JP2014002377A - 反射屈折光学素子及び反射屈折光学素子を含む光学系 - Google Patents

反射屈折光学素子及び反射屈折光学素子を含む光学系 Download PDF

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Abstract

【課題】像の品質を低下せずに最も低い遮光率で最も高い可能開口数を有する反射屈折光学系を提供する。
【解決手段】光線を反射屈折レンズ内に導くように構成された第1の面501と、反射膜を有し、第1の反射領域及び前記第1の反射領域に包囲された第2の反射領域を有し、前記導かれた光線を前記第1の面501へ反射するように構成された第2の面502とを備え、前記第1の面501から導かれて前記第1の反射領域に進んだ前記光線は前記第1の反射領域において全反射により反射され、前記第1の面501から導かれて前記第2の反射領域に進んだ前記光線は前記反射膜により反射される。
【選択図】図3

Description

本発明は、反射屈折光学素子、特に反射屈折レンズ、並びに反射屈折光学素子を含む光学系に関する。
顕微鏡、リソグラフィ投影系又は望遠鏡等の結像装置は、純粋な反射光学素子(purely catoptric opticalelement)、純粋な屈折光学素子(purely dioptric opticalelement)、あるいは反射光学素子及び屈折光学素子の組み合わせ(反射屈折光学素子(catadioptricoptical element))を使用して検体を結像する。顕微鏡は、生体組織等のサンプル、半導体ウエハ上の異常又は材料の表面を観察するために対物光学系を使用する。リソグラフィ投影系は、半導体基板(ウエハ)の平面的な像面上にレチクル上のパターンの像を投影するために投影対物レンズを使用する。望遠鏡において、直径が人間の眼の瞳孔より大きい対物レンズにより、通常は観察できないような星等の遠方の点光源を見ることができるように充分な光を集めることができる。適切な像を生成するために、これらの器具は物体から反射された(又は透過された)充分な光を集め、像における細部を分離し、像を拡大し、人間の眼又は光検出器が細部を見えるようにする必要がある。
固定された物体距離に存在する微細な物体の細部と細部を分解する能力は、当該細部が物理的に互いに近接したフューチャに対応するか(顕微鏡の場合のように)又は小さい角度で分離されるフューチャに対応するか(望遠鏡の場合のように)に関係なく、器具の分解能により判定される。顕微鏡の分解能(R)は式(1)により与えられる。
・・・(1)
式中、λは使用される光の波長であり、NAは物体空間における顕微鏡の開口数であり、0.61はレイリーの基準から導出される。
当業者には既知であるように、顕微鏡のNAが大きいほど分解能は向上する。従って、式(1)の上記の条件から、2つの物点の最小分解可能離間距離は、レンズの直径を増加し且つ使用される波長を短くすることにより減少される(解像度が向上される)。従って、高分解能の応用例に対して紫外線(UV)、深紫外線(DUV)、X線及び電子顕微鏡(又は投影対物レンズ)を使用することは有利である。
その一方で、NAは微細な物体の細部と細部を分解するために充分な光を集める器具の能力によっても判定される。充分な光を集める能力に関して、顕微鏡のNAは以下のように式(2)により定義される。
・・・(2)
式中、θは物体から射出する周辺光線の角度であり、Nは物体空間の屈折率である。従って、式(2)から、高いNAを得るためには周辺光線の角度θが大きい必要がある。しかし、その結果、収差補正が更に困難になる。それに対して、物体空間の屈折率を増加することでもNAを大きくできる。空気(N=1)が物体空間において使用される場合、NAの最大値は1より大きくならないが、物体空間が1より大きい屈折率の流体(N>1)で充填される場合、1より大きいNAが達成される。従って、0.95より大きいNA値は通常は物体空間において浸漬液を使用することによってのみ達成されるという条件で、従来の顕微鏡の大部分はNA値が約0.08〜1.30の範囲である対物レンズを使用する。
高NA対物レンズの多くの設計は、屈折構成要素及び反射構成要素の双方を含む反射屈折系を使用する。特に、液浸リソグラフィのための投影対物レンズは、NA値を増加するためのフィールド補正用光学部品として使用される先端光学素子として反射屈折光学素子を使用する。例えば、Aurelian Dodocによる米国特許第5,650,877号公報及び国際公開第WO2008/101676号(本明細書において、WO2008/101676)を参照。
米国特許第5,650,877号公報において、特別に構成された前面及び後面を有する縮小光学素子は基板上にレチクルの縮小像を投影する。縮小光学素子の後面は、凹反射面に包囲された中央開口を有する。前面は部分反射面を有し、これは、光束の一部分を凹反射面に向けて透過し、中央開口を通る収束パスにおいて、凹反射面により返された残りの光束の一部分を反射する。基板は開口と位置合わせされる。
WO2008/101676において、高屈折率透明材料から作成され、反射屈折光学素子の物体側の第1の面及び第1の面と対向する第2の面を有する反射屈折光学素子が開示される。第2の面は、光軸の周囲の中央領域内の透過部分と、透過部分の周囲の範囲内の凹面反射部分とを有する。第1の面は、物体面からの放射を第2の面に向けて透過し且つ第2の面の反射部分により反射された放射の少なくとも一部分が第1の面の透過部分により第2の面の透過部分に向けて全反射されるように第2の面に対して方向付けられた透過範囲を有する。
更に、Grey他は、論文「A New Series of Microscope Objective: I.Catadioptric Newtonian Systems」、JOSA 39、No 9、719〜723ページ(1949年)において、螢石又は石英・螢石から作成された先端固体レンズを有する顕微鏡対物レンズを開示する。レンズの物体側の面及び像側の面の双方は特定の領域上に反射被膜を含み、220〜540nmの波長で0.95より大きいNA値を達成し、収差が非常に少ない。
上述の各参考文献に共通する1つの特徴は、光の一部分が対物レンズの反射屈折光学素子の中央領域を通過することを中央遮光部が阻止することである。特定の閾値(通常は25%)を超える中央遮光部は、像のコントラストを著しく低下し、光強度損失を引き起こす。米国特許第5,650,877号公報によると、中央遮光部は投影像の15%以下を阻止する大きさに制限されてもよい。しかし、遮光が相対的に少ない場合でも、相当のエネルギー損失が部分反射により生じる。
WO2008/101676の反射屈折光学素子において、NAを増加するために全反射(TIR)が使用される。全反射に対する物理条件を適切に視覚化するために、図1は、屈折率n1の第1の媒質及び屈折率n2の第2の媒質の平面界面において屈折された光線の幾何学的配置を示す。図1を参照して、物点Oから射出して屈折率n1の第1の媒質と屈折率n2の第2の媒質との間の平面界面Sに入射角θで入射する光線R1を考慮する。屈折率n1の第1の媒質を通過して屈折率n2の第2の媒質へ透過される場合、光線R1はスネルの法則に従って屈折角θで光線R1’として屈折される。
n1 sin θ=n2 sin θの形態をとるスネルの法則は、n1>n2の場合に屈折光線R1’が法線Nrから離れるように曲がるか(図1に示すように)又はn2>n1の場合に屈折光線が法線に向けて曲がる(不図示)ような屈折角θを必要とする。スネルの法則は、屈折率の比に関係なく、界面Sに対して入射角θ=0を有する光線R0(すなわち、垂直又は直角に入射する)が方向の変更なく透過されることを更に必要とする。図1に示すように、法線Nrに対する入射角θが次第に大きくなる光線R1及びR2は、スネルの法則により、次第に大きくなる角度θでそれぞれ屈折光線R1’及びR2’として屈折される。
光線R3が入射臨界角θで界面Sに入射する場合、この臨界角θに達する。この場合、光線は、法線Nrに対して90°に達する屈折角で光線R3’として屈折される。従って、スネルの法則から、θ=90°の場合、臨界角θ=arcsin(n2/n1)である。従って、θより大きい入射角の場合、入射光線R4は全反射(TIR)されるため、屈折されずにR4’として反射される。
上記の前提を考慮すると、スネルの法則の条件が式(3)により与えられる臨界角θに対して満たされる場合、光線の全反射がレンズと空気との間で生じる。
・・・(3)
式中、Nはレンズの屈折率であり、1は空気の仮想屈折率である。
次に図2を参照して、WO2008/101676により開示される反射屈折レンズの関連部分を説明する。図2において、互いに対向する第1の面101及び第2の面102を有する反射屈折レンズ100の側面図を図面の左側に示す。第1の面101は、第2の面102側から見た場合にほぼ凹面であり、第2の面102は略平面(平坦)である。略平面の第2の面102の正面図を図2の右側に示す。第1の面101は、光軸AXの周囲の中央領域内の透過部分と、透過部分の周囲の領域内の凹面反射部分とを有する。第2の面102はほぼ透明であり、互いに同心であり且つ光軸AXを中心とする全反射(TIR)領域106及び透過領域107を有する。物体Oを照明する光は、第1の面101の透過部分を通過し、最初に第2の面102に入射する。更に詳細には、臨界角θと周辺角θとの間の入射角を有する光線R1及びR2は、第2の面102のTIR領域106において全反射され、従って、第1の面101の反射部分に向けて反射される。その後、第1の面101の反射部分はこれらの光線を光線R1’及びR2’として第2の面102に向けて反射する。しかし、今回は光線R1’及びR2’の入射角が臨界角より小さいため、光線R1’及びR2’は第2の面102のTIR領域106を通過して透過される。
それに対して、第1の面101の透過領域を通過して伝播し且つ臨界角θより小さい入射角θで第2の面102の透過領域107に入射する光線R0は、第2の面102により反射される代わりに光線R0’として屈折される。屈折光線R0’は、中央遮光部又は視野開口絞りにより散乱又は遮断される場合ある。従って、臨界角θより小さい入射角θを有する光線R0は像形成に寄与しない。更に、物体自体がそれに対して垂直に入射する光を遮断するため、光軸AXのすぐ周辺に存在する透過領域107は遮光される。従って、領域107は、像のコントラストを低下させ、光エネルギー損失を引き起こす場合がある。
一般に、高NA系における照明光線の損失量を示す遮光率は式(4)により定義される。
・・・(4)
式中、θは求められる遮光率を達成する最小角である。臨界角θより小さい入射角で図2の領域107に到達する光線R0は反射されずに屈折され、これは望ましくない。従って、WO2008/101676において、遮光は以下に示すように式(5)により与えられる:
・・・(5)
従って、θが臨界角θより小さいため、これは遮光に対する条件が満たされないことを意味する。
従って、反射屈折光学系が像の品質を低下せずに最も低い遮光率で最も高い可能開口数を提供するように、当技術の現状を向上する必要がある。
本発明の一態様によると、反射屈折光学素子は、光線を反射屈折レンズ内に導くように構成された第1の面と、反射膜を有し、第1の反射領域及び第1の反射領域に包囲された第2の反射領域を有し、導かれた光線を第1の面へ反射するように構成された第2の面とを備える。第1の面から導かれて第1の反射領域に進んだ光線は全反射により第1の反射領域において反射され、第1の面から導かれて第2の反射領域に進んだ光線は反射膜により反射される。
本発明の更なる特徴は、添付の図面を参照して例示的な実施形態の以下の説明を読むことにより明らかになるだろう。
n1>n2である屈折率n1の第1の媒質と屈折率n2の第2の媒質との平面界面において屈折された光線の幾何学的配置を示す図である。 従来の反射屈折レンズの関連部分を示す図である。 本発明の一実施形態に係る反射屈折光学素子を示す図である。 本発明に係る反射屈折光学素子及びそれにおける例示的な光線追跡を示す側面図である。 反射屈折光学素子の第2の面と第2の面を包囲する媒質との間の平面界面において反射された光線の幾何学的配置を示す図である。 点物体Oから射出され且つ多重反射により反射屈折光学素子を通過して透過された光線の光路を示す図である。 光学素子における近軸光線追跡の距離を示すグラフである。 本発明に係る反射屈折光学素子を組み込んだ結像光学系を示す図である。
添付の図面を参照して、本発明に係る実施形態を以下に説明する。
図3は、本発明の第1の実施形態に係る第1の面501及び第1の面に対向する第2の面502を有する反射屈折光学素子500を示す。第2の面502は湾曲しない略平坦又は平面的な面である。第1の面501は湾曲面であり、球面形状又は非球面形状のどちらであってもよい。図3に示す実施形態において、第2の面502側から見た場合、第1の面501は第2の面に対して凹面である。従って、本実施形態において、光学素子500は平凸面レンズとして成形された固体レンズである。しかし、本発明は固体レンズのみに限定されない。その代わりに、光学素子500は、ミラー及びレンズの組み合わせ又は適切な反射面を有する結合レンズの組み合わせにより実現されてもよい。それに加えて、平凸面の代わりに、光学素子500は球面又は非球面を有する両凸面レンズ又はメニスカスレンズとして成形されてもよい。
図3に示すように、光学素子500の湾曲した第1の面501(正面図)の平面図を図面の最左部分に示す。光学素子500の平面的な第2の面502(背面図)の平面図を図面の最右部分に示す。光学素子500の側面図を図面の中央部分に示す。光学素子500の側面図を参照して、その左側を前側又は物体側と呼び、その反対側(右側)を後側又は像側と呼ぶ。従って、本明細書中で使用するように、結像対象の物体が配置される光学素子500側を光学素子の「物体面側」、「物体側」又は「前側」と言い換え可能である。また、像が形成される光学素子500側を光学素子の「像面側」、「像側」又は「後側」と言い換え可能である。
図3に示すように、第1の面501(物体側の面)は、光軸AXを中心とする円形透過部分530(物体側透過部分)と円形透過部分530の周囲の回転対称の範囲内の反射部分520(物体側反射部分)とに分割される。光軸AXを中心とする円形透過部分530は光学的に透明な(透過)領域であり、光軸AX上に配置され且つ物体面OPに位置する物体Oから射出した光を透過するために用いられる。第1の面501の少なくとも反射部分520は、その像側に対して凹面(第2の面502に対して凹面)である湾曲形状を有する。反射部分520は、凹面ミラーと考えられるものを形成するために高反射被膜(膜)で被覆されるのが好ましい。すなわち、反射部分520は反射被覆膜で被覆された光学素子500(レンズ)の外側領域内の領域であり、円形透過部分530は光軸AXを同心とし且つ反射被覆膜で被覆されない領域である。オプションとして、円形透過領域530は、物体Oから第2の面502への光線の透過を増加するために反射防止被膜(膜)で被覆されてもよい。
それに対して、光学素子500の平面的な第2の面502は、同様に光軸AXを中心とする中央透過領域570(像側透過部分)、中央透過領域570の周囲の回転対称の範囲内の環状反射領域550(像側反射部分)、並びに環状反射領域550の周囲の回転対称領域内の全反射(TIR)領域510(像側TIR部分)に分割される。少なくとも中央透過領域570及びTIR領域510はどんな被膜も有さず透明であるため、所定の入射角で入射する光を透過する。環状反射領域550は、第1の面501の反射部分520と同様に高反射被膜で被覆されるのが好ましい。
更に詳細には、図3に示すように、環状反射領域550は、中央透過領域570の周囲の回転対称の範囲内であり且つTIR領域510内である第2の面502の領域を含む。環状反射領域550は、反射被覆膜を有し且つTIR領域510を越えて第2の面502の反射部分を拡張するために用いられるのが好ましい。以下に更に詳細に説明するように、環状反射領域550の面積は臨界角θ及び求められる遮光率を満たすのに必要な最小角θに関連し、それらにより判定される。
図3の光学素子500の側面図を再度参照すると、物体Oを照明する光線は、第1の面501の円形透過部分530を通過して第2の面502に入射する。本明細書の背景の節において上述したように、従来技術では、臨界角θより小さい入射角で第2の面502に入射する光線は反射されずに屈折される(透過される)。これらの屈折光線は、像のコントラストを低下させるか又は光強度損失を引き起こすため、光学素子の結像性能を低下させる場合がある。それに対して、本発明の第1の実施形態によると、臨界角θより小さく且つ求められる遮光率を満たすのに必要な最小角θより大きい入射角で第2の面502に入射する光線は、実際は第2の面502から全反射される。以下、θを「最小遮光角」と呼ぶ。このように、臨界角θより小さく且つ最小遮光角θより大きい入射角で第2の面502に入射する光線も像形成に寄与する。その結果、向上された像のコントラスト及び最適な光強度が有利に達成され、実質的に光収差のない高品質の像を取得できる。
次に図4及び図5を参照して、本発明に係る反射屈折光学素子500の動作を詳細に説明する。図4は、光学素子500及びそれにおける例示的な光線追跡を示す側面図である。図5は、光学素子500の第2の面502と第2の面502と接する媒質(空気)との間の平面界面Sにおいて反射された光線の幾何学的配置を示す。更に詳細には、図4に示すように、説明を容易にするために、環状反射領域550を第2の面502上に重ねられた反射膜として示す。図5に示すように、環状反射領域550は、臨界角θ以下且つ最小遮光角θ以上の入射角で入射する光線を全反射するように構成される。
環状反射領域550(第2の面の反射領域)は、第2の面502の対応する部分を高反射膜で被覆することにより形成される。あるいは、環状反射領域550は、第2の面502の対応する部分に環状ミラーを追加する(例えば、付着又は接着する)ことにより形成される。環状反射領域550は、第2の面502の対応する部分に環状反射格子を構成する(例えば、リソグラフィエッチングするか又は化学蒸着により積層する)ことにより更に形成されてもよい。反射格子が環状反射領域550に使用される場合、反射格子は、向上された像のコントラスト及び最小化された遮光率に対する条件を満たす特定の波長又は反射角に適応される。環状反射領域550が形成される他の等価の方法は、当業者には実験を行うことなく認識されると考えられる。従って、本発明の実施形態は、環状反射領域550が形成される何らかの特定の方法に限定されない。
図5は、環状反射領域550の平面界面において屈折された光線の幾何学的配置を特に示す。図5を参照すると、臨界角θより大きい入射角で界面Sに入射する光線R4の場合、上述の背景の節から、入射光線R4は第2の面502のTIR領域510で全反射されて光線R4’として反射される。従って、TIR領域510は、臨界角θより大きく且つ周辺角θ以下である入射角θで入射する光線を全反射により反射するように構成される。
従来技術(図1及び図2を参照)と異なり、図5に示すように、入射角θ(θは、臨界角θ以下であり且つ最小遮光角θ以上である)を有する光線R1、R2及びR3は第2の面502の環状反射領域550に入射し、第1の面501の反射部分520に向けて全反射される。第1の面501の反射部分520から、光線R1〜R3は第2の面502のTIR領域510に向けて反射される。このように、本発明では従来技術と異なり、臨界角θより小さい入射角を有する光線も第2の面502において反射され、像のコントラストを向上し且つ光学素子500を用いて集められる光の強度を最適化するために使用される。
図4及び図5を再度参照すると、物点Oから射出した光線は、周辺角θと臨界角θとの間の入射角を有する第1の光線グループ(グループI)、臨界角θと求められる遮光率を達成するために必要な最小角θとの間の入射角を有する第2の光線グループ(グループII)、並びにθと0との間の入射角を有する第3の光線グループ(グループIII)である3つのグループに分類される。
周辺角θを有する光線と臨界角θを有する光線との間の入射角θを有する光線の光路は物点Oから光学素子500の第2の面502のTIR領域510を通過して外部に続く。詳細には、物点Oから射出したグループIの光線は第1の面501の透過部分530を通過し、第2の面502のTIR領域510に入射した際に全反射される。これらの光線は、更に第1の面501の反射部分520により反射され且つ第2の面502のTIR領域510により屈折され、光学素子500の外部に射出する。換言すると、周辺角θを有する光線と臨界角θを有する光線との間の入射角θを有する光線は光学素子500内で多重反射され、光軸AXに対して略平行に光学素子500から射出する。
θとθとの間の入射角を有する光線の光路も物点Oから光学素子500の第2の面502のTIR領域510を通過して外部に続く。詳細には、物点Oから射出したグループIIの光線は第1の面501の透過部分530を通過し、第2の面502の環状反射領域550により反射される。その後、これらの光線は第1の面501の反射部分520により更に反射され且つ第2の面502のTIR領域510により屈折され、光学素子500の外部に射出する。従って、θとθとの間の入射角θを有する光線も光学素子500内で多重反射され、光軸AXに対して略平行に光学素子500から射出する。
θ〜0の角度を有する光線の光路も物点Oから始まるが、この光路は光学素子500の第2の面502のTIR領域510を通過して外部に出ない。その代わりに、グループIIIの光線は第1の面501の円形透過部分530を通過し、大部分が第2の面502の中央透過領域570により屈折される。
次に図6及び図7を参照して、点物体Oから射出された光線の光路の特定の詳細及び光学素子500の第2の面502における領域の寸法の例を説明する。
図6に示すように、点「a」は、入射角θを有する光線R1が第2の面502と交差する位置である。点「d」は、臨界角θに等しい入射角を有する光線R2が第2の面502と交差する位置である。点「a」と点「d」との間の部分は、第2の面502の環状反射領域550に対応する。環状反射領域550が入射する光線を入射角に関係なく全反射することを保証するために、点「a」と点「d」との間の部分は反射膜で被覆される。反射膜は、例えばアルミニウム及び銀等の金属膜、あるいは多層膜から選択される。反射膜の厚さは、例えば数十ナノメートルと数百マイクロメートルとの間で選択されてもよい。更に詳細には、反射膜の厚さ及び材料は、使用される光の波長に従って選択されてもよい。反射屈折光学素子500(レンズ)の材料は、例えばクラウンガラス、フリントガラス、異常分散ガラス、溶解石英、螢石等、並びにそれらの等価物及び組み合わせから選択可能である。上述のように、環状反射領域550は、必要に応じて種々の技術及び材料を使用して製造可能である。
反射被覆膜(図6に不図示)により第2の面502の点「a」において反射された光線R1は、第1の面501の点「b」に進み、その後、第2の面502上の点「c」を通過して光学素子500から射出する。臨界角θ(面502に対する垂線と面502に入射する光線との間の角度)に等しい入射角を有する光線R2は、物点Oから第2の面502の点「d」に進み、点「d」から第1の面501の反射部分520上の点「e」に進み、その後、第2の面502上の点「f」に進むことにより、光学素子500の外部に射出する。光学素子500の厚さがd1(d1>0)であり且つ曲率半径がr(r>0)である場合、式(6)により定義される以下の関係式が満たされる必要がある。
・・・(6)
図7は、光学素子500における近軸光線追跡の距離を示すグラフである。詳細には、図7において、縦座標は光軸AXに対して直交し且つ第2の面502に沿う方向における光軸AXからの距離を表し、横座標は物点Oから第2の面502上の射出点までの光線の累積移動距離を表す。従って、第1の面501の頂点は0(光路の始点)であると見なされる。実際、物点Oはグラフに示す実際の始点と若干異なる点p1に位置してもよいが、p1と始点との間の距離が光学素子の厚さd1よりはるかに短い場合、点p1はグラフの始点の適切な近似であると見なされる。
図7により定義されるデカルト座標を用いる場合、図7の点「a」、「b」、「c」及び「d」は図6の各点a、b、c及びdにほぼ対応すると考えられる。詳細には、入射角θを有する光線R1は最初に近似距離d1を進んで点「a」において反射され、そこから近似距離d1を再び進んで点「b」から反射され、第1の面501の湾曲形状のため点「b」において入射角がθ’に変わる。従って、光線R1は近似距離d1をもう一度進み、点「c」において光学素子500の第2の面502から射出する。臨界角θに等しい入射角を有する光線R2も点物体Oから点「d」へ近似距離d1を進んだと考えられるため、以下の近似を行うことができる。
詳細には、図7によると、「h1」、「h2」及び「h3」は、一般的な三角法に基づく式(7)〜(9)により以下のように定義される。反時計方向の角度が正の値として定義されるため、角θ、θ及びθ’は負の値である。
h1= -d1・tanqc ・・・(7)
h2= -2・d1・tanql ・・・(8)
h3= -d1・tanql' ・・・(9)
次に、光学素子500の屈折率Nを考慮すると、第1の面501の屈折力は、φ=2N/r(式中、Nは光学素子の屈折率)として定義される。入射角θを有し且つ始点(物体Oの位置)から点「a」及び「b」まで進んだ光線R1の角度は、上述のように第1の面501により変更される。角度変化量(α’−α)は、式(10)〜(12)により以下で導出されるように「h2・φ」に等しい。
α'= α+h2・φ ・・・(10)
α'= N・tanql' ・・・(11)
α= N・tanql ・・・・(12)
図7において、点「c」における光線が第2の面502を通過して光学素子500の外部に出るように、点「c」の高さは「h1」以上である必要がある。簡潔には、以下の式(13)が満たされる必要がある。
h2 + h3 ≧ h1 ・・・(13)
式(13)及び図7により確立された値を使用することにより、以下の式(14)〜(16)が更に導出される。
(-2・d1・tanql) + (-d1・tanql') ≧ -d1・tanqc ・・・(14)
(-2・d1・tanql) + (-d1)(tanql-4tanql・d1/r) ≧ -d1・tanqc ・・・(15)
4・tanql・d1/r1 ≧3・tanql-tanqc ・・・(16)
式(16)により定義される不等式において、左側が負であるため、右側は負である必要がある(すなわち、3・tanθ−tanθ<0)。最後に、式(17)により定義される以下の関係式が得られる。これは、上記の仮定された式(6)である。
・・・(17)
式(17)の上記の関係式に基づいて且つ図8に示す実例の特定の値を使用して、以下の値が得られる。
例1:N=1.773の場合、θ=−34.3°である。r=143mm、d1=35.0mm且つθ=−19.0°の場合、第2の面502の環状反射領域550の内径は12.1mmであり、外径は23.9mmmである。本例において、周辺光線の入射角(周辺光線角)θが1.65のNAに対応する−68.5°の場合、式(5)に基づく本例の遮光は35.8%になる。
光学素子500の第1の面501が非球面である場合、実際の光線追跡を計算することにより、実際の遮光は38%である。従って、上記の近似を用いて計算した値と実際の測定値とは若干異なるが、式(17)により定義された関係式により第2の面502の環状反射領域550の寸法を確立するための適切な近似が得られることがわかる。
例2:r=278mm、d1=45.0mm且つθ=16.7°の場合、第2の面502上の環状反射領域550の内径は13.5mmであり、外径は30.7mmである。周辺光線角θが1.65のNAに対応する68.5°である場合、本例の遮光は30.9%である。
それに対して、環状反射領域550が第2の面502上に提供されない場合、すなわち、式(3)においてθ=θ(=−34.3°)である場合、本例の遮光は60.6%になる。
<変更例>
上記の説明において、第2の面502のTIR領域510を光軸AXに向けて拡張するのに有利なものとして環状反射領域550を説明した。しかし、オプションとして、環状反射領域550はTIR領域510の領域を越えて拡張されてもよい。
図3に示すように、第2の面502はほぼ平面である。しかし、別の実施形態において、第2の面502は凸面又は凹面であってもよい。すなわち、上述のように、光学素子500は平凸レンズとして成形されてもよく(上述のように)、あるいはメニスカスレンズ、両凸レンズ又は他の形状に成形されてもよい。
第2の面502が凹面として成形される場合、光線の入射角が第2の面502の曲率半径に従って減少されるため、光は平坦面の場合より下向きに反射され、図3の環状反射領域550の面積は拡大される。
第2の面502としての凹面は、遮光の点で欠点を有する場合がある。それに対して、凸面の使用は遮光に関して有利である。凸形状を有する第2の面502により、光が第1の面501で反射した後に第2の面502に2度目に入射する場合、そのエッジにおいてTIRが繰り返される。更に、凹形状が急峻になるに従って、光学素子500の直径は激増される。
例えば曲率半径が1000mmである凸形状を第2の面502が有する場合、環状反射領域550の内径は11.6mmであり、外径は23.6mmである。この場合、本例の遮光は33.0%である。従って、凸形状の第2の面502を形成することにより、光学素子500の直径は第2の面が平坦に形成される場合より10mm大きくなる。
それに対して、曲率半径が−1000mmである凹形状に第2の面502が成形される場合、環状反射領域550の内径は14.4mmであり、外径は25.8mmである。この場合、本例の遮光は40.0%である。従って、第2の面502が凹形状に形成される場合、光学素子500の直径は第2の面502が平坦に形成される場合より8mm小さくなり有利である。
従って、要約すると、上述の反射屈折光学素子500は種々の形態で実現可能であり、何らかの特定の1つの形状に限定されない。特定の実現例は所望のアプリケーションに依存する。例えば上述の反射屈折光学素子は、他のレンズ又はミラーと組み合わせて使用可能である。
図8は、結像光学系600を実現するために反射屈折光学素子500が他の光学素子と一体化される方法の一例を示す。更に詳細には、図8に示すように、反射屈折光学素子500は、光学系600の物体面OPにおいて光軸AX上に配置された物体Oの像IMを像面IPに形成するレンズユニット605を含むレンズ群610と組み合わされる。
数値例:図8に示す光学系600を表す数値例(数値例1)に対応するデータを次に説明する。本明細書中で提示される数値例において、参照指標「i」(i=1、2、3...)は、光学系における物体面から像面への面の順序を示す。これを前提として、「半径」データRiはi番目の曲率半径(i番目の平面における)に対応し、厚さTiはi番目の面と(i+1)番目の面との間の軸上距離又は空間を示し、符号ndi及びνdiはそれぞれ、フラウンホーファーd線に対するi番目の光学素子の材料の屈折率及びアッベ数を示す。ndi及びνdiに対するデータを有さない面番号は、この面番号が空気の空間を表すことを示す。表1において、半径R=1.00E+18(式中、1E+Xは1×10+Xに等しい)は、略無限の半径、すなわち平坦面を示す。更に、数値例において、物体Oは第1の面501の物体側で物体面OPに位置すると仮定する(図3に示すように)。物体Oは第1の光学面501の円形透過部分の屈折率に一致する(すなわち、光学素子500の屈折率に一致する)屈折率を有する液浸媒質(オイル)に浸漬されると考えられる。非球面が存在する場合、面番号の隣りに追加されたアスタリスク(「*」)によりこれを示す。
各非球面において、円錐定数をkで示し、非球面係数の次数をA、B、C、D、E、F、G、J...で示す。これらはそれぞれ、4次係数、6次係数、8次係数、10次係数、12次係数、14次係数及び16次係数を示す。面の頂点を基準として光軸から高さhの位置における光軸方向の変位をzで示す。非球面における変位は以下に示す式(18)に基づき、係数A〜Jに対する値を表2に示す。
・・・式(18)
例示的な実施形態を参照して本発明の種々の態様を説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されないことが理解されるべきである。以下の特許請求の範囲の範囲は、そのような変更、並びに等価の構造及び機能の全てを含むように広範に解釈されるべきである。

Claims (11)

  1. 光線を反射屈折レンズ内に導くように構成された第1の面と、
    反射膜を有し、第1の反射領域及び前記第1の反射領域に包囲された第2の反射領域を有し、前記導かれた光線を前記第1の面へ反射するように構成された第2の面とを備え、 前記第1の面から導かれて前記第1の反射領域に進んだ前記光線は前記第1の反射領域において全反射により反射され、前記第1の面から導かれて前記第2の反射領域に進んだ前記光線は前記反射膜により反射されることを特徴とする反射屈折レンズ。
  2. 第1の中心位置を有する前記第1の面は凹面であり、第2の中心位置を有する前記第2の面は平面であることを特徴とする請求項1記載の反射屈折レンズ。
  3. 前記第1の中心位置及び前記第2の中心位置を通過する線は前記第2の面に対して垂直であることを特徴とする請求項1記載の反射屈折レンズ。
  4. 前記第2の反射領域は環状であり、θが前記線と前記第2の面に進む前記光線との間の臨界角であり、θが前記線と前記第2の面の前記第2の反射領域に進む前記光線との間の角度であり、rが前記レンズの曲率半径であり且つdが前記線に沿う前記レンズの厚さである場合、条件
    が満たされることを特徴とする請求項3記載の反射屈折レンズ。
  5. 像を形成する光学系であって、
    請求項1記載の反射屈折レンズと、前記反射屈折レンズにより集められた光線から物体の像を形成するレンズユニットとを備えることを特徴とする光学系。
  6. 反射屈折光学素子の光軸を中心とする円形透過部分及び前記円形透過部分の周囲の回転対称の範囲内の反射部分を有する前記光学素子の物体側の第1の面と、
    前記第1の面に対向し、前記光軸を同様に中心とする中央透過領域、前記中央透過領域の周囲の環状反射領域、並びに前記環状反射領域の周囲の全反射(TIR)領域を含む第2の面とを備え、
    前記第1の面は前記第2の面に対して凹面であり、
    前記第1の面において、前記円形透過部分は光を透過するように構成され、前記反射部分は光を前記第2の面に向けて反射するように構成され、
    前記第2の面において、前記TIR領域は前記第1の面の前記円形透過部分を透過され且つ全反射に対する臨界角θより大きい入射角を有する光を反射するように構成され、前記環状反射領域は前記第1の面の前記円形透過部分を透過され且つ前記臨界角θより小さい入射角を有する光を反射するように構成されることを特徴とする反射屈折光学素子。
  7. 前記環状反射領域は反射膜で被覆されることを特徴とする請求項6記載の反射屈折光学素子。
  8. 前記第2の面において、前記中央透過領域は遮光率を判定するように構成されることを特徴とする請求項6記載の反射屈折光学素子。
  9. 前記第2の面において、前記TIR領域は臨界角θより大きく且つ周辺角θ以下である入射角を有する前記光を反射するように構成されることを特徴とする請求項6記載の反射屈折光学素子。
  10. 前記環状反射領域は、前記臨界角θより小さく且つ最小遮光角θ以上である入射角を有する前記光を反射するように構成されることを特徴とする請求項6記載の反射屈折光学素子。
  11. が前記第1の面の曲率半径であり且つdが前記光学素子の前記光軸に沿う前記第1の面と前記第2の面との間の距離である場合、条件
    が満たされることを特徴とする請求項11記載の反射屈折光学素子。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112887453B (zh) * 2019-11-29 2023-08-04 北京小米移动软件有限公司 终端设备

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09179199A (ja) * 1995-12-22 1997-07-11 Fuji Photo Optical Co Ltd 光源用ミラー
US5930055A (en) * 1994-09-29 1999-07-27 Eisenberg; Yeshayahu S. Lens apparatus
JP2002230817A (ja) * 2001-01-29 2002-08-16 Minolta Co Ltd 情報記録再生装置
WO2008101676A2 (en) * 2007-02-23 2008-08-28 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
JP2009300994A (ja) * 2008-05-12 2009-12-24 Olympus Corp 光学系及びそれを用いた内視鏡

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2683394A (en) 1951-09-08 1954-07-13 American Optical Corp Wide aperture optical projection lens system
US5650877A (en) 1995-08-14 1997-07-22 Tropel Corporation Imaging system for deep ultraviolet lithography
KR100317139B1 (ko) 1999-05-27 2001-12-22 윤덕용 초고분해능 포물선형 렌즈
WO2007055742A2 (en) * 2005-06-03 2007-05-18 The Regents Of The University Of California Multiple reflective lenses and lens systems

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5930055A (en) * 1994-09-29 1999-07-27 Eisenberg; Yeshayahu S. Lens apparatus
JPH09179199A (ja) * 1995-12-22 1997-07-11 Fuji Photo Optical Co Ltd 光源用ミラー
JP2002230817A (ja) * 2001-01-29 2002-08-16 Minolta Co Ltd 情報記録再生装置
WO2008101676A2 (en) * 2007-02-23 2008-08-28 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
JP2009300994A (ja) * 2008-05-12 2009-12-24 Olympus Corp 光学系及びそれを用いた内視鏡

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