビア11d2を介して基板11の表面で露出する導体ビア11f2に接続されており、図示を省略したが、出力端子12dも導体ビア11d2を介して基板11の表面で露出する導体ビア11f2に接続されている。また、SAWフィルタ12の3個の接地端子12eのうちの1つは導体ビア11d2を介して接地用配線11d1に接続され、残りの2つは導体ビア11d2を介して応力緩和層11d4に接続されている。
この第3実施形態に係る電子部品内蔵基板でも、前記《第1実施形態》で説明した効果1〜3と同様の効果を得ることができる。因みに、この電子部品内蔵基板の応力緩和層11d4は接地用配線11d1と非接触で孤立しているため、該応力緩和層11d4に導体ビア11d2を介して接続されたSAWフィルタ12の2つの接地端子12eに実質的な接地を得る場合には、接地用配線11d1に接続された接地端子12eにこれら2つの接地端子12eを接続するような回路構成をフィルタ機能部として構築しておく必要がある。
尚、図6には、SAWフィルタ12として計3個の中空カバー12bを有するものを示したが、計5個の中空カバー12bを有するSAWフィルタ12-1(図3(A)を参照)や、計1個の中空カバー12bを有するSAWフィルタ12-2(図3(B)を参照)をSAWフィルタ12に代わりに用いた場合でも、要するにフィルタ機能部を覆う少なくとも1つの中空カバー12bを有するSAWフィルタを代わりに用いた場合でも、前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。応力緩和層11d4に導体ビア11d2を介して接続されたSAWフィルタ12-1及び12-3の接地端子12eに実質的な接地を得る場合については先に述べた通りである。
また、図6には、3個の接地端子12eを有するSAWフィルタ12を示したが、前記《第1実施形態》で説明したように、該接地端子12eの数が1個、2個又は4個以上のSAWフィルタを代わりに用いた場合でも、要するに少なくとも1個の接地端子12eが中空カバー12bの上面に在るSAWフィルタを代わりに用いた場合でも、入力端子12c及び出力端子12dの数に拘わらず前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
さらに、図6には、応力緩和層11d4としてその輪郭がSAWフィルタ12の上面輪郭よりも小さなものを示したが、該応力緩和層11d4が、中空カバー12bの数に拘わらず該中空カバー12bの上面の総面積の約2/3以上と対向するような輪郭を有していれば、好ましくは約3/4以上と対向するような輪郭を有していれば、その輪郭形状及び配置位置に拘わらず前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
さらに、図6には、フィルタ機能部が中空カバーで覆われた構造を備えた弾性波フィルタとしてSAWフィルタ12を示したが、少なくとも1個の中空カバーによってフィルタ機能部が覆われた構造を備えたBAWフィルタや他の弾性波フィルタをSAWフィルタに代わりに用いた場合でも、前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
《第4実施形態》
図7(A)及び図7(B)は本発明の第4実施形態(電子部品内蔵基板)を示すもので、該第4実施形態に係る電子部品内蔵基板が前記第3実施形態に係る電子部品内蔵基板と異なるところは、
・SAWフィルタ12に代えて、計3個の中空カバー12bの上面に接地端子12eを有 しないSAWフィルタ12-3(図7(A)及び図7(B)に加えて図4(A)、図4( B)及び図5(A)を参照)を用いた点
にある。因みに、図7(A)は図7(B)のA−A線に沿う断面を示したものであるが、該図7(A)にはSAWフィルタ12-3の断面の図示を省略してある。また、SAWフィルタ12-3の構成等は前記《第2実施形態》で説明した通りであるため、ここでの説明を省略する。
この第4実施形態に係る電子部品内蔵基板でも、前記《第1実施形態》で説明した効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
尚、図7には、SAWフィルタ12-3として計3個の中空カバー12bを有するものを示したが、図3(A)に示したような計5個の中空カバー12b(但し、接地端子無し)を有するものや、図3(B)に示したような計1個の中空カバー12b(但し、接地端子無し)を有するものをSAWフィルタ12-3に代わりに用いた場合でも、要するにフィルタ機能部を覆う少なくとも1つの中空カバー12b(但し、接地端子無し)を有するSAWフィルタを代わりに用いた場合でも、前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
また、図7には、1個の接地端子12eを有するSAWフィルタ12を示したが、前記《第2実施形態》で説明したように、中空カバー12bの上面以外の位置に2個以上の接地端子12eを有するSAWフィルタ12を代わりに用いた場合でも、入力端子12c及び出力端子12dの数に拘わらず前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
さらに、図7には、応力緩和層11d4としてその輪郭がSAWフィルタ12-3の上面輪郭よりも小さなものを示したが、該応力緩和層11d4が、中空カバー12bの数に拘わらず該中空カバー12bの上面の総面積の約2/3以上と対向するような輪郭を有していれば、好ましくは約3/4以上と対向するような輪郭を有していれば、その輪郭形状及び配置位置に拘わらず前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
さらに、図7と前々段落には、フィルタ機能部が中空カバーで覆われた構造を備えた弾性波フィルタとしてSAWフィルタ12-3他を示したが、少なくとも1個の中空カバーによってフィルタ機能部が覆われた構造を備えたBAWフィルタや他の弾性波フィルタをSAWフィルタに代わりに用いた場合でも、前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
《他の実施形態》
(1)前記《第3実施形態》及び《第4実施形態》では、応力緩和層11d4が第1導体層11dに含まれる接地用配線11d1と非接触で孤立しているものを示したが、これら電子部品内蔵基板にあっては、応力緩和層11d4を第1導体層11dと異なる材料から形成することも可能である。例えば、第1絶縁体層11c及び第2絶縁体層11eのヤング率よりもヤング率が高値であるセラミックスやガラス等の絶縁体から応力緩和層11d4に略相当する輪郭及び厚さを有する層状物を予め作製しておき、第1絶縁体層11cの所定位置に該層状物を置いてから第2絶縁体層11eを作製するか、或いは、第1絶縁体層11cの所定位置に該層状物をペースト塗布及び焼付け等の手法によって直接作製してから第2絶縁体層11eを作製すれば、応力緩和層11d4を第1導体層11dと異なる材料から形成した上で前記効果1及び2と同様の効果を得ることができる。
(2)前記《第1実施形態》〜《第4実施形態》では、基板11のコア層11aに略直方体状の収容部11a1を貫通形成したものを示したが、該収容部11a1の形状は所期の弾性波フィルタを収容できるものであれば略直方体状に限定されるものではない。しかも、貫通型の収容部11a1の代わりに、凹状の収容部をコア層11aに形成して該収容部に弾性波フィルタを収納しても、前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
(3)前記《第1実施形態》〜《第4実施形態》では、基板11として、コア層11aの上側に各2つの絶縁体層11c及び11eと導体層11d及び11fを設け、且つ、下側に各2つの絶縁体層11g及び11iと導体層11h及び11jを設けたものを示したが、コア層11aの上側から第2絶縁層11eと第2導体層11fを除外した層構成を採用しても、或いは、コア層11aの上側の第2導体層11f上にさらに絶縁体層及び導体層を設けた構成を採用しても、前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。一方、コア層11aの下側の絶縁体層と導体層については、その層数を適宜増減しても前記効果1〜3と同様の効果を得られることは言うまでもない。
(4)前記《第1実施形態》〜《第4実施形態》では、基板11のコア層11aが金属から成るものを示したが、該コア層11aの代わりに、プラスチック等の絶縁体から成りコア層11aと同じ厚さを有するコア層を用いても、或いは、各絶縁体層11c、11e、11g及び11iと同じ絶縁体層を積層して構成されたコア層を用いても、前記効果1〜3と同様の効果を得ることができる。
11…基板、11a…コア層、11a1…収容部、11b…部品固定部、11c,11e,11g,11i…絶縁体層、11d,11f,11h,11j…導体層、11d1,11f1,11h1,11j1…配線、11d2,11f2,11h2…導体ビア、11d3,11d4…応力緩和層、12,12-1,12-2,12-3…SAWフィルタ、12a…フィルタ本体、12b…中空カバー、12c〜12e…端子、12f…封止部。

Claims (8)

  1. フィルタ機能部が中空カバーによって覆われた構造を備えた弾性波フィルタが基板に内蔵された電子部品内蔵基板であって、
    前記弾性波フィルタの中空カバーと前記基板の絶縁体層を介して向き合う応力緩和層が設けられている、
    ことを特徴とする電子部品内蔵基板。
  2. 前記応力緩和層は、前記弾性波フィルタの中空カバーと略平行である、
    ことを特徴とする請求項1に記載の電子部品内蔵基板。
  3. 前記応力緩和層のヤング率は、前記絶縁体層のヤング率よりも高値である、
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の電子部品内蔵基板。
  4. 前記応力緩和層は、前記絶縁体層に設けられた導体層の一部によって構成されている、
    ことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の電子部品内蔵基板。
  5. 前記応力緩和層は、前記導体層に含まれる配線と連続している、
    ことを特徴とする請求項4に記載の電子部品内蔵基板。
  6. 前記応力緩和層は、前記導体層に含まれる配線と非接触で孤立している、
    ことを特徴とする請求項4に記載の電子部品内蔵基板。
  7. 前記応力緩和層は、前記導体層と材料が異なる層状物によって構成されており、該導体層に含まれる配線と非接触で孤立している、
    ことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の電子部品内蔵基板。
  8. 前記弾性波フィルタは、前記中空カバーに接続された少なくとも1つの接地端子を有している、
    ことを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の電子部品内蔵基板。
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