JP2013533893A5 - - Google Patents
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Description
[0169]これまでのところ、記載された非自己画像化可能ノルボルネン型ポリマーは、浸漬リソグラフィープロセスのために、浸漬リソグラフィープロセスにおいてホトレジスト層に上層するトップコートを形成するために、このようなポリマーを製造する方法、このようなポリマーを用いた組成物およびこのような組成物を利用する浸漬リソグラフィープロセスのために有用であるということが理解されるはずである。
本願は以下の発明を包含する。
[項目1] 非自己画像化可能ポリマーであって、式I:
[式中、nは、0〜5までの整数であり;R 1 、R 2 、R 3 およびR 4 は、各々独立して、水素、線状または分枝状アルキル基、線状または分枝状ハロアルキル基、または式A、式Bおよび式C:
(式中、Zは、11未満のpK a を有するブロンステッド(Bronsted)酸基であり;Yは、OまたはSであり;tは、0〜5の整数であり;pは、0〜3の整数であり;qは、各々独立して、1〜3の整数であり;R * は、独立して、水素、メチル基またはエチル基であり;そして式Bおよび式C中のAは各々、上に定義の式Aによって表される基である)
によって表される基の一つである]
によって表されるノルボルネン型反復単位を含み;但し、少なくとも一つのノルボルネン型反復単位について、R 1 〜R 4 の一つは、式A、式Bまたは式Cの一つによって表される基であるという条件付きである非自己画像化可能ポリマー。
[項目2] Zが、式D、式Eまたは式F:
(式中、R f は、独立して、C n Q 2n+1 であり、ここにおいて、Qは、独立して、FまたはHであり;但し、少なくとも一つのQはFであるという条件付きであり;そしてここにおいて、nは、独立して、1〜4の整数である)
によって表される基の一つより選択される、項目1に記載の非自己画像化可能ポリマー。
[項目3] Yが、酸素である、項目2に記載の非自己画像化可能ポリマー。
[項目4] Zが、式Dによって表される基である、項目3に記載の非自己画像化可能ポリマー。
[項目5] 前記最初のノルボルネン型反復単位とは異なる少なくとも一つの追加のノルボルネン型反復単位を更に含む、項目3に記載の非自己画像化可能ポリマー。
[項目6] Zが、式Dによって表される基である、項目5に記載の非自己画像化可能ポリマー。
[項目7] 2,000〜80,000の分子量(M W )を有する、項目3に記載の非自己画像化可能ポリマー。
[項目8] 非自己画像化可能ポリマーを製造する方法であって、
反応容器に、最初のノルボルネン型モノマーであって、式I:
[式中、nは、0〜5までの整数であり;R 1 、R 2 、R 3 およびR 4 は、各々独立して、水素、線状または分枝状アルキル基、線状または分枝状ハロアルキル基、または式A、式Bおよび式C:
(式中、Zは、11未満のpK a を有する Bronsted 酸基であり;Yは、OまたはSであり;tは、0〜5の整数であり;pは、0〜3の整数であり;qは、各々独立して、1〜3の整数であり;R * は、独立して、水素、メチル基またはエチル基であり;そして式Bおよび式CのAは各々、上に定義の式Aによって表される基である)
によって表される基の一つである]
によって表され;但し、少なくとも一つのノルボルネン型反復単位について、R 1 〜R 4 の一つは、式A、式Bまたは式Cの一つによって表される基であるという条件付きであるノルボルネン型モノマーを入れ、
更に、反応容器に、適当な溶媒、触媒を入れ、さらに任意の助触媒を入れてもよく;
反応容器内容物に撹拌を行って、反応溶液を形成させ;そして
溶液に、熱および連続撹拌を、前記最初のノルボルネン型モノマーの重合を引き起こすのに十分な時間行うこと
を含む方法。
[項目9] 反応容器に、一つまたはそれを超える他のノルボルネン型モノマーであって、前記最初のノルボルネン型モノマーとは構造的に異なっている該他のモノマーを入れることを更に含む、項目8に記載の方法。
[項目10] トップコート組成物であって、項目4に記載の非自己画像化可能ポリマーおよび流延用溶媒を含むトップコート組成物。
本願は以下の発明を包含する。
[項目1] 非自己画像化可能ポリマーであって、式I:
によって表される基の一つである]
によって表されるノルボルネン型反復単位を含み;但し、少なくとも一つのノルボルネン型反復単位について、R 1 〜R 4 の一つは、式A、式Bまたは式Cの一つによって表される基であるという条件付きである非自己画像化可能ポリマー。
[項目2] Zが、式D、式Eまたは式F:
によって表される基の一つより選択される、項目1に記載の非自己画像化可能ポリマー。
[項目3] Yが、酸素である、項目2に記載の非自己画像化可能ポリマー。
[項目4] Zが、式Dによって表される基である、項目3に記載の非自己画像化可能ポリマー。
[項目5] 前記最初のノルボルネン型反復単位とは異なる少なくとも一つの追加のノルボルネン型反復単位を更に含む、項目3に記載の非自己画像化可能ポリマー。
[項目6] Zが、式Dによって表される基である、項目5に記載の非自己画像化可能ポリマー。
[項目7] 2,000〜80,000の分子量(M W )を有する、項目3に記載の非自己画像化可能ポリマー。
[項目8] 非自己画像化可能ポリマーを製造する方法であって、
反応容器に、最初のノルボルネン型モノマーであって、式I:
によって表される基の一つである]
によって表され;但し、少なくとも一つのノルボルネン型反復単位について、R 1 〜R 4 の一つは、式A、式Bまたは式Cの一つによって表される基であるという条件付きであるノルボルネン型モノマーを入れ、
更に、反応容器に、適当な溶媒、触媒を入れ、さらに任意の助触媒を入れてもよく;
反応容器内容物に撹拌を行って、反応溶液を形成させ;そして
溶液に、熱および連続撹拌を、前記最初のノルボルネン型モノマーの重合を引き起こすのに十分な時間行うこと
を含む方法。
[項目9] 反応容器に、一つまたはそれを超える他のノルボルネン型モノマーであって、前記最初のノルボルネン型モノマーとは構造的に異なっている該他のモノマーを入れることを更に含む、項目8に記載の方法。
[項目10] トップコート組成物であって、項目4に記載の非自己画像化可能ポリマーおよび流延用溶媒を含むトップコート組成物。
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