JP2014020811A - Substrate inspection device and substrate inspection method - Google Patents

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Tadashi Tomoi
忠司 友井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten a time required for re-inspection.SOLUTION: In the re-inspection of Ka pieces of substrates P among 4×4=16 pieces of substrates P partitioned on one face of a substrate 20, such conditions that the probing of each of all probes in 2×2=4 pieces of probe arrangement regions in a fixture 4 for inspection is performed to any inspection point are satisfied, and first processing of performing the probing of each probe to each inspection point in order to perform the probing of each probe in a probe arrangement region positioned at the edge of a preliminarily specified side (for example, left lower side) among four probe arrangement regions to each inspection point in the substrate P positioned at the edge of the same side (left lower side) as the preliminarily specified side among the Ka pieces of substrates P, second processing of inspecting inspection points in Kb pieces of substrates P as the object of re-inspection in which the probing of each probe is performed to each inspection point; and third processing of obtaining Kc pieces of substrates P excluding the Kb pieces of substrates whose re-inspection is completed as new Ka pieces of substrates P are repeatedly executed in this order until Ka=0.

Description

本発明は、同一の配置で検査ポイントが規定された複数の検査対象領域が区画されている検査対象基板を検査する基板検査装置および基板検査方法に関するものである。   The present invention relates to a substrate inspection apparatus and a substrate inspection method for inspecting an inspection target substrate in which a plurality of inspection target regions in which inspection points are defined with the same arrangement are defined.

この種の基板検査装置(基板検査方法)として、出願人は、特開2009−80061号公報に回路基板検査装置(回路基板検査方法)を開示している。この回路基板検査装置(以下、単に「検査装置」ともいう)は、一例として、1枚のワークに多面付けされた(ワークの一面に区画された)5×6(5行6列)=30個の同種の回路基板を検査可能に、隣接する3×2(3行2列)=6個の回路基板(または、隣接する2×3(2行3列)=6個の回路基板)に対して同時にプロービング可能に6つのグループに区分けされて配設された複数のプローブを有する検査ヘッドを使用する構成が採用されている。また、この検査装置では、上記の5×6=30個の回路基板を、3×2=6個(または、2×3=6個)の回路基板からなる5つのブロック(基板群)にブロック化して、各ブロック毎に検査ヘッドの各プローブをプロービングさせて、回路基板上の検査ポイントを順に検査する構成が採用されている。   As this type of board inspection apparatus (board inspection method), the applicant has disclosed a circuit board inspection apparatus (circuit board inspection method) in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-80061. As an example, this circuit board inspection apparatus (hereinafter also simply referred to as “inspection apparatus”) is multifaceted to one workpiece (partitioned on one surface of the workpiece) 5 × 6 (5 rows and 6 columns) = 30 In order to be able to inspect the same kind of circuit boards, adjacent 3 × 2 (3 rows and 2 columns) = 6 circuit boards (or adjacent 2 × 3 (2 rows and 3 columns) = 6 circuit boards) On the other hand, a configuration is employed in which an inspection head having a plurality of probes arranged in six groups so as to be probable simultaneously is used. Further, in this inspection apparatus, the above-mentioned 5 × 6 = 30 circuit boards are blocked into five blocks (board groups) composed of 3 × 2 = 6 (or 2 × 3 = 6) circuit boards. In other words, a configuration is adopted in which each probe of the inspection head is probed for each block, and inspection points on the circuit board are sequentially inspected.

具体的には、この検査装置では、検査開始に先立ち、一例として、ワークの左下隅部を起点として上記の5×6=30個の回路基板を順次ブロック化する。より具体的には、1行目から3行目までの1列目および2列目に属する3×2=6個の回路基板をブロックAとし、1行目から3行目までの3列目および4列目に属する3×2=6個の回路基板をブロックBとし、1行目から3行目までの5列目および6列目に属する3×2=6個の回路基板をブロックCとし、4行目および5行目の1列目から3列目に属する2×3=6個の回路基板をブロックDとし、4行目および5行目の4列目から6列目に属する2×3=6個の回路基板をブロックEとする。   Specifically, in this inspection apparatus, prior to the start of inspection, as an example, the above-mentioned 5 × 6 = 30 circuit boards are sequentially blocked from the lower left corner of the workpiece. More specifically, 3 × 2 = 6 circuit boards belonging to the first column and the second column from the first row to the third row are defined as a block A, and the third column from the first row to the third row. And 3 × 2 = 6 circuit boards belonging to the fourth column are block B, and 3 × 2 = 6 circuit boards belonging to the fifth and sixth columns from the first row to the third row are block C. 2 × 3 = 6 circuit boards belonging to the 4th and 5th rows from the 1st column to the 3rd column are referred to as a block D, and the 4th and 5th rows belong to the 4th to 6th columns. Let 2 × 3 = 6 circuit boards be block E.

次いで、保持機構によって保持されたワークに向けて移動機構によって検査ヘッドを移動させることにより、まず、ブロックAに属する6個の回路基板に上記の6つのグループに属する各プローブをプロービングさせる。続いて、測定部が予め規定された手順に従って上記の各プローブのうちの一対のプローブの間を流れる電流の電流値を測定し、処理部が、測定部の測定結果に基づいて、上記の一対のプローブがプロービングされている検査ポイントの良否(絶縁状態)を検査する。このような測定部による電流値の測定および処理部による良品の検査をブロックAに属する6個の回路基板上に規定されたすべての検査ポイントについて順次実行することにより、ブロックAに属する回路基板の良否が検査される。この後、ブロックB〜Eに属する各回路基板についても、上記のブロックAに属する各回路基板と同様にして検査する。これにより、5×6=30個の回路基板の検査が完了する。   Next, by moving the inspection head toward the work held by the holding mechanism, the probes belonging to the six groups are first probed on the six circuit boards belonging to the block A. Subsequently, the measurement unit measures the current value of the current flowing between the pair of probes according to the procedure defined in advance, and the processing unit determines the pair of the above based on the measurement result of the measurement unit. The inspection point where the probe is probed is inspected for quality (insulation state). The current value measurement by the measurement unit and the non-defective product inspection by the processing unit are sequentially executed for all the inspection points defined on the six circuit boards belonging to the block A, so that the circuit boards belonging to the block A can be detected. The quality is inspected. Thereafter, the circuit boards belonging to the blocks B to E are inspected in the same manner as the circuit boards belonging to the block A. Thereby, the inspection of 5 × 6 = 30 circuit boards is completed.

特開2009−80061号公報(第4−8頁、第1−11図)Japanese Patent Laying-Open No. 2009-80061 (page 4-8, FIG. 1-11)

ところが、出願人が開示している検査装置(検査方法)には、以下の改善すべき課題が存在する。すなわち、出願人が開示している検査装置(検査方法)では、ワークの左下隅部を起点として各回路基板を順次ブロック化することで、検査ヘッドの各プローブをプロービングさせるブロックの位置およびプロービングの順序を規定する構成(方法)が採用されている。この場合、この種のワーク(検査対象基板)の検査時には、各回路基板(検査対象領域)のうちの幾つかが不良と検査されて、その回路基板を再検査する必要が生じることがある。具体的には、上記の検査の結果、一例として、3行2列目の回路基板、2行4列目の回路基板、3行5列目の回路基板、4行3列目の回路基板、および4行4列目の回路基板が不良と検査されたときには(各ブロック毎に1つ以上の不良箇所が存在すると検査された例)、これら5個の回路基板を対象とする再検査処理を実行する。   However, the inspection apparatus (inspection method) disclosed by the applicant has the following problems to be improved. In other words, in the inspection apparatus (inspection method) disclosed by the applicant, each circuit board is sequentially blocked starting from the lower left corner of the workpiece, so that the position of the block for probing each probe of the inspection head and the probing A configuration (method) that defines the order is employed. In this case, when inspecting this type of workpiece (inspection target board), some of the circuit boards (inspection target areas) may be inspected as defective, and the circuit board may need to be reinspected. Specifically, as a result of the above inspection, as an example, the circuit board in the third row and the second column, the circuit board in the second row and the fourth column, the circuit board in the third row and the fifth column, the circuit board in the fourth row and the third column, When the circuit board in the 4th row and the 4th column is inspected as defective (an example in which one or more defective portions exist in each block), a re-inspection process for these five circuit boards is performed. Run.

この際に、出願人が開示している検査装置では、ブロックAに属する6個の回路基板に検査ヘッド(プローブ)をプロービングさせた状態において3行2列目の回路基板を再検査し、ブロックBに属する6個の回路基板に検査ヘッドをプロービングさせた状態において2行4列目の回路基板を再検査し、ブロックCに属する6個の回路基板に検査ヘッドをプロービングさせた状態において3行5列目の回路基板を再検査し、ブロックDに属する6個の回路基板に検査ヘッドをプロービングさせた状態において4行3列目の回路基板を再検査し、ブロックBに属する6個の回路基板に検査ヘッドをプロービングさせた状態において4行4列目の回路基板を再検査することとなる。これにより、例えば検査ポイントとプローブとの間に異物が挟まっていたことで誤って不良と検査された回路基板が存在するときには、その回路基板が良品と検査される。   At this time, in the inspection apparatus disclosed by the applicant, the circuit board in the third row and the second column is re-inspected with the inspection head (probe) probed on the six circuit boards belonging to the block A, and the block The circuit board in the second row and the fourth column is re-inspected in the state where the inspection heads are probed on the six circuit boards belonging to B, and the third row in the state where the inspection heads are probed on the six circuit boards belonging to the block C. The circuit board in the fifth column is re-inspected, and the circuit board in the fourth row and the third column is re-inspected in a state where the inspection head is probed to the six circuit boards belonging to the block D, and the six circuits belonging to the block B The circuit board in the fourth row and the fourth column is re-inspected in a state where the inspection head is probed on the substrate. As a result, for example, when there is a circuit board that is erroneously inspected as a defect because a foreign object is sandwiched between the inspection point and the probe, the circuit board is inspected as a non-defective product.

しかしながら、出願人が開示している検査装置(検査方法)では、上記の例のように、不良と検査した回路基板が複数のブロックに存在するときに、不良と検査した回路基板が存在するブロックの数だけ検査ヘッドを移動させる処理を実行して各プローブをプロービングさせる必要が生じている。このため、出願人が開示している検査装置(検査方法)では、回路基板の再検査に要する時間を短縮するのが困難となっており、この点を改善するのが好ましい。   However, in the inspection apparatus (inspection method) disclosed by the applicant, when the circuit board inspected as defective exists in a plurality of blocks as in the above example, the block in which the circuit board inspected as defective exists. Therefore, it is necessary to perform the process of moving the inspection heads by the number of probes to probe each probe. For this reason, in the inspection apparatus (inspection method) disclosed by the applicant, it is difficult to shorten the time required for reinspecting the circuit board, and it is preferable to improve this point.

本発明は、かかる改善すべき課題に鑑みてなされたものであり、再検査に要する時間を充分に短縮し得る基板検査装置および基板検査方法を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the problems to be improved, and a main object of the present invention is to provide a substrate inspection apparatus and a substrate inspection method capable of sufficiently shortening the time required for re-inspection.

上記目的を達成すべく請求項1記載の基板検査装置は、検査対象基板の一面に区画された複数の検査対象領域内にそれぞれ規定された複数の検査ポイントの当該各検査対象領域内における配置に応じて複数の検査用プローブが配設された検査用治具と、当該検査用治具および前記検査対象基板の少なくとも一方を他方に対して移動させて前記各検査用プローブを前記各検査ポイントにプロービングさせる移動機構と、前記各検査用プローブを介して前記検査対象領域内の前記各検査ポイントに対して入出力させた電気電号に基づいて当該各検査ポイントを検査する検査部と、前記移動機構による前記少なくとも一方の移動および前記検査部による前記各検査ポイントの検査を制御する制御部とを備え、前記検査用治具が、第1の方向に沿った区画数がNaで当該第1の方向と交差する第2の方向に沿った区画数がNbとなるように区画されると共に同一の配置となるように前記各検査ポイントがそれぞれ規定された(Na×Nb)個(NaおよびNbは、いずれも自然数であり、かつ、少なくとも一方が4以上との条件を満たす数)の前記検査対象領域のうちの(Ma×Mb)個(Maは、Na以下の自然数であって当該第1の方向に沿った個数であり、Mbは、Nb以下の自然数であって当該第2の方向に沿った個数であり、かつ、MaおよびMbの少なくとも一方は2以上との条件を満たす数)の当該検査対象領域内の当該各検査ポイントに前記各検査用プローブをプロービング可能に、(La×Lb)個(Laは、第1の方向に対応する第3の方向に沿った区画数であってMaと同一の数であり、Lbは、第2の方向に対応する第4の方向に沿った区画数であってMbと同一の数)のプローブ配設領域毎に同一の配置で当該各検査用プローブが配設されて構成され、前記制御部が、前記移動機構を制御して前記(Na×Nb)個の検査対象領域内の前記各検査ポイントに前記検査用治具の前記各検査用プローブを順次プロービングさせつつ、前記検査部を制御して当該各検査ポイントを検査させる基板検査装置であって、前記制御部は、Ka個(Kaは、Na×Nb以下の自然数)の前記検査対象領域の再検査時に、前記(La×Lb)個のプローブ配設領域内のすべての前記各検査用プローブが前記(Na×Nb)個の検査対象領域のうちのいずれかの当該検査対象領域内の前記各検査ポイントにプロービングされるとの条件が満たされ、かつ、前記Ka個の検査対象領域のうちの予め規定された側の端に位置する当該検査対象領域内の前記各検査ポイントに前記(La×Lb)個のプローブ配設領域のうちの当該予め規定された側と同じ側の端に位置する当該プローブ配設領域内の前記各検査用プローブがプロービングされるように前記移動機構を制御して前記少なくとも一方を前記他方に対して移動させて当該各検査用プローブを当該各検査ポイントにプロービングさせる第1の処理、前記検査部を制御して前記検査用プローブが前記検査ポイントにプロービングされている再検査対象のKb個(Kbは、Ka以下の自然数)の前記検査対象領域内の当該検査ポイントを検査させる第2の処理、および前記Ka個の検査対象領域のうちの再検査を完了した前記Kb個を除くKc個の前記検査対象領域を新たな前記Ka個の検査対象領域とする第3の処理を、Ka=0となるまでこの順で繰り返して実行する。   In order to achieve the above object, the substrate inspection apparatus according to claim 1 is configured to arrange a plurality of inspection points respectively defined in a plurality of inspection target areas partitioned on one surface of the inspection target substrate in each inspection target area. Accordingly, an inspection jig in which a plurality of inspection probes are arranged, and at least one of the inspection jig and the inspection target substrate is moved with respect to the other, and the inspection probes are used as the inspection points. A moving mechanism for probing, an inspection unit for inspecting each inspection point based on an electric signal inputted / outputted to / from each of the inspection points in the inspection target region via the inspection probes, and the movement A control unit that controls the at least one movement by a mechanism and the inspection of each inspection point by the inspection unit, and the inspection jig is in a first direction Each inspection point is defined such that the number of strokes is Na and the number of sections along the second direction intersecting with the first direction is Nb and the arrangement is the same (Na × Nb) (Na and Nb are both natural numbers and at least one satisfies the condition of 4 or more) (Ma × Mb) (Ma is Na or less) It is a natural number and is a number along the first direction, Mb is a natural number equal to or less than Nb and is a number along the second direction, and at least one of Ma and Mb is 2 or more. (La × Lb) pieces (La is in a third direction corresponding to the first direction) so that the inspection probes can be probed at the inspection points in the inspection target region. The number of sections along the line, Ma The same number, and Lb is the number of sections along the fourth direction corresponding to the second direction and the same number as Mb), and the probe for each inspection in the same arrangement Is arranged, and the control unit controls the moving mechanism to place the inspection probes of the inspection jig at the inspection points in the (Na × Nb) inspection target regions. A substrate inspection apparatus that controls each inspection point by sequentially inspecting each inspection point while probing sequentially, wherein the control unit includes Ka (Ka is a natural number of Na × Nb or less) of the inspection target regions. At the time of re-inspection, all the inspection probes in the (La × Lb) probe placement regions are in the inspection target region in any of the (Na × Nb) inspection target regions. When probed to each inspection point The (La × Lb) probe placement areas are satisfied at the respective inspection points in the inspection target area located at a predetermined end of the Ka inspection target areas. And controlling the moving mechanism so that each of the inspection probes in the probe disposition region located at the end on the same side as the predetermined side is probed with respect to the at least one side with respect to the other side. A first process of probing each inspection probe to each inspection point, and controlling the inspection unit to re-examine the Kb pieces (Kb) to be re-inspected. Is a natural number less than or equal to Ka) before the second process for inspecting the inspection point in the inspection target area and re-inspection of the Ka inspection target areas is completed. The third process of setting the Kc inspection target areas excluding Kb to the new Ka inspection target areas is repeated in this order until Ka = 0.

また、請求項2記載の基板検査方法は、検査対象基板の一面に区画された複数の検査対象領域内にそれぞれ規定された複数の検査ポイントの当該各検査対象領域内における配置に応じて複数の検査用プローブが配設された検査用治具と当該検査対象基板との少なくとも一方を他方に対して移動させて当該各検査用プローブを当該各検査ポイントにプロービングさせた状態において当該各検査用プローブを介して前記検査対象領域内の前記各検査ポイントに対して入出力させた電気電号に基づいて当該各検査ポイントを検査する際に、第1の方向に沿った区画数がNaで当該第1の方向と交差する第2の方向に沿った区画数がNbとなるように区画されると共に同一の配置となるように前記各検査ポイントがそれぞれ規定された(Na×Nb)個(NaおよびNbは、いずれも自然数であり、かつ、少なくとも一方が4以上との条件を満たす数)の前記検査対象領域のうちの(Ma×Mb)個(Maは、Na以下の自然数であって当該第1の方向に沿った個数であり、Mbは、Nb以下の自然数であって当該第2の方向に沿った個数であり、かつ、MaおよびMbの少なくとも一方は2以上との条件を満たす数)の当該検査対象領域内の当該各検査ポイントに前記各検査用プローブをプロービング可能に、(La×Lb)個(Laは、第1の方向に対応する第3の方向に沿った区画数であってMaと同一の数であり、Lbは、第2の方向に対応する第4の方向に沿った区画数であってMbと同一の数)のプローブ配設領域毎に同一の配置で当該各検査用プローブが配設されて構成された前記検査用治具を使用して、前記(Na×Nb)個の検査対象領域内の前記各検査ポイントに当該検査用治具の前記各検査用プローブを順次プロービングさせつつ当該各検査ポイントを検査する基板検査方法であって、Ka個(Kaは、Na×Nb以下の自然数)の前記検査対象領域の再検査時に、前記(La×Lb)個のプローブ配設領域内のすべての前記各検査用プローブが前記(Na×Nb)個の検査対象領域のうちのいずれかの当該検査対象領域内の前記各検査ポイントにプロービングされるとの条件が満たされ、かつ、前記Ka個の検査対象領域のうちの予め規定された側の端に位置する当該検査対象領域内の前記各検査ポイントに前記(La×Lb)個のプローブ配設領域のうちの当該予め規定された側と同じ側の端に位置する当該プローブ配設領域内の前記各検査用プローブがプロービングされるように前記少なくとも一方を前記他方に対して移動させて当該各検査用プローブを当該各検査ポイントにプロービングさせる第1の処理、前記検査用プローブが前記検査ポイントにプロービングされている再検査対象のKb個(Kbは、Ka以下の自然数)の前記検査対象領域内の当該検査ポイントを検査させる第2の処理、および前記Ka個の検査対象領域のうちの再検査を完了した前記Kb個を除くKc個の前記検査対象領域を新たな前記Ka個の検査対象領域とする第3の処理を、Ka=0となるまでこの順で繰り返して実行する。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate inspection method comprising: a plurality of inspection points each defined in a plurality of inspection target regions partitioned on one surface of the inspection target substrate, in accordance with an arrangement in each inspection target region; Each inspection probe in a state where at least one of the inspection jig on which the inspection probe is disposed and the inspection target substrate is moved with respect to the other and the inspection probe is probed to the inspection point When the inspection points are inspected based on the electric signal inputted / outputted to / from each inspection point in the inspection object area via Na, the number of sections along the first direction is Na. The inspection points are defined so that the number of sections along the second direction intersecting the direction of 1 is Nb and the same arrangement is obtained (Na × Nb). (Na and Nb are both natural numbers and at least one satisfies the condition of 4 or more) (Ma × Mb) (Ma is a natural number of Na or less) out of the inspection target regions. The number along the first direction, Mb is a natural number equal to or less than Nb and the number along the second direction, and at least one of Ma and Mb is 2 or more. (La × Lb) pieces (La is a section along the third direction corresponding to the first direction) so that the inspection probes can be probed at the inspection points in the inspection target area of the number to be satisfied. The same number as Ma, and Lb is the same number for each of the probe placement regions of the fourth direction corresponding to the second direction and the same number as Mb) Each of the inspection probes is arranged in Using the inspection jig, inspecting each inspection point while sequentially probing the inspection probes of the inspection jig to the inspection points in the (Na × Nb) inspection object regions A method of inspecting a substrate, wherein, when re-inspecting Ka areas (Ka is a natural number equal to or less than Na × Nb), all the inspections in the (La × Lb) probe placement areas are performed. The condition that the probe is probed to each inspection point in any one of the (Na × Nb) inspection target areas and the Ka inspection target areas are satisfied End of the (La × Lb) number of probe placement areas on the same side as the predetermined side at each inspection point in the inspection target area located at the end of the predetermined side Located in A first process for probing each inspection probe to each inspection point by moving at least one of the inspection probes in the lobe arrangement region with respect to the other so that the inspection probes are probed; A second process for inspecting the inspection points in the inspection target area of Kb pieces (Kb is a natural number equal to or less than Ka) whose re-inspection targets are probed to the inspection points, and the Ka inspection targets. The third process of setting the Kc inspection target areas excluding the Kb pieces of the reexamination among the areas to be the new Ka inspection target areas is repeated in this order until Ka = 0. Run.

請求項1記載の基板検査装置、および請求項2記載の基板検査方法では、検査対象基板の一面に区画された(Na×Nb)個の検査対象領域のうちのKa個の再検査時に、検査用治具における(La×Lb)個のプローブ配設領域内のすべての各検査用プローブがいずれかの検査対象領域内の各検査ポイントにプロービングされるとの条件が満たされ、かつKa個の検査対象領域のうちの予め規定された側の端に位置する検査対象領域内の各検査ポイントに(La×Lb)個のプローブ配設領域のうちの予め規定された側と同じ側の端に位置するプローブ配設領域内の各検査用プローブがプロービングされるように検査用治具および検査対象基板の少なくとも一方を他方に対して移動させて各検査用プローブを各検査ポイントにプロービングさせる第1の処理、検査用プローブを検査ポイントにプロービングさせた再検査対象のKb個の検査対象領域内の検査ポイントを検査する第2の処理、およびKa個の検査対象領域のうちの再検査を完了したKb個を除くKc個の検査対象領域を新たなKa個の検査対象領域とする第3の処理を、Ka=0となるまでこの順で繰り返して実行する。   In the substrate inspection apparatus according to claim 1 and the substrate inspection method according to claim 2, an inspection is performed at the time of re-inspecting Ka of (Na × Nb) inspection target areas partitioned on one surface of the inspection target substrate. The condition that all the inspection probes in the (La × Lb) probe placement areas in the jig for the probe are probed to each inspection point in any of the inspection target areas is satisfied, and Ka pieces At each inspection point in the inspection target region located at the end on the predetermined side of the inspection target region, at the end on the same side as the predetermined side of the (La × Lb) probe arrangement regions Each inspection probe is probed to each inspection point by moving at least one of the inspection jig and the substrate to be inspected relative to the other so that each inspection probe in the located probe placement region is probed. First processing, second processing for inspecting inspection points in Kb inspection target areas to be inspected by probing the inspection probe to inspection points, and re-inspection of Ka inspection target areas The third process of setting the Kc inspection target areas excluding Kb having completed the above to new Ka inspection target areas is repeated in this order until Ka = 0.

したがって、請求項1記載の基板検査装置、および請求項2記載の基板検査方法によれば、検査対象基板上の再検査対象の検査対象領域の位置によっては、Ka個の検査対象領域の再検査時のプロービング回数を少数回とすることができ、プロービング回数が最も多数回となる場合においても、出願人が開示している検査装置と同数回を超えるプロービングを必要としないため、検査対象基板の再検査に要する時間を充分に短縮することができる。また、再検査処理時のプロービング回数を少数回とすることができる分だけ、検査用プローブの耐用寿命を充分に延ばして、より多数の検査対象基板を低コストで検査することができる。   Therefore, according to the substrate inspection apparatus according to claim 1 and the substrate inspection method according to claim 2, depending on the position of the inspection target region to be reinspected on the inspection target substrate, reinspection of Ka inspection target regions is performed. The number of probing times can be set to a small number of times, and even when the number of probing times is the largest number of times, probing exceeding the same number of times as the inspection apparatus disclosed by the applicant is not required. The time required for re-inspection can be sufficiently shortened. In addition, since the number of probing times during the re-inspection process can be reduced to a small number, the service life of the inspection probe can be extended sufficiently, and a larger number of inspection target substrates can be inspected at a lower cost.

基板検査装置1の構成を示すブロック図である。1 is a block diagram showing a configuration of a substrate inspection apparatus 1. FIG. 検査用治具4における各プローブ配設領域A−A1,A−A2,A−B1,A−B2の位置について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the position of each probe arrangement | positioning area | region A-A1, A-A2, A-B1, and A-B2 in the jig | tool 4 for inspection. 検査対象基板20における各基板P−A1〜P−A4,P−B1〜P−B4,P−C1〜P−C4,P−D1〜P−D4の位置と、検査用治具4の位置との関係について説明するための説明図である。The position of each substrate P-A1 to P-A4, P-B1 to P-B4, P-C1 to P-C4, P-D1 to P-D4, and the position of the inspection jig 4 on the inspection target substrate 20 It is explanatory drawing for demonstrating the relationship. 基板P−B2,P−C3が不良と検査されたときの再検査時における検査用治具4のプロービング位置について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the probing position of the test | inspection jig | tool 4 at the time of re-inspection when the board | substrates P-B2 and P-C3 are test | inspected as defect. 基板P−B1,P−B3,P−C2,P−C4が不良と検査されたときの再検査時における検査用治具4のプロービング位置について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the probing position of the test | inspection jig | tool 4 at the time of re-inspection when the board | substrates P-B1, P-B3, P-C2, and P-C4 are test | inspected as defective. 基板P−B2,P−B4,P−C1,P−C3が不良と検査されたときの再検査時における検査用治具4のプロービング位置について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the probing position of the test | inspection jig | tool 4 at the time of re-inspection when the board | substrates P-B2, P-B4, P-C1, and P-C3 are test | inspected as a defect. 基板P−A1,P−A4,P−D1,P−D4が不良と検査されたときの再検査時における検査用治具4のプロービング位置について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the probing position of the test | inspection jig | tool 4 at the time of a re-inspection when the board | substrate P-A1, P-A4, P-D1, and P-D4 are test | inspected as a defect. 基板P−B1,P−C2が不良と検査された検査対象基板20aの再検査時における検査用治具4のプロービング位置について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the probing position of the test | inspection jig | tool 4 at the time of the re-inspection of the test object board | substrate 20a in which the board | substrates P-B1 and P-C2 were test | inspected as defective. 基板P−B1,P−C1が不良と検査された検査対象基板20bの再検査時における検査用治具4aのプロービング位置について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the probing position of the test | inspection jig | tool 4a at the time of the re-inspection of the test object board | substrate 20b by which board | substrate P-B1, P-C1 was test | inspected as defect.

以下、本発明に係る基板検査装置および基板検査方法の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。   Embodiments of a substrate inspection apparatus and a substrate inspection method according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

図1に示す基板検査装置1は、後述する「基板検査方法」に従って検査対象基板20を電気的に検査可能に構成された検査装置であって、基板保持部2、移動機構3、検査用治具4、検査部5、操作部6、表示部7、制御部8および記憶部9を備えて構成されている。この場合、検査対象基板20は、「検査対象基板」の一例である多面付け基板(多ピース基板)であって、図3に示すように、基板P−A1〜P−A4,P−B1〜P−B4,P−C1〜P−C4,P−D1〜P−D4(以下、区別しないときには、単に「基板P」ともいう)が4行4列に並んで設けられている。   A substrate inspection apparatus 1 shown in FIG. 1 is an inspection apparatus configured to be able to electrically inspect a substrate 20 to be inspected according to a “substrate inspection method” to be described later, and includes a substrate holding unit 2, a moving mechanism 3, an inspection treatment. It comprises a tool 4, an inspection unit 5, an operation unit 6, a display unit 7, a control unit 8, and a storage unit 9. In this case, the inspection target substrate 20 is a multi-sided substrate (multi-piece substrate) which is an example of the “inspection target substrate”, and as shown in FIG. 3, the substrates P-A1 to P-A4 and P-B1 to P1-B1. P-B4, P-C1 to P-C4, P-D1 to P-D4 (hereinafter, also simply referred to as “substrate P” when not distinguished from each other) are arranged in 4 rows and 4 columns.

また、この検査対象基板20では、各基板P内に同一の配置で配線パターンが形成されており(図示せず)これらの配線パターンの良否を検査するために、各基板P内に同一の配置で複数の検査ポイントがそれぞれ規定されている。この場合、本例の検査対象基板20では、各基板Pがそれぞれ「検査対象領域」に相当する。したがって、この検査対象基板20は、「第1の方向(一例として、同図における左右方向)」に沿った区画数がNa=4で、「第1の方向」と交差する「第2の方向(この例では、同図における上下方向)」に沿った区画数がNb=4となるように4×4=16個の「検査対象領域」が区画された「検査対象基板」に相当する。   Further, in this inspection target substrate 20, wiring patterns are formed in the same arrangement in each substrate P (not shown), and in order to inspect the quality of these wiring patterns, the same arrangement in each substrate P. A plurality of inspection points are defined respectively. In this case, in the inspection target substrate 20 of this example, each substrate P corresponds to an “inspection target region”. Therefore, the inspection target substrate 20 has a partition number along the “first direction (as an example, the left-right direction in the figure)” with Na = 4 and the “second direction” intersecting the “first direction”. (In this example, the vertical direction in the figure) corresponds to an “inspection target substrate” in which 4 × 4 = 16 “inspection target regions” are divided so that the number of divisions along Nb = 4.

一方、基板保持部2は、制御部8の制御に従って検査対象基板20を保持する。移動機構3は、制御部8の制御に従い、基板保持部2によって保持されている検査対象基板20に向けて検査用治具4を移動させることで、検査用治具4に配設されている各検査用プローブ10(図1参照)を検査対象基板20上の各基板P内の検査ポイントにプロービングさせる(「検査用治具および検査対象基板の少なくとも一方」が「検査用治具」の構成の一例)。検査用治具4は、検査対象基板20の一面に設けられた上記の各基板P内にそれぞれ規定された各検査ポイントの基板P内における配置に応じて複数の検査用プローブ10が配設されて構成されている。   On the other hand, the substrate holding unit 2 holds the inspection target substrate 20 under the control of the control unit 8. The moving mechanism 3 is disposed in the inspection jig 4 by moving the inspection jig 4 toward the inspection target substrate 20 held by the substrate holding unit 2 under the control of the control unit 8. Each inspection probe 10 (see FIG. 1) is probed to an inspection point in each substrate P on the inspection target substrate 20 (the “inspection jig and at least one of the inspection target substrates” is a configuration of “inspection jig”. Example). The inspection jig 4 is provided with a plurality of inspection probes 10 according to the arrangement of the inspection points defined in the substrates P provided on one surface of the inspection target substrate 20 in the substrate P. Configured.

具体的には、図2に示すように、検査用治具4は、検査対象基板20に設けられた4×4=16個の基板Pのうちの「第1の方向(この例では、図3における左右方向)に沿ったMa=2個」×「第2の方向(一例として、図3における上下方向)に沿ったMb=2個」=4個の基板P内に規定されている各検査ポイントに検査用プローブ10(図1参照)をプロービング可能に、「第1の方向」に対応する「第3の方向(この例では、図2における左右方向)に沿った区画数がLa=2で、「第2の方向」に対応する「第4の方向この例では、図2における上下方向」に沿った区画数がLb=2となるように区画されたLa×Lb=4個のプローブ配設領域A−A1,A−A2,A−B1,A−B2(以下、区別しないときには、「プローブ配設領域A」ともいう)毎に同一の配置で検査用プローブ10が配設されて構成されている。   Specifically, as shown in FIG. 2, the inspection jig 4 has a “first direction (in this example, a diagram of 4 × 4 = 16 substrates P) provided on the inspection target substrate 20. 3 in the left-right direction in FIG. 3) × “Mb = 2 in the second direction (for example, in the up-down direction in FIG. 3)” = respectively defined in four substrates P The probe 10 for inspection (see FIG. 1) can be probed at the inspection point, and the number of sections along the “third direction (in this example, the horizontal direction in FIG. 2) corresponding to the“ first direction ”is La = 2 and 4th direction corresponding to the “second direction”. In this example, the number of divisions along the vertical direction in FIG. 2 is L × Lb = 4. Probe placement areas A-A1, A-A2, A-B1, A-B2 (hereinafter referred to as “probe” Inspection probe 10 also referred) each in the same arrangement as the region where A 'is constituted is arranged.

検査部5は、制御部8の制御に従い、検査用治具4の各検査用プローブ10を介して、各検査用プローブ10がプロービングさせられている4個の基板P内の各検査ポイントに対して入出力させた電気電号に基づいて各検査ポイントを順次検査すると共に、検査結果を示す検査結果データDを制御部8に出力する。操作部6は、基板検査装置1の動作条件(検査条件)を設定するための各種操作スイッチを備え、スイッチ操作に応じた操作信号を制御部8に出力する。表示部7は、制御部8の制御下で、基板検査装置1の動作条件(検査条件)を設定するための動作条件設定画面や、検査対象基板20(基板P)についての検査結果を報知する検査結果報知画面などの各種表示画面(いずれも図示せず)を表示する。   The inspection unit 5 controls each inspection point in the four substrates P on which each inspection probe 10 is probed via each inspection probe 10 of the inspection jig 4 under the control of the control unit 8. Each inspection point is sequentially inspected based on the electric signal input / output in this manner, and inspection result data D indicating the inspection result is output to the control unit 8. The operation unit 6 includes various operation switches for setting operation conditions (inspection conditions) of the substrate inspection apparatus 1, and outputs an operation signal corresponding to the switch operation to the control unit 8. Under the control of the control unit 8, the display unit 7 notifies an operation condition setting screen for setting an operation condition (inspection condition) of the substrate inspection apparatus 1 and an inspection result for the inspection target substrate 20 (substrate P). Various display screens (all not shown) such as an inspection result notification screen are displayed.

制御部8は、基板検査装置1を総括的に制御する。具体的には、制御部8は、移動機構3を制御して、基板保持部2によって保持されている検査対象基板20に向けて検査用治具4を移動させることにより、検査対象基板20における16個の基板Pのうちの任意の4個に検査用治具4の上記の4個のプローブ配設領域Aにおける各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせる。また、制御部8は、検査部5を制御して検査対象基板20(基板P)を電気的に検査させる。さらに、制御部8は、検査部5から出力された検査結果データDに基づき、16個の基板Pのうちのいずれかが不良であると検査されたときに、その基板Pに対する再検査処理を実行する。記憶部9は、制御部8の動作プログラムや、検査部5から出力された検査結果データDなどを記憶する。   The control unit 8 comprehensively controls the substrate inspection apparatus 1. Specifically, the control unit 8 controls the moving mechanism 3 to move the inspection jig 4 toward the inspection target substrate 20 held by the substrate holding unit 2. Each of the inspection probes 10 in the above-described four probe placement areas A of the inspection jig 4 is probed on any four of the 16 substrates P. Further, the control unit 8 controls the inspection unit 5 to electrically inspect the inspection target substrate 20 (substrate P). Furthermore, the control unit 8 performs re-inspection processing for the substrate P when any of the 16 substrates P is inspected based on the inspection result data D output from the inspection unit 5. Run. The storage unit 9 stores an operation program of the control unit 8, inspection result data D output from the inspection unit 5, and the like.

この基板検査装置1による検査対象基板20の検査に際しては、まず、基板保持部2に検査対象基板20を保持させる。次いで、操作部6の図示しないスタートスイッチを操作することで検査処理を開始させる。この際に、制御部8は、移動機構3を制御することにより、図3に示すように、一例として、検査対象基板20の16個の基板Pのうちの基板P−A1,P−A2,P−B1,P−B2の4個における各検査ポイントに検査用治具4におけるプローブ配設領域A−A1,A−A2,A−B1,A−B2の各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせる。次いで、制御部8は、検査部5を制御することにより、基板P−A1,P−A2,P−B1,P−B2内の各検査ポイントについて検査させる。この際に、検査部5は、各基板Pの良否を検査すると共に、その検査結果を示す検査結果データDを制御部8に出力する。また、制御部8は、検査部5から出力された検査結果データDを記憶部9に順次記憶させる。   When inspecting the inspection target substrate 20 by the substrate inspection apparatus 1, first, the inspection target substrate 20 is held by the substrate holding unit 2. Next, an inspection process is started by operating a start switch (not shown) of the operation unit 6. At this time, the control unit 8 controls the moving mechanism 3 to, as shown in FIG. 3, for example, the substrates P-A1, P-A2, out of the 16 substrates P of the inspection target substrate 20. The inspection probes 10 in the probe placement areas A-A1, A-A2, A-B1, and A-B2 in the inspection jig 4 are probed to the inspection points in the four inspection points P-B1 and P-B2, respectively. . Next, the control unit 8 controls the inspection unit 5 to inspect each inspection point in the substrates P-A1, P-A2, P-B1, and P-B2. At this time, the inspection unit 5 inspects the quality of each substrate P and outputs inspection result data D indicating the inspection result to the control unit 8. In addition, the control unit 8 sequentially stores the inspection result data D output from the inspection unit 5 in the storage unit 9.

次いで、上記の4個の基板Pについての検査が完了したときに、制御部8は、移動機構3を制御することにより、一例として、検査を実施していない12個の基板Pのうちの基板P−A3,P−A4,P−B3,P−B4の4個における各検査ポイントに検査用治具4におけるプローブ配設領域A内の各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせると共に、検査部5を制御して各基板P内の各検査ポイントを検査させる。これにより、基板P−A3,P−A4,P−B3,P−B4の4個についての検査が完了し、その検査結果データDが記憶部9に記憶される。続いて、制御部8は、移動機構3を制御することにより、一例として、検査を実施していない8個の基板Pのうちの基板P−C1,P−C2,P−D1,P−D2の4個における各検査ポイントに検査用治具4におけるプローブ配設領域A内の各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせると共に、検査部5を制御して各基板P内の各検査ポイントを検査させる。これにより、基板P−C1,P−C2,P−D1,P−D2の4個についての検査が完了し、その検査結果データDが記憶部9に記憶される。   Next, when the inspection on the four substrates P is completed, the control unit 8 controls the moving mechanism 3 to, for example, the substrate among the 12 substrates P that are not inspected. Each inspection probe 10 in the probe placement region A in the inspection jig 4 is probed to each inspection point in four of P-A3, P-A4, P-B3, and P-B4, and the inspection unit 5 To inspect each inspection point in each substrate P. Thereby, the inspection of four substrates P-A3, P-A4, P-B3, and P-B4 is completed, and the inspection result data D is stored in the storage unit 9. Subsequently, the control unit 8 controls the moving mechanism 3 to, for example, the substrates P-C1, P-C2, P-D1, and P-D2 among the eight substrates P that are not inspected. Each of the four inspection points is probed with each inspection probe 10 in the probe placement area A of the inspection jig 4, and the inspection unit 5 is controlled to inspect each inspection point in each substrate P. . Thereby, the inspection of the four substrates P-C1, P-C2, P-D1, and P-D2 is completed, and the inspection result data D is stored in the storage unit 9.

次いで、制御部8は、移動機構3を制御することにより、検査を実施していない基板P−C3,P−C4,P−D3,P−D4の4個における各検査ポイントに検査用治具4におけるプローブ配設領域A内の各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせると共に、検査部5を制御して各基板P内の各検査ポイントを検査させる。これにより、基板P−C3,P−C4,P−D3,P−D4の4個についての検査が完了し、その16個のすべての基板Pについての検査結果データDが記憶部9に記憶される。続いて、制御部8は、記憶部9に記憶させた検査結果データDに基づき、検査対象基板20における16個の基板Pのいずれかに不良と検査された検査ポイントが存在する基板Pが存在するか否かを判別する。この際に、不良と検査された検査ポイントがいずれの基板Pにも存在しないときには、制御部8は、その検査対象基板20を良品と判別し、その判別結果を表示部7に表示させて検査処理を終了する。   Next, the control unit 8 controls the moving mechanism 3 to inspect each inspection point on the four substrates P-C3, P-C4, P-D3, and P-D4 that are not inspected. 4, each inspection probe 10 in the probe placement area A is probed, and each inspection point in each substrate P is inspected by controlling the inspection unit 5. As a result, the inspection for the four substrates P-C3, P-C4, P-D3, and P-D4 is completed, and the inspection result data D for all the 16 substrates P is stored in the storage unit 9. The Subsequently, based on the inspection result data D stored in the storage unit 9, the control unit 8 has a substrate P on which one of the 16 substrates P in the inspection target substrate 20 has an inspection point inspected as defective. It is determined whether or not to do so. At this time, when there is no inspection point inspected as defective on any of the substrates P, the control unit 8 determines that the inspection target substrate 20 is a non-defective product and displays the determination result on the display unit 7 for inspection. The process ends.

また、16個の基板Pのうちのいずれかに不良と検査された検査ポイントが存在するときには、制御部8は、不良と検査された検査ポイントが存在する基板Pを対象とする再検査処理を実行する。この場合、この基板検査装置1では、16個の基板Pのうちのいずれか1個を再検査する際に、再検査対象の基板Pが基板P−A1,P−A2,P−B1,P−B2のいずれかのときには、この4個の基板P内の各検査ポイントに検査用治具4における各プローブ配設領域Aの各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせ、再検査対象の基板Pが基板P−A3,P−A4,P−B3,P−B4のいずれかのときには、この4個の基板P内の各検査ポイントに検査用治具4における各プローブ配設領域Aの各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせ、再検査対象の基板Pが基板P−C1,P−C2,P−D1,P−D2のいずれかのときには、この4個の基板P内の各検査ポイントに検査用治具4における各プローブ配設領域Aの各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせ、再検査対象の基板Pが基板P−C3,P−C4,P−D3,P−D4のいずれかのときには、この4個の基板P内の各検査ポイントに検査用治具4における各プローブ配設領域Aの各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせて、上記の最初の検査時と同様に、再検査対象の基板P内の各検査ポイントを検査する。   When there is an inspection point inspected as defective on any of the 16 substrates P, the control unit 8 performs re-inspection processing for the substrate P on which the inspection point inspected as defective exists. Run. In this case, in the substrate inspection apparatus 1, when any one of the 16 substrates P is re-inspected, the re-inspection target substrate P is the substrate P-A1, P-A2, P-B1, P. In any case of -B2, each inspection probe 10 in each probe placement region A in the inspection jig 4 is probed to each inspection point in the four substrates P, and the substrate P to be reinspected is When one of the substrates P-A3, P-A4, P-B3, and P-B4, each inspection point in each of the four substrates P is used for each inspection in each probe placement region A in the inspection jig 4. Each probe 10 is probed, and when the substrate P to be re-inspected is any one of the substrates P-C1, P-C2, P-D1, and P-D2, each of the inspection points in the four substrates P is used for inspection. Each probe placement area A in the jig 4 When each of the inspection probes 10 is probed and the substrate P to be re-inspected is one of the substrates P-C3, P-C4, P-D3, and P-D4, each inspection point in the four substrates P Then, each inspection probe 10 in each probe placement area A in the inspection jig 4 is probed, and each inspection point in the substrate P to be reinspected is inspected in the same manner as in the first inspection.

一方、この基板検査装置1では、16個の基板Pのうちのいずれか2個以上の基板Pに不良と検査された検査ポイントが存在するときに、検査用治具4における4個のプローブ配設領域A内のすべての検査用プローブが16個の基板Pのうちのいずれかの基板P内の検査ポイントにプロービングされるとの「条件」が満たされる範囲内で、再検査対象の基板Pの位置に応じて検査対象基板20に対する検査用治具4のプロービング位置を変更するようプログラミングされている。   On the other hand, in this substrate inspection apparatus 1, when there are inspection points inspected as defective on any two or more of the 16 substrates P, the four probe arrangements in the inspection jig 4 are arranged. The substrate P to be re-inspected is within a range where the “condition” that all the inspection probes in the installation area A are probed to the inspection point in any one of the 16 substrates P is satisfied. Is programmed to change the probing position of the inspection jig 4 with respect to the inspection target substrate 20 in accordance with the position of the inspection object.

具体的には、2個以上の基板Pに不良と検査された検査ポイントが存在すると判別したときに、制御部8は、一例として、再検査対象の各基板Pのうちの最も左下側に位置する基板P(基板P−A1との間に存在する基板Pの数が最も少ない基板P:「予め規定された側」が「左下側」の例)内の各検査ポイントに検査用治具4における4個のプローブ配設領域Aのうちのプローブ配設領域A−A1(最も左下側のプローブ配設領域A)内の各検査用プローブ10をプロービングさせるプロービング態様A、再検査対象の各基板Pのうちの最も右上側に位置する基板P(基板P−D4との間に存在する基板Pの数が最も少ない基板P:「予め規定された側」が「右上側」の例)内の各検査ポイントに検査用治具4における4個のプローブ配設領域Aのうちのプローブ配設領域A−B2(最も右上側のプローブ配設領域A)内の各検査用プローブ10をプロービングさせるプロービング態様B、再検査対象の各基板Pのうちの最も左上側に位置する基板P(基板P−A4との間に存在する基板Pの数が最も少ない基板P:「予め規定された側」が「左上側」の例)内の各検査ポイントに検査用治具4における4個のプローブ配設領域Aのうちのプローブ配設領域A−A2(最も左上側のプローブ配設領域A)内の各検査用プローブ10をプロービングさせるプロービング態様C、および再検査対象の各基板Pのうちの最も右下側に位置する基板P(基板P−D1との間に存在する基板Pの数が最も少ない基板P:「予め規定された側」が「右下側」の例)内の各検査ポイントに検査用治具4における4個のプローブ配設領域Aのうちのプローブ配設領域A−B1(最も右下側のプローブ配設領域A)内の各検査用プローブ10をプロービングさせるプロービング態様Dの順で、上記の「条件」が満たされるか否かを判別し、最初に上記の「条件」が満たされると判別した態様で検査用治具4をプロービングさせる。   Specifically, when it is determined that there is an inspection point inspected as defective on two or more substrates P, the control unit 8 is positioned, for example, on the lowermost left side of the substrates P to be reinspected. Inspection jig 4 at each inspection point in the substrate P (the substrate P having the smallest number of substrates P existing between the substrate P-A1: “predetermined side” is “lower left side”) Probing mode A for probing each inspection probe 10 in the probe arrangement area A-A1 (the lowermost left probe arrangement area A) of the four probe arrangement areas A in FIG. Within the substrate P located on the upper right side of P (the substrate P having the smallest number of substrates P existing between the substrate P-D4: an example in which “predetermined side” is “upper right side”) 4 probes in the inspection jig 4 are arranged at each inspection point. Probing mode B for probing each inspection probe 10 in the probe placement area A-B2 (the uppermost right probe placement area A) in the area A, and the leftmost upper side of each substrate P to be retested For inspection at each inspection point in the substrate P located at (the substrate P having the smallest number of substrates P existing between the substrates P-A4: “predetermined side” is “upper left”)) Probing mode C for probing each inspection probe 10 in the probe arrangement area A-A2 (upper left probe arrangement area A) of the four probe arrangement areas A in the tool 4, and a retest object The substrate P (the substrate P having the smallest number of substrates P existing between the substrate P-D1 and the “predetermined side” is the “lower right side”). Example) for inspection at each inspection point in In the order of the probing mode D for probing each inspection probe 10 in the probe arrangement area A-B1 (the lowermost right probe arrangement area A) of the four probe arrangement areas A in the tool 4, It is determined whether or not the above “condition” is satisfied, and the inspection jig 4 is first probed in a state where it is determined that the above “condition” is satisfied.

なお、この基板検査装置1では、一例として、基板P−A1との間に存在する基板Pの数が最も少ない再検査対象の基板Pが複数存在するときには、その基板Pのうちの最も下側に位置する基板P内の各検査ポイントに検査用治具4におけるプローブ配設領域A−A1内の各検査用プローブ10をプロービングさせる態様をプロービング態様Aとし、基板P−D4との間に存在する基板Pの数が最も少ない再検査対象の基板Pが複数存在するときには、その基板Pのうちの最も上側に位置する基板P内の各検査ポイントに検査用治具4におけるプローブ配設領域A−B2内の各検査用プローブ10をプロービングさせる態様をプロービング態様Bとし、基板P−A4との間に存在する基板Pの数が最も少ない再検査対象の基板Pが複数存在するときには、その基板Pのうちの最も上側に位置する基板P内の各検査ポイントに検査用治具4におけるプローブ配設領域A−A2内の各検査用プローブ10をプロービングさせる態様をプロービング態様Cとし、基板P−D1との間に存在する基板Pの数が最も少ない再検査対象の基板Pが複数存在するときには、その基板Pのうちの最も下側に位置する基板P内の各検査ポイントに検査用治具4におけるプローブ配設領域A−B1内の各検査用プローブ10をプロービングさせる態様をプロービング態様Dとする構成が採用されている。   In this substrate inspection apparatus 1, as an example, when there are a plurality of substrates P to be reinspected with the smallest number of substrates P existing between the substrates P-A1, the lowermost of the substrates P A mode in which each inspection probe 10 in the probe placement area A-A1 in the inspection jig 4 is probed to each inspection point in the substrate P located at the position P is a probing mode A, and exists between the substrate P-D4. When there are a plurality of substrates P to be reinspected with the smallest number of substrates P to be inspected, the probe placement region A in the inspection jig 4 is placed at each inspection point in the substrate P located on the uppermost side of the substrates P. A mode in which each inspection probe 10 in B2 is probed is a probing mode B, and there are a plurality of substrates P to be re-inspected with the least number of substrates P existing between the substrates P-A4. In some cases, a mode in which each inspection probe 10 in the probe placement area A-A2 in the inspection jig 4 is probed to each inspection point in the substrate P located on the uppermost side of the substrate P is a probing mode C. When there are a plurality of substrates P to be re-inspected with the smallest number of substrates P existing between the substrates P-D1, each inspection point in the substrate P located on the lowermost side of the substrates P A configuration in which the probe probe D is used as the probe probe for each probe 10 in the probe placement region A-B1 in the inspection jig 4 is employed.

より具体的には、図4に示すように、16個の基板Pのうちの基板P−B2,P−C3の2個に不良と検査された検査ポイントが存在するときには(「Ka=2個」の例)、制御部8は、基板P−B2,P−C3のうちの最も左下側の基板P−B2(「Ka個の検査対象領域のうちの予め規定された側の端に位置する検査対象領域」の一例)に検査用治具4における最も左下側のプローブ配設領域A−A1内の各検査用プローブ10をプロービングさせた際に上記の「条件」が満たされると判別し、基板P−B2,P−B3,P−C2,P−C3の4個における各検査ポイントに検査用治具4における各プローブ配設領域A内の各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせる(プロービング態様A:「第1の処理」の一例)。なお、同図および後に参照する図5〜9では、不良と検査された検査ポイントが存在する基板Pに「×」を描いてこれを示している。   More specifically, as shown in FIG. 4, when there are inspection points inspected as defective on two of the 16 substrates P, that is, the substrates P-B2 and P-C3 (“Ka = 2”). ), The control unit 8 is located at the lower leftmost substrate P-B2 of the substrates P-B2 and P-C3 (the end of a predetermined side of “Ka inspection target regions”). It is determined that the above “condition” is satisfied when probing each inspection probe 10 in the probe placement region A-A1 on the lowermost left side in the inspection jig 4 as an example of “inspection region”. Each inspection probe 10 in each probe placement area A in the inspection jig 4 is probed to each inspection point in the four substrates P-B2, P-B3, P-C2, and P-C3 (probing mode) A: An example of “first processing”). In FIG. 5 and FIG. 5 to be referred to later, “x” is drawn on the substrate P on which the inspection points inspected as defective are present.

次いで、制御部8は、検査部5を制御して、プローブ配設領域A−A1内の各検査用プローブ10を介して基板P−B2内の各検査ポイントを検査させる。続いて、制御部8は、プローブ配設領域A−A1を除く3個のプローブ配設領域Aに、再検査対象の基板Pにプロービングされている検査用プローブ10のプローブ配設領域Aが存在するか否かを判別する。この例では、プローブ配設領域A−B2の各検査用プローブ10がプロービングされている基板P−C3が再検査対象のため、制御部8は、検査部5を制御して、プローブ配設領域A−B2内の各検査用プローブ10を介して基板P−C3内の各検査ポイントを検査させる。続いて、制御部8は、Ka=2個の基板Pのうちの再検査を完了したKb=2個を除く数(再検査が完了していない基板Pの数:Kc個:新たなKa個)が0個になると判別し(「第3の処理」の一例)、この検査対象基板20についての再検査処理を完了する。   Next, the control unit 8 controls the inspection unit 5 to inspect each inspection point in the substrate P-B2 via each inspection probe 10 in the probe placement area A-A1. Subsequently, the control unit 8 has the probe arrangement area A of the inspection probe 10 probed on the substrate P to be reinspected in the three probe arrangement areas A excluding the probe arrangement area A-A1. It is determined whether or not to do so. In this example, since the substrate P-C3 on which each of the inspection probes 10 in the probe arrangement area A-B2 is probed is a reinspection object, the control unit 8 controls the inspection unit 5 to control the probe arrangement area. Each inspection point in the substrate P-C3 is inspected via each inspection probe 10 in A-B2. Subsequently, the control unit 8 counts the number excluding Kb = 2 of the Ka = 2 substrates P that have completed reinspection (the number of substrates P that have not been reinspected: Kc: new Ka) ) Is zero (an example of “third process”), and the re-inspection process for the inspection target substrate 20 is completed.

また、図5に示すように、16個の基板Pのうちの基板P−B1,P−B3,P−C2,P−C4の4個に不良と検査された検査ポイントが存在するときには(「Ka=4個」の例)、制御部8は、これら基板Pのうちの最も左下側の基板P−B1(「Ka個の検査対象領域のうちの予め規定された側の端に位置する検査対象領域」の他の一例)に検査用治具4におけるプローブ配設領域A−A1内の各検査用プローブ10をプロービングさせた際に上記の「条件」が満たされると判別し、基板P−B1,P−B2,P−C1,P−C2の4個における各検査ポイントに検査用治具4における各プローブ配設領域A内の各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせる(プロービング態様A:「第1の処理」の他の一例)。次いで、制御部8は、検査部5を制御して、プローブ配設領域A−A1内の各検査用プローブ10を介して基板P−B1内の各検査ポイントを検査させる。   Further, as shown in FIG. 5, when inspection points inspected as defective are present on four of the sixteen substrates P-B1, P-B3, P-C2, and P-C4 (“ In the example of “Ka = 4”), the control unit 8 sets the lower leftmost substrate P-B1 among these substrates P (“inspection located at a predetermined end of“ Ka inspection target regions ”). It is determined that the above “condition” is satisfied when each inspection probe 10 in the probe placement area A-A1 in the inspection jig 4 is probed to another example of “target region”, and the substrate P- Each inspection probe 10 in each probe placement area A in the inspection jig 4 is probed to each inspection point in B1, P-B2, P-C1, and P-C2 (probing mode A: “ Another example of “first process”). Next, the control unit 8 controls the inspection unit 5 to inspect each inspection point in the substrate P-B1 via each inspection probe 10 in the probe placement area A-A1.

続いて、制御部8は、プローブ配設領域A−B2の各検査用プローブ10をプロービングさせている基板P−C2が再検査対象と判別し、検査部5を制御して、プローブ配設領域A−B2内の各検査用プローブ10を介して基板P−C2内の各検査ポイントを検査させる。次いで、制御部8は、Ka=4個の基板Pのうちの再検査を完了したKb=2個の基板P−B1,P−C2を除くKc=2個の基板P−B3,P−C4を新たなKa=2個の再検査対象とする(「第3の処理」の他の一例)。   Subsequently, the control unit 8 determines that the substrate P-C2 on which each of the inspection probes 10 in the probe arrangement area A-B2 is probed is a reinspection target, and controls the inspection section 5 to control the probe arrangement area. Each inspection point in the substrate P-C2 is inspected via each inspection probe 10 in A-B2. Next, the control unit 8 sets Kc = 2 substrates P-B3, P-C4 excluding Kb = 2 substrates P-B1, P-C2 which have completed re-inspection among Ka = 4 substrates P. Are the new Ka = 2 reinspection objects (another example of “third process”).

続いて、制御部8は、再検査対象の基板Pのうちの最も左下側の基板P−B3に検査用治具4におけるプローブ配設領域A−A1内の各検査用プローブ10をプロービングさせた際に上記の「条件」が満たされると判別し、基板P−B3,P−B4,P−C3,P−C4の4個における各検査ポイントに検査用治具4における各プローブ配設領域A内の各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせる(プロービング態様A:「第1の処理」のさらに他の一例)。次いで、制御部8は、検査部5を制御して、プローブ配設領域A−A1内の各検査用プローブ10を介して基板P−B3内の各検査ポイントを検査させる。   Subsequently, the control unit 8 causes each inspection probe 10 in the probe placement area A-A1 in the inspection jig 4 to be probed to the lower left substrate P-B3 among the substrates P to be reinspected. At this time, it is determined that the above "condition" is satisfied, and each probe placement area A in the inspection jig 4 is added to each inspection point in the four substrates P-B3, P-B4, P-C3, and P-C4. Each of the inspection probes 10 is probed (probing mode A: yet another example of “first processing”). Next, the control unit 8 controls the inspection unit 5 to inspect each inspection point in the substrate P-B3 via each inspection probe 10 in the probe placement area A-A1.

続いて、制御部8は、プローブ配設領域A−B2の各検査用プローブ10をプロービングさせている基板P−C4が再検査対象と判別し、検査部5を制御して、プローブ配設領域A−B2内の各検査用プローブ10を介して基板P−C4内の各検査ポイントを検査させる。次いで、制御部8は、新たなKa=2個の基板Pのうちの再検査を完了したKb=2個を除く数(再検査が完了していない基板Pの数:Kc個)が0個になると判別し(「第3の処理」のさらに他の一例)、この検査対象基板20についての再検査処理を完了する。   Subsequently, the control unit 8 determines that the substrate P-C4 on which the probes 10 for inspection in the probe arrangement areas A-B2 are probed is a reinspection target, and controls the inspection section 5 to control the probe arrangement areas. Each inspection point in the substrate P-C4 is inspected via each inspection probe 10 in A-B2. Next, the control unit 8 determines that the number of the new Ka = 2 substrates P excluding Kb = 2 that has completed the reinspection (the number of substrates P that have not been reinspected: Kc) is 0. (Another example of the “third process”), and the re-inspection process for the inspection target substrate 20 is completed.

さらに、図6に示すように、16個の基板Pのうちの基板P−B2,P−B4,P−C1,P−C3の4個に不良と検査された検査ポイントが存在するときには(「Ka=4個」の他の例)、制御部8は、これら基板Pのうちの最も左下側の基板P−B2(「Ka個の検査対象領域のうちの予め規定された側の端に位置する検査対象領域」の他の一例)に検査用治具4におけるプローブ配設領域A−A1内の各検査用プローブ10をプロービングさせた際に上記の「条件」が満たされると判別し、基板P−B2,P−B3,P−C2,P−C3の4個における各検査ポイントに検査用治具4における各プローブ配設領域A内の各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせる(プロービング態様A:「第1の処理」のさらに他の一例)。次いで、制御部8は、検査部5を制御して、プローブ配設領域A−A1内の各検査用プローブ10を介して基板P−B2内の各検査ポイントを検査させる。   Further, as shown in FIG. 6, when inspection points inspected as defective are present on four of the 16 substrates P, that is, the substrates P-B2, P-B4, P-C1, and P-C3 (“ In another example of “Ka = 4”), the control unit 8 sets the lower leftmost substrate P-B2 of these substrates P (at the end on the predetermined side of “Ka inspection target regions”). It is determined that the above “condition” is satisfied when each inspection probe 10 in the probe placement area A-A1 in the inspection jig 4 is probed to another example of “inspection area to be checked” Each inspection probe 10 in each probe placement area A in the inspection jig 4 is probed to each inspection point in four of P-B2, P-B3, P-C2, and P-C3 (probing mode A : Still another example of “first processing”). Next, the control unit 8 controls the inspection unit 5 to inspect each inspection point in the substrate P-B2 via each inspection probe 10 in the probe placement area A-A1.

続いて、制御部8は、プローブ配設領域A−B2の各検査用プローブ10をプロービングさせている基板P−C3が再検査対象と判別し、検査部5を制御して、プローブ配設領域A−B2内の各検査用プローブ10を介して基板P−C3内の各検査ポイントを検査させる。次いで、制御部8は、Ka=4個の基板Pのうちの再検査を完了したKb=2個の基板P−B2,P−C3を除くKc=2個の基板P−B4,P−C1を新たなKa=2個の再検査対象とする(「第3の処理」のさらに他の一例)。   Subsequently, the control unit 8 determines that the substrate P-C3 on which the probes 10 for inspection in the probe arrangement regions A-B2 are probed is a reinspection target, and controls the inspection unit 5 to control the probe arrangement regions. Each inspection point in the substrate P-C3 is inspected via each inspection probe 10 in A-B2. Next, the control unit 8 sets Kc = 2 substrates P-B4, P-C1 excluding Kb = 2 substrates P-B2, P-C3 which have completed re-inspection among Ka = 4 substrates P. Are the new Ka = 2 reinspection objects (a further example of the “third process”).

続いて、制御部8は、再検査対象の基板Pのうちの最も左下側の基板P−C1に検査用治具4におけるプローブ配設領域A−A1内の各検査用プローブ10をプロービングさせた際に上記の「条件」が満たされると判別し、基板P−C1,P−C2,P−D1,P−D2の4個における各検査ポイントに検査用治具4における各プローブ配設領域A内の各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせる(プロービング態様A:「第1の処理」のさらに他の一例)。次いで、制御部8は、検査部5を制御して、プローブ配設領域A−A1内の各検査用プローブ10を介して基板P−C1内の各検査ポイントを検査させる。続いて、制御部8は、プローブ配設領域A−A1を除く各プローブ配設領域Aの検査用プローブ10がプロービングされている基板Pに再検査対象が存在しないと判別し、新たなKa=2個の基板Pのうちの再検査を完了したKb=1個の基板P−C1を除くKc=1個の基板P−B4を新たなKa=1個の再検査対象とする(「第3の処理」のさらに他の一例)。   Subsequently, the control unit 8 causes each inspection probe 10 in the probe placement area A-A1 in the inspection jig 4 to be probed to the lower leftmost substrate P-C1 among the substrates P to be reinspected. At this time, it is determined that the above “condition” is satisfied, and each probe placement region A in the inspection jig 4 is added to each inspection point in the four substrates P-C1, P-C2, P-D1, and P-D2. Each of the inspection probes 10 is probed (probing mode A: yet another example of “first processing”). Next, the control unit 8 controls the inspection unit 5 to inspect each inspection point in the substrate P-C1 via each inspection probe 10 in the probe placement area A-A1. Subsequently, the control unit 8 determines that there is no reinspection target on the substrate P on which the inspection probe 10 in each probe arrangement area A except the probe arrangement area A-A1 is probed, and a new Ka = Of the two substrates P, Kb = 1 substrate P-B4 excluding Kb = 1 substrate P-C1 which has completed reinspection is set as a new Ka = 1 reinspection target (“third Still another example of “processing”).

続いて、制御部8は、再検査対象の基板Pのうちの最も左下側の基板P(この例では、基板P−B4しか存在しないため、基板P−B4)に検査用治具4におけるプローブ配設領域A−A1内の各検査用プローブ10をプロービングさせた際に上記の「条件」が満たされず、再検査対象の基板Pのうちの最も右上側の基板P(この例では、基板P−B4)に検査用治具4におけるプローブ配設領域A−B2内の各検査用プローブ10をプロービングさせた際に上記の「条件」が満たされると判別する。したがって、制御部8は、移動機構3を制御して、基板P−A3,P−A4,P−B3,P−B4の4個における各検査ポイントに検査用治具4における各プローブ配設領域A内の各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせる(プロービング態様B:「第1の処理」のさらに他の一例)。次いで、制御部8は、検査部5を制御して、プローブ配設領域A−B2内の各検査用プローブ10を介して基板P−B4内の各検査ポイントを検査させる。続いて、制御部8は、新たなKa=1個の基板Pのうちの再検査を完了したKb=1個を除く数(再検査が完了していない基板Pの数:Kc個)が0個になると判別し(「第3の処理」のさらに他の一例)、この検査対象基板20についての再検査処理を完了する。   Subsequently, the control unit 8 probes the probe in the inspection jig 4 on the lowermost leftmost substrate P among the substrates P to be reinspected (in this example, only the substrate P-B4 exists, and thus the substrate P-B4). When the inspection probes 10 in the arrangement area A-A1 are probed, the above “conditions” are not satisfied, and the uppermost substrate P (the substrate P in this example) among the substrates P to be reinspected. It is determined that the above “condition” is satisfied when probing each inspection probe 10 in the probe placement region A-B2 in the inspection jig 4 in −B4). Accordingly, the control unit 8 controls the moving mechanism 3 so that each probe placement region in the inspection jig 4 is in each inspection point on the four substrates P-A3, P-A4, P-B3, and P-B4. Each inspection probe 10 in A is probed (probing mode B: still another example of “first processing”). Next, the control unit 8 controls the inspection unit 5 to inspect each inspection point in the substrate P-B4 via each inspection probe 10 in the probe placement region A-B2. Subsequently, the control unit 8 determines that the number of the new Ka = 1 substrates P excluding Kb = 1 that has completed the reinspection (the number of substrates P that have not been reinspected: Kc) is 0. It is discriminated that it becomes a piece (a further example of “third process”), and the re-inspection process for this inspection target substrate 20 is completed.

一方、図7に示すように、16個の基板Pのうちの基板P−A1,P−A4,P−D1,P−D4の4個に不良と検査された検査ポイントが存在するときには(「Ka=4個」のさらに他の一例)、制御部8は、これら基板Pのうちの最も左下側の基板P−A1(「Ka個の検査対象領域のうちの予め規定された側の端に位置する検査対象領域」のさらに他の一例)に検査用治具4におけるプローブ配設領域A−A1内の各検査用プローブ10をプロービングさせた際に上記の「条件」が満たされると判別する。したがって、制御部8は、基板P−A1,P−A2,P−B1,P−B2の4個における各検査ポイントに検査用治具4における各プローブ配設領域A内の各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせて(プロービング態様A:「第1の処理」の他の一例)、検査部5による基板P−A1内の各検査ポイントを実行させる。   On the other hand, as shown in FIG. 7, when inspection points inspected as defective are present on four of the 16 substrates P, that is, the substrates P-A1, P-A4, P-D1, and P-D4 (“ Still another example of “Ka = 4”), the control unit 8 sets the lower leftmost substrate P-A1 among these substrates P (at the end on the predetermined side of “Ka inspection target regions”). It is determined that the above “condition” is satisfied when each inspection probe 10 in the probe placement area A-A1 in the inspection jig 4 is probed in “another inspection target area”. . Therefore, the control unit 8 sets each inspection probe 10 in each probe placement area A in the inspection jig 4 to each inspection point in the four substrates P-A1, P-A2, P-B1, and P-B2. Are probing (probing mode A: another example of “first processing”), and each inspection point in the substrate P-A1 by the inspection unit 5 is executed.

次いで、制御部8は、再検査対象の他の3個の基板Pのうちの最も右上側の基板P−D4(「Ka個の検査対象領域のうちの予め規定された側の端に位置する検査対象領域」のさらに他の一例)に検査用治具4におけるプローブ配設領域A−B2内の各検査用プローブ10をプロービングさせた際に上記の「条件」が満たされると判別する。したがって、制御部8は、基板P−C3,P−C4,P−D3,P−D4の4個における各検査ポイントに検査用治具4における各プローブ配設領域A内の各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせて(プロービング態様B:「第1の処理」の他の一例)、検査部5による基板P−D4内の各検査ポイントを実行させる。   Next, the control unit 8 is located at the upper rightmost substrate P-D4 (“Ka in the inspection target area of the Ka inspection target regions) among the other three substrates P to be reinspected. It is determined that the above “condition” is satisfied when each inspection probe 10 in the probe placement area A-B2 in the inspection jig 4 is probed to “another inspection area”. Therefore, the control unit 8 sets each inspection probe 10 in each probe placement area A in the inspection jig 4 to each inspection point in the four substrates P-C3, P-C4, P-D3, and P-D4. Are probing (probing mode B: another example of “first processing”), and each inspection point in the substrate P-D4 by the inspection unit 5 is executed.

続いて、制御部8は、再検査対象の他の2個の基板Pのうちの最も左上側の基板P−A4(「Ka個の検査対象領域のうちの予め規定された側の端に位置する検査対象領域」のさらに他の一例)に検査用治具4におけるプローブ配設領域A−A2内の各検査用プローブ10をプロービングさせた際に上記の「条件」が満たされると判別する。したがって、制御部8は、基板P−A3,P−A4,P−B3,P−B4の4個における各検査ポイントに検査用治具4における各プローブ配設領域A内の各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせて(プロービング態様C:「第1の処理」の他の一例)、検査部5による基板P−A4内の各検査ポイントを実行させる。   Subsequently, the control unit 8 positions the leftmost upper substrate P-A4 (the “Ka inspected region at the end of the predetermined side of the other two substrates P to be reinspected). It is determined that the above “condition” is satisfied when each inspection probe 10 in the probe placement area A-A2 in the inspection jig 4 is probed to “another inspection target area”. Therefore, the control unit 8 sets each inspection probe 10 in each probe placement area A in the inspection jig 4 to each inspection point in the four substrates P-A3, P-A4, P-B3, and P-B4. Are probing (probing mode C: another example of “first processing”), and each inspection point in the substrate P-A4 by the inspection unit 5 is executed.

次いで、制御部8は、再検査対象の残りの1個である基板P−D1(「Ka個の検査対象領域のうちの予め規定された側の端に位置する検査対象領域」のさらに他の一例)に検査用治具4におけるプローブ配設領域A−B2内の各検査用プローブ10をプロービングさせた際に上記の「条件」が満たされると判別する。したがって、制御部8は、基板P−C1,P−C2,P−D1,P−D2の4個における各検査ポイントに検査用治具4における各プローブ配設領域A内の各検査用プローブ10をそれぞれプロービングさせて(プロービング態様D:「第1の処理」の他の一例)、検査部5による基板P−D1内の各検査ポイントを実行させる。以上により、検査対象基板20についての再検査対処理が完了する。   Next, the control unit 8 further includes another substrate P-D1 (“inspection target region located at the end on the predetermined side of the Ka inspection target regions”) which is the remaining one to be reinspected. It is determined that the above “condition” is satisfied when each inspection probe 10 in the probe placement region A-B2 in the inspection jig 4 is probed as an example. Therefore, the control unit 8 sets each inspection probe 10 in each probe placement area A in the inspection jig 4 to each inspection point in the four substrates P-C1, P-C2, P-D1, and P-D2. Are respectively probed (probing mode D: another example of “first processing”), and each inspection point in the substrate P-D1 by the inspection unit 5 is executed. Thus, the re-inspection processing for the inspection target substrate 20 is completed.

この場合、不良と検査された検査ポイントが存在する基板Pが図4に示す例のように存在する検査対象基板20の再検査処理に関し、出願人が開示している検査装置と同様の手順で検査用治具4をプロービングさせる位置および順序を規定したときには、少なくとも、基板P−B2の再検査を対象とする基板P−A1,P−A2,P−B1,P−B2へのプロービング、および基板P−C3の再検査を対象とする基板P−C3,P−C4,P−D3,P−D4へのプロービングの合計2回のプロービングを実行する必要がある。これに対して、本例の基板検査装置1では、前述したように、1回のプロービングによってKa=2個の基板P−B2,P−C3についての再検査処理が完了する。   In this case, with respect to the re-inspection processing of the inspection target substrate 20 in which the substrate P having the inspection point inspected as defective exists as in the example shown in FIG. 4, the same procedure as the inspection apparatus disclosed by the applicant is used. When the position and order for probing the inspection jig 4 are defined, at least probing to the substrates P-A1, P-A2, P-B1, and P-B2 for re-inspection of the substrate P-B2, and It is necessary to perform probing twice in total for probing the substrates P-C3, P-C4, P-D3, and P-D4, which are targets for re-inspection of the substrate P-C3. On the other hand, in the substrate inspection apparatus 1 of this example, as described above, the re-inspection processing for Ka = 2 substrates P-B2 and P-C3 is completed by one probing.

また、不良と検査された検査ポイントが存在する基板Pが図5に示す例のように存在する検査対象基板20の再検査処理に関し、出願人が開示している検査装置と同様の手順で検査用治具4をプロービングさせる位置および順序を規定したときには、少なくとも、基板P−B1の再検査を対象とする基板P−A1,P−A2,P−B1,P−B2へのプロービング、基板P−C2の再検査を対象とする基板P−C1,P−C2,P−D1,P−D2へのプロービング、基板P−B3の再検査を対象とする基板P−A3,P−A4,P−B3,P−B4へのプロービング、および基板P−C4の再検査を対象とする基板P−C3,P−C4,P−D3,P−D4へのプロービングの合計4回のプロービングを実行する必要がある。これに対して、本例の基板検査装置1では、前述したように、2回のプロービングによってKa=4個の基板P−B1,P−B3,P−C2,P−C4についての再検査処理が完了する。   Further, regarding the re-inspection processing of the inspection target substrate 20 in which the substrate P on which the inspection point inspected to be defective exists as in the example shown in FIG. 5, inspection is performed in the same procedure as the inspection apparatus disclosed by the applicant. When the position and sequence for probing the jig 4 are defined, at least the probing to the substrates P-A1, P-A2, P-B1, and P-B2 for the re-inspection of the substrate P-B1, the substrate P Probing to substrates P-C1, P-C2, P-D1, and P-D2 for re-inspection of C2, and substrates P-A3, P-A4, P for re-inspection of substrate P-B3 -Probing to B3, P-B4 and probing to substrates P-C3, P-C4, P-D3, P-D4 for the re-inspection of the substrate P-C4 is performed a total of 4 times. There is a need. On the other hand, in the substrate inspection apparatus 1 of this example, as described above, the re-inspection processing for Ka = 4 substrates P-B1, P-B3, P-C2, and P-C4 by two probing operations. Is completed.

さらに、不良と検査された検査ポイントが存在する基板Pが図6に示す例のように存在する検査対象基板20の再検査処理に関し、出願人が開示している検査装置と同様の手順で検査用治具4をプロービングさせる位置および順序を規定したときには、少なくとも、基板P−B2の再検査を対象とする基板P−A1,P−A2,P−B1,P−B2へのプロービング、基板P−C1の再検査を対象とする基板P−C1,P−C2,P−D1,P−D2へのプロービング、基板P−B4の再検査を対象とする基板P−A3,P−A4,P−B3,P−B4へのプロービング、および基板P−C3の再検査を対象とする基板P−C3,P−C4,P−D3,P−D4へのプロービングの合計4回のプロービングを実行する必要がある。これに対して、本例の基板検査装置1では、前述したように、3回のプロービングによってKa=4個の基板P−B2,P−B4,P−C1,P−C3についての再検査処理が完了する。   Further, regarding the re-inspection processing of the inspection target substrate 20 in which the substrate P on which the inspection point inspected to be defective exists as in the example shown in FIG. 6, the inspection is performed in the same procedure as the inspection apparatus disclosed by the applicant. When the position and sequence for probing the jig 4 are defined, at least the probing to the substrates P-A1, P-A2, P-B1, and P-B2 for the re-inspection of the substrate P-B2, the substrate P Probing to the substrates P-C1, P-C2, P-D1, and P-D2 for the re-inspection of C1, and substrates P-A3, P-A4, P for the re-inspection of the substrate P-B4 -Probing to B3, P-B4, and probing to substrates P-C3, P-C4, P-D3, and P-D4 for the re-inspection of the substrate P-C3 are performed four times in total. There is a need. On the other hand, in the substrate inspection apparatus 1 of this example, as described above, re-inspection processing for Ka = 4 substrates P-B2, P-B4, P-C1, and P-C3 by three times of probing. Is completed.

一方、不良と検査された検査ポイントが存在する基板Pが図7に示す例のように存在する検査対象基板20の再検査処理に関し、出願人が開示している検査装置と同様の手順で検査用治具4をプロービングさせる位置および順序を規定したときには、少なくとも、基板P−A1の再検査を対象とする基板P−A1,P−A2,P−B1,P−B2へのプロービング、基板P−A4の再検査を対象とする基板P−C1,P−C2,P−D1,P−D2へのプロービング、基板P−D1の再検査を対象とする基板P−A3,P−A4,P−B3,P−B4へのプロービング、および基板P−D4の再検査を対象とする基板P−C3,P−C4,P−D3,P−D4へのプロービングの合計4回のプロービングを実行する必要がある。   On the other hand, regarding the re-inspection processing of the inspection target substrate 20 in which the substrate P on which the inspection point inspected as defective exists is as shown in FIG. 7, the inspection is performed in the same procedure as the inspection device disclosed by the applicant. When the position and order for probing the jig 4 are defined, at least the probing to the substrates P-A1, P-A2, P-B1, and P-B2 for the re-inspection of the substrate P-A1, the substrate P -Probing the substrates P-C1, P-C2, P-D1, and P-D2 for re-inspection of A4, and substrates P-A3, P-A4, P for re-inspecting the substrate P-D1 -Probing to B3, P-B4, and probing to substrates P-C3, P-C4, P-D3, and P-D4 for the re-inspection of the substrate P-D4 are performed four times in total. There is a need.

このような例に関しては、本例の基板検査装置1においても、前述したように、Ka=4個の基板P−B2,P−B4,P−C1,P−C3についての再検査処理を完了するまでに、出願人が開示している検査装置と同じ4回のプロービングが必要となる。しかしながら、本例の基板検査装置1では、再検査対象の基板Pが、検査対象基板20上のどのような位置に何個存在したとしても、出願人が開示している検査装置と同様の手順で検査用治具4をプロービングさせる位置および順序を規定したときのプロービング回数を上回ることはない。   Regarding such an example, the substrate inspection apparatus 1 of this example also completes the re-inspection processing for Ka = 4 substrates P-B2, P-B4, P-C1, and P-C3, as described above. Until then, the same four probing steps as the inspection apparatus disclosed by the applicant are required. However, in the substrate inspection apparatus 1 of this example, the same procedure as that of the inspection apparatus disclosed by the applicant is applicable regardless of how many substrates P to be reinspected exist at any position on the inspection target substrate 20. Thus, the number of probing times when the position and sequence for probing the inspection jig 4 are defined is not exceeded.

このように、この基板検査装置1、および基板検査装置1による基板検査方法では、検査対象基板20の一面に区画されたNa×Nb個の基板PのうちのKa個の再検査時に、検査用治具4におけるLa×Lb個のプローブ配設領域A内のすべての各検査用プローブ10がいずれかの基板P内の各検査ポイントにプロービングされるとの条件が満たされ、かつKa個の基板Pのうちの「予め規定された側の端」に位置する基板P内の各検査ポイントにLa×Lb個のプローブ配設領域Aのうちの予め規定された側と同じ側の端に位置するプローブ配設領域A内の各検査用プローブ10がプロービングされるように検査用治具4を検査対象基板20に対して移動させて各検査用プローブ10を各検査ポイントにプロービングさせる「第1の処理」、検査用プローブ10を検査ポイントにプロービングさせた再検査対象のKb個の基板P内の検査ポイントを検査する「第2の処理」、およびKa個の基板Pのうちの再検査を完了したKb個を除くKc個の基板Pを新たなKa個の基板Pとする「第3の処理」を、Ka=0となるまでこの順で繰り返して実行する。   As described above, in the substrate inspection apparatus 1 and the substrate inspection method using the substrate inspection apparatus 1, the inspection is performed at the time of reinspecting Ka of the Na × Nb substrates P partitioned on one surface of the inspection target substrate 20. The condition that all the inspection probes 10 in the La × Lb probe placement areas A in the jig 4 are probed to the inspection points in any of the substrates P is satisfied, and Ka substrates are provided. Each inspection point in the substrate P located at the “predetermined end” of P is located at the end of the La × Lb probe placement area A on the same side as the predetermine side. The inspection jig 4 is moved with respect to the inspection target substrate 20 so that each inspection probe 10 in the probe placement area A is probed, and each inspection probe 10 is probed to each inspection point. processing" “Second process” for inspecting inspection points in Kb substrates P to be reinspected by probing the inspection probe 10 to inspection points, and Kb pieces for which reinspection has been completed among the Ka substrates P The “third process” in which the Kc substrates P except for the new Ka substrates P are repeated in this order until Ka = 0.

したがって、この基板検査装置1、および基板検査装置1による基板検査方法によれば、検査対象基板20上の再検査対象の基板Pの位置によっては、Ka個の基板Pの再検査時のプロービング回数を少数回とすることができ、プロービング回数が最も多数回となる場合においても、出願人が開示している検査装置と同数回を超えるプロービングを必要としないため、検査対象基板20の再検査に要する時間を充分に短縮することができる。また、再検査処理時のプロービング回数を少数回とすることができる分だけ、検査用プローブ10の耐用寿命を充分に延ばして、より多数の検査対象基板20を低コストで検査することができる。   Therefore, according to the substrate inspection method by the substrate inspection apparatus 1 and the substrate inspection apparatus 1, depending on the position of the substrate P to be reinspected on the inspection target substrate 20, the number of probing times at the time of reinspection of the Ka substrates P Even when the number of probing times is the largest number, probing exceeding the same number of times as the inspection apparatus disclosed by the applicant is not required. The time required can be shortened sufficiently. Further, the useful life of the inspection probe 10 can be sufficiently extended by the amount that the number of probing during the re-inspection processing can be reduced to a small number, and a larger number of inspection target substrates 20 can be inspected at a lower cost.

なお、「基板検査装置」の構成や「基板検査方法」の具体的手順については、上記の基板検査装置1の構成や基板検査装置1による基板検査方法の手順の例に限定されない。例えば、La×Lb=2×2=4個のプローブ配設領域A毎に検査用プローブ10が配設された検査用治具4を用いて、Na×Nb=4×4=16個の基板Pを順に検査する構成・方法を例に挙げて説明したが、図8に示すように、La×Lb=2×2=4個のプローブ配設領域A毎に検査用プローブ10が配設された検査用治具4を用いて、Na×Nb=4×2=8個の基板Pが区画された検査対象基板20a(「検査対象基板」の他の一例)を検査する構成・方法(LaおよびLbの一方がNaまたはNbと同数の例)においても、上記の基板検査装置1と同様にして、再検査処理に要する時間を充分に短縮することができる。   The configuration of the “substrate inspection apparatus” and the specific procedure of the “substrate inspection method” are not limited to the configuration of the substrate inspection apparatus 1 and the example of the procedure of the substrate inspection method performed by the substrate inspection apparatus 1. For example, by using the inspection jig 4 in which the inspection probe 10 is disposed for every La × Lb = 2 × 2 = 4 probe disposition regions A, Na × Nb = 4 × 4 = 16 substrates The configuration / method for sequentially inspecting P has been described as an example, but as shown in FIG. 8, an inspection probe 10 is provided for each of La × Lb = 2 × 2 = 4 probe placement areas A. Configuration / method (La) for inspecting an inspection target substrate 20a (another example of “inspection target substrate”) in which Na × Nb = 4 × 2 = 8 substrates P are partitioned using the inspection jig 4 Even in the case where one of Lb and Lb is the same number as Na or Nb), the time required for the re-inspection processing can be sufficiently shortened in the same manner as in the substrate inspection apparatus 1 described above.

具体的には、検査対象基板20aにおける基板P−B1,P−C2のKa=2個の基板P内に不良と検査された検査ポイントが存在する同図の例に関し、出願人が開示している検査装置と同様の手順で検査用治具4をプロービングさせる位置および順序を規定したときには、基板P−B1の再検査を対象とする基板P−A1,P−A2,P−B1,P−B2へのプロービング、および基板P−C2の再検査を対象とする基板P−C1,P−C2,P−D1,P−D2へのプロービングの合計2回のプロービングを実行する必要がある。これに対して、本例の基板検査装置1では、Ka=2個の基板P−B1,P−C2のうちの最も左下側に位置する基板P−B1内の各検査ポイントに検査用治具4の各プローブ配設領域Aにおける最も左下側に位置するプローブ配設領域A−A1内の各検査用プローブ10をプロービングさせることで(「条件」が満たされるプロービングの一例)」、プローブ配設領域A−B2内の各検査用プローブ10が再検査対象の基板P−C2内の各検査ポイントにプロービングされる。したがって、この例では、1回のプロービングによってKa=2個の基板P−B1,P−C2についての再検査処理が完了する。   Specifically, the applicant discloses an example of the same figure in which there are inspection points inspected as defective in Ka = 2 substrates P of the substrates P-B1 and P-C2 in the inspection target substrate 20a. When the position and order for probing the inspection jig 4 are defined in the same procedure as the existing inspection apparatus, the substrates P-A1, P-A2, P-B1, P- for the re-inspection of the substrate P-B1 It is necessary to execute probing to B2 and probing to the substrates P-C1, P-C2, P-D1, and P-D2 for the re-inspection of the substrate P-C2 twice in total. On the other hand, in the substrate inspection apparatus 1 of this example, an inspection jig is provided at each inspection point in the substrate P-B1 located on the lower left side among the Ka = 2 substrates P-B1 and P-C2. 4 by probing each inspection probe 10 in the probe placement region A-A1 located at the lower leftmost position in each probe placement region A (an example of probing satisfying the “condition”) ” Each inspection probe 10 in the region A-B2 is probed to each inspection point in the substrate P-C2 to be reinspected. Therefore, in this example, the reinspection process for Ka = 2 substrates P-B1 and P-C2 is completed by one probing.

また、図9に示すように、La×Lb=2×1=2個のプローブ配設領域A毎に検査用プローブ10が配設された検査用治具4aを用いて、Na×Nb=4×1=4個の基板Pが区画された検査対象基板20b(「検査対象基板」の他の一例)を検査する構成・方法(NaおよびNbの一方が1個であり、これに応じて、LaおよびLbの一方がNaまたはNbと同数の1個の例)においても、上記の基板検査装置1と同様にして、再検査処理に要する時間を充分に短縮することができる。   Further, as shown in FIG. 9, Na × Nb = 4 using an inspection jig 4 a in which inspection probes 10 are arranged for every La × Lb = 2 × 1 = 2 probe arrangement regions A. × 1 = Configuration / method for inspecting inspection target substrate 20b (another example of “inspection target substrate”) in which four substrates P are partitioned (one of Na and Nb is one, and accordingly, Even in the case where one of La and Lb is the same number as Na or Nb), the time required for the re-inspection processing can be sufficiently shortened as in the case of the substrate inspection apparatus 1 described above.

具体的には、検査対象基板20bにおける基板P−B1,P−C1のKa=2個の基板P内に不良と検査された検査ポイントが存在する同図の例に関し、出願人が開示している検査装置と同様の手順で検査用治具4aをプロービングさせる位置および順序を規定したときには、基板P−B1の再検査を対象とする基板P−A1,P−B1へのプロービング、および基板P−C1の再検査を対象とする基板P−C1,P−D1へのプロービングの合計2回のプロービングを実行する必要がある。これに対して、本例の基板検査装置1では、Ka=2個の基板P−B1,P−C1のうちの最も左側に位置する基板P−B1内の各検査ポイントに検査用治具4の各プローブ配設領域Aにおける最も左側に位置するプローブ配設領域A内の各検査用プローブ10をプロービングさせることで(「条件」が満たされるプロービングの一例)」、他のプローブ配設領域A内の各検査用プローブ10が再検査対象の基板P−C1内の各検査ポイントにプロービングされる。したがって、この例では、1回のプロービングによってKa=2個の基板P−B1,P−C1についての再検査処理が完了する。   Specifically, the applicant discloses an example of the figure in which there are inspection points inspected as defective in Ka = 2 substrates P of the substrates P-B1 and P-C1 in the inspection target substrate 20b. When the position and sequence for probing the inspection jig 4a are defined in the same procedure as the existing inspection apparatus, the probing to the substrates P-A1 and P-B1 for the re-inspection of the substrate P-B1, and the substrate P -It is necessary to perform probing twice in total for probing the substrates P-C1 and P-D1 targeted for re-inspection of C1. On the other hand, in the substrate inspection apparatus 1 of this example, the inspection jig 4 is attached to each inspection point in the substrate P-B1 located on the leftmost side of the Ka = 2 substrates P-B1, P-C1. By probing each inspection probe 10 in the probe placement region A located on the leftmost side in each probe placement region A (an example of probing that satisfies “conditions”), other probe placement regions A Each inspection probe 10 is probed to each inspection point in the substrate P-C1 to be reinspected. Therefore, in this example, the re-inspection process for Ka = 2 substrates P-B1 and P-C1 is completed by one probing.

さらに、複数の基板Pが形成された検査対象基板20,20a,20bを検査する例について説明したが、例えば、1枚の基板上に検査ポイントが同様の配列となるように複数の配線パターン領域(「検査対象領域」の他の一例)が設けられたものを対象として検査する際にも、上記の検査対象基板20,20a,20bの検査時と同様に再検査に要する時間を充分に短縮することができる。また、移動機構3が検査対象基板20に向けて検査用治具4を移動させることで検査対象基板20の各検査ポイントに検査用プローブ10をプロービングさせる構成・方法を例に挙げて説明したが、所定の位置に固定的に配設された「検査用治具」に向けて「検査対象基板」を移動させることで「各検査ポイント」に「検査用プローブ」をプロービングさせる構成・方法や、「検査対象基板」に向けて「検査用治具」を移動させつつ「検査用治具」に向けて「検査対象基板」を移動させることで「各検査ポイント」に「検査用プローブ」をプロービングさせる構成・方法を採用することもできる。   Further, the example of inspecting the inspection target substrates 20, 20 a, 20 b on which the plurality of substrates P are formed has been described. For example, a plurality of wiring pattern regions are arranged so that inspection points are arranged in the same manner on one substrate Even when inspecting an object provided with (another example of “inspection target area”), the time required for re-inspection is sufficiently shortened in the same manner as inspecting the above-described inspection target substrates 20, 20a, 20b. can do. In addition, the configuration and method of probing the inspection probe 10 to each inspection point of the inspection target substrate 20 by moving the inspection jig 4 toward the inspection target substrate 20 by the moving mechanism 3 has been described as an example. , A configuration / method for probing the “inspection probe” to each “inspection point” by moving the “substrate to be inspected” toward the “inspection jig” fixedly arranged at a predetermined position, Probing “Inspection Probes” to “Inspection Points” by moving “Inspection Substrate” toward “Inspection Jig” while moving “Inspection Jig” toward “Inspection Substrate” It is also possible to adopt a configuration / method to be performed.

1 基板検査装置
3 移動機構
4,4a 検査用治具
5 検査部
8 制御部
9 記憶部
10 検査用プローブ
20,20a,20b 検査対象基板
A−A1,A−A2,A−B1,A−B2 プローブ配設領域
D 検査結果データ
P−A1〜P−A4,P−B1〜P−B4,P−C1〜P−C4,P−D1〜P−D4 基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate inspection apparatus 3 Moving mechanism 4, 4a Inspection jig | tool 5 Inspection part 8 Control part 9 Memory | storage part 10 Inspection probe 20, 20a, 20b Inspection object board | substrate A-A1, A-A2, A-B1, A-B2 Probe placement area D Inspection result data P-A1 to P-A4, P-B1 to P-B4, P-C1 to P-C4, P-D1 to P-D4 Substrate

Claims (2)

検査対象基板の一面に区画された複数の検査対象領域内にそれぞれ規定された複数の検査ポイントの当該各検査対象領域内における配置に応じて複数の検査用プローブが配設された検査用治具と、当該検査用治具および前記検査対象基板の少なくとも一方を他方に対して移動させて前記各検査用プローブを前記各検査ポイントにプロービングさせる移動機構と、前記各検査用プローブを介して前記検査対象領域内の前記各検査ポイントに対して入出力させた電気電号に基づいて当該各検査ポイントを検査する検査部と、前記移動機構による前記少なくとも一方の移動および前記検査部による前記各検査ポイントの検査を制御する制御部とを備え、
前記検査用治具が、第1の方向に沿った区画数がNaで当該第1の方向と交差する第2の方向に沿った区画数がNbとなるように区画されると共に同一の配置となるように前記各検査ポイントがそれぞれ規定された(Na×Nb)個(NaおよびNbは、いずれも自然数であり、かつ、少なくとも一方が4以上との条件を満たす数)の前記検査対象領域のうちの(Ma×Mb)個(Maは、Na以下の自然数であって当該第1の方向に沿った個数であり、Mbは、Nb以下の自然数であって当該第2の方向に沿った個数であり、かつ、MaおよびMbの少なくとも一方は2以上との条件を満たす数)の当該検査対象領域内の当該各検査ポイントに前記各検査用プローブをプロービング可能に、(La×Lb)個(Laは、第1の方向に対応する第3の方向に沿った区画数であってMaと同一の数であり、Lbは、第2の方向に対応する第4の方向に沿った区画数であってMbと同一の数)のプローブ配設領域毎に同一の配置で当該各検査用プローブが配設されて構成され、
前記制御部が、前記移動機構を制御して前記(Na×Nb)個の検査対象領域内の前記各検査ポイントに前記検査用治具の前記各検査用プローブを順次プロービングさせつつ、前記検査部を制御して当該各検査ポイントを検査させる基板検査装置であって、
前記制御部は、Ka個(Kaは、Na×Nb以下の自然数)の前記検査対象領域の再検査時に、前記(La×Lb)個のプローブ配設領域内のすべての前記各検査用プローブが前記(Na×Nb)個の検査対象領域のうちのいずれかの当該検査対象領域内の前記各検査ポイントにプロービングされるとの条件が満たされ、かつ、前記Ka個の検査対象領域のうちの予め規定された側の端に位置する当該検査対象領域内の前記各検査ポイントに前記(La×Lb)個のプローブ配設領域のうちの当該予め規定された側と同じ側の端に位置する当該プローブ配設領域内の前記各検査用プローブがプロービングされるように前記移動機構を制御して前記少なくとも一方を前記他方に対して移動させて当該各検査用プローブを当該各検査ポイントにプロービングさせる第1の処理、前記検査部を制御して前記検査用プローブが前記検査ポイントにプロービングされている再検査対象のKb個(Kbは、Ka以下の自然数)の前記検査対象領域内の当該検査ポイントを検査させる第2の処理、および前記Ka個の検査対象領域のうちの再検査を完了した前記Kb個を除くKc個の前記検査対象領域を新たな前記Ka個の検査対象領域とする第3の処理を、Ka=0となるまでこの順で繰り返して実行する基板検査装置。
An inspection jig in which a plurality of inspection probes are arranged in accordance with the arrangement of a plurality of inspection points respectively defined in a plurality of inspection target areas partitioned on one surface of the inspection target substrate in each inspection target area A moving mechanism that moves at least one of the inspection jig and the substrate to be inspected relative to the other to probe the inspection probes to the inspection points, and the inspection via the inspection probes. An inspection unit that inspects each inspection point based on an electric signal input / output to / from each inspection point in the target area, the at least one movement by the moving mechanism, and each inspection point by the inspection unit A control unit for controlling the inspection of
The inspection jig is partitioned such that the number of sections along the first direction is Na and the number of sections along the second direction intersecting with the first direction is Nb and the same arrangement. The (Na × Nb) (Na × Nb are both natural numbers, and at least one satisfies the condition of 4 or more) of the inspection target regions in which the inspection points are respectively defined. Of these, (Ma × Mb) (Ma is a natural number equal to or less than Na and the number along the first direction, and Mb is a natural number equal to or less than Nb and the number along the second direction. And at least one of Ma and Mb satisfies the condition that it is 2 or more) (La × Lb) (provided that each of the inspection probes in the inspection target region can be probed). La corresponds to the first direction 3 is the same number as Ma, and Lb is the number of sections along the fourth direction corresponding to the second direction and the same number as Mb). Each inspection probe is arranged in the same arrangement for each installation area,
The control unit controls the moving mechanism to sequentially probe the inspection probes of the inspection jig at the inspection points in the (Na × Nb) inspection target regions, and the inspection unit. A board inspection apparatus that controls each inspection point by controlling
At the time of re-examination of the inspection target area of Ka pieces (Ka is a natural number equal to or less than Na × Nb), the control unit sets all the inspection probes in the (La × Lb) probe arrangement areas. Of the (Na × Nb) number of inspection target areas, a condition that the probe point is to be probed at each of the inspection points in the inspection target area is satisfied, and among the Ka number of inspection target areas, Each inspection point in the inspection target region positioned at the end on the predetermined side is positioned at the end on the same side as the predetermined side in the (La × Lb) probe arrangement regions. The moving mechanism is controlled so that each inspection probe in the probe placement region is probed, and at least one of the inspection probes is moved with respect to the other, so that each inspection probe is connected to each inspection point. A first process to be rubbed, and the inspection unit is controlled so that the inspection probe is probed at the inspection point in the inspection target region in the inspection target region of Kb pieces (Kb is a natural number equal to or less than Ka) Second processing for inspecting inspection points, and Kc of the inspection target areas excluding Kb of which the re-inspection has been completed out of the Ka inspection target areas are set as new Ka inspection target areas. A substrate inspection apparatus that repeatedly executes the third process in this order until Ka = 0.
検査対象基板の一面に区画された複数の検査対象領域内にそれぞれ規定された複数の検査ポイントの当該各検査対象領域内における配置に応じて複数の検査用プローブが配設された検査用治具と当該検査対象基板との少なくとも一方を他方に対して移動させて当該各検査用プローブを当該各検査ポイントにプロービングさせた状態において当該各検査用プローブを介して前記検査対象領域内の前記各検査ポイントに対して入出力させた電気電号に基づいて当該各検査ポイントを検査する際に、第1の方向に沿った区画数がNaで当該第1の方向と交差する第2の方向に沿った区画数がNbとなるように区画されると共に同一の配置となるように前記各検査ポイントがそれぞれ規定された(Na×Nb)個(NaおよびNbは、いずれも自然数であり、かつ、少なくとも一方が4以上との条件を満たす数)の前記検査対象領域のうちの(Ma×Mb)個(Maは、Na以下の自然数であって当該第1の方向に沿った個数であり、Mbは、Nb以下の自然数であって当該第2の方向に沿った個数であり、かつ、MaおよびMbの少なくとも一方は2以上との条件を満たす数)の当該検査対象領域内の当該各検査ポイントに前記各検査用プローブをプロービング可能に、(La×Lb)個(Laは、第1の方向に対応する第3の方向に沿った区画数であってMaと同一の数であり、Lbは、第2の方向に対応する第4の方向に沿った区画数であってMbと同一の数)のプローブ配設領域毎に同一の配置で当該各検査用プローブが配設されて構成された前記検査用治具を使用して、前記(Na×Nb)個の検査対象領域内の前記各検査ポイントに当該検査用治具の前記各検査用プローブを順次プロービングさせつつ当該各検査ポイントを検査する基板検査方法であって、
Ka個(Kaは、Na×Nb以下の自然数)の前記検査対象領域の再検査時に、前記(La×Lb)個のプローブ配設領域内のすべての前記各検査用プローブが前記(Na×Nb)個の検査対象領域のうちのいずれかの当該検査対象領域内の前記各検査ポイントにプロービングされるとの条件が満たされ、かつ、前記Ka個の検査対象領域のうちの予め規定された側の端に位置する当該検査対象領域内の前記各検査ポイントに前記(La×Lb)個のプローブ配設領域のうちの当該予め規定された側と同じ側の端に位置する当該プローブ配設領域内の前記各検査用プローブがプロービングされるように前記少なくとも一方を前記他方に対して移動させて当該各検査用プローブを当該各検査ポイントにプロービングさせる第1の処理、前記検査用プローブが前記検査ポイントにプロービングされている再検査対象のKb個(Kbは、Ka以下の自然数)の前記検査対象領域内の当該検査ポイントを検査させる第2の処理、および前記Ka個の検査対象領域のうちの再検査を完了した前記Kb個を除くKc個の前記検査対象領域を新たな前記Ka個の検査対象領域とする第3の処理を、Ka=0となるまでこの順で繰り返して実行する基板検査方法。
An inspection jig in which a plurality of inspection probes are arranged in accordance with the arrangement of a plurality of inspection points respectively defined in a plurality of inspection target areas partitioned on one surface of the inspection target substrate in each inspection target area And each inspection in the inspection target region via each inspection probe in a state where each inspection probe is probed to each inspection point by moving at least one of the inspection target substrate and the other inspection target substrate When inspecting each inspection point based on the electric signal input / output with respect to the point, the number of sections along the first direction is Na and the second direction intersects with the first direction. (Na × Nb) (Na and Nb are both natural numbers). Each inspection point is defined so that the number of sections is Nb and the same arrangement is made. And (Ma × Mb) (Ma is a natural number of Na or less and the number in the first direction) out of the inspection target regions. Mb is a natural number equal to or less than Nb and is a number along the second direction, and at least one of Ma and Mb satisfies the condition of 2 or more) (La × Lb) (La is the number of sections along the third direction corresponding to the first direction and the same number as Ma) so that each inspection probe can be probed at each inspection point. Yes, Lb is the number of sections along the fourth direction corresponding to the second direction and the same number as the probe Mb), and the inspection probes are arranged in the same arrangement. Using the inspection jig configured as described above, the (Na × Nb) A substrate inspection method for inspecting each inspection point while sequentially probing each inspection probe of the inspection jig to each inspection point in each of the inspection target regions,
At the time of re-inspection of the inspection target area Ka (Ka is a natural number equal to or less than Na × Nb), all the inspection probes in the (La × Lb) probe arrangement regions are the (Na × Nb). ) A condition that the probe point is to be probed at each inspection point in any one of the inspection target areas, and a predetermined side of the Ka inspection target areas is satisfied. The probe placement region located at the end on the same side as the predetermined side of the (La × Lb) probe placement regions at each inspection point in the inspection target region located at the end of the probe A first process for probing each inspection point to each inspection point by moving at least one of the inspection probes relative to the other so that each of the inspection probes is probed A second process for inspecting the inspection points in the inspection object area of Kb pieces (Kb is a natural number equal to or less than Ka) of re-inspection objects whose lobes are probed to the inspection points; and the Ka inspection objects The third process of setting the Kc inspection target areas excluding the Kb pieces of the reexamination among the areas to be the new Ka inspection target areas is repeated in this order until Ka = 0. Board inspection method to be executed.
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