JP2013538125A5

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Publication number: JP2013538125A5
Application number: JP2013527365A
Authority: JP
Filing date: 2011-09-03
Publication date: 2016-10-27
Anticipated expiration: 2031-09-03

Description

いくつかの実施形態では、溶媒系は、水と非混和性である。例えば、ある実施形態では、溶媒系は、水１００ｍｌあたり約１０ｇ未満の溶媒の水との溶解度を有する。

ある実施形態では、希釈剤は、水との低混和性を有するようなものから選択される。例えば、いくつかの実施形態では、希釈剤は、２５℃の水に約１０ｇ／１００ｍＬ（すなわち、水１００ｍＬあたり１０ｇの溶媒）以下の溶解度を有する。他の実施形態では、希釈剤は、２５℃の水に約０．０１ｇ／１００ｍＬ以下、約０．１ｇ／１００ｍＬ以下、約０．５ｇ／１００ｍＬ以下、約１ｇ／１００ｍＬ以下、約１．５ｇ／１００ｍＬ以下、約２ｇ／１００ｍＬ以下、約２．５ｇ／１００ｍＬ以下、約３ｇ／１００ｍＬ以下、約４ｇ／１００ｍＬ以下、約５ｇ／１００ｍＬ以下、約６ｇ／１００ｍＬ以下、約７ｇ／１００ｍＬ以下、約８ｇ／１００ｍＬ以下、もしくは約９ｇ／１００ｍＬ以下の水の溶解度を有する。いくつかの実施形態では、希釈剤は、完全に水に非混和性である。水に、より低溶解の希釈剤の使用することは、再生のエネルギーがより少ない、高いＣＯ_２の荷電能力を有し得、ガスストリーム内の水に耐えることが可能であり、および／もしくは大きなエネルギー損失がなく水と分離することが可能であるといった結果となり得る。

Claims

溶媒系であって、
水素原子脱離基を備えた窒素を有する窒素塩基および希釈剤から形成される溶媒
を含み、前記窒素塩基が、８〜１５のｐＫａを有し、
前記希釈剤がフッ化アルコール類、任意に置換されたフェノール類、窒素複素環類、およびそれらの混合物からなる群から選択され、
前記窒素塩基が、カーボネートエステルもしくはカーボネートエステルのヘテロ原子類似体をいずれも実質的に形成することなしに、酸性ガスと反応してカルバマート塩もしくはカルバマート塩のヘテロ原子類似体を形成するような構造を有し、
前記溶媒系が、水に非混和性であり、
前記カルバマート塩もしくはカルバマート塩のヘテロ原子類似体が前記溶媒系に溶解性である、
前記溶媒系。
前記希釈剤が、２，２，３，３，４，４，５，５‐オクタフルオロペンタノール（ＯＦＰ）、２，２，３，３‐テトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）、２，２，３，３，３‐ペンタフルオロプロパノール（ＰＦＰ）、２，２，３，３，４，４‐ヘキサフルオロブタノール（ＨＦＢ）、２，２，２‐トリフルオロエタノール（ＴＦＥ）、ノナフルオロ‐１‐ヘキサノール、４，４，５，５，６，６，７，７，７‐ノナフルオロヘプタノール、１，１，３，３‐ヘキサフルオロ‐２‐フェニル‐２‐プロパノール、４‐メトキシフェノール（４‐ＭｅＯＰｈ）、４‐エトキシフェノール（４‐ＥｔＯＰｈ）、２‐エトキシフェノール、４‐プロポキシフェノール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、Ｎ‐メチルイミダゾール、１‐トリフルオロアセチルイミダゾール、１，２，３‐トリアゾール、１，２，４‐トリアゾール、２‐トリフルオロメチルピラゾール、３，５‐ビストリフルオロメチルピラゾール、３‐トリフルオロメチルピラゾールおよびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の溶媒系。
前記希釈剤が、アルコール類、ケトン類、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、窒素複素環類、酸素複素環類、脂肪族エーテル類、環状エーテル類、エステル類、アミド類およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の溶媒系。
前記希釈剤が、フッ化アルコール類、フッ化ケトン類、フッ化脂肪族炭化水素類、フッ化芳香族炭化水素類、フッ化窒素複素環類、フッ化酸素複素環類、フッ化脂肪族エーテル類、フッ化環状エーテル類、フッ化エステル類、およびフッ化アミド類およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の溶媒系。
前記希釈剤が、トルエン、ｐ‐キシレン、１‐メチルナフタレン、２，４，６‐ジメチルアミノフェノール、ベンジルアルコール、２，６‐ジメチルシクロヘキサノン、３，５‐ルチジン、シクロヘキサノン、アニリン、ピリジン、２‐フルオロアセチルフェノン、１‐フルオロデカン、２，４‐ジフルオロベンゾフェノン、２‐フルオロ‐３‐トリフルオロメチルアニリン、２‐フルオロアニリン、４‐フルオロアニリン、３‐トリフルオロメチルアセトフェノン、２‐トリフルオロメチルアセトフェノン、ビス（２，２，２‐トリフルオロエチル）メチルホスホン酸、４‐フルオロ‐３‐（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドおよびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の溶媒系。
前記窒素塩基が、一級アミン類、二級アミン類、ジアミン類、トリアミン類、テトラアミン類、ペンタミン類、環状アミン類、環状ジアミン類、アミンオリゴマー類、ポリアミン類、アルコールアミン類、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の溶媒系。
前記窒素塩基が、１，４‐ジアザビシクロ‐２，２，２‐オクタン、ピペラジン（ＰＺ）、トリエチルアミン（ＴＥＡ）、１，１，３，３‐テトラメチルグアニジン（ＴＭＧ）、モノエタノールアミン（ＭＥＡ）、ジエチルアミン（ＤＥＡ）、エチレンジアミン（ＥＤＡ）、１，３‐ジアミノプロパン、１，４‐ジアミノブタン、ヘキサメチレンジアミン、１，７‐ジアミノヘプタン、ジエタノールアミン、ジイソプロピルアミン（ＤＩＰＡ）、４‐アミノピリジン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ｔｅｒｔ‐オクチルアミン、ジオクチルアミン、ジヘキシルアミン、２‐エチル‐１‐ヘキシルアミン、２‐フルオロフェネチルアミン、３‐フルオロフェネチルアミン、３，５‐ジフルオロベンジルアミン、３‐フルオロ‐Ｎ‐メチルベンジルアミン、４‐フルオロ‐Ｎ‐メチルベンジルアミン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、Ｎ‐メチルイミダゾール、１‐トリフルオロアセチルイミダゾール、１，２，３‐トリアゾール、１，２，４‐トリアゾールおよびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の溶媒系。
前記溶媒系が、水１００ｍｌあたり１０ｇ未満の水との溶解度を有する、請求項１に記載の溶媒系。
溶液を含む溶媒系と酸性ガス含有ガスストリームを接触させることを含む、ガスストリームからの酸性ガスの除去プロセスであって、
前記溶液が、
水素原子脱離基を備えた窒素を有する窒素塩基および希釈剤から形成され、
前記窒素塩基が、８〜１５のｐＫａを有し、
前記希釈剤がフッ化アルコール類、任意に置換されたフェノール類、窒素複素環類、およびそれらの混合物からなる群から選択され、
前記窒素塩基が、カーボネートエステルもしくはカーボネートエステルのヘテロ原子類似体をいずれも実質的に形成することなしに、酸性ガスと反応してカルバマート塩もしくはカルバマート塩のヘテロ原子類似体を形成するような構造を有し、
前記溶媒系が、水に非混和性であり、
前記カルバマート塩もしくはカルバマート塩のヘテロ原子類似体が前記溶媒系に溶解性である、
前記プロセス。
酸性ガス‐リッチソルベントおよび酸性ガス‐リーンガスストリームを排出することをさらに含む、請求項９に記載のプロセス。
前記酸性ガス‐リッチソルベントに存在する酸性ガスよりも低含量の酸性ガスを含む再生された溶媒を形成するために熱を加えることにより、前記酸性ガス‐リッチソルベントを再生することをさらに含む、請求項９に記載のプロセス。
前記再生成分により適用された前記熱が、蒸気、排気ガス、もしくはそれらの組み合わせからなる群から選択される源に由来する、請求項１１に記載のプロセス。