JP2014041298A - 低屈折率層形成用樹脂組成物および反射防止フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】反射防止性能に優れる偏光板用保護フィルムすなわち反射防止フィルムを安価に提供することにあり、かつ、反射スペクトルがフラットに近く、反射色の色目がニュートラルなギラツキのない反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】透明基材と、ハードコート層と、低屈折率層とを備える反射防止フィルムの低屈折率層を形成するための低屈折率層形成用樹脂組成物であって、低屈折率粒子と、アリール基を有するポリシランとを含み、ポリシランの含有量を、塗液中の固形分に対し１５ｗｔ％〜２０ｗｔ％とする。
【選択図】図１

Description

本発明は反射スペクトルがフラットに近く、反射色の色目がニュートラルな反射防止フィルムに関するものである。

近年、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）などに代表される高精細大画面ディスプレイの開発が急速に進んでいる。ディスプレイの表示面には、その視認性を高めるために、画面への蛍光灯など外光の映り込みを防止する反射防止機能を有する反射防止層を表面に配置する必要がある。

反射防止フィルムなどの光学フィルムの製造過程における塗工方法として、大面積化、および連続生産ができ、かつ、低コスト化が可能なウエットコーティング法が注目されている。また近年、プラズマディスプレイパネルなど、その一部に光学フィルムが用いられているディスプレイを有する薄型テレビジョンなどの価格競争は極めて熾烈であり、これらに用いられる光学用フィルムのコストダウンの要求も極めて高くなってきている。

偏光板は液晶表示装置（ＬＣＤ）において不可欠な光学材料である。偏光板は、一般に、偏光膜が２枚の保護フィルムによって保護されている構造をしている。これらの保護フィルムに反射防止機能や防眩機能を付与することで大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。

一般に、基材フィルムにハードコート層を形成し、さらにその上に高屈折率層と低屈折率層の２層からなる反射防止層を形成する場合、空気の屈折率をｎ_０、ハードコート層の屈折率をｎ_Ｇ、高屈折率層の屈折率をｎ_Ｈ、厚みをｄ_Ｈ、低屈折率層の屈折率をｎ_Ｌ、厚みをｄ_Ｌ、反射を防止しようとする光の波長をλとするとき、以下の（Ａ）〜（Ｃ）の無反射条件を満足させなければならない。

ｎ_Ｈｄ_Ｈ＝λ／４ （Ａ）
ｎ_Ｌｄ_Ｌ＝λ／４ （Ｂ）
ｎ_Ｇ／ｎ_０＝（ｎ_Ｈ／ｎ_Ｌ）^２ （Ｃ）。

ここで、ｎ_０＝１．００、ｎ_Ｇ＝１．５０とすると、ｎ_Ｈ／ｎ_Ｌが１．２２となり、厚みの比ｄ_Ｈ／ｄ_Ｌを０．８２としたとき、波長λにて最低の反射率が得られる。しかし、２層では一般に得られる反射スペクトルは波長λで最小反射率となり、それより短波長側および長波長側では反射率が増加してＶ字型のスペクトルとなり、比較的狭い領域でしか反射防止効果は得られず、そのため反射色が青や赤の色目となり、ギラツキの原因とされている。反射防止層をさらに多層にすれば反射スペクトルはよりフラットとなって可視光域全般に渡って反射防止効果が得られるようになるが、製造工程数の増加によるコストアップにつながる（例えば、特許文献１参照）。

特開２００７―１３３３８６号公報

本発明は、反射防止性能に優れる偏光板用保護フィルムすなわち反射防止フィルムを安価に提供することにあり、かつ、反射スペクトルがフラットに近く、反射色の色目がニュートラルなギラツキのない反射防止フィルムを提供することを目的とする。

本発明は、透明基材と、ハードコート層と、低屈折率層とを備える反射防止フィルムの低屈折率層を形成するための低屈折率層形成用樹脂組成物であって、低屈折率粒子と、アリール基を有するポリシランとを含み、ポリシランの含有量が、塗液中の固形分に対し１５ｗｔ％〜２０ｗｔ％であることを特徴とする。

上記のポリシランが、以下の一般式（１）により表されるものであることが好ましい。

ここで、Ｒ_１またはＲ_２の一方または両方がアリール基を含む置換基を表す。

上記のポリシランが、以下の一般式（２）により表されるものであることが好ましい。

ここで、Ｒ_３はアリール基を含む置換基を表す。

また、上記の反射防止フィルムにおいて、透明基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層が形成され、ハードコート層の透明基材とは反対側の面に低屈折率層が形成され、低屈折率層を、上記の低屈折率層形成用樹脂組成物で形成してもよい。

また、反射率スペクトルの形がフラットであり、３６０ｎｍ〜８００ｎｍの波長において反射率の変化が０．７％以下であることが好ましい。

また、反射防止フィルムの低屈折率層表面でのＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相が０．００≦ａ＊≦３．００であり、且つ、−３．００≦ｂ＊≦３．００を満たすことが好ましい。

また、本発明の偏光板は、上記の反射防止フィルムの低屈折率層とは反対側の面に設けられる偏光層と、反射某社フィルムとの間に偏光層を挟み込む第２の透明基材とを備える。

また、本発明の透過型液晶ディスプレイは、観察側の最表面から順に、上記の偏光板と、液晶セルと、偏光板と、バックライトユニットとをこの順に備える。

本発明の低屈折率層形成用樹脂組成物を用いることにより、反射スペクトルがフラットで、色相がニュートラルなギラツキの少ない反射防止フィルムを安価に製造することができる。

実施の形態に係る反射防止フィルムの断面模式図 実施例１に係る反射防止フィルムの反射スペクトルを示す図 実施例２に係る反射防止フィルムの反射スペクトルを示す図 実施例３に係る反射防止フィルムの反射スペクトルを示す図 比較例１に係る反射防止フィルムの反射スペクトルを示す図 比較例２に係る反射防止フィルムの反射スペクトルを示す図 比較例３に係る反射防止フィルムの反射スペクトルを示す図

まず、本発明に係る反射防止フィルムについて説明する。図１に、実施の形態に係る反射防止フィルム１の断面模式図を示す。反射防止フィルム１は、透明基材１１と、透明基材１１の少なくとも一方の面に設けられるハードコート層１２と、低屈折率層１３とをこの順に備える。

透明基材１１の少なくとも一方の面にハードコート層１２を設けることにより、反射防止フィルム１の表面に高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れた反射防止フィルム１とすることができる。また、ハードコート層１２上であって、透明基材１１と反対側の面に、可視光領域において波長の１／４となるような光学膜厚を有する低屈折率層１３が設けられる。これにより、反射防止フィルム１表面に入射する外光の反射を抑制することができる。なお、ハードコート層１２に導電性材料を添加することにより、ハードコート層１２に帯電防止性を付与してもよい。

次に、本発明に係る低屈折率層１３形成用樹脂組成物について説明する。

本発明者は、低屈折率層１３形成用の塗液にアリール基を含むポリシランを用いることで、透明基材１１上にハードコート層１２と、低屈折率層１３とを積層した２層構成にも関わらず、色相がニュートラルな反射防止フィルム１とすることができることを見出し、本発明に至った。具体的には、低屈折率層１３形成用の塗液に、ポリシランを、塗液の固形分に対し、１５ｗｔ％〜２０ｗｔ％（質量パーセント濃度）添加する。上記範囲で、低屈折率層１３形成用の塗液にポリシランを添加することにより、ポリシランがハードコート層１２を溶解し、低屈折率層１３とハードコート層１２界面に偏在することにより、反射スペクトルがフラットで、反射率が優れた、ギラツキの少ない反射防止フィルム１とすることができる。ポリシランの添加量が１５ｗｔ％以下では、反射率は低くなるものの、反射スペクトルがフラットではなくなり、色相が青色や赤色を帯びてしまい、ギラツキがでてしまう場合がある。また、一方で、ポリシランの添加量が２０ｗｔ％以上では、ポリシランが塗膜自体の屈折率を上げ、反射率が高くなってしまう場合がある。

低屈折率層１３形成用樹脂組成物に使用するアリール基を含むポリシランとしては、以下の一般式（１）または一般式（２）で表される構造単位を有していることが好ましい。

ここで、Ｒ_１またはＲ_２の一方または両方がアリール基を有する。Ｒ_１およびＲ_２の詳細については後述する。

ここで、Ｒ_３はアリール基を有する。Ｒ_３の詳細については後述する。

上記、一般式中のＲ_１、Ｒ_２、Ｒ_３が有するアリール基としては、フェニル、メチルフェニル（トリル）、ジメチルフェニル（キシリル）、ナフチルなどの置換基を有していてもよいＣ_６−２０アリール基（好ましくは置換基を有していてもよいＣ_６−１５アリール基、さらに好ましくは置換基を有していてもよいＣ_６−１２アリール基など）などが挙げられる。

なお、本明細書において、「Ｃ_ｍ−ｎ」とは「炭素数がｍ〜ｎである」ことを示している。

また、一般式（１）中のＲ_１もしくはＲ_２のアリール基以外の置換基としては、炭化水素基（アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アラルキル基など）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アミノ基、シリル基、ハロゲン原子などが挙げられる。

アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、へキシルなどのＣ_１−１４アルキル基（好ましくはＣ_１−１０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１−６アルキル基）などが挙げられる。アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル、ペンテニルなどのＣ_２−１４アルケニル基（好ましくはＣ_２−１０アルケニル基、さらに好ましくはＣ_２−６アルケニル基）などが挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシルなどのＣ_５−１４シクロアルキル基（好ましくはＣ_５−１０シクロアルキル基、さらに好ましくはＣ_５−８シクロアルキル基）などが挙げられる。シクロアルケニル基としては、シクロペンテニル、シクロヘキセニルなどのＣ_５−１４シクロアルケニル基（好ましくはＣ_５−１０シクロアルケニル基、さらに好ましくはＣ_５−８シクロアルケニル基）などが挙げられる。アラルキル基としては、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピルなどのＣ_６−２０アリール−Ｃ_１−４アルキル基（好ましくはＣ_６−１０アリール−Ｃ_１−２アルキル基）などが挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチルオキシなどのＣ_１−１４アルコキシ基（好ましくはＣ_１−１０アルコキシ基、さらに好ましくはＣ_１−６アルコキシ基）が挙げられる。シクロアルキルオキシ基としては、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシなどのＣ_５−１４シクロアルキルオキシ基（好ましくはＣ_５−１０シクロアルキルオキシ基、さらに好ましくはＣ_５−８シクロアルキルオキシ基）などが挙げられる。アリールオキシ基としては、フェノキシ、ナフチルオキシなどのＣ_６−２０アリールオキシ基（好ましくはＣ_６−１５アリールオキシ基、さらに好ましくはＣ_６−１２アリールオキシ基）などが挙げられる。アラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ、フェニルプロピルオキシなどのＣ_６−２０アリール−Ｃ_１−４アルキルオキシ基（好ましくはＣ_６−１０アリール−Ｃ_１−２アルキルオキシ基）などが挙げられる。アミノ基としては、アミノ基（−ＮＨ_２）、置換アミノ基（アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基などで置換されたＮ−モノまたはＮ，Ｎ−ジ置換アミノ基など）などが挙げられる。シリル基としては、シリル基、ジシラニル基、トリシラニル基などのＳｉ_１−１０シラニル基（好ましくはＳｉ_１−６シラニル基）、置換シリル基（例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基などで置換された置換シリル基）などが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。

代表的なポリシランのホモポリマー（単独重合体）としては、例えば、ポリジメチルシラン、ポリ（メチルプロピル）シラン、ポリ（メチルブチル）シラン、ポリ（メチルペンチル）シラン、ポリ（ジブチル）シラン、ポリ（ジヘキシル）シランなどのポリジアルキルシランや、ポリフェニルシランなどのポリモノアリールシラン（ポリアリールシラン）や、ポリ（ジフェニル）シランなどのポリジアリールシランや、ポリ（メチルフェニル）シランなどのポリ（アルキルアリール）シランなどが挙げられる。また、代表的なポリシランのコポリマー（共重合体）としては、例えば、ジメチルシラン−メチルヘキシルシラン共重合体などのジアルキルシランと他のジアルキルシランとの共重合体や、フェニルシラン−メチルフェニルシラン共重合体などのアリールシラン−アルキルアリールシラン共重合体や、ジメチルシラン−メチルフェニルシラン共重合体や、ジメチルシラン−フェニルヘキシルシラン共重合体や、ジメチルシラン−メチルナフチルシラン共重合体や、メチルプロピルシラン−メチルフェニルシラン共重合体などのジアルキルシラン−アルキルアリールシラン共重合体などが挙げられる。詳しくは、例えば、Ｒ．Ｄ．Ｍｉｌｌｅｒ、Ｊ．Ｍｉｃｈｌ；Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ、第８９巻、１３５９頁（１９８９）、Ｎ．Ｍａｔｓｕｍｏｔｏ；Ｊａｐａｎｅｓｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｙｓｉｃｓ、第３７巻、５４２５頁（１９９８）などに例示されている。これらのポリシランは１種または２種以上組み合わせて用いることができる。

ポリシラン（式（１）〜式（２）で表される構造単位のうち少なくとも１つの構造単位を有するポリシランなど）の形態は、特に限定されるものではない。例えば、共重合体は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体、くし型共重合体などであってもよい。

また、ポリシランは、非環状ポリシラン（直鎖状ポリシラン、分岐鎖状ポリシラン、網目状ポリシランなど）であってもよく、環状ポリシランであってもよい。例えば、ポリシランが非環状ポリシランである場合は、ポリシランの末端基（末端置換基）は、水素原子、ハロゲン原子（塩素原子など）、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シリル基などであってもよい。しかしながら、ポリシランの末端基（末端置換基）は、通常、ハロゲン原子（塩素原子など）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、特に、ヒドロキシル基などである場合が多い。

次に、透明基材１１について説明する。透明基材１１としては、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイなどの光学部材に通常使用される基材を用いることができる。透明性や光の屈折率などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファンなどのセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロンなどのポリアミド系、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコールなどの有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートを用いることが好ましい。特に、トリアセチルセルロースにあっては、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから液晶ディスプレイに対し、さらに好適に用いることができる。なお、透明基材１１の厚みは２５μｍ以上、２００μｍ以下の範囲内にあることが好ましい。

さらに、透明基材１１の材料として用いる有機高分子に公知の添加剤を添加してもよい。例えば、透明基材１１の材料に、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤などを添加することにより、透明基材１１に添加材に対応した機能を付加することができる。また、透明基材１１の材質として、上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体を用いてもよく、複数の層を積層させたものを用いてもよい。

次に、ハードコート層１２の形成方法について説明する。電子放射線硬化型材料を含むハードコート層１２形成用塗液を透明基材１１上に塗布し、透明基材１１上に塗膜を形成し、該塗膜に対し、必要に応じて乾燥処理を施す。その後、紫外線、電子線といった電離放射線を塗膜に照射することにより、電離放射線硬化型材料の硬化反応を行うことにより、ハードコート層１２を形成することができる。

ハードコート層１２を形成するための電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコールおよびアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステルなどから合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。また、これらの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂なども好適に使用することができる。

なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。例えば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。

単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレートなどのトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレートなどの３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物などが挙げられる。

上述のアクリル系材料の中で、所望する分子量と、分子構造とを設計でき、形成されるハードコート層１２の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、ウレタンアクリレートとして、共栄社化学社製、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６ｌなど、日本合成化学社製、ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂ、ＵＶ−７６０５Ｂ、ＵＶ−７６４０Ｂ、ＵＶ−７６５０Ｂなど、新中村化学社製、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、ＵＡ−１００Ｈ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−３２４Ａなど、ダイセルユーシービー社製、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ−５１２９など、根上工業社製、ＵＮ−３２２０ＨＡ、ＵＮ−３２２０ＨＢ、ＵＮ−３２２０ＨＣ、ＵＮ−３２２０ＨＳなどを挙げることができるがこの限りではない。

また、上述のウレタンアクリレートの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂などを使用することができる。

また、電離放射線硬化型材料は紫外線により硬化されるため、ハードコート層１２形成用塗液には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであればよい。例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００重量部に対して０．１重量部〜１０重量部、好ましくは１重量部〜７重量部、更に好ましくは１重量部〜５重量部である。

さらに、ハードコート層１２形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えてもよい。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールなどのエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノンなどのケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトンなどのエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどのセロソルブ類などの中から塗工適正などを考慮して適宜選択して使用することができる。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤などを加えてもよい。

また、ハードコート層１２形成用塗液に、その他添加剤を加えてもよい。添加剤としては、例えば泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤などが挙げられる。

また、ハードコート層１２形成用塗液に、導電性材料を添加してもよい。ハードコート層１２形成用塗液に導電性材料を添加することにより、得られる反射防止フィルム１に、帯電防止性能を付与することができる。導電性材料としては、四級アンモニウム塩材料、金属酸化物粒子、導電性高分子などを用いることができる。

導電性材料として用いられる四級アンモニウム塩として、四級アンモニウム塩を官能基として分子内に含む材料を好適に用いることができる。四級アンモニウム塩は−Ｎ^＋Ｘ⁻の構造を示し、四級アンモニウムカチオン（−Ｎ^＋）とアニオン（Ｘ⁻）を備えることによりハードコート層１２に導電性を発現させる。また、導電性材料として用いられる金属酸化物粒子としては、酸化ジルコニウム、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、リン含有酸化スズ（ＰＴＯ）、スズ含有酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、アルミニウム含有酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモン含有酸化亜鉛およびインジウム含有酸化亜鉛から選択される１種または２種以上の金属酸化物を主成分とし、導電性を有する金属酸化物粒子を用いることができる。また、導電性材料として用いられる導電性高分子としては、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ（１，６−ヘプタジイン）、ポリビフェニレン（ポリパラフェニレン）、ポリパラフィニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポリ（２，５−チエニレン）およびこれらの誘導体から選ばれる１種または２種以上の混合物を用いることができる。

上述の材料を調製して得られるハードコート層１２形成用塗液を湿式成膜法により透明基材１１上に塗布し、塗膜を形成し、必要に応じて塗膜の乾燥を行う。その後に、電離放射線である紫外線を照射することにより、ハードコート層１２が形成される。

このとき、湿式成膜法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を採用することができる。

ハードコート層１２形成用塗液を透明基材１１上に塗布することにより得られる塗膜に対し、紫外線を照射することによりハードコート層１２が形成される。紫外線を照射するにあっては、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアークなどの紫外線照射ランプが利用できる。また、紫外線照射の際に酸素濃度を低下させるために不活性ガスを導入する。この不活性ガスとしては、窒素を用いることができる。

なお、紫外線を照射して硬化させることによりハードコート層１２を形成する工程の前後に乾燥工程もしくは加熱工程を設けてもよい。特に、塗液が溶媒を含む場合、形成された塗膜の溶媒を除去するために電離放射線を照射する前に乾燥工程を設ける必要がある。乾燥手段としては加熱、送風、熱風などを採用することができる。

次に、低屈折率層１３の形成方法について説明する。低屈折率層１３は、湿式成膜法により、低屈折率粒子とバインダマトリックス形成材料を含む塗液を塗布することで形成することができる。

低屈折率粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ_２、３ＮａＦ・ＡｌＦ_３またはＡｌＦ_３（いずれも、屈折率１．４）、または、Ｎａ_３ＡｌＦ_６（氷晶石、屈折率１．３３）などの低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、多孔質シリカ粒子や、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。

また、低屈折率層１３に用いられる低屈折率粒子の粒径は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。低屈折率粒子の粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、低屈折率粒子の粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性などの問題が生じる。

また、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料を用いることができる。電離放射線硬化型材料としては、ハードコート層１２形成用塗液に含まれる電離放射線硬化型材料として例示したアクリル系材料を使用することができる。しかしながら、官能基数が３〜８の多官能のアクリレートモノマーを使用することが好ましい。また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いる場合には、電離放射線硬化型材料と低屈折率粒子とを含む塗液を塗布し、ハードコート層１２上に塗膜を形成し、該塗膜に対し、必要に応じて乾燥を施す。その後、紫外線、電子線といった電離放射線を塗膜に照射することにより、電離放射線硬化型材料の硬化反応を行い、バインダマトリックスとすることができる。このとき塗布方法としては、ハードコート層１２形成用塗液を塗布する際に例示した湿式成膜法を用いることができる。さらに乾燥方法、硬化方法についても、ハードコート層１２の形成方法で例示した方法を用いることができる。

なお、塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えてもよい。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールなどのエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノンなどのケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトンなどのエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどのセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、水などの中から塗工適正などを考慮して適宜選択し、使用することができる。また、塗液に加える添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤などを加えてもよい。

なお、バインダマトリックスとして電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層１３を形成する場合には、塗液に光重合開始剤を加える。光重合開始剤としては、ハードコート層１２形成用塗液に含まれる光重合開始剤として例示した光重合開始剤を使用することができる。また、低屈折率層１３形成用の塗液はポリシランを含んでいることから、光酸発生剤を添加してもよい。ポリシランは、紫外線により分解し、発生したシリルラジカルは光重合開始剤の役割を果たす。

光酸発生剤は、慣用の光酸発生剤である、例えば、イミジルスルホネート化合物、チオキサントンオキシムエステル化合物、オニウム塩、メタロセン錯体、スルホンイミド化合物、ジスルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、トリアジン化合物、キノンジアジド化合物、ジアゾメタン化合物などを用いることができる。オニウム塩の対イオンは、例えば、ＣＦ_３ＳＯ_３ ⁻、ＢＦ_４ ⁻、ＰＦ_６ ⁻、ＡｓＦ_６ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻などのアニオンであってもよい。

イミジルスルホネート化合物としては、例えば、スクシンイミジルスルホネート化合物（スクシンイミジル カンファスルホネート、スクシンイミジル フェニルスルホネート、スクシンイミジル トルイルスルホネート、スクシンイミジル トリフルオロメチルスルホネートなど）や、フタルイミジルスルホネート化合物（フタルイミジル トリフルオロメチルスルホネートなど）や、ナフタルイミジルスルホネート化合物［ナフタルイミジル カンファスルホネート、ナフタルイミジル メタンスルホネート、ナフタルイミジル トリフルオロメタンスルホネート（ＮＩＴｆ）、ナフタルイミジル トルイルスルホネートなど］や、ノルボルネンイミジルスルホネート化合物（ノルボルネンイミジル トリフルオロメタンスルホネートなど）などが挙げられる。

チオキサントンオキシムエステル化合物としては、例えば、ベンゼンスルホン酸チオキサントンオキシムエステルや、ベンゼンスルホン酸 アルキルチオキサントンオキシムエステル（ベンゼンスルホン酸 イソプロピルチオキサントンオキシムエステルなどのベンゼンスルホン酸 Ｃ_１‐６アルキルチオキサントンオキシムエステルなど）や、アルキルベンゼンスルホン酸 チオキサントンオキシムエステル（トルエンスルホン酸 チオキサントンオキシムエステル、エチルベンゼンスルホン酸 チオキサントンオキシムエステルなどのＣ_１‐６アルキルベンゼンスルホン酸 チオキサントンオキシムエステル、キシレンスルホン酸 チオキサントンオキシムエステルなどのジＣ_１‐６アルキルベンゼンスルホン酸 チオキサントンオキシムエステルなど）や、アルキルベンゼンスルホン酸 アルキルチオキサントンオキシムエステル（トルエンスルホン酸 イソプロピルチオキサントンオキシムエステルなどのＣ_１‐６アルキルベンゼンスルホン酸 Ｃ_１‐６アルキルチオキサントンオキシムエステル）や、ハロベンゼンスルホン酸 チオキサントンオキシムエステル（ペンタフルオロベンゼンスルホン酸 チオキサントンオキシムエステルなどのモノ乃至ペンタフルオロベンゼンスルホン酸 チオキサントンオキシムエステルなど）や、ハロベンゼンスルホン酸 アルキルチオキサントンオキシムエステル（ペンタフルオロベンゼンスルホン酸 イソプロピルチオキサントンオキシムエステルなどのモノ乃至ペンタフルオロベンゼンスルホン酸 Ｃ_１‐６アルキルチオキサントンオキシムエステルなど）など、これらの化合物に対応する化合物であって、ベンゼン環がナフタレン環である化合物などが挙げられる。

オニウム塩としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩［４−クロロベンゼンジアゾニウム塩（ヘキサフルオロホスフェート塩など）、ｐ−ニトロフェニルジアゾニウム塩（ヘキサフルオロホスフェート塩など）など］や、芳香族スルホニウム塩［トリフェニルスルホニウム塩（トリフレート塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩など）；（４−フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウム塩（ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩など）；（４−メトキシフェニル）ジフェニルスルホニウム塩（ヘキサフルオロアンチモネート塩など）；トリフェニルスルホニウム塩（トリフレート塩、ナフタレンスルホネート塩、メタンスルホネート塩、ノナフルオロブタンスルホネート塩など）；（ヒドロキシフェニル）ベンジルメチルスルホニウム塩（トルエンスルホネート塩など）；ビス〔４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル〕スルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート、ビス〔４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル〕スルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネートなど］や、芳香族ヨードニウム塩［ジフェニルヨードニウム塩（トリフレート塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩、ピレンスルホネート塩、ドデシルベンゼンスルホネート塩など）；（４−メトキシフェニル）フェニルヨードニウム塩（トリフレート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩など）；ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム塩（テトラフルオロボレート塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩、カンファスルホネート塩など）など］や、芳香族ホスホニウム塩［ベンジルトリフェニルホスホニウム塩（ヘキサフルオロアンチモネート塩など）など］や、芳香族セレニウム塩［トリフェニルセレニウム塩（ヘキサフルオロホスフェート塩など）など］や、ピリジニウム塩などが挙げられる。

メタロセン錯体としては、例えば、（η５−イソプロピルベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（ＩＩ）ヘキサフルオロホスフェートなどのシクロペンタジエニル錯体などが挙げられる。ジスルホン化合物としては、例えば、ジフェニルジスルホンなどの芳香族ジスルホン化合物が挙げられる。

スルホン酸エステルとしては、例えば、１，２，３−トリ（メチルスルホニルオキシ）ベンゼンなどのアリールアルカンスルホネート（特にＣ_６−１０アリールＣ_１‐２アルカンスルホネート）；２，６−ジニトロベンジルトルエンスルホネート、ベンゾイントシレートなどのアリールベンゼンスルホネート（特にベンゾイル基を有していてもよいＣ_６−１０アリールトルエンスルホネート）；２−ベンゾイル−２−ヒドロキシ−２−フェニルエチルトルエンスルホネートなどのアラルキルベンゼンスルホネート類（特にベンゾイル基を有していてもよいＣ_６−１０アリール−Ｃ_１‐４アルキルトルエンスルホネート）などが挙げられる。

トリアジン化合物としては、例えば、ハロアルキルトリアジニルアリール［１−メトキシ−４−（３，５−ジ（トリクロロメチル）トリアジニル）ベンゼン、１−メトキシ−４−（３，５−ジ（トリクロロメチル）トリアジニル）ナフタレンなど］や、ハロアルキルトリアジニルアルケニルアリール［１−メトキシ−４−［２−（３，５−ジトリクロロメチルトリアジニル）エテニル］ベンゼン、１，２−ジメトキシ−４−［２−（３，５−ジトリクロロメチルトリアジニル）エテニル］ベンゼン、１−メトキシ−２−［２−（３，５−ジトリクロロメチルトリアジニル）エテニル］ベンゼンなど］などが挙げられる。

光酸発生剤は、１種または２種以上組み合わせて用いることができる。光酸発生剤の添加量は、光酸発生剤の種類により適宜選択し、添加することができる。光酸発生剤の添加量は、例えば、光カチオン性化合物（Ａ）およびビニルエーテル化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、通常、０．０１〜２５重量部であり、好ましくは０．０５〜２０重量部、より好ましくは０．１〜１５重量部、さらに好ましくは０．３〜１０重量部（特に０．５〜５重量部）程度である。また、光酸発生剤の添加量は、例えば、光カチオン重合性化合物（Ａ）１００重量部に対して、通常、０．０５〜３０重量部程度であり、好ましくは０．１〜２５重量部、より好ましくは０．３〜２０重量部、さらに好ましくは０．５〜１５重量部（特に１〜１０重量部）程度である。また、光酸発生剤の添加量は、例えば、ビニルエーテル化合物（Ｂ）１００重量部に対して、通常、０．１〜３０重量部程度であり、好ましくは０．５〜２０重量部、さらに好ましくは１〜１０重量部程度である。光酸発生剤の添加量が少なすぎると、光照射により発生する酸の触媒作用によって重合反応を充分に生成させることが困難となる場合がある。一方、光酸発生剤の添加量が多すぎると樹脂組成物の安定性の低下、樹脂組成物を塗布する際の塗布むら、現像時のムカスの発生などの原因となる場合がある。

以上に述べた透明基材１１と、ハードコート層１２と、低屈折率層１３とにより反射防止フィルム１は形成される。反射防止フィルム１の反射スペクトルの形はフラットであり、３６０ｎｍ〜８００ｎｍの波長における反射率の変化が０．７％以下であることが好ましい。３６０ｎｍ〜８００ｎｍの波長における反射率の変化が０．７％以上になると、反射スペクトルの形がフラットではなく、Ｖ字型になってしまい、特定の波長領域でしか反射防止効果が得られなくなる。

また、反射防止フィルム１の低屈折率層１３表面でのＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相は、０．００≦ａ＊≦３．００、かつ、−３．００≦ｂ＊≦３．００であることが好ましい。反射色相が、上記範囲外になると、色相が赤くなったり、青くなったりするためにざらつきの原因となる。

反射防止フィルム１にはさらに、低屈折率層１３が形成されている側とは反対側の透明基材１１の面に偏光層と、第２の透明基材とを設けることにより、偏光板を構成することができる。偏光層としては、例えば、ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いることができる。また、第２の透明基材としては、反射防止フィルム１に用いる透明基材を用いることができ、トリアセチルセルロースからなるフィルムを好適に用いることができる。反射防止フィルム１および第２の透明基材には、偏光層と貼りあわされる前に、ケン化処理が行われる。ケン化処理は、反射防止フィルム１および第２の透明基材をアルカリ溶液に浸漬することにより行う。この際に用いるアルカリ溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液などを用いることができる。

なお、反射防止フィルム１が偏光板化された場合、透過型液晶ディスプレイの最前面、すなわち、観察側の最表面に反射防止層が位置するように設けられる。

以下に実施例を示す。

（ハードコート層形成用塗液の調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ；固形分の濃度１００％）を、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を用いて固形分濃度５０％となるように希釈した。また光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４をＰＥＴＡに対して５ｗｔ％加え、ハードコート層形成用塗液を調整した。

（低屈折率層形成用塗液１の調製）
数平均粒子径５０ｎｍの外殻の内部に空洞を有するシリカ微粒子分散液（商品名：スルーリア、触媒化成工業社製）１４．９４重量部と、ペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名：ビスコート＃３００、大阪有機工業株式会社製）１．９９重量部と、重合開始剤（商品名；イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０７重量部と、アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル（商品名：ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製）０．１０重量部とを、溶媒である酢酸ブチル８２重量部で希釈した。その後、ポリメチルフェニルシラン（商品名：ＳＩ−１０−１０、大阪ガスケミカル（株）製）を塗料固形分に対し、１５ｗｔ％後添加し、低屈折率層形成用塗液１を調製した。

（低屈折率層形成用塗液２の調製）
ポリメチルフェニルシランの代わりにフェニルシラン−メチルフェニルシラン共重合体（商品名：オグソールＳＩ−２０−１０、大阪ガスケミカル（株）製）を塗料固形分に対し、１５ｗｔ％後添加する以外は、低屈折率層形成用塗液１の調製と同様に調製し、低屈折率層形成用塗液２を調製した。

（低屈折率層形成用塗液３の調製）
重合開始剤（商品名；イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）の代わりに光酸発生剤（商品名：シリコリースＣＡＴＡ２１１、荒川化学工業製）０．０７重量部を添加する以外は、低屈折率層形成用塗液１の調製と同様に調製し、低屈折率層形成用塗液３を調製した。

（低屈折率層形成用塗液４の調製）
ポリメチルフェニルシラン（商品名：ＳＩ−１０−１０、大阪ガスケミカル（株）製）を塗料固形分に対し、１０ｗｔ％後添加する以外は、低屈折率層形成用塗液１の調製と同様に調製し、低屈折率層形成用塗液４を調製した。

（低屈折率層形成用塗液５の調製）
ポリメチルフェニルシラン（商品名：ＳＩ−１０−１０、大阪ガスケミカル（株）製）を塗料固形分に対し、３０ｗｔ％後添加する以外は、低屈折率層形成用塗液１の調製と同様に調製し、低屈折率層形成用塗液５を調製した。

（低屈折率層形成用塗液６の調製）
ポリメチルフェニルシラン（商品名：ＳＩ−１０−１０、大阪ガスケミカル（株）製）を添加しない以外は、低屈折率層形成用塗液１の調製と同様に調製し、低屈折率層形成用塗液６を調製した。

［実施例１］
（ハードコート層の形成）
透明基材としてトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）（厚さ８０μｍ）を用いた。ハードコート形成用塗液を、マイクログラビア法を用いてＴＡＣフィルム上に形成されるハードコート層の膜厚が６μｍとなるように塗布を行い、塗膜を形成し、オーブンを通過させることにより塗膜を乾燥させた。その後、窒素パージ下で紫外線照射を行い、ハードコート層を形成した。
（低屈折率層の形成）
上記によって、得られたハードコート層を備える透明基材のハードコート層上に、マイクログラビア法を用いて上述の低屈折率層形成用塗液１を塗布し、乾燥、窒素パージ下で紫外線照射して低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを製造した。

［実施例２、３］
低屈折率層形成用塗液１の代わりに低屈折率層形成用塗液２、３を塗布する以外は実施例１と同様にして、各反射防止フィルムを製造した。

［比較例１〜３］
低屈折率層形成用塗液１の代わりに低屈折率層形成用塗液４〜６を塗布する以外は実施例１と同様にして、各反射防止フィルムを製造した。

上記で、得られた反射防止フィルムについて、以下の評価を行った。

[視感平均反射率、反射色相の測定]
上記で、得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、自動分光光度計（Ｕ−４０００、日立製作所製）を用い、光源としてＣ光源として用い、光源および受光器の入出射角を反射防止フィルム表面に対して垂直方向から５°に設定し、２°視野の条件下で、正反射方向の分光反射率を測定し、視感平均反射率Ｙ［％］、反射色相（ａ＊、ｂ＊）を算出した。また最小反射率Ｒ［％］について、３６０ｎｍ〜８００ｎｍ中のＲの差を求め、ΔＲ［％］とした。

評価結果を表１に示し、実施例１〜３および比較例１〜３の反射スペクトルについて図２〜７に示す。

以上より、実施例１〜３の反射防止フィルムにおいては、比較例１〜３の反射フィルムと比較して、反射スペクトルがフラットで、かつ、色相もニュートラルでギラツキを少なくすることを実現できることが確認された。

本発明の反射防止フィルムは、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の各種ディスプレイ等の光学物品の表面に用いられる反射防止フィルムとして利用できる。

１ 反射防止フィルム
１１ 透明基材
１２ ハードコート層
１３ 低屈折率層

Claims (8)

1. 透明基材と、ハードコート層と、低屈折率層とを備える反射防止フィルムの前記低屈折率層を形成するための低屈折率層形成用樹脂組成物であって、
   低屈折率粒子と、
   アリール基を有するポリシランとを含み、
   前記ポリシランの含有量が、塗液中の固形分に対し１５ｗｔ％〜２０ｗｔ％であることを特徴とする、低屈折率層形成用樹脂組成物。
2. 前記ポリシランが、以下の一般式（１）により表されることを特徴とする、請求項１に記載の低屈折率層形成用樹脂組成物。
   

   

   
   ここで、Ｒ_１またはＲ_２のどちらか一方または両方がアリール基を含む置換基を表す。
3. 前記ポリシランが、以下の一般式（２）により表されることを特徴とする、請求項１に記載の低屈折率層形成用樹脂組成物。
   

   

   
   ここで、Ｒ_３はアリール基を含む置換基を表す。
4. 前記透明基材の少なくとも一方の面に、前記ハードコート層が形成され、
   前記ハードコート層の前記透明基材とは反対側の面に前記低屈折率層が形成され、
   前記低屈折率層は、請求項１〜３のいずれかに記載の前記低屈折率層形成用樹脂組成物からなることを特徴とする、反射防止フィルム。
5. 反射率スペクトルの形がフラットであり、３６０ｎｍ〜８００ｎｍの波長において反射率の変化が０．７％以下であることを特徴とする、請求項４に記載の反射防止フィルム。
6. 前記反射防止フィルムの低屈折率層表面でのＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相が０．００≦ａ＊≦３．００であり、且つ、−３．００≦ｂ＊≦３．００を満たすことを特徴とする、請求項４または５に記載の反射防止フィルム。
7. 偏光板であって、
   請求項４〜６のいずれかに記載の反射防止フィルムと、
   前記反射防止フィルムの前記低屈折率層とは反対側の面に設けられる偏光層と、
   前記反射防止フィルムとの間に前記偏光層を挟み込む第２の透明基材とを備えることを特徴とする、偏光板。
8. 透過型液晶ディスプレイであって、
   観察側の最表面から順に、請求項７に記載の偏光板と、液晶セルと、第２の偏光板と、バックライトユニットとをこの順に備えることを特徴とする透過型液晶ディスプレイ。

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