JP2013523813A - クロスカップリング反応におけるモノリン配位子及びそれらの使用 - Google Patents
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Abstract
【化1】
Description
1. 技術分野
本発明は、ジヒドロベンゾ[1,3]オキサホスホールの骨格から由来する一連の新規Pキラルモノリン配位子、及び触媒としてクロスカップリング反応へ応用される、それらの金属錯体に関する。より詳細には、本発明は炭素-炭素結合形成反応及びC-Xクロスカップリング反応を含む、遷移金属触媒を用いたクロスカップリング反応のための、これらのホスフィン配位子、及びそれらに関連する触媒に関する。
金属触媒を用いたクロスカップリングは、有機化学において最も重要な転換の一つとなった(A. de Meijere, F. Diederich, Eds. Metal-Catalyzed Cross-Coupling Reactions, Vol.2: Wiley-VCH, Weinheim, 2004. J.-P. Corbet, G. Mignani, Chem. Rev. 2006, 106, 2651.)。金属触媒を用いたクロスカップリングに有効なキラルまたは非キラル配位子の発展は、この20年間特別な注目を集めてきた。配位子は、酸化的付加、金属交換及び還元的脱離を含む触媒サイクルの各段階において不可欠な役割を果たしており、配位子の立体的及び電子的な特性は、クロスカップリング反応の速度、レギオ選択性、及び立体選択性に大いに影響を与えうる。Buchwald(T. E. Barder, S. D. Walker, J. R. Martinelli, S. L. Buchwald, J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 4685; S. D. Walker, T. E. Barder, J. R. Martinelli, S. L. Buchwald, Angew. Chem., Int. Ed. 2004, 43, 1871; K. Billingsley, S. L. Buchwald, J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 3358; S. L. Buchwald, B. P. Fors, D. S. Surry, WO2009/076622)、Hartwig (J. F. Hartwig, Q. Shelby, N. Kataoka, WO 2002/011883; M. Driver, J. F. Hartwig, J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 7217)、Fu (M. R. Netherton, C. Dai, K. Neuschuta, G. C. Fu, J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 10099; J. H. Kirchoff, M. R. Netherton, I. D. Hills, G. C. Fu, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 13662)、及びBellerら(A. Zapf, A, Ahrentraut, M. Beller Angew. Chem., Int. Ed. 2000, 39, 4153; A. Ahrentraut, A. Zapf, M. Beller, Adv. Synth. Catal. 2002, 344, 209; A. Zapf, R. Jackstell, F. Rataboul, T. Riermeier, A. Monsees, C. Fuhrmann, N. Shaikh, U. Dingerdissen, M. Beller, Chem. Comm. 2004, 38)により切り開かれた最近の発展により、炭素-炭素結合形成反応及びC-Xクロスカップリング反応を含むクロスカップリング反応に用いる、多くの有効な配位子の開発がもたらされた。いくつかの有効な配位子を以下に要約する。
本発明は、鈴木カップリングまたは不斉鈴木反応において優れた結果を示したジヒドロベンゾ[1,3]オキサホスホールの骨格から由来する、一連の新規で有効なキラルモノリン配位子を提供する。
第一の局面において、本発明は式I(Ia)、(Ib)の化合物、またはそれらの混合物を提供し、
Rは(C1-C6)-アルキル、CF3、(C3-C10)-カルボシクリル、(5〜11員)ヘテロカルボシクリル、(C6-C10)アリール、(5〜11員)ヘテロアリールまたはフェロセニルであり、(C3-C10)カルボシクリル、(5〜11員)ヘテロカルボシクリル、(C6-C10)アリールまたは(5〜11員)ヘテロアリール基等のそれぞれは、-O(C1-C6)アルキル、(C1-C6)アルキル及びCF3からなる基から独立して選択される1〜3の置換基で任意に置換する。
R1、R2、R3、R4、R5は、H、ハロ、CF3、O(C1-C6)アルキル、(C1-C6)アルキル、(C3-C10)カルボシクリル、(5〜11員)ヘテロカルボシクリル、(C6-C10)アリール、(5〜11員)ヘテロアリール、NR11R12、-Si(R11)3及び-SR11からなる基からそれぞれ独立して選択され、(C3-C10)カルボシクリル、(5〜11員)ヘテロカルボシクリル、(C6-C10)アリールまたは(5〜11員)ヘテロアリール基等のそれぞれは、-O(C1-C6)アルキル、(C1-C6)アルキル及びCF3からなる基から独立して選択される1〜3の置換基で任意に置換し、または、R1、R2、R3、R4、R5の任意の二つの隣接する場合は、それらが結合する炭素によってまとめられ、少なくともR1、R2、R3、R4、R5のうちのひとつがOR11であることを条件に、5または6員置換または非置換アリールまたはヘテロアリール環を形成する。
R9、R10はH、(C1-C6)アルキル、(C3-C6)シクロアルキル、(3〜6員)ヘテロシクロアルキル、(C6-C10)アリール、(5〜6員)ヘテロアリール及びSiR5 3からなる基からそれぞれ独立して選択され; (C3-C6)シクロアルキル、(3〜6員)ヘテロシクロアルキル、(C6-C10)アリールまたは(5〜6員)ヘテロアリール基等のそれぞれは、-O(C1-C6)アルキル、(C1-C6)アルキル及びCF3からなる基から独立して選択される1〜3の置換基で任意に置換する。
R11及びR12は(C1-C6)アルキル、CF3、(C3-C10)カルボシクリル、(5〜11員)ヘテロカルボシクリル、(C6-C10)アリール及び(5〜11員)ヘテロアリールからなる基からそれぞれ独立して選択され、(C3-C10)カルボシクリル、(5〜11員)ヘテロカルボシクリル、(C6-C10)アリールまたは(5〜11員)ヘテロアリール基等のそれぞれは、ハロ、O(C1-C6)アルキル、(C1-C6)アルキル及び-CF3からなる基から独立して選択される1〜3の置換基で任意に独立して置換する。
第三の局面において、本発明は式(Ia)、(Ib)の化合物またはそれらの混合物を提供し、式中、Rはシクロペンチル、シクロヘキシル及び1-アダマンチルから選択される(C3-C10)カルボシクリルであり、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12は、第一の局面に定義されるとおりである。
第四の局面において、本発明は式(Ia)、(Ib)の化合物またはそれらの混合物を提供し、式中、Rはフェニル、オルト-トリル、パラ-トリル、3,5-ジメチルフェニル、3,5-ジ-t-ブチルフェニル、3,5-ジ-CF3-フェニル、オルト-CF3-フェニル、オルト-アニシル及びナフチルから選択される-(C6-C10)アリールであり、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12は、第一の局面に定義されるとおりである。
第五の局面において、本発明は式(Ia)、(Ib)の化合物またはそれらの混合物を提供し、式中、R1、R2、R3、R4、R5はそれぞれ独立してH、CH3、CH2CH3、-CH(CH3)2、C(CH3)3、OCH3、OCH2CH3、-OCH(CH3)2、N(CH3)2、N(CH2CH3)2またはSiMe3であり、R、R6、R7、R8、R9、 R10、R11及びR12は、第一、第二、第三または第四の局面に定義されるとおりである。
第七の局面において、本発明は式(Ia)、(Ib)の化合物またはそれらの混合物を提供し、R9及びR10はそれぞれ独立してH、CH3、CH2CH3、-CH(CH3)2、C(CH3)3、フェニル、オルト-トリル、パラ-トリル、3,5-ジメチルフェニル、3,5-ジ-t-ブチルフェニル、3,5-ジ-CF3-フェニル、オルト-CF3-フェニル、オルト-アニシル, 2,6-ジメトキシフェニルまたはナフチルであり、R、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R11及びR12は第一、第二、第三、第四、第五の局面または第六の局面に定義されるとおりである。
第八の局面において、本発明は式(IIa)または(IIb)を有するホスフィン配位子、またはそれらの混合物を提供し、
RはCH(CH3)2、C(CH3)3 C(CH2CH3)(CH3)2、シクロヘキシル、1-アダマンチル、フェニル、オルト-トリル、3,5-キシリル、オルト-アニシル、またはフェロセニルであり;及び
R1、R2及びR3は独立してH、CH3、CH2CH3、-CH(CH3)2、C(CH3)3、OCH3、OCH2CH3、-OCH(CH3)2、OPh、N(CH3)2、N(CH2CH3)2、SiMe3、CF3である。
(S)及び(R)-3-t-ブチル-4-フェニル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-t-ブチル-4-(2,6-ジメトキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ [d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-2-(3-t-ブチル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール-4-イル)-N1,N1,N3,N3-テトラメチルベンゼン-1,3-ジアミン、
(S)及び(R)-2-(3-t-ブチル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール-4-イル)-N,N-ジメチルアニリン、
(S)及び(R)-3-t-ブチル-4-(2-メトキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-t-ブチル-4-(2,6-ジイソプロポキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ [d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-t-ブチル-4-(2,4,6-トリイソプロピルフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ [d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-t-ブチル-4-o-トリル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-t-ブチル-4-(2-フェノキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-シクロヘキシル-4-フェニル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、(S)及び(R)-3-シクロヘキシル-4-(2,6-ジメトキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ [d][1,3]オキサホスホール、(S)及び(R)-2-(3-シクロヘキシル-2,3-ジヒドロベンゾ [d][1,3]オキサホスホール-4-イル)-N1,N1,N3,N3-テトラメチルベンゼン-1,3-ジアミン、(S)及び(R)-2-(3-シクロヘキシル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール-4-イル)-N,N-ジメチルアニリン、
(S)及び(R)-3-シクロヘキシル-4-(2-メトキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-シクロヘキシル-4-(2,4,6-トリイソプロピルフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-シクロヘキシル-4-(2,6-ジイソプロポキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ [d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-シクロヘキシル-4-o-トリル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、及び
(S)及び(R)-3-シクロヘキシル-4-(2-フェノキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール
からなる基から選択されるホスフィン配位子を提供する。
本発明はさらに、上述されるとおり本発明の配位子または触媒を使用することによる、キラルまたは非キラルの化合物の調製方法を提供する。
別の局面において、本発明は式Ia、Ib、IIa及びIIbの、上述の配位子を調製するための方法を提供する。概して、これらの配位子は以下の一般反応スキームに示す方法で調製してよい。
本発明の配位子を生成する方法は、以下の実施例を参照することで、より理解を深めることができる。
1HNMR(500MHz,CD2Cl2) δ7.58(t,J=8.3Hz,1H), 7.03(dd,J=8.2,3.5Hz,1H), 7.00(dd,J= 8.5,2.4Hz,1H), 4.67(dd,J=14.2,2.1Hz,1H), 4.46(dd,J=14.1,11.1Hz,1H), 1.21(d,J= 16.8Hz,9H);31PNMR(202MHz,CD2Cl2)δ 75.6;13CNMR(125MHz,CD2Cl2)δ167.1(d,J=16.8Hz), 150.0,137.1,120.3,117.8,114.7(d,J=4.4Hz), 114.2(d,J=4.3Hz), 66.9(d,J=59.3Hz), 34.7(d,J=72.0Hz), 24.2;ESI-MS: m/z 359[M +H]+
(S)-3-t-ブチル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール-4-イルトリフルオロメタンスルホネートオキシド(5g、13.9mmol)及び2,6-ジメトキシフェニルボロン酸(3.8g、20.9mmol、1.5当量)、Pd2dba3(383mg、0.42mmol、3mol%)、S-Phos(1.15g、2.79mmol、20mol%)及びKF(3.24g、55.8mmol、4当量)を、ガス抜きしたジオキサン(30ml)で充填した。混合物を窒素下で100℃で12時間撹拌した。混合物を室温まで冷却し、濃縮した。DCM(30mL)及び2NNaOH(30mL)を残留物へ加えた。DCM層を2NNaOH(30mL)及びブライン(30mL)でさらに洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー(EtOAc/MeOH2/1にヘキサンを加えたもの)で精製し、所望の生成物を黄色の固体として提供した(3g、8.66mmol、62%)。
1HNMR (500MHz, CDCl3): δ=7.46(t, J =7.9Hz, 1H), 7.28(t, J=8.4Hz,1H), 6.89(m, 2H), 6.64(d, J=8.4Hz, 1H), 6.55(d, J= 8.4Hz, 1H), 4.47(dd, J=13.8, 1.8Hz, 1H), 4.34(dd, J=13.7,10.5Hz, 1H), 3.77(s, 3H), 3.70(s, 3H), 0.87(d, J=15.9Hz, 9H); 31PNMR(202MHz, CDCl3): δ=62.4; 13CNMR (125MHz, CDCl3): δ=165.2(d, J=18.8Hz), 158.5, 157.3, 138.1(d, J=6.3Hz), 134.0 (d, J=1.3Hz), 129.8, 125.0(d, J=8.8Hz), 117.4(d, J=2.5 Hz), 114.8, 114.0, 112.4 (d, J=5.0Hz), 104.3, 103.1, 65.3(d, J=60.0Hz), 55.8, 55.3, 33.4(d, J=71.3 Hz), 23.6(d, J=1.3Hz); ESI-MS: m/z 347[M+H]+
(S)-3-t-ブチル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール-4-イルトリフルオロメタンスルホネートオキシド(215g, 600mmol)及び2,6-ジメトキシフェニルボロン酸(164g、900mmol、1.5当量)の混合物へ、Pd2dba3(6.9g、7.5mmol、0.0125当量)、(R)-3-t-ブチル-4-(2,6-ジメトキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール(5.9g、18mmol、0.03当量)及びKF(139g、2.4mol、4当量)を、ガス抜きしたジオキサン(2L)で充填した。混合物を窒素化で100℃で3時間撹拌し、次に室温まで冷却し、濃縮し、殆どのジオキサンを除去した。DCM(1000mL)及び2NNaOH(500mL)を残留物へ加えた。DCM層を2NNaOH(500mL)及びブライン(500mL)でさらに洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離剤:EtOAc/MeOH2/1にヘキサンを加えたもの)で精製し、所望の生成物(S)-3-t-ブチル-4-(2,6-ジメトキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ [d][1,3]オキサホスホールオキシド(190g、576mmol、91%)を白色の固体として提供した。
PMHS(13g)及びTi(OiPr)4(6.4g、22.5mmol、1.2当量)を、THF(65mL)中の(S)-3-t-ブチル-4-(2,6-ジメトキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ [d][1,3]オキサホスホールオキシド(6.5g、18.8mmol) の溶液へ室温で加えた。混合物を還流で12時間撹拌し、次に真空下で濃縮し、殆どのTHFを除去した。30%のNaOH溶液(60mL)で残留物へ注意深く処理した。添加中ガスが発生した。得られた混合物を、60℃で0.5時間さらに撹拌した。MTBE(60mL)を混合物へ室温で加えた。MTBE層を分離し、水性層を窒素下でMTBEで洗浄した。MTBE溶液を乾燥し、濃縮し、中性アルミナプラグを通過させることで精製し、白色の結晶質固体として所望の生成物が生じた(5g、15.1mmol、81%)。
1HNMR (400MHz、CDCl3): δ=7.29(m,2H), 6.87(m,2H), 6.65(d,J=8.2Hz,1H), 6.59(d,J=8.3Hz,1H), 4.81(dd, J= 12.5,1.8Hz,1H), 4.53(dd, J=25.2,12.5Hz,1H), 3.77(s,3H), 3.71(s,3H), 0.73(d,J= 12.1 Hz,9H);31PNMR(162MHz,CDCl3):δ=-7.9;13CNMR(100MHz,CDCl3): δ = 163.4, 157.9. 157.1, 138.4(d,J=22.3Hz), 130.5, 129.0, 125.0(d,J=16.4Hz), 123.8(d,J=5.4Hz), 119.6, 109.5, 104.5, 103.6, 70.4(d,J=33.8Hz), 55.9, 55.4, 30.9(d,J=23.2Hz), 26.6(d,J=18.1Hz); ESI-MS:m/z331[M+H]+.
(S)-3-t-ブチル-4-フェニル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホールオキシドを、実施例3に記載された条件と類似した条件下で調製した。収率90%; 1HNMR(400MHz, CDCl3):δ= 7.76(d,J=7.4 Hz,1H),7.41-7.53(m,3H), 7.36(m,1H), 7.05(dd,J=7.5,3.6 Hz,1H), 6.91(dd,J=8.3,3.2Hz,1H), 4.56(dd,J=13.7,1.1Hz,1H), 4.44(dd, J=13.8,10.5 Hz,1H), 0.78(d,J=16.1Hz,9H); 31PNMR(162MHz,CDCl3):δ=65.1;13CNMR(100MHz,CDCl3):δ =165.7(d,J=19.2Hz,1H), 146.7(d,J=5.8Hz,1H), 134.8(d,J=1.7Hz,1H), 129.6, 128.5, 128.3, 123.4(d,J=8.0Hz), 112.5(d,J=5.3Hz), 112.4(d,J=87.9Hz), 65.2(d,J=61.7Hz), 33.8(d,J=70.7Hz), 23.7. ESI-MS:m/z 287[M +H]+.
(R)-3-t-ブチル-4-フェニル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホールを、実施例4に記載された条件と類似した条件下で調製した。89%; 1HNMR(400MHz,CD2Cl2):δ=7.71 (m,2H), 7.42(m,2H), 7.35(m,2H), 6.99(m,1H), 6.90(dd,J=8.1,0.8Hz,1H), 4.87(dd, J =12.7,1.9Hz,1H), 4.57(dd,J=25.9,12.7Hz,1H), 0.64(d,J=12.1Hz,9H);31PNMR(162MHz, CD2Cl2):δ= -11.2;13CNMR(100MHz, CD2Cl2):δ=164.8,146.5,143.1,131.9,129.9,129.8,128.9,127.9,122.7(d,J=17.9 Hz), 122.3(d,J=3.1Hz),110.5,70.5(d,J=26.9Hz),32.1(d,J=20.2Hz),27.0(d,J=13.8 Hz).
(S)-2-(3-t-ブチル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール-オキシド-4-イル)-N,N-ジメチルアニリンを、実施例3に記載された条件と類似した条件下で調製した:収率76%; 1HNMR(400MHz,CDCl3):δ=7.74(br s,1H),7.44(t,J=7.6Hz,1H), 7.37(br s,1H),7.29 (dd,J=8.0, 1.8Hz), 7.03(m,1H), 7.01(d,J=8.1 Hz,1H), 6.87(dd,J=9.1,3.2Hz,1H), 4.54(dd,J=13.9,2.0Hz,1H), 4.41(dd,J=13.8,10.7Hz,1H), 2.59(s,6H), 0.88(d,J=16.1 Hz,9H); 31PNMR(162MHz,CDCl3):δ=64.1; 13CNMR(100MHz, CDCl3):δ=145.6(d,J=5.5Hz), 134.3,133.4,129.3,124.1(d,J=8.1Hz), 121.2,118.0,112.1(d,J=5.2Hz),65.5(d,J=61.7 Hz),43.4,33.9(d,J=71.3Hz),24.1;ESI-MS:m/z330[M +H]+.
(R)-2-(3-t-ブチル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール-4-イル)-N,N-ジメチルアニリンを、実施例4に記載された条件と類似した条件下で調製した:収率63%; 1HNMR(400MHz,CD2Cl2):δ=7.32(t,J=7.7Hz,1H), 7.32(br s,1H),7.24(m,1H), 7.04(br s, 1H), 6.99(dd,J=8.2,1.0Hz,1H), 6.93(dt,J=7.4,1.2Hz,1H), 6.83(dd,J=8.1,0.9 Hz, 1H), 4.80(dd,J=12.5,1.8Hz,1H), 4.50(dd,J=26.2,12.6Hz,1H), 2.55(s,6H), 0.63(d,J= 11.9Hz,9H);31PNMR(162MHz,CD2Cl2):δ=-7.2;13CNMR(100MHz,CD2Cl2):δ=151.4,133.1,133.0,131.8,131.5,129.3,128.9,122.7,122.6,121.1,118.5,109.7,70.9(d,J=27.9Hz),43.4,31.7(d,J=20.6Hz),27.3(d,J=14.7Hz); ESI-MS:m/z314[M+H]+.
((S)-3-t-ブチル-4-(2-メトキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホールオキシドを、実施例3に記載された条件と類似した条件下で調製した: 85%; 1HNMR (500MHz,CDCl3):δ=7.61(d,J=7.3Hz,1H), 7.44(t,J=8.0Hz,1H), 7.34(t,J=7.6Hz,1H), 7.05(m,2H), 6.95(d,J=8.2Hz,1H), 6.90(dd,J=8.3,3.2Hz,1H), 4.51(dd,J=13.8,1.6Hz, 1H), 4.41(dd,J=13.8,10.5Hz,1H), 3.79(s,3H), 0.82(d,J=16.1Hz,9H); 31PNMR(202MHz, CDCl3):δ=63.6; 13CNMR(125MHz,CDCl3):δ=165.5(d,J=19.1Hz),156.4,142.3(d,J=5.7Hz), 133.7(d,J=1.6Hz),132.7,129.7,128.8(d,J= 2.3Hz),125.0(d,J=8.2Hz),120.5,113.6(d,J =89.4Hz),112.2(d,J=5.4Hz),110.7,65.4(d,J=61.1Hz),55.4,33.6(d,J=71.1Hz),23.9(d,J =1.1Hz); ESI-MS:m/z 317[M+H]+.
(R)-3-t-ブチル-4-(2-メトキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホールを、実施例4に記載された条件と類似した条件下で調製した: 78%;1HNMR(500MHz, CD2Cl2):δ=7.41(d,J=7.4Hz,1H),7.33(m,1H),7.29(t,J=7.9Hz,1H),7.00(m,2H),6.94(dd,J =7.4,3.2Hz,1H),6.87(d,J=8.4Hz,1H),4.83(dd,J=12.6,1.9Hz,1H),4.54(dd,J=25.7,12.6 Hz,1H),3.78(s,3H),0.67(d,J=12.1Hz,9H);31PNMR(202MHz,CD2Cl2):δ=-9.9;13CNMR(125 MHz,CD2Cl2):δ=164.4,157.1,143.3(d,J=16.0Hz),132.5(d,J=3.7Hz),131.8,131.0,129.5,123.7(d,J=3.6Hz),120.8,111.7,110.0(d,J=1.0Hz),70.7(d,J=23.3Hz),55.8(d,J=0.8Hz), 31.6(d,J=19.7Hz); 27.7(d,J=14.3Hz); ESI-MS:m/z 301[M +H]+.
(S)-3-t-ブチル-4-(2,6-ジイソプロポキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ [d][1,3]オキサホスホールオキシドを実施例3に記載した条件と類似した条件下で調製した: 収率27%;1HNMR(500MHz,CDCl3):δ=7.43(t,J=7.8Hz,1H),7.20(t,J=8.4Hz,1H),6.84(m,2H),6.56 (d,J=8.4Hz,1H),6.47(d,J=8.4Hz,1H),4.47(m,3H),4.31(dd,J=13.6,10.5Hz,1H),1.31(d,J =6.1Hz,3H),1.22(d,J=6.0Hz,3H),1.17(d,J=6.1Hz,6H),0.92(d,J=15.9Hz,9H);31PNMR(202 MHz, CDCl3):δ=61.7;ESI-MS:m/z 403[M +H]+.
(R)-3-t-ブチル-4-(2,6-ジイソプロポキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ [d][1,3]オキサホスホールを実施例4に記載した条件と類似した条件下で調製した;収率95%; 1HNMR (400MHz,CD2Cl2):δ=7.25(t,J=7.9Hz,1H),7.20(t, J=8.4Hz,1H),6.81(d,J=8.4Hz,1H),6.79 (m,1H),6.55(t,J=8.9Hz,2H),4.71(dd,J=12.5,1.6Hz,1H),4.30-4.55(m,3H),1.27(d,J=6.4 Hz,3H),1.25(d,J=6.6Hz,3H),1.15(d,J=6.0Hz,3H),1.10(d,J=6.0Hz,3H),0.73(d,J=12.0Hz);31PNMR(162MHz,CD2Cl2):δ=-6.0;13CNMR(100MHz,CD2Cl2):δ=163.9,157.1,156.5,139.9 (d,J=17.8Hz),130.4,129.2,124.8(d,J=4.4Hz),121.7,109.2,106.9,105.1,71.4,70.8(d,J =27.6Hz),69.8,31.2(d,J=19.0Hz),27.2(d,J=14.7Hz), 22.8(d,J=4.5Hz),22.7,22.5,22.4; ESI-MS:m/z 387[M +H]+.
2-メチルナフタレン-1-イルボロン酸(0.15g、0.75mmol、1.5当量)及び1−ブロモ-2-メチルベンゼン(86mg、0.5mmol、1.0当量)の混合物へ、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(9.16mg、0.01m mol、2mol%)、3-t-ブチル-4-フェニル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール(11mg、0.04mmol、8mol%)及びリン酸カリウム(0.318g、1,5mmol、3当量)を、ガス抜きしたトルエン(4ml)で充填した。混合物を窒素下で24時間70℃で撹拌し、次に水(4ml)で急冷した。有機相を分離し、ブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮し、カラムクロマトグラフィーで精製し、純粋な所望の生成物をオイル(95mg、0.41mmol、82%)として提供した。ESI-MS:m/z233[M+H]+
Claims (9)
- 式(Ia)、(Ib)の化合物、またはそれらの混合物。
Rは(C1-C6)-アルキル、CF3、(C3-C10)-カルボシクリル, (5〜11員)ヘテロカルボシクリル、(C6-C10)アリール、(5〜11員)ヘテロアリール、またはフェロセニルであり、(C3-C10)カルボシクリル、(5〜11員)ヘテロカルボシクリル、(C6-C10)アリールまたは(5〜11員)ヘテロアリール基のそれぞれは、-O(C1-C6)アルキル、(C1-C6)アルキル及びCF3からなる基から独立して選択される1〜3の置換基で任意に置換し、
R1、R2、R3、R4、R5はH、ハロ、CF3、O(C1-C6)アルキル、(C1-C6)アルキル、(C3-C10)カルボシクリル、(5〜11員)ヘテロカルボシクリル、(C6-C10)アリール、(5〜11員)ヘテロアリール、NR11R12、-Si(R11)3及び-SR11からなる基からそれぞれ独立して選択され、 (C3-C10)カルボシクリル、(5〜11員)ヘテロカルボシクリル、(C6-C10)アリールまたは(5〜11員)ヘテロアリール基のそれぞれは、-O(C1-C6)アルキル、(C1-C6)アルキル及びCF3からなる基から独立して選択される1〜3の置換基で任意に置換し、または、R1、R2、R3、R4、R5の二つの隣接する場合は、それらが結合する炭素でつながれており、少なくともR1、R2、R3、R4、R5のうちのひとつがOR11であることを条件に、5または6員置換または非置換アリールまたはヘテロアリール環を形成し、
R6、R7、R8はH、CF3、O(C1-C6)アルキル、(C1-C6)アルキル、(C3-C10)カルボシクリル、(5〜11員)ヘテロカルボシクリル、(C6-C10)アリール、(5〜11員)ヘテロアリール及びNR11R12からなる基からそれぞれ独立して選択され、; (C3-C10)カルボシクリル、(5〜11員)ヘテロカルボシクリル、(C6-C10)アリールまたは(5〜11員)ヘテロアリール基のそれぞれは、O(C1-C6)アルキル、(C1-C6)アルキル及びCF3からなる基から独立して選択される1〜3の置換基で任意に置換し、
R9、R10はH、(C1-C6)アルキル、(C3-C6)シクロアルキル、(3〜6員)ヘテロシクロアルキル、(C6-C10)アリール、(5〜6員)ヘテロアリール及びSiR5 3からなる基からそれぞれ独立して選択され、(C3-C6)シクロアルキル、(3〜6員)ヘテロシクロアルキル、(C6-C10)アリールまたは(5〜6員)ヘテロアリール基のそれぞれは、-O(C1-C6)アルキル、(C1-C6)アルキル及びCF3からなる基から独立して選択される1〜3の置換基で任意に置換し、及び
R11及びR12は、H、(C1-C6)アルキル、CF3、(C3-C10)カルボシクリル、(5〜11員)ヘテロカルボシクリル、(C6-C10)アリール及び(5〜11員)ヘテロアリールからなる基からそれぞれ独立して選択され、(C3-C10)カルボシクリル、(5〜11員)ヘテロカルボシクリル、(C6-C10)アリールまたは(5〜11員)ヘテロアリール基のそれぞれは、ハロ、O(C1-C6)アルキル、 (C1-C6)アルキル及び-CF3からなる基から独立して選択される1〜3の置換基で任意に独立して置換する。) - Rが、CH3、CH2CH3、CH(CH3)2、C(CH3)3、C(CH2CH3)3及びC(CH2CH3)(CH3)2から選択される(C1-C6)アルキルである、請求項1記載の式(Ia)、(Ib)の化合物、またはそれらの混合物。
- Rが、シクロペンチル、シクロヘキシル及び1-アダマンチルから選択される(C3-C10)カルボシクリルである、請求項1記載の式(Ia)、(Ib)の化合物、またはそれらの混合物。
- Rが、フェニル、オルト-トリル、パラ-トリル、3,5-ジメチルフェニル、3,5-ジ-t-ブチルフェニル、3,5-ジ-CF3-フェニル、オルト-CF3-フェニル、オルト-アニシル及びナフチルから選択される(C6-C10)アリールである、請求項1記載の式(Ia)、(Ib)の化合物、またはそれらの混合物。
- R1、R2、R3、R4、R5が、それぞれ独立してH、CH3、CH2CH3、-CH(CH3)2、C(CH3)3、OCH3、OCH2CH3、-OCH(CH3)2、N(CH3)2、N(CH2CH3)2またはSiMe3である、請求項1記載の式(Ia)、(Ib)の化合物、またはそれらの混合物。
- R6、 R7、R8が、Hである、請求項1記載の式(Ia)、(Ib)の化合物、またはそれらの混合物。
- R9及びR10が、それぞれ独立してH、CH3、CH2CH3、-CH(CH3)2、C(CH3)3、フェニル、オルト-トリル、パラ-トリル、3,5-ジメチルフェニル、3,5-ジ-t-ブチルフェニル、3,5-ジ-CF3-フェニル、オルト-CF3-フェニル、オルト-アニシル、2,6-ジメトキシフェニルまたはナフチルである、請求項1記載の式(Ia)、(Ib)の化合物、またはそれらの混合物。
- (S)及び(R)-3-t-ブチル-4-フェニル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-t-ブチル-4-(2,6-ジメトキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-2-(3-t-ブチル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール-4-イル)-N1,N1,N3,N3-テトラメチルベンゼン-1,3-ジアミン、
(S)及び(R)-2-(3-t-ブチル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール-4-イル)-N,N-ジメチルアニリン、
(S)及び(R)-3-t-ブチル-4-(2-メトキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-t-ブチル-4-(2,6-ジイソプロポキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-t-ブチル-4-(2,4,6-トリイソプロピルフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ [d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-t-ブチル-4-o-トリル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-t-ブチル-4-(2-フェノキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-シクロヘキシル-4-フェニル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、(S)及び(R)-3-シクロヘキシル-4-(2,6-ジメトキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、(S)及び(R)-2-(3-シクロヘキシル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール-4-イル)-N1,N1,N3,N3-テトラメチルベンゼン-1,3-ジアミン、(S)及び(R)-2-(3-シクロヘキシル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール-4-イル)-N,N-ジメチルアニリン、
(S)及び(R)-3-シクロヘキシル-4-(2-メトキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-シクロヘキシル-4-(2,4,6-トリイソプロピルフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-シクロヘキシル-4-(2,6-ジイソプロポキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ [d][1,3]オキサホスホール、
(S)及び(R)-3-シクロヘキシル-4-o-トリル-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール、及び
(S)及び(R)-3-シクロヘキシル-4-(2-フェノキシフェニル)-2,3-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサホスホール
からなる基から選択されるホスフィン配位子。
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