JP2014017128A - 透明導電性基板の製造方法 - Google Patents
透明導電性基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014017128A JP2014017128A JP2012154094A JP2012154094A JP2014017128A JP 2014017128 A JP2014017128 A JP 2014017128A JP 2012154094 A JP2012154094 A JP 2012154094A JP 2012154094 A JP2012154094 A JP 2012154094A JP 2014017128 A JP2014017128 A JP 2014017128A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive layer
- layer
- transparent
- transparent conductive
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 61
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 31
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 27
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 6
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- -1 aluminum compound Chemical class 0.000 claims description 8
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 157
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- NLSFWPFWEPGCJJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoyloxysilicon Chemical compound CC(=C)C(=O)O[Si] NLSFWPFWEPGCJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- MOVRCMBPGBESLI-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxysilicon Chemical compound [Si]OC(=O)C=C MOVRCMBPGBESLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC1=CC=CC=C1 HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBPADELTPKRSCQ-UHFFFAOYSA-N 9h-fluoren-1-yl prop-2-enoate Chemical compound C1C2=CC=CC=C2C2=C1C(OC(=O)C=C)=CC=C2 IBPADELTPKRSCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000583 Nd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N [2-[2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)butoxymethyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CC)COCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N [60]pcbm Chemical compound C123C(C4=C5C6=C7C8=C9C%10=C%11C%12=C%13C%14=C%15C%16=C%17C%18=C(C=%19C=%20C%18=C%18C%16=C%13C%13=C%11C9=C9C7=C(C=%20C9=C%13%18)C(C7=%19)=C96)C6=C%11C%17=C%15C%13=C%15C%14=C%12C%12=C%10C%10=C85)=C9C7=C6C2=C%11C%13=C2C%15=C%12C%10=C4C23C1(CCCC(=O)OC)C1=CC=CC=C1 MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000301 poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920005650 polypropylene glycol diacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000007764 slot die coating Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【解決手段】透明な基材上に、シランカップリング剤を含む硬化性樹脂を硬化させることにより得られるプライマー層が形成された、透明基板を準備する工程と、前記プライマー層上に、導電性金属または導電性金属化合物を含むパターン導電層形成用塗工液を塗布し、その後乾燥することにより、パターン導電層を形成する工程と、前記プライマー層上に、透明導電性金属酸化物を蒸着することにより、透明導電層を形成する工程と、により透明導電性基板を製造する。
【選択図】図3
Description
なお、本願発明に関連すると思われる先行技術として、下記特許文献1が挙げられる。
図1は、この工程において準備される基材の概略断面図である。
図2は、図1(a)に示した透明基板10上にパターン導電層20を形成した際の概略断面図である。
図3は、図2に示したパターン導電層が形成された後の透明基板上に透明導電層を形成した際の概略断面図である。
透明基板を構成する透明な基材として、PEN基板(Q65−FA、帝人デュポン社、300mm幅、300m、125umt)を準備し、これを水洗、乾燥することにより、当該基材の表面を洗浄した。
・メタクリロキシ系シランカップリング剤(3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名:KBM−503):8質量部
・ポリエステルアクリレート(重合性化合物、東亞合成株式会社製、商品名:M−8030):15質量部
・フルオレンアクリレート(重合性化合物、新中村化学工業株式会社製、商品名:NKエステル A−BPEF):15質量部
・メチルエチルケトン:30質量部
・トルエン:30質量部
・オリゴ[2−ヒドロキシ−2−メチル−[1−(メチルビニル)フェニル]プロパノン](光重合開始剤、lamberti社製、商品名:ESACURE ONE):2質量部
上記実施例1の製造方法による透明導電性基板を用い、有機太陽電池を製造した。すなわち、透明導電性基板上に、正孔輸送層としてのPEDOT−PSS(Clevious,AI−4083)および光電変換層としてのP3HT/PCBM層をグラビア印刷法により形成し、電子輸送層としてCa、対向電極としてAlを蒸着形成し、有機薄膜太陽電池素子を製造した。有機薄膜太陽電池形成プロセスでは、PEDOT−PSS乾燥工程において150℃・15分の加熱工程および、光電変換層の乾燥工程にて150℃・15分の加熱工程が行われたが、透明導電性基板の状態は良好であった。
実施例1と同じ透明な基材を準備し、これを実施例1と同じように洗浄した。洗浄後の基材の表面に対し、易接着処理を施し、易接着処理面に対し、実施例1と同じパターン導電層形成用塗工液を用いて、実施例1と同じ条件にてパターン導電層を形成した。
比較例1の製造方法による透明導電性基板を用い、上記実施例1と同じ評価を行ったところ、透明な基材から透明導電層が剥離してしまい、透明導電層にクラックは発生していた。有機薄膜太陽電池としては不適であった。
実施例1と同じ透明な基材を準備し、これを実施例1と同じように洗浄した。洗浄後の基材の表面に、実施例1と同じパターン導電層形成用塗工液を用いて、実施例1と同じ条件にてパターン導電層を形成した。つまり、比較例2においては、プライマー層は設けられておらず、易接着処理も施されていない。
パターン導電層を形成した後にその表面を観察すると、複数の箇所にてパターン導電層が透明な基材から剥離していることが分かった。よって、透明導電層を形成するまでもなく、透明導電性基板としては不適であり、有機薄膜太陽電池を製造することもできなかった。
11…透明な基材
12…プライマー層
20…パターン導電層
30…透明導電層
Claims (2)
- 透明な基材上に、シランカップリング剤を含む硬化性樹脂を硬化させることにより得られるプライマー層が形成された、透明基板を準備する工程と、
前記プライマー層上に、導電性金属または導電性金属化合物を含むパターン導電層形成用塗工液を塗布し、その後乾燥することにより、パターン導電層を形成する工程と、
前記プライマー層上に、透明導電性金属酸化物を蒸着することにより、透明導電層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする透明導電性基板の製造方法。 - 前記透明な基材における前記プライマー層が形成される表面には、珪素化合物またはアルミニウム化合物を含むガスバリア層が存在していることを特徴とする請求項1に記載の透明導電性基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012154094A JP5949238B2 (ja) | 2012-07-09 | 2012-07-09 | 透明導電性基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012154094A JP5949238B2 (ja) | 2012-07-09 | 2012-07-09 | 透明導電性基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014017128A true JP2014017128A (ja) | 2014-01-30 |
JP5949238B2 JP5949238B2 (ja) | 2016-07-06 |
Family
ID=50111652
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012154094A Expired - Fee Related JP5949238B2 (ja) | 2012-07-09 | 2012-07-09 | 透明導電性基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5949238B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015149219A (ja) * | 2014-02-07 | 2015-08-20 | 凸版印刷株式会社 | El素子用前面板及び照明装置 |
US10763456B2 (en) | 2014-02-07 | 2020-09-01 | Toppan Printing Co., Ltd. | EL device use front plate and lighting device |
JP2021002478A (ja) * | 2019-06-21 | 2021-01-07 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002358843A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Toppan Printing Co Ltd | 透明導電性フィルム及びその製造方法、並びにそれを用いたエレクトロルミネッセンス素子 |
-
2012
- 2012-07-09 JP JP2012154094A patent/JP5949238B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002358843A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Toppan Printing Co Ltd | 透明導電性フィルム及びその製造方法、並びにそれを用いたエレクトロルミネッセンス素子 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6016016063; シランカップリング剤 ver.2, 200810, p1-p.20, 東レ・ダウコーニング株式会社 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015149219A (ja) * | 2014-02-07 | 2015-08-20 | 凸版印刷株式会社 | El素子用前面板及び照明装置 |
US10763456B2 (en) | 2014-02-07 | 2020-09-01 | Toppan Printing Co., Ltd. | EL device use front plate and lighting device |
JP2021002478A (ja) * | 2019-06-21 | 2021-01-07 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
WO2021001691A3 (ja) * | 2019-06-21 | 2021-03-04 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5949238B2 (ja) | 2016-07-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8198796B2 (en) | Transparent electrode and production method of same | |
JP6783294B2 (ja) | 透明電極及びこれを備えた有機電子デバイス | |
JP5625256B2 (ja) | 透明電極、透明電極の製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
CN107405880A (zh) | 透明导电层叠层用膜、其制造方法及透明导电膜 | |
JP2005111702A (ja) | ガスバリア性基材とディスプレイ用基板および有機elディスプレイ | |
JP6787584B2 (ja) | 透明導電層積層用フィルム、その製造方法、及び透明導電性フィルム | |
WO2010026869A1 (ja) | 複合フィルム、ガスバリアフィルム及びその製造方法並びに有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP6170627B2 (ja) | 電子デバイスの製造方法および複合フィルム | |
JP5949238B2 (ja) | 透明導電性基板の製造方法 | |
WO2010024149A1 (ja) | 複合フィルム、ガスバリアフィルム及びその製造方法並びに有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP5712509B2 (ja) | バリアフィルムの製造方法 | |
JP5741489B2 (ja) | ガスバリア性フィルムおよび電子デバイス | |
CN101471427A (zh) | 有机发光二极管和制造有机发光二极管的方法 | |
JP6489016B2 (ja) | 電子デバイスおよびその製造方法 | |
JP5692230B2 (ja) | ガスバリアフィルムの製造方法 | |
JPWO2016133130A1 (ja) | 封止構造体 | |
JP2011086482A (ja) | 透明電極、透明電極の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
WO2018190010A1 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP5928634B2 (ja) | ガスバリア性フィルムおよび電子デバイス | |
CN108369297B (zh) | 抗静电膜以及其层压 | |
JP2011070792A (ja) | 透明電極の製造方法及び透明電極 | |
JP2011086386A (ja) | パターン電極、および有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP2014041298A (ja) | 低屈折率層形成用樹脂組成物および反射防止フィルム | |
JP2013073851A (ja) | 透明導電性積層体およびその製造方法 | |
WO2016052158A1 (ja) | 透明導電体及びこれを含むタッチパネル |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150528 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160209 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160408 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160510 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160523 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5949238 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |