JP2014027041A - 成膜用有機材料及びそれを用いて得られた有機光電変換素子、撮像素子、成膜方法、有機光電変換素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機光電変換素子1を構成する有機層30の乾式成膜に用いられる成膜用有機材料60であって、有機層30の構成有機物を主成分とし、成膜用有機材料60中の残留溶媒量が3mol%以下である。
【選択図】図1
Description
本発明はまた、上記光電変換素子を実現しうる有機層を乾式成膜により形成可能な、成膜用有機材料を提供することを目的とするものである。
前記有機層の構成有機物を主成分とし
前記成膜用有機材料中の残留溶媒量が3mol%以下であることを特徴とする。
該成膜用有機材料に含まれる溶媒を、含量3mol%以下となるように除去する溶媒除去工程と、
該溶媒除去工程により残留溶媒量が3mol%以下となった前記成膜用有機材料を用いて前記有機層を前記乾式成膜法により形成する成膜工程とを有することを特徴とする。
前記有機層が、上記本発明の成膜用有機材料を用いて乾式成膜されたものであることを特徴とするものである。
前記光電変換素子の前記光電変換層で発生した電荷に応じた信号を読み出す信号読出し回路が形成された回路基板とを備えることを特徴とするものである。
図面を参照して、本発明にかかる一実施形態の光電変換素子について説明する。図1は、本実施形態の光電変換素子の構成を示す概略断面図である。本明細書の図面において、視認しやすくするため、各部の縮尺は適宜変更して示してある。
基板10としては特に制限なく、シリコン基板、ガラス基板等を用いることができる。
受光層30は、少なくとも光電変換層32を含む有機層であり、成膜用有機材料60を用いて、乾式成膜法により成膜された有機層を含む。本実施形態では、受光層30は、電子ブロッキング層31と光電変換層32とにより構成されており、これらのいずれか又は両方が成膜用有機材料60を用いて乾式成膜法により成膜されている。より膜特性のばらつきを抑制するためには、受光層30に含まれる有機層ができるだけ多くの層が成膜用有機材料60を用いて成膜されることが好ましい。
光電変換層32は、光を受光し、その光量に応じた電荷を発生するものであり、有機の光電変換材料を含んで構成されている。
素環化合物である。
受光層30に含まれる電子ブロッキング層31は、下部電極20から光電変換層32に電子が注入されるのを抑制し、光電変換層32で発生した電子が電極20側に流れるのを阻害するための層である。電子ブロッキング層31は、有機材料又は無機材料、あるいはその両方を含んで構成されている。
また、上部電極40で捕集された電子又は正孔をその量に応じた電圧信号に変換して外部に取り出すようにしてもよい。この場合には、上部電極40と光電変換層32との間に電子ブロッキング層又は正孔ブロッキング層を設ければよい。いずれの場合も、下部電極20と上部電極40で挟まれた部分が受光層30となる。
としては、1,3−ビス(4−tert−ブチルフェニル−1,3,4−オキサジアゾリ
ル)フェニレン(OXD−7)等のオキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン誘導
体、ジフェニルキノン誘導体、バソクプロイン、バソフェナントロリン、及びこれらの誘
導体、トリアゾール化合物、トリス(8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム錯体、
ビス(4−メチル−8−キノリナート)アルミニウム錯体、ジスチリルアリーレン誘導
体、シロール化合物などを用いることができる。また、電子受容性有機材料でなくとも、
十分な電子輸送性を有する材料ならば使用することは可能である。ポルフィリン系化合物
や、DCM(4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−(4−(ジメチルアミノスチリ
ル))−4Hピラン)等のスチリル系化合物、4Hピラン系化合物を用いることができ
る。
封止層50は、水、酸素等の有機材料を劣化させる因子が有機材料を含む受光層に侵入するのを防ぐための層である。封止層50は、下部電極20、電子ブロッキング層31、光電変換層32、及び上部電極40を覆って形成されている。
p型有機半導体の好適な材料として例えば、下記一般式(D−I)で表される化合物であることが好ましい。
(b)ピラゾリノン核:例えば1−フェニル−2−ピラゾリン−5−オン、3−メチル−1−フェニル−2−ピラゾリン−5−オン、1−(2−ベンゾチアゾイル)−3−メチル−2−ピラゾリン−5−オン等。
(c)イソオキサゾリノン核:例えば3−フェニル−2−イソオキサゾリン−5−オン、3−メチル−2−イソオキサゾリン−5−オン等。
(d)オキシインドール核:例えば1−アルキル−2,3−ジヒドロ−2−オキシインドール等。
(e)2,4,6−トリケトヘキサヒドロピリミジン核:例えばバルビツール酸又は2−チオバルビツール酸及びその誘導体等。誘導体としては例えば1−メチル、1−エチル等の1−アルキル体、1,3−ジメチル、1,3−ジエチル、1,3−ジブチル等の1,3−ジアルキル体、1,3−ジフェニル、1,3−ジ(p−クロロフェニル)、1,3−ジ(p−エトキシカルボニルフェニル)等の1,3−ジアリール体、1−エチル−3−フェニル等の1−アルキル−1−アリール体、1,3−ジ(2―ピリジル)等の1,3位ジヘテロ環置換体等が挙げられる。
(f)2−チオ−2,4−チアゾリジンジオン核:例えばローダニン及びその誘導体等。誘導体としては例えば3−メチルローダニン、3−エチルローダニン、3−アリルローダニン等の3−アルキルローダニン、3−フェニルローダニン等の3−アリールローダニン、3−(2−ピリジル)ローダニン等の3位ヘテロ環置換ローダニン等が挙げられる。
(h)チアナフテノン核:例えば3(2H)−チアナフテノン−1,1−ジオキサイド等。
(i)2−チオ−2,5−チアゾリジンジオン核:例えば3−エチル−2−チオ−2,5−チアゾリジンジオン等。
(k)チアゾリン−4−オン核:例えば4−チアゾリノン、2−エチル−4−チアゾリノン等。
(l)2,4−イミダゾリジンジオン(ヒダントイン)核:例えば2,4−イミダゾリジンジオン、3−エチル−2,4−イミダゾリジンジオン等。
(m)2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン(2−チオヒダントイン)核:例えば2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン、3−エチル−2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン等。
(n)イミダゾリン−5−オン核:例えば2−プロピルメルカプト−2−イミダゾリン−5−オン等。
(o)3,5−ピラゾリジンジオン核:例えば1,2−ジフェニル−3,5−ピラゾリジンジオン、1,2−ジメチル−3,5−ピラゾリジンジオン等。
(p)ベンゾチオフェンー3−オン核:例えばベンゾチオフェンー3−オン、オキソベンゾチオフェンー3−オン、ジオキソベンゾチオフェンー3−オン等。
(q)インダノン核:例えば1−インダノン、3−フェニルー1−インダノン、3−メチルー1−インダノン、3,3−ジフェニルー1−インダノン、3,3−ジメチルー1−インダノン等。
Z1で表される環としては下記一般式(Z1)で表されることが好ましい。
Z1で表される環が下記一般式(D−V)で表される場合が好ましい。
光電変換層32のn型有機半導体としてフラーレン又はフラーレン誘導体を用いる場合の電子ブロッキング層31として好適な電子供与性有機材料について以下に説明する。
す。Ra1〜Ra8は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。R1及びRa1〜
Ra8のうち少なくとも2つが互いに結合して環を形成してもよい。Xaは、単結合、酸
素原子、硫黄原子、又は、置換基を有していてもよい、アルキレン基、シリレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、シクロアルケニレン基、アリーレン基、2価の複素環
基、若しくはイミノ基を表す。)
す。R0及びR2〜R10は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。)
の連結基(C−1)でつないだ下記一般式(EB−3)で表される化合物は、光電変換素子の電子ブロッキング材料として有用である。連結基として、連結基(C−1)を用いると、連結基(C−2)を用いた場合と比較して、高分子量化し、耐熱性を向上させることができる。また、骨格間の結合がねじれて共役系が切断されているため、該材料を用いた層(例えば、電子ブロッキング層)とその隣接層(例えば、光電変換層)とが相互作用しないため、光電変換素子の暗電流が低く保たれると推定される。また、電荷輸送ユニットであるジアリールアミン構造が、分子の内側ではなく、両端に導入されているため、高い電荷輸送性を有していると考えられる。
制、高分子量化による一般式(EB−3)で表される化合物同士の分子間力増大の効果が強く表われ、高耐熱化するものと考えられる。
以下、各一般式で表される化合物について説明する。
上記一般式(EB−1)において、R1は、アルキル基、アリール基、又は複素環基を表し、置換基を有していてもよい。該置換基の具体例は後述の置換基Wが挙げられ、好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、水酸基、アミノ基、又はメルカプト基であり、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アミノ基であり、更に好ましくはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アミノ基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、アミノ基であり、最も好ましくはアルキル基、アミノ基である。該置換基を複数有する場合、置換基同士が連結して環を形成してもよい。形成する環としては、後述の環Rが挙げられる。
形成する環としては、炭素数5〜18のシクロアルキル環、ベンゼン環、ナフタレン環、インダン環、アントラセン環、ピレン環、フェナントレン環、ペリレン環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、フェナントリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアジン環、シンノリン環、アクリジン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、ナフチリジン環、プテリジン環、ピロール環、ピラゾール環、トリアゾール環、インドール環、カルバゾール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール
環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、イミダゾピリジン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、フラン環、ベンゾフラン環、ホスホール環、ホスフィニン環、シロール環などが挙げられる。好ましくは、炭素数5〜18のシクロアルキル環、ベンゼン環、ナフタレン環、インダン環、アントラセン環、ピレン環、フェナントレン環、ペリレン環、ピロール環、インドール環、カルバゾール環、インダゾール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、フラン環、ベンゾフラン環であり、さらに好ましくは、炭素数5〜18のシクロアルキル環、ベンゼン環、ナフタレン環、インダン環、インドール環、カルバゾール環、インダゾール環であり、特に好ましくは、炭素数5〜10のシクロアルキル環、ベンゼン環、ナフタレン環、インダン環、アントラセン環であり、中でも好ましくは炭素数5〜10のシクロアルキル環、ベンゼン環、ナフタレン環、インダン環であり、最も好ましくは、炭素数5〜6のシクロアルキル環、ベンゼン環、インダン環である。これらの環は更に後述する置換基Wを有していてもよい。
ることがより好ましく、特に好ましくは一般式(A−1)で表される置換基がR12及びR’12にそれぞれ独立に置換し、R11、R13〜R18、R’11、R’13〜R’18が水素原子である。
し、これらは更に置換基を有していてもよい。すなわち、Yは炭素原子、窒素原子、酸素
原子、硫黄原子、又はケイ素原子からなる二価の連結基を表す。該置換基としては後述の
置換基Wが挙げられる。
基、プロピル基、iso−プロピル基、ブチル基、又はtert−ブチル基が好ましく、より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、iso−プロピル基、又はtert−ブチル基であり、更に好ましくはメチル基、エチル基、iso−プロピル基、又はtert−ブチル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基、又はtert−ブチル基である。
合が挙げられる。
子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表す場合、好ましい形態のひとつは、一般式(A−1)が、下記一般式(A−3)〜(A−5)で表される基である。
Ra51、Ra52、Ra55〜Ra58は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表す。*は結合位置を表す。Xaは、単結合、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、シリレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、シクロアルケニレン基、アリーレン基、2価の複素環基、又はイミノ基を表す。S11はそれぞれ独立に前記置換基(S
11)を示し、Ra33〜Ra38、Ra41、R44〜Ra48、R51、R52、R55〜R58中のいずれかひとつとして置換する。Z31、Z41、Z51はシクロアルキル環、芳香族炭化水素環、又は芳香族複素環を表す。nは1〜4の整数を表す。)
えば、理研計器製AC−2など)によって測定できる。
置換基Wとしてはハロゲン原子、アルキル基(シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、アリール基、複素環基(ヘテロ環基といっても良い)、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基(アニリノ基を含む)、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基(−B(OH)2)、ホスファト基(−OPO(OH)2)、スルファト基(−OSO3H)、その他の公知の置換基が挙げられる。
例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基を表す。それらは、(2−a)〜(2−e)なども包含するものである。
好ましくは炭素数1から30のアルキル基(例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、t−ブチル、n−オクチル、エイコシル、2−クロロエチル、2−シアノエチル、2−エチルヘキシル)
好ましくは、炭素数3から30の置換又は無置換のシクロアルキル基(例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、4−n−ドデシルシクロヘキシル)
好ましくは、炭素数5から30の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基(例えば、ビシクロ[1,2,2]ヘプタン−2−イル、ビシクロ[2,2,2]オクタン−3−イル)
好ましくは、炭素数7から30の置換若しくは無置換のトリシクロアルキル基(例えば、1−アダマンチル)
なお、以下に説明する置換基の中のアルキル基(例えばアルキルチオ基のアルキル基)はこのような概念のアルキル基を表すが、更にアルケニル基、アルキニル基も含むこととする。
直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、(3−a)〜(3−c)を包含するものである。
好ましくは炭素数2から30の置換又は無置換のアルケニル基(例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル)
好ましくは、炭素数3から30の置換若しくは無置換のシクロアルケニル基(例えば、2−シクロペンテン−1−イル、2−シクロヘキセン−1−イル)
置換又は無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数5から30の置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基(例えば、ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン−1−イル、ビシクロ[2,2,2]オクト−2−エン−4−イル)
好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換のアルキニル基(例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基)
好ましくは、炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリール基(例えばフェニル、p−トリル、ナフチル、m−クロロフェニル、o−ヘキサデカノイルアミノフェニル、フェロセニル)
好ましくは、5又は6員の置換若しくは無置換の、芳香族若しくは非芳香族の複素環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数2から50の5若しくは6員の芳香族の複素環基である。(例えば、2−フリル、2−チエニル、2−ピリミジニル、2−ベンゾチアゾリル、2−カルバゾリル、3−カルバゾリル、9−カルバゾリル。なお、1−メチル−2−ピリジニオ、1−メチル−2−キノリニオのようなカチオン性の複素環基でも良い)
(7)シアノ基
(8)ヒドロキシ基
(9)ニトロ基
(10)カルボキシ基
好ましくは、炭素数1から30の置換若しくは無置換のアルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、t−ブトキシ、n−オクチルオキシ、2−メトキシエトキシ)
好ましくは、炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリールオキシ基(例えば、フェノキシ、2−メチルフェノキシ、4−t−ブチルフェノキシ、3−ニトロフェノキシ、2−テトラデカノイルアミノフェノキシ)
好ましくは、炭素数3から20のシリルオキシ基(例えば、トリメチルシリルオキシ、t−ブチルジメチルシリルオキシ)
好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基(例えば、1−フェニルテトラゾールー5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキシ)
好ましくはホルミルオキシ基、炭素数2から30の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基(例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、p−メトキシフェニルカルボニルオキシ)
好ましくは、炭素数1から30の置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基(例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ、N,N−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、N,N−ジ−n−オクチルアミノカルボニルオキシ、N−n−オクチルカルバモイルオキシ)
好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基(例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、t−ブトキシカルボニルオキシ、n−オクチルカルボニルオキシ)
好ましくは、炭素数7から30の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基(例えば、フェノキシカルボニルオキシ、p−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、p−n−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ)
好ましくは、アミノ基、炭素数1から30の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数6から30の置換若しくは無置換のアニリノ基(例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ)
好ましくは、アンモニオ基、炭素数1から30の置換若しくは無置換のアルキル、アリール、複素環が置換したアンモニオ基(例えば、トリメチルアンモニオ、トリエチルアンモニオ、ジフェニルメチルアンモニオ)
好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数1から30の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基(例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、3,4,5−トリ−n−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ)
好ましくは、炭素数1から30の置換若しくは無置換のアミノカルボニルアミノ(例えば、カルバモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ)
好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基(例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、N−メチルーメトキシカルボニルアミノ)
好ましくは、炭素数7から30の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基(例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p−クロロフェノキシカルボニルアミノ、m−n−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ)
好ましくは、炭素数0から30の置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基(例えば、スルファモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ、N−n−オクチルアミノスルホニルアミノ)
好ましくは、炭素数1から30の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ(例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、2,3,5−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、p−メチルフェニルスルホニルアミノ)
(27)メルカプト基
好ましくは、炭素数1から30の置換若しくは無置換のアルキルチオ基(例えばメチルチオ、エチルチオ、n−ヘキサデシルチオ)
好ましくは、炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリールチオ(例えば、フェニルチオ、p−クロロフェニルチオ、m−メトキシフェニルチオ)
好ましくは、炭素数2から30の置換又は無置換のヘテロ環チオ基(例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ、1−フェニルテトラゾール−5−イルチオ)
好ましくは、炭素数0から30の置換若しくは無置換のスルファモイル基(例えば、N−エチルスルファモイル、N−(3−ドデシルオキシプロピル)スルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N−アセチルスルファモイル、N−ベンゾイルスルファモイル、N−(N’−フェニルカルバモイル)スルファモイル)
(32)スルホ基
好ましくは、炭素数1から30の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、6から30の置換又は無置換のアリールスルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、p−メチルフェニルスルフィニル)
好ましくは、炭素数1から30の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、6から30の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、p−メチルフェニルスルホニル)
好ましくは、ホルミル基、炭素数2から30の置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基、炭素数7から30の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数4から30の置換若しくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基(例えば、アセチル、ピバロイル、2−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、p−n−オクチルオキシフェニルカルボニル、2―ピリジルカルボニル、2―フリルカルボニル)
好ましくは、炭素数7から30の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル、o−クロロフェノキシカルボニル、m−ニトロフェノキシカルボニル、p−t−ブチルフェノキシカルボニル)
好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、n−オクタデシルオキシカルボニル)
好ましくは、炭素数1から30の置換若しくは無置換のカルバモイル(例えば、カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジ−n−オクチルカルバモイル、N−(メチルスルホニル)カルバモイル)
好ましくは、炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリールアゾ基、炭素数3から30の置換若しくは無置換のヘテロ環アゾ基(例えば、フェニルアゾ、p−クロロフェニルアゾ、5−エチルチオ−1,3,4−チアジアゾール−2−イルアゾ)
好ましくは、N−スクシンイミド、N−フタルイミド
好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換のホスフィノ基(例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ)
好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換のホスフィニル基(例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル)
好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換のホスフィニルオキシ基(例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ)
好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換のホスフィニルアミノ基(例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ)
(45)ホスフォ基
好ましくは、炭素数3から30の置換若しくは無置換のシリル基(例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、t−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル)
好ましくは炭素数0から30の置換若しくは無置換のヒドラジノ基(例えば、トリメチルヒドラジノ)
好ましくは炭素数0から30の置換若しくは無置換のウレイド基(例えばN,N−ジメチルウレイド)
環Rとしては、芳香族、又は非芳香族の炭化水素環、又は複素環や、これらが更に組み合わされて形成された多環縮合環が挙げられる。例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環、トリフェニレン環、ナフタセン環、ビフェニル環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、イソベンゾフラン環、キノリジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キノキサゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、フェナントリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、チアントレン環、クロメン環、キサンテン環、フェノキサチイン環、フェノチアジン環、及びフェナジン環が挙げられる。環Rは更に上記置換基Wの置換基を有していてもよい。
次に、光電変換素子1を備えた撮像素子(光センサ)100の構成について、図3を参照して説明する。図3は、本発明の一実施形態を説明するための撮像素子の概略構成を示す断面模式図である。この撮像素子は、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ等の撮像装置、電子内視鏡、携帯電話機等の撮像モジュール等に搭載して用いられる。
上記では、撮像素子及び撮像素子として好適な光電変換素子において、本発明の成膜用有機材料を用いて成膜された有機層を備えた態様について説明したが、本発明の成膜用有機材料60は、有機電界発光素子及び有機電界発光素子として好適な光電変換素子における有機層の成膜にも好ましく用いることができる。以下に、図4を参照して有機電界発光素子について説明する。
・陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
・陽極/正孔輸送層/発光層/正孔ブロック層/電子輸送層/陰極
・陽極/正孔輸送層/発光層/正孔ブロック層/電子輸送層/電子注入層/陰極
・陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔ブロック層/電子輸送層/陰極
・陽極/正孔輸送層/電子ブロック層/発光層/電子輸送層/陰極
・陽極/正孔輸送層/電子ブロック層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
・陽極/正孔注入層/正孔輸送層/電子ブロック層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
・陽極/正孔注入層/正孔輸送層/電子ブロック層/発光層/正孔ブロック層/電子輸送層/電子注入層/陰極
・陽極/正孔注入層/正孔輸送層/電子ブロック層/発光層/正孔ブロック層/電子注入層/陰極
・陽極/正孔注入層/正孔輸送層/電子ブロック層/発光層/正孔ブロック層/電子輸送層/陰極
・陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/ブロック層/電子輸送層/電子注入層/陰極
・陽極/正孔注入層/正孔輸送層/電子ブロック層/発光層/正孔ブロック層/電子輸送層/電子注入層/陰極
・陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
基板210としては、有機層230から発せられる光を散乱又は減衰させない基板であることが好ましい。有機材料の場合には、耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気絶縁性、及び加工性に優れていることが好ましい。
陽極221は、通常、有機層230に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。前述のごとく、陽極は、通常透明陽極として設けられる。
陰極222は、通常、有機層230に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
有機層230は、上記したように、正孔注入層231,正孔輸送層232,電子ブロック層233,発光層(光電変換層)234,及び電子輸送層235を備えてなる。これらの有機層は、例えば物理蒸着法やスパッタ法、化学気相堆積法等の乾式製膜法で形成することができる。
蛍光発光材料の例としては、例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、縮合芳香族化合物、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサジン誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、ジケトピロロピロール誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、8−キノリノール誘導体の錯体やピロメテン誘導体の錯体に代表される各種錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン誘導体などの化合物等が挙げられる。
燐光発光材料としては、例えば、US6303238B1、US6097147、WO00/57676、WO00/70655、WO01/08230、WO01/39234A2、WO01/41512A1、WO02/02714A2、WO02/15645A1、WO02/44189A1、WO05/19373A2、特開2001−247859、特開2002−302671、特開2002−117978、特開2003−133074、特開2002−235076、特開2003−123982、特開2002−170684、EP1211257、特開2002−226495、特開2002−234894、特開2001−247859、特開2001−298470、特開2002−173674、特開2002−203678、特開2002−203679、特開2004−357791、特開2006−256999、特開2007−19462、特開2007−84635、特開2007−96259等の特許文献に記載の燐光発光化合物などが挙げられ、中でも、更に好ましい発光性ドーパントとしては、Ir錯体、Pt錯体、Cu錯体、Re錯体、W錯体、Rh錯体、Ru錯体、Pd錯体、Os錯体、Eu錯体、Tb錯体、Gd錯体、Dy錯体、及びCe錯体が挙げられる。特に好ましくは、Ir錯体、Pt錯体、又はRe錯体であり、中でも金属−炭素結合、金属−窒素結合、金属−酸素結合、金属−硫黄結合の少なくとも一つの配位様式を含むIr錯体、Pt錯体、又はRe錯体が好ましい。更に、発光効率、駆動耐久性、色度等の観点で、3座以上の多座配位子を含むIr錯体、Pt錯体、又はRe錯体が特に好ましい。
ホスト材料とは、発光層において主に電荷の注入、輸送を担う化合物であり、また、それ自体は実質的に発光しない化合物のことである。本明細書において「実質的に発光しない」とは、該実質的に発光しない化合物からの発光量が好ましくは素子全体での全発光量の5%以下であり、より好ましくは3%以下であり、さらに好ましくは1%以下であることをいう。
正孔注入層231、正孔輸送層232は、陽極221と発光層234との間に設けられ、陽極221又は陽極221側から正孔を受け取り陰極222側に輸送する機能を有する層である。正孔注入層231、正孔輸送層232は、具体的には、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、ポルフィリン系化合物、有機シラン誘導体、カーボン等を含有する層であることが好ましい。
電子注入層(不図示)、電子輸送層235は、陰極222と発光層234の間に設けられ、陰極222又は陰極222側から電子を受け取り陽極221側に輸送する機能を有する層である。電子注入層、電子輸送層235は、具体的には、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、フェナントレン誘導体、フェナントロリン誘導体、8−キノリノール誘導体の錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする錯体に代表される各種錯体、有機シラン誘導体、等を含有する層であることが好ましい。
正孔ブロック層(不図示)は、陰極222と発光層234の間に設けられ、陽極221側から発光層234に輸送された正孔が、陰極222側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。図4では設けてはいないが、発光層234と陰極222側で隣接する有機層として、正孔ブロック層を設けることができる。
電子ブロック層233は、陽極221と発光層234との間に設けられ、陰極222側から発光層234に輸送された電子が、陽極221側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。電子ブロック層233を構成する有機化合物の例としては、例えば前述の正孔輸送材料として挙げたものが適用できる。
有機電界発光素子200全体は、保護層によって保護されていてもよい。保護層については、特開2008−270736号公報の段落番号[0169]〜[0170]に記載の事項を本発明に適用することができる。
有機電界発光素子200は、封止容器を用いて素子全体を封止されていてもよい。封止容器については、特開2008−270736号公報の段落番号[0171]に記載の事項を本発明に適用することができる。
有機電界発光素子200は、陽極221と陰極222との間に直流(必要に応じて交流成分を含んでもよい)電圧(通常2ボルト〜15ボルト)、又は直流電流を印加することにより、発光を得ることができる。
有機電界発光素子200は、表示素子、ディスプレイ、バックライト、電子写真、照明光源、記録光源、露光光源、読み取り光源、標識、看板、インテリア、又は光通信等に好適に利用できる。特に、照明装置、表示装置等の発光輝度が高い領域で駆動されるデバイスに好ましく用いられる。
まず、上記例示化合物1の成膜用有機材料を合成した。例示化合物1の合成は、下記反応式に示される工程に準じて実施した。
次に、各例の成膜用化合物1を用いて、ガラス基板上に成膜用化合物1を蒸着成膜速度が2Å/s程度にて安定したときを0分とし、真空抵抗加熱蒸着により膜厚100nmの蒸着膜を成膜した。その後レートを維持したまま、60分おきに新たなガラス基板上に、膜厚100nmの蒸着膜を成膜した。各例、0分、60分、120分時における蒸着膜を成膜した。120分時後の蒸着膜の成膜時点で連続加熱での合計蒸着膜厚は昇温過程も含めておよそ16000Åであった。
各例において、蒸着膜の膜純度をHPLCで測定した。HPLCのピーク面積比によって算出した(検出波長:254nm)。
次に、上記各例の成膜用化合物1を用いて光電変換素子を作製し、その特性の評価を行った。
得られた各例の光電変換素子に対して、2×105V/cmの電場で印加したときの相対応答速度(0から99%信号強度への立ち上がり時間)および相対感度(波長500-750m)を測定した。結果を表2に示す。なお、各素子の光電変換性能の測定の際には、上部電極(透明導電性膜)側から光を入射した。
上記例示化合物2は、以下の反応式により製造することができる。
実施例2における1,2’−ジナフチルアミンをN−フェニル−2−ナフチルアミン(東京化成工業社製)に変更すること以外は同様にして例示化合物3を合成した。
例示化合物4は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物5は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物6は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物7は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物8は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物9は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物10は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物11は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物15は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物20は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物21は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物22は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物23は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物25は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物26は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物27は、以下の反応式により製造することができる。
例示化合物28は、以下の反応式により製造することができる。
次に、上記各例の成膜用化合物7を用いて、実施例1と同様にして光電変換素子を作製し、その特性の評価を行った。
得られた各例の光電変換素子に対して、2×105V/cmの電場で印加したときの相対応答速度(0から99%信号強度への立ち上がり時間)および相対感度(波長500-750m)を測定した。結果を表5に示す。なお、各素子の光電変換性能の測定の際には、上部電極(透明導電性膜)側から光を入射した。
10,101,210 基板
20 下部電極
30 受光層
31 電子ブロッキング層
32 光電変換層
40 上部電極
50 封止層
60 蒸着材料(成膜用有機材料)
71 蒸着セル
100 撮像素子,光センサ
106 信号読み出し回路
200 有機電界発光素子
221 陽極
222 陰極
234 発光層
Claims (31)
- 有機光電変換素子を構成する有機層の乾式成膜に用いられる成膜用有機材料であって、
前記有機層の構成有機物を主成分とし
前記成膜用有機材料中の残留溶媒量が3mol%以下であることを特徴とする成膜用有機材料。 - 真空度1×10-3Pa以下における前記残留溶媒の蒸気圧が、前記構成有機物の昇華圧よりも高いことを特徴とする成膜用有機材料。
- 前記有機層の成膜初期の膜純度に対する、前記乾式成膜を連続で2時間実施後の前記有機層の膜純度の比が0.9以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載の成膜用有機材料。
- 前記乾式成膜を連続で実施して前記有機層の総膜厚が16000Åに達した時の該有機層の膜純度の、成膜初期の前記有機層の膜純度に対する比が0.9以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載の成膜用有機材料。
- 前記乾式成膜を連続で実施して前記有機層の総膜厚が16000Åに達した時の該有機層の膜純度の、前記成膜用有機材料の純度に対する比が0.9以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の成膜用有機材料。
- 前記乾式成膜法が真空抵抗加熱蒸着法であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の成膜方法。
- 前記有機層が光電変換層又は電子ブロッキング層であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の成膜用有機材料。
- 前記構成有機物が、下記一般式(D−I)であらわされる有機化合物であることを特徴とする請求項7に記載の成膜用有機材料。
- 前記D1が下記一般式(D−II)で表されることを特徴とする請求項8に記載の成膜用有機材料。
- 前記一般式(D−I)で表される化合物が下記一般式(D−III)で表されることを特徴とする請求項8に記載の成膜用有機材料。
- 前記一般式(D−I)で表される化合物が下記一般式(D−IV)で表されることを特徴とする請求項8に記載の成膜用有機材料。
- 前記Z1と酸素原子により形成される構造が下記一般式(D−V)で表される、請求項8〜11ずれかに記載の成膜用有機材料。
- 前記有機層に使用される構成有機物が、下記一般式(EB−1)で表される有機化合物であることを特徴とする請求項7に記載の成膜用有機材料。
- 前記一般式(EB−1)で表される化合物が、下記一般式(EB−3)で表される化合物である、請求項13に記載の成膜用有機材料。
- 前記一般式(EB−3)で表される化合物が、下記一般式(EB−4)で表される化合物である、請求項14に記載の成膜用有機材料。
- 前記一般式(EB−3)及び前記一般式(EB−4)において、前記一般式(A−1)で表される置換基がR12及びR’12にそれぞれ独立に置換されてなることを特徴とする、請求項13又は14に記載の成膜用有機材料。
- 前記一般式(A−1)におけるnが1又は2を表す、請求項14〜16のいずれか1項に記載の成膜用有機材料。
- 前記一般式(A−1)におけるRa3及びRa6の少なくとも1つがそれぞれ独立に、前記置換基(S11)により置換されてなることを特徴とする、請求項13〜16のいずれか1項に記載の成膜用有機材料。
- 前記一般式(EB−3)及び前記一般式(EB−4)におけるYが−N(R20)−を表し、該R20はアルキル基、アリール基、又は複素環基を表す、請求項14〜18のいずれかに記載の成膜用有機材料。
- 前記一般式(EB−3)及び前記一般式(EB−4)におけるYが−C(R21)(R22)−を表し、該R21及びR22はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、又は複素環基を表す、請求項14〜18のいずれか1項に記載の成膜用有機材料。
- 前記成膜用有機材料が、下記一般式(EB−2)で表される材料である、請求項7に記載の成膜用有機材料。
- 前記一般式(EB−2)において、置換基を有してもよいR1がアリール基である、請求項21に記載の成膜用有機材料。
- 有機光電変換素子を構成する有機層を乾式成膜法により形成する方法であって、
前記有機層の構成有機物を主成分とする成膜用有機材料を用意し、
該成膜用有機材料に含まれる溶媒を、含量3mol%以下となるように除去する溶媒除去工程と、
該溶媒除去工程により残留溶媒量が3mol%以下となった前記成膜用有機材料を用いて前記有機層を前記乾式成膜法により形成する成膜工程とを有することを特徴とする有機層形成方法。 - 前記乾式成膜法が真空抵抗加熱蒸着法であることを特徴とする請求項23に記載の有機層形成方法。
- 前記有機層が光電変換層又は電子ブロッキング層であることを特徴とする請求項23又は24に記載の有機層形成方法。
- 前記有機層が光電変換層又は電子ブロッキング層であり、前記構成有機物が、下記一般式(D−I)又は(EB−1)であらわされる有機化合物であることを特徴とする請求項25に記載の有機層形成方法。
- 一対の電極と、前記一対の電極に挟持された少なくとも光電変換層を含む受光層又は発光層を有する有機光電変換素子の製造方法であって、
前記受光層を請求項23〜26のいずれかに記載の成膜方法により成膜することを特徴とする有機光電変換素子の製造方法。 - 一対の電極と、前記一対の電極に挟持された少なくとも光電変換層を含む受光層又は発光層を有する有機光電変換素子であって、
前記一対の電極のうち少なくとも一方が透明電極であり、
前記受光層又は発光層が、請求項7〜22のいずれかに記載の成膜用有機材料を用いて乾式成膜されたものを含むことを特徴とする有機光電変換素子。 - 複数の、請求項28に記載の光電変換素子と、
該光電変換素子の前記光電変換層で発生した電荷に応じた信号を読み出す信号読出し回路が形成された回路基板とを備えることを特徴とする光センサ。 - 複数の、請求項28に記載の光電変換素子と、
前記光電変換素子の前記光電変換層で発生した電荷に応じた信号を読み出す信号読出し回路が形成された回路基板とを備えることを特徴とする撮像素子。 - 複数の、請求項28に記載の光電変換素子を備えた発光素子であって、前記一対の電極間に電圧を印加することにより前記発光層から光を発光せしめ、前記透明電極側の端面からで前記光を取り出すことを特徴とする発光素子。
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