JP2014003069A - 受光素子、その製造方法、および光学装置 - Google Patents

受光素子、その製造方法、および光学装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 基板入射の受光素子において、基板側に配置したグランド電極をエピタキシャル層表面側へと、簡単な処理工程で延ばせる受光素子等を得る。
【解決手段】半半導体基板にエピタキシャル成長されたエピタキシャル積層体と、エピタキシャル積層体の表面に設けられたp側の画素電極11と、n側のグランド電極を構成するグランド導電層8とを備え、グランド導電層は、半導体基板/エピタキシャル積層体の端面に接して覆う端面接触部8aと、エピタキシャル積層体の表面の端縁を覆う表面端子部8bと、からなることを特徴とする。
【選択図】 図1

Description

本発明は、受光素子、その製造方法、および光学装置に関し、より具体的には、読み出し回路等と接続するために配線されるグランド電極の配線構造を簡単にしてその製造工程を大幅に短縮できる受光素子、その製造方法、およびその受光素子を用いた光学装置に関するものである。
分光分析を行う検出装置などの光学装置では、受光素子の画素から受光時に生じる正孔または電子の電荷を読み出し回路(ROIC:Read-Out IC)で読み出して、受光情報を得る。受光素子は、受光の際に画素のpn接合に逆バイアス電圧を印加するために、画素のエピタキシャル層表面に画素電極を、また基板側にグランド電極を、配置する。画素が二次元配列される場合、画素電極から受光で生じた電荷を、読み出し回路の読出し電極が読み出すのに、構造をコンパクトにする上で、受光素子の画素電極と読み出し回路の読み出し電極とは、接近して対向させることが望ましい。この結果、必然的に、受光素子は基板裏面側から光を入射させるエピタキシャル層ダウン実装となる。受光素子の画素電極と読み出し回路の読み出し電極とは、半田バンプなどを介在させて導電接続される。
画素電極と対をなすグランド電極は、当然、読み出し回路のグランド電極と導電接続される。この両方のグランド電極どうしも、接近して対向させて、間に半田バンプを介在させて導電接続することになる。このような形態の導電接続(実装)を実現するには、グランド電極は、基板側から画素が配列された領域を迂回して画素電極と同じ高さレベルの表面まで延在させなければならない。
非特許文献1には、近赤外InGaAs二次元イメージセンサにおいて、基板側のn型半導体層をメサエッチングによって露出させ、その露出したn型半導体層にグランド電極を配置して、配線によってエピタキシャル積層体の端面を伝わせて表面にまで延ばして、読み出し回路の読み出し電極に対向させる構造が開示されている(非特許文献1)。
また、InGaAs受光層を有するメサ型受光素子において、エピタキシャル層表面側を入射面として、画素電極を入射面側に配置し、グランド電極をInP基板裏面に配置する構成が提案されている(特許文献1)。この場合、複数の一次元または二次元に配列された画素電極から受光情報を読み出すための読み出し回路は、平面的に見て、受光素子と重ならないように配置する必要があり、受光素子の配線の構造は複雑にならざるをえない。
近赤外域の波長域を受光対象にするために、タイプIIの多重量子井戸構造(InGaAs/GaAsSb)を受光層とするメサ型のピン(pin)フォトダイオードにおいて、エピタキシャル層表面側を入射面とし、基板裏面にグランド電極を配置した構成が開示されている(非特許文献2)。このメサ型ピンフォトダイオードは単一の画素が設けられている。
特開2001−144278号公報
Marshall J.Cohen, Michael J. Lange, Martin H. Ettenberg, Peter Dixon, and Gregory H.Olsen, "A Thin Film Indium Gallium Arsenide Focal Plane Array for Visibleand Near Infrared Hyperspectral Imaging", 1999, IEEE, pp.744-745 "Low-NoiseAbalanche Photodiodes for Midwave Infrared (2 to 5μm)Applications", Princeton Lightwave Inc. Final Report, 14 August, 2005
上記のグランド電極の配線を、基板側からエピタキシャル層表面側まで積層体の端面を伝わせる構造(非特許文献1)では、構造が複雑であり、処理工程が多いため製造コストがかさみ、かつ品質に問題を生じやすい。
たとえば、図10は、従来のプレーナ型受光素子110および光学装置150を示す図である。画素電極111は、エピタキシャル積層体の表面に配列されていて、グランド電極112は、n型半導体層102に、画素に共通に配置されている。グランド電極112からエピタキシャル積層体の表面までは、絶縁膜である保護膜137に乗って電極配線108によって延ばされている。その電極配線108は、エピタキシャル積層体の表面における先端部において半田バンプ143により、図示しない読み出し回路140の接地電極に導電接続される。エピタキシャル積層体の端部における、保護膜137の形態、グランド電極112,108、およびこれらを収納するスペースの構造は、相当、複雑である。
また、図11は、従来のメサ型受光素子110および光学装置150を示す図である。エピタキシャル積層体の端部における、保護膜137、グランド電極112、その電極配線108、これらを収納するスペースの構造は、プレーナ型受光素子110とほとんど同じで、複雑である。
とくに、図10に示すプレーナ型受光素子110において、メサエッチを滑らかなテーパ形状とし、n型層上で精度を維持してストップエッチさせるは技術的にそう容易ではない。n側のグランド電極から読み出し回路のグランド電極への接続が不安定になると、画像の乱れなどが発生するおそれがある。
また、エピタキシャル層表面側からの入射の場合(特許文献1、非特許文献2)、画素が二次元配列された場合に、上述の配線の点で対応できない。
本発明は、基板裏面側を入射面としてエピタキシャル層ダウン実装とする受光素子において、基板側に配置したグランド電極を、読み出し回路等に接続するために、エピタキシャル層表面側へと、簡単な処理工程で延ばすことができる、受光素子および光学装置を提供することを目的とする。
本発明の受光素子は、半導体基板の裏面側に入射面が設けられ、pn接合を有する受光素子である。この受光素子は、半導体基板の表面側にエピタキシャル成長された、pn接合が含まれる受光層、およびキャップ層、を備えるエピタキシャル積層体と、エピタキシャル積層体の表面に設けられた第2導電側の画素電極と、画素電極と対をなす第1導電側のグランド電極を構成するグランド導電層とを備え、グランド導電層は、半導体基板およびエピタキシャル積層体の端面に接して覆う端面接触部と、該端面接触部と導電接続された前記エピタキシャル積層体の表面の端縁を覆う表面端子部と、からなることを特徴とする。
これによって、グランド電極を形成するためにメサエッチングが不要になる。グランド電極を形成するためのメサエッチングでは、フォトリソグラフィ(レジストパターン形成)→エッチング→レジストパターン剥離、の処理を行う。このとき、基板側からエピタキシャル層表面側に向けて滑らかな順テーパを付けながらグランド電極がオーミック接触する位置までエッチングする必要がある。このエッチングは容易ではなく、歩留まり低下の大きな要因になっている。本発明では、この歩留まり低下の原因となるメサエッチングが完全に不要となる。
さらに、基板側のグランド電極がオーミック接触する場所から、エピタキシャル層表面側まで、配線電極を形成するための配線電極パターン形成のための、フォトリソグラフィ−レジストパターン形成、蒸着工程、レジスト除去などの工程が不要になる。
さらに、グランド電極は、配線電極も含めて、上記のグランド導電層で代用するので、グランド電極パターン形成のための、フォトリソグラフィ−レジストパターン形成、蒸着工程、レジスト除去などの工程も不要になる。
この結果、製造工程が大きく短縮され、グランド電極形成に起因する歩留まり低下を防止することができる。
なお、グランド導電層は、チップ(受光素子)が矩形としてその1辺の端縁部だけでもよいし、2辺〜4辺(四周)のいずれかの端縁部に配置することができる。とくに、辺と辺とが交差する角部(コーナー)は、露出度が大きいため、金属蒸着による端面接触部が、半導体基板もしくはエピタキシャル積層体の各層と、導電接続をとりやすい。
また、グランド電極などの「グランド」の語は、必ずしも接地を意味しない。画素電極と協働して、pn接合に逆バイアス電圧を印加するために、その画素電極が位置する導電旗の領域と反対導電型の領域に位置して、画素電極より高い電位もしくは低い電位の電極であればよい。もちろん接地電位となる場合があってもよい。
半導体基板に接して表面側に第1導電型のグランド引き出し層を備え、該グランド引き出し層はエピタキシャル積層体に含まれ、端面接触部はそのグランド引き出し層の端面を含めて該エピタキシャル積層体の端面に接することができる。
これによって、半導体基板を、たとえば所定の波長域の吸収を避けるために半絶縁性等にした場合、第1導電型のグランド引き出し層を配置して、そのグランド引き出し層にグランド導電層の端面接触部を接触させることができる。これによって、グランド電極が構成され、画素電極と協働してpn接合に逆バイアス電圧を印加することができる。
端面接触部が接する、半導体基板およびエピタキシャル積層体の端面に、導電接続促進化処理がなされているのがよい。
これによって、端面接触部と上記端面との低抵抗の接触もしくはオーミック接触を形成するのが容易になる。
ここで導電接続促進化処理は、上記端面接触部が、半導体基板およびエピタキシャル積層体の端面に導電接続されるのを促進する処理であれば何でもよい。すなわち、以下に示す(選択エッチング処理、異方性エッチング処理、導電化処理または導電率向上処理等)に限定されず、上記導電接続の促進を実現する処理である限りその他の処理であってもよい。
導電接続促進化処理が、半導体基板およびエピタキシャル積層体の端面に施した選択エッチングであり、該エピタキシャル積層体の端面に層に応じた凹凸が形成され、端面接触部はその凹凸に合わせて入り込んで、端面に接しているようにできる。
これによって、凹凸の形状によって、たとえばグランド引き出し層の端部での露出面積が増大し、グランド導電層の端面接触部との導電接続が容易となる。
導電接続促進化処理が、半導体基板およびエピタキシャル積層体の端面に施した異方性エッチングであり、エピタキシャル積層体の端面に層に応じた凹凸が形成され、さらに各端面が層に応じた角度の傾斜面となっていて、端面接触部はその凹凸に入り込んでその傾斜面に合わせて端面に接しているようにできる。
これによって、グランド導電層の端面接触部は、凹凸と傾斜端面とに合わせながら端面に忠実に沿って導電接続を実現しやすくなる。
導電接続促進化処理が、半導体基板およびエピタキシャル積層体の端面に施した導電化処理または導電率向上処理であってもよい。
これによって、グランド導電層と端面との低抵抗の導電接続が実現しやすくなる。ここで、導電化処理または導電率向上処理は、(1)エピタキシャル積層体の各端面部の結晶性を劣化させ、所定の厚み(端面からの深さ)、導電性を持たせること、(2)スパッタリングやイオン注入によって所定の厚み導電率を高めることなどが該当する。
半導体基板およびエピタキシャル積層体の端面に接する端面接触部、および端面接触部と表面端子部との接続部を、はんだ被覆層が覆っていてもよい。
これによって、金属蒸着などによるグランド導電層の形成後に、はんだ浴にディップするなどして導電接続を完全なものにすることができる。
グランド導電層において、表面端子部は、画素電極と同じ材料であって、端面接触部と異なる材料で、形成されることができる。
これによって、表面端子部を画素電極と同じ金属材料で形成しておき、後から、金属蒸着によってチップ端面に端面接触部を形成することができる。
受光素子を、選択拡散により画素が形成されたプレーナ型、および、トレンチで画素が囲まれたメサ型、のいずれかとすることができる。
本発明のグランド導電層によるグランド電極の代替は、プレーナ型とメサ型とを問わず、両方とも、製造工程の短縮をもたらし、かつグランド電極形成に起因する歩留まり低下を防ぐことができる。
受光素子を、単一画素の、または、一次元もしくは二次元に複数の画素が配列された、受光素子とすることができる。
上記のいずれの受光素子に対しても、本発明は、製造工程の短縮をもたらし、かつグランド電極形成に起因する歩留まり低下を防ぐことができる。
半導体基板をInP基板とし、受光層をタイプIIの(InGaAs/GaAsSb)多重量子井戸構造から構成されるようにできる。
これによって、波長3μm以下の範囲に受光感度をもつ受光素子を得ることができる。
本発明の光学装置は、上記の受光素子を用いたことを特徴とする。
これによって、経済性に優れた光学装置を得ることができる。
本発明の受光素子の製造方法は、半導体ウエハに配列して形成されるチップを構成する受光素子に画素を形成し、その後、画素の電極である画素電極を形成する工程と、半導体ウエハからチップへと個片化する工程と、個片化されたチップの端面に、画素電極と対をなすグランド電極の部分を構成するグランド導電層の端面接触部を金属蒸着で形成する工程と、を備えることを特徴とする。
この方法によって、大幅な製造工程の短縮をはかり、グランド電極形成にともなう歩留まり低下を防ぎながら、掲載性に優れた、プレーナ型またはメサ型の受光素子を提供することが可能になる。
本発明により、基板裏面側を入射面としてエピタキシャル層ダウン実装とする受光素子において、基板側に配置したグランド電極を、読み出し回路等に接続するために、エピタキシャル層表面側へと、簡単な処理工程で延ばすことができる、受光素子等を得ることができる。
本発明の実施の形態1における受光素子および光学装置を示す図である。 図1の受光素子の製造において金属蒸着処理を示す図である。 本実施の形態の受光素子および従来の受光素子の製造のフローチャートである。 本発明の実施の形態2における受光素子および光学装置を示す図である。 本発明の実施の形態3における受光素子および光学装置を示す図である。 図5の受光素子の製造における選択エッチング処理を示し、(a)はチップを腐食液に浸漬する操作、(b)チップの腐食液に対する姿勢、を示す図である。 本発明の実施の形態3の変形例1における受光素子および光学装置を示す図である。 本発明の実施の形態3の変形例2における受光素子および光学装置を示す図である。 本発明の実施の形態4における受光素子を示す図である。 従来のプレーナ型受光素子および光学装置を示す図である。 従来のメサ型受光素子および光学装置を示す図である。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1における受光素子10および光学装置50を示す図である。受光素子10は、選択拡散により画素を形成したプレーナ型であり、バンプ43によって読み出し回路40の電極(図示せず)と導電接続されている。受光素子10は、つぎのInP系半導体のエピタキシャル積層構造を有する。
(InP基板1/n型III−V族半導体層2/受光層3/拡散濃度分布調整層4/InPキャップ層5)
InP基板1は、硫黄(S)がドープされてn導電型としてもよいし、近赤外域の光の透明性を重視して、鉄(Fe)ドープの半絶縁性としてもよい。また、n型III−V族半導体層2はグランド引き出し層であり、InPなどを用いるのがよい。以後の説明では、n型InPグランド引き出し層2として説明する。
上記のうち、受光層3は対象波長に応じて単層、または多重量子井戸構造(MQW:Multi-Quamtum Well)を用いることができる。とくに近赤外〜赤外域の波長0.9μm〜3μm光を受光対象にする場合には、タイプII(InGaAs/GaAsSb)の多重量子井戸構造の受光層3とするのがよい。拡散濃度分布調整層4は、受光層3が単層または多重量子井戸構造に関係なく、有ってもよいし、無くてもよい。利点としては、受光層3がタイプII(InGaAs/GaAsSb)の多重量子井戸構造の場合、InGaAs拡散濃度分布調整層がInPキャップ層5の側に位置すると、過剰に高濃度の不純物が多重量子井戸構造3内に導入されるのを、安定して防止することができる。この結果、良好な結晶性の多重量子井戸構造を、比較的容易に、実現することができる。
InPキャップ層5に形成された選択拡散マスクパターン36の開口部から選択拡散された亜鉛(Zn)によって、p型領域6が受光層3内に少し入るように形成され、先端部にpn接合またはpi接合15を形成する。画素電極11は、InPキャップ層5の表面におけるp型領域6の表面にp側電極として配置される。InPキャップ層5の表面は、p側電極の回りおよび選択拡散マスクパターン36を覆うように保護膜37で被覆されている。保護膜37は、従来の受光素子(図10、図11参照)と異なり、端縁部には配置されない。
pn接合15は、受光層が、タイプII(InGaAs/GaAsSb)の多重量子井戸構造の場合も単層の場合も、次のように、広く解釈されるべきである。受光層内において、受光層3内のpn接合15より基板側の領域(受光層の大部分を占める)における不純物濃度が、真性半導体とみなせるほど低い不純物領域(i領域)であってもよい。すなわち上記のpn接合は、pi接合またはni接合などであってもよく、さらに、これらpi接合またはni接合におけるp型不純物濃度またはn型不純物濃度が非常に低い場合も含むものである。このことは、選択拡散によって上記のpn接合が形成される場合だけでなく、このあとの実施の形態で説明するドーピングによってpn接合を形成する場合にも当てはまることである。
亜鉛を選択拡散することで形成されたp型領域6の表面には、画素電極11がオーミック接触するので、p型キャリア濃度は、(1E18cm−3〜2E18cm−3)程度以上と高くなければならない。また、受光層3にタイプII(InGaAs/GaAsSb)の多重量子井戸構造を用いた場合、良好な結晶性を得るために、多重量子井戸構造3内のp型キャリア濃度は5E16cm−3以下とするのがよい。このためInGaAs拡散濃度分布調整層4を用いた場合、InGaAs拡散濃度分布調整層4内には、不純物濃度に関して、InPキャップ層側の(1E18cm−3〜2E18cm−3)程度以上の高濃度領域、多重量子井戸構造3側の5E16cm−3以下低濃度領域、およびその中間で急峻に濃度が変化する領域、の3領域が形成される。低濃度領域によって、電気抵抗が高くなり応答性が劣化する場合があるが、バンドギャップエネルギがInPよりも小さいInGaAsを用いることで、電気抵抗の増大を抑制することができる。
<本実施の形態の特徴>
画素に共通にグランド電極としてn側電極を配置する必要がある。上記したように、グランド電極の形成において、従来は図10または図11に示すように、チップ110の端部にメサエッチングにより、グランド電極112および電極配線108のためのスペースを作る必要がある。このようなグランド電極は構造が複雑であり、その作製プロセスは、多くの工数を要し、しかも歩留まりを十分高くすることが難しい。
図1に示す本願発明の受光素子10では、グランド電極を、受光素子(チップ)10の端縁部に位置するグランド導電層8で構成する。グランド導電層8は、InPキャップ層5の表面に位置する表面端子部8bと、チップ端面Kに蒸着された端面接触部8aとで形成され、両者は導電接続されている。端面Kの用語は、文字通りの端面だけでなく、端面から少し中に入った領域に対しても用いる。従って端面Kによって、端面を含む端面層を表す場合がある。また、ほとんど単一の平面からなる端面だけでなく、凹凸の付いた端面の全体を示す場合にも端面Kを用いる。
表面端子部8bは、画素電極であるp側電極11と同じ形成機会に、同じ材料で形成することができる。この表面端子部8bを形成するときは、原料素材である半導体ウエハ上で、複数のチップ(受光素子)を並べて形成するが、表面端子部8bは隣のチップにおける表面端子部8bと連続するように形成する。このため、隣の受光素子とは線対称もしくは鏡面対称の表面端子部8bの配置とするのがよい。このあと、チップを個片化するときダイシングによって、表面端子部8bの端面と、半導体層で形成されるチップ端面Kとは、同じ端面を構成する。端面Kに、金属蒸着することで、グランド導電層8の端面接触部8aが形成され、しかも表面端子部8bと自然に導電接続される。なお、端面接触部8aおよび表面端子部8bを含めて、グランド導電層8は、チップが矩形として、1つの辺の端面にのみ配置してもよいし、2つ以上、たとえば3辺もしくは4辺(四周)の端面部に配置してもよい。上述のように、とくに、辺と辺とが交差する角部(コーナー)は、露出度が大きいため、金属蒸着による端面接触部が、半導体基板もしくはエピタキシャル積層体の各層と、導電接続をとりやすい。
InP基板1が硫黄ドープのn導電型でも、近赤外域の光の透明性を重視した、鉄ドープの半絶縁性でも、pn接合もしくはpi接合15には逆バイアス電圧を印加しなければならない。鉄ドープ半絶縁性のInP基板1の場合、グランド導電層8の端面接触部8aは、シリコン(Si)ドープn型グランド引き出し層2と低電気抵抗の接触もしくはオーミック接触を実現しなければならない。このあと説明するように、本実施の形態では、ダイシングしたままの端面Kに金属蒸着することで、上記のオーミック接触を実現する。
金属蒸着は、ダイシングなどの個片化のあと金属蒸着することで、ダイシングによる凹凸があるため、金属蒸着膜の端面接触部8aは、n型InPグランド引き出し層2等に密着性よく蒸着し、低電気抵抗の接触を実現することができる。しかし、ダイシングの後、金属蒸着の前に、リン酸等の適当な腐食液を用いて数十〜数百nm程度プリエッチをしてもよい。これによって端面においてダイシングによって半導体の結晶が乱されて導電性が向上している層を利用することができる。
本実施の形態によれば、図1に示すように、グランド電極を、非常に簡単な構造のグランド導電層8によって実現することができ、大幅な工程短縮と歩留まりの向上を得ることができる。これについては、このあと詳細に説明する。
図2は、端面接触部8aが、n型InP基板1に対し、または半絶縁性InP基板の場合はn型グランド引き出し層2に対し、金属蒸着する方法を説明するための図である。金属蒸着によって、低電気抵抗の接触を、能率良く形成することができる。受光素子(チップ)10はすでに個片化されており、これら個片化された数十枚のチップを重ねて、端面Kが固定治具62から少し露出されるようにして装着する。固定治具62は、蒸着炉60の上部に、端面Kを下に向けて固定される。端面Kに下方から対面する位置には、蒸着るつぼ61が配置されており、図示しない抵抗加熱装置などにより加熱される。蒸着金属63は、たとえばAuGeNiの金属層が形成されるように、必要な数の蒸着るつぼ61を準備しておいて、適宜、取り換えながら蒸着を行う。当然ながら、n型グランド引き出し層2のn型キャリア濃度は高く、たとえば、(1E18cm−3〜5E18cm−3)以上となるようにドープしておく。このあと、常用されている温度に加熱して低電気抵抗化をはかる。これによって、グランド導電層8の端面接触部8aと、n型グランド引き出し層2との低電気抵抗の接触を実現することができる。
n型InP基板の場合、グランド導電層8の端面接触部8aと、n型InP基板1との低電気抵抗の接触は、n型InP基板1の厚みが厚いので、容易に実現することができる。
図3は、本実施の形態における図1に示す受光素子10と、図10に示す同じプレーナ型の従来の受光素子110の製造のフローチャートの比較を示す。両者は、画素形成の段階までは同じである。そのあと、従来の受光素子110では、フォトリソグラフィおよびメサエッチングによって、グランド引き出しのために端縁部のn型半導体層102を露出させる。その後、両者共通に、本受光素子10の画素電極(p側電極)11、および従来の受光素子110の画素電極(p側電極)111を形成する。このあと、従来の受光素子110では、上記メサエッチングによって形成されたスペース(端部トレンチ)に、グランド電極(n側電極)112、さらに電極配線108を形成する。このあと両者共通に、裏面加工し、さらにチップに個片化する。個片化はダイシングなどによって行う。本実施の形態の受光素子10では、このあとグランド導電層8の端面接触部8aを蒸着する。本実施の形態の受光素子10は、これでグランド電極およびその関係部分は完成される。導電接続促進化処理(前処理)およびはんだ被覆処理(後処理)については、このあとの実施の形態において説明する。
図1と図10とを比較して分かるように、グランド電極を構成するグランド導電層8と比べて、保護膜137の端縁部/グランド電極112/電極配線108、の積層体、およびその積層体が収納されるスペース、は非常に構造が複雑である。これを反映して、図3に示す比較フローチャートも従来の受光素子110の処理工程に多くの複雑な処理が詰め込まれている。これら詰め込まれた複雑な処理は、製造歩留まりの低下をもたらす不安定要因を含んでいる。本実施の形態における、受光素子10は、このような詰め込まれた複雑な処理がないので、従来に比べて大幅な工程短縮を果たし、かつ高い製造歩留まりを得ることができる。
(実施の形態2)
図4は、本発明の実施の形態2における受光素子10および光学装置50を示す図である。受光素子10は、メサエッチングのトレンチによって画素間が分離されたメサ型の受光素子10である。この受光素子10は、つぎのInP系半導体のエピタキシャル積層構造を有する。
(InP基板1/n型III−V族半導体層のグランド引き出し層2/タイプII(InGaAs/GaAsSb)多重量子井戸構造の受光層3/p型InGaAsバッファ層7/p型InPキャップ層5)
受光層3にタイプII(InGaAs/GaAsSb)多重量子井戸構造を用いて、受光対象を近赤外域〜赤外域とするので、InP基板1は、この波長域の透明度が高い鉄(Fe)ドープの半絶縁性とするのがよい。このため、n型III−V族半導体のグランド引き出し層2は、画素電極より高い電位を印加するためのグランド引き出し層となる。上述のようにグランド引き出し層2にはInPなどを用いるのがよい。以後の説明では、n型InPのグランド引き出し層2として説明する。不純物は、InP基板1上にエピタキシャル成長する間にドーピングによって導入する。pn接合もしくはpi接合15はドーピングによって受光層3内のp型のInGaAsバッファ層7に近い位置に形成される。
p型のInGaAsバッファ層7は無くてもよいが、ドーピングによって不純物を導入した場合にも、実施の形態1で説明したタイプII多重量子井戸構造の結晶性確保の役割を、果たすことができる。すなわちp型InPキャップ層5には画素電極11がオーミック接触するので、p型キャリア濃度は(1E18cm−3〜2E18cm−3)程度以上の高濃度とする。またタイプII(InGaAs/GaAsSb)多重量子井戸構造の受光層3は、不純物濃度を、5E16cm−3以下に低く抑えることで良好な結晶性を得ることができる。このためp型のInGaAsバッファ層7を設ける場合、p型のInGaAsバッファ層7内の多重量子井戸構造の受光層3に接する領域は、p型キャリア濃度を5E16cm−3以下に低くすることで多重量子井戸構造の結晶性が劣化するリスクをなくすことができる。p型キャリア濃度を低くする範囲は、電気抵抗の増大を防ぐためにできるだけ小さい範囲に限定するのがよい。p型のInGaAsバッファ層7内のp型InPキャップ層5側の領域では、(1E18cm−3〜2E18cm−3)程度以上の高濃度とするのがよい。小さく限定しながらも、低濃度領域によって電気抵抗が高くなり応答性が劣化する場合があるが、バンドギャップエネルギがInPよりも小さいInGaAsを用いることで、電気抵抗の増大を抑制することができる。
メサ型の受光素子の特徴はつぎのとおりである。
(1)画素を小型化して短ピッチ配列しやすい。すなわち高密度の画素配列を実行しやすい。選択拡散では、横方向への拡散があり、画素の分離を確実にするのに、短ピッチの配列に制約を受ける。
(2)大量生産に適している。
(3)短所としては、メサエッチングの方式によっては損傷を生じて暗電流が増大する場合がある。
本実施の形態におけるグランド電極を構成するグランド導電層8は、実施の形態1のグランド導電層8と同じである。図2に示す金属蒸着は、そのまま本実施の形態に当てはまる。また図3に示す製造のフローチャートは、従来例を図11のメサ型の受光素子110にして、本発明例を図4の受光素子にすれば、画素形成の内容を、選択拡散から(ドーピング+メサエッチングによるトレンチ形成)に変更すれば、そのまま当てはまる。
図4の受光素子10のグランド導電層8と比べて、図11の保護膜137の端縁部/グランド電極112/電極配線108、の積層体、およびその積層体が収納されるスペース、は構造が複雑である。これを反映して、従来の受光素子110のグランド電極形成工程には多くの複雑な処理が詰め込まれている。これら詰め込まれた複雑な処理は、製造歩留まりの低下をもたらす不安定要因を含んでいる。本実施の形態における受光素子10は、詰め込まれた複雑な処理がないので、従来に比べて大幅な工程短縮を果たし、かつ高い製造歩留まりを得ることができる。
(実施の形態3)
図5は、本発明の実施の形態3における受光素子10および光学装置50を示す図である。受光素子10は、一つの部分を除いて、図1に示す受光素子10と同じである。
<本実施の形態の受光素子の特徴>
図5に示すように、受光素子10の端面Kには凹凸が現れている。凹凸の形状は、とくにn型InPのグランド引き出し層2の直上の受光層3が大きく凹むようにするのがよい。これによって、金属蒸着する際、グランド導電層8の端面接触部8aを構成する金属蒸着膜は、凹凸の凹部に深く忠実に入り込んで露出した面に密着する。とくにn型InPのグランド引き出し層2の直上の受光層3を大きく凹ませた場合、n型InPのグランド引き出し層2の端面および広く露出した端縁部表面に密着することができる。この結果、グランド導電層8の端面接触部8aを受光素子10の端面Kに低抵抗で確実に接触させることができる。
上記の受光素子10の端面Kの凹凸は、図6に示すように、選択エッチングによって実現することができる。受光層3が、InGaAs単層、またはタイプII(InGaAs/GaAsSb)多重量子井戸構造の場合、n型InPのグランド引き出し層2の直上の受光層3の端面を大きく凹ませるには、HPO系、HSO系、酒石酸系、クエン酸系などを選択エッチングの腐食液に用いるのがよい。図6において、耐食性固定治具63には数十枚以上のチップ10が固定されている。各チップは図6(b)に示す姿勢で、腐食液槽66に溜められた、上述のHPO系などの腐食液に浸漬されることで、n型InPのグランド引き出し層2の直上の受光層3を大きく凹ませることができる。このため、図2に示す金属蒸着工程において、n型InPのグランド引き出し層2の端面および広く露出した端縁部表面に、金属蒸着膜を確実に密着させることができる。この結果、低電気抵抗の接触を実現することができる。
選択エッチングは、チップの1辺の端面Kに施してもよいし、2辺の端面Kでも、4辺(四周)の端面Kに施してもよい。また、上記の選択エッチングは、プレーナ型受光素子だけでなく、メサ型受光素子に対しても、同じように有効である。
本実施の形態における、選択エッチングは、図3のフローチャートにける、チップ化したあとの導電接続促進化処理(前処理)の一例である。
(実施の形態3の変形例1:前処理の変形例1)
図7は、本発明の実施の形態3の変形例1における受光素子10および光学装置50を示す図である。図6の受光素子10との相違は、端面Kの形態のみであり、その他の箇所では共通する。この変形例1では、ダイシング等による個片化の後、金属蒸着の前に、端面KにInPの異方性エッチングを行う。異方性エッチングの腐食液は、HCl系、(HBr+CHCOOH)系などを用いるのがよい。この腐食液でエッチングすることで、受光層3がタイプII(InGaAs/GaAsSb)の多重量子井戸構造で形成される場合、当該多重量子井戸構造はエッチングされず、InP基板1、n型InPのグランド引き出し層2およびInPキャップ層5の端面を深く、かつ傾斜面へとエッチングする。この結果、n型InPのグランド引き出し層2とグランド導電層8の端面接触部8aとの接触面積を増加させて低電気抵抗の接触が可能になる。また、InP基板1を硫黄ドープn型InP基板とした場合、そのn型のInP基板1とのオーミック接触が容易になる。
この変形例1における導電化処理も、プレーナ型だけでなく、メサ型にも有効である。
(実施の形態3の変形例2:前処理の変形例2)
図8は、本発明の実施の形態3の変形例2における受光素子10および光学装置50を示す図である。図5の受光素子10との相違は、端面Kの形態のみであり、その他の箇所では共通する。この変形例2では、ダイシング等による個片化の後、金属蒸着の前に、端面Kに対して、所定の深さに導電化処理が施されている。この結果、この変形例2の受光素子10の端面Kの所定深さは導電部Sとされている。この導電部Sに対して金属蒸着がなされるので、n型InPのグランド引き出し層2と、グランド導電層8の端面接触部8aとのオーミック接触は、金属材料の種類をとくに特定しなくても、自然に実現することができる。
導電化処理は、端面Kの結晶性を阻害するように、サンドブラスト処理、HBr等の酸やアルカリによる処理などをするのがよい。また、イオン注入処理、スパッタリング処理などの導電性を直接高める処理をすることもできる。
変形例2における導電化処理も、プレーナ型だけでなく、メサ型にも有効である。
本実施の形態では、画素におけるp型領域6は選択拡散で形成されるので、InPキャップ層5の導電部Sにグランド導電層8の端面接触部8aが接触しても問題ない。また、図4に示すメサ型の場合には、トレンチがチップのInPキャップ層の端面Kを、画素から分離するので、InPキャップ層5の導電部Sにグランド導電層8の端面接触部8aが接触しても問題が起きることはない(図4参照)。
(実施の形態4)
図9は、本発明の実施の形態4における受光素子10を示す図である。本実施の形態では、実施の形態1〜3(変形例1、2も含む)の受光素子10に対して、その端面Kを含む端縁領域に、はんだ被覆処理(後処理)がなされている点が特徴である。このため本実施の形態の受光素子10の端縁領域には、はんだ被覆層12が形成されている。はんだ被覆層12は、端縁領域を広く覆っており、導電化接続促進処理(前処理)、および金属蒸着に多少の不完全さがあっても、その不完全さを解消して、グランド導電層8の端面接触部8aとn型InP引き出し層2との低電気抵抗の接触を、確実に完成させることができる。また、グランド層8の端面接触部8aと、表面端子部8bとの導電接続も確実にすることができる。
はんだ被覆処理(後処理)では、金属蒸着がなされたチップを、図6に示す姿勢で、図示しないはんだ浴に、はんだ被覆層12を形成する範囲だけ、浸漬して引き上げる。これによって、グランド電極に代わるグランド導電層8を確実に形成することが可能になる。
はんだ被覆層12は、チップの1辺〜4辺(四周)の任意の辺に形成することができる。このはんだ被覆層12も、プレーナ型だけでなく、メサ型にも有効である。
本実施の形態における、はんだ被覆処理(後処理)は、図3のフローチャートにける、チップ化−金属蒸着したあとの後処理に該当する。
上記において、本発明の実施の形態および実施例について説明を行ったが、上記に開示された本発明の実施の形態および実施例は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれら発明の実施の形態に限定されない。本発明の範囲は、特許請求の範囲の記載によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
本発明によれば、基板裏面側を入射面とする受光素子において、基板側に配置したグランド電極を、読み出し回路等に接続するために、エピタキシャル層表面側へと、簡単な処理工程で延ばすことができ、大幅な工程短縮、歩留まり向上を得ることができる。
1 InP基板、2 n型グランド引き出し層、3 受光層、4 InGaAs拡散濃度分布調整層、5 InPキャップ層、6 p型領域、7 InGaAsバッファ層、8 グランド導電層、8a 端面接触部、8b 表面端子部、10 受光素子、11 画素電極(p側電極)、12 はんだ被覆層、15 pn接合、35 AR膜、36 選択拡散マスクパターン、37 保護膜、40 読み出し回路、43 バンプ、50 光学装置、60 蒸着槽、61 るつぼ、62 固定治具、63 耐食性固定治具、65 腐食液、66 腐食液槽、K 端面、S 導電層。

Claims (13)

  1. 半導体基板の裏面側に入射面が設けられ、pn接合を有する受光素子であって、
    前記半導体基板の表面側にエピタキシャル成長された、前記pn接合が含まれる受光層、およびキャップ層、を備えるエピタキシャル積層体と、
    前記エピタキシャル積層体の表面に設けられた第2導電側の画素電極と、
    前記画素電極と対をなす第1導電側のグランド電極を構成するグランド導電層とを備え、
    前記グランド導電層は、前記半導体基板および前記エピタキシャル積層体の端面に接して覆う端面接触部と、該端面接触部と導電接続された前記エピタキシャル積層体の表面の端縁を覆う表面端子部と、からなることを特徴とする、受光素子。
  2. 前記半導体基板に接して表面側に第1導電型のグランド引き出し層を備え、該グランド引き出し層は前記エピタキシャル積層体に含まれ、前記端面接触部はそのグランド引き出し層の端面を含めて該エピタキシャル積層体の端面に接することを特徴とする、請求項1に記載の受光素子。
  3. 前記端面接触部が接する、前記半導体基板およびエピタキシャル積層体の前記端面に、導電接続促進化処理がなされていることを特徴とする、請求項1または2に記載の受光素子。
  4. 前記導電接続促進化処理が、前記半導体基板およびエピタキシャル積層体の端面に施した選択エッチングであり、該エピタキシャル積層体の端面に層に応じた凹凸が形成され、前記端面接触部はその凹凸に合わせて入り込んで、前記端面に接していることを特徴とする、請求項3に記載の受光素子。
  5. 前記導電接続促進化処理が、前記半導体基板およびエピタキシャル積層体の前記端面に施した異方性エッチングであり、前記エピタキシャル積層体の端面に層に応じた凹凸が形成され、さらに各端面が層に応じた角度の傾斜面となっていて、前記端面接触部はその凹凸に入り込んでその傾斜面に合わせて前記端面に接していることを特徴とする、請求項3に記載の受光素子。
  6. 前記導電接続促進化処理が、前記半導体基板およびエピタキシャル積層体の端面に施した導電化処理または導電率向上処理であることを特徴とする、請求項3に記載の受光素子。
  7. 前記半導体基板およびエピタキシャル積層体の前記端面に接する前記端面接触部、および前記端面接触部と前記表面端子部との接続部を、はんだ被覆層が覆っていることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の受光素子。
  8. 前記グランド導電層において、前記表面端子部は、前記画素電極と同じ材料であって、前記端面接触部と異なる材料で、形成されていることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の受光素子。
  9. 前記受光素子が、選択拡散により画素が形成されたプレーナ型、および、トレンチで画素が囲まれたメサ型、のいずれかであることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の受光素子。
  10. 前記受光素子が、単一画素の、または、一次元もしくは二次元に複数の画素が配列された、受光素子であることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載の受光素子。
  11. 前記半導体基板がInP基板であり、前記受光層がタイプIIの(InGaAs/GaAsSb)多重量子井戸構造から構成されることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載の受光素子。
  12. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の受光素子を用いたことを特徴とする、光学装置。
  13. 受光素子の製造方法であって、
    半導体ウエハに配列して形成されるチップを構成する受光素子における画素を形成し、その後、前記画素の電極である画素電極を形成する工程と、
    前記半導体ウエハから前記チップに個片化する工程と、
    前記個片化されたチップの端面に、前記画素電極と対をなすグランド電極の部分を構成するグランド導電層の端面接触部を金属蒸着で形成する工程と、を備えることを特徴とする、受光素子の製造方法。
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