JP2013522860A - コア−シェルナノ粒子及び製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、熱電ナノ粒子(thermoelectric nanoparticles)に関し、特に、熱電コンポジットナノ粒子及び熱電コンポジット材料の製造方法に関する。
まず、シクロヘキサン(265mL)中にIgepal CO−520(23.332g)を溶解させた。水酸化アンモニウムの水溶液(pH 10〜11)を加え(5.74mL)、少なくとも5分間攪拌した。この溶液は、逆ミセルの形成につれて、完全に透明になった。次に、テトラメチルオルトシリケート(TMOS)を加えた(3.35mL)。反応を攪拌下で4時間行い、その時間の間にTMOSはシクロヘキサン相から逆ミセルの水性コアに拡散した。逆ミセルの塩基性水性コアにおいて、TMOSは反応して、直径で0.5〜50nmのサイズのシリカナノ粒子を形成した。
コンポジットナノ粒子を、350℃及び20MPaで32分間かけて熱圧焼成して熱電コンポジット材料を得た。図7を参照すると、上に概説した方法により形成されたナノコンポジット材料のTEM画像が示されている。図から分かるように、テルル化ビスマスの結晶性ドメインは、組み込まれている二酸化ケイ素のアモルファスナノ粒子を有する。さらに、テルル化ビスマスマトリックス中のこれらの二酸化ケイ素ナノ粒子包接物のナノコンポジット構造がはっきりと示されている。
Claims (32)
- a)コア材料のマイクロエマルジョンを形成する工程;及び
b)前記コア材料の逆ミセルまたはミセルに少なくとも1種のシェル材料を加えてコア−シェル構造を有するコンポジット熱電ナノ粒子を形成する工程;
を含む、熱電ナノ粒子の形成方法。 - 前記マイクロエマルジョンが逆ミセル及びミセルから選ばれる、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のシェル材料が複数のシェル材料を含んでシェル材料組成物を形成している、請求項1に記載の方法。
- 少なくとも1種のシェル材料を加える工程が、少なくとも1種のシェル材料のマイクロエマルジョンを形成することを含む、請求項1に記載の方法。
- 少なくとも1種のシェルのマイクロエマルジョンが逆ミセル及びミセルから選ばれる、請求項4に記載の方法。
- 前記コア材料のマイクロエマルジョンと前記少なくとも1種のシェル材料のマイクロエマルジョンを組み合わせる工程を含む、請求項4に記載の方法。
- 前記コア材料と前記少なくとも1種のシェル材料の組み合わされたマイクロエマルジョンに別のシェル材料を加える工程を含む、請求項6に記載に方法。
- コア材料のマイクロエマルジョンを形成する工程が、逆ミセル又はミセル中にコアを導入することを含む、請求項1に記載の方法。
- さらなるシェル材料のマイクロエマルジョンを形成する工程を含む、請求項4に記載の方法。
- 前記コア材料のマイクロエマルジョンと前記さらなるシェルのマイクロエマルジョンとを組み合わせる工程を含む、請求項9に記載の方法。
- さらなるシェル材料を加える工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記コア材料のマイクロエマルジョンと前記さらなるシェル材料とを組み合わせる工程を含む、請求項11に記載の方法。
- コア材料のマイクロエマルジョンを形成する工程が、
ai)有機溶剤又は水溶液中に界面活性剤を溶解させる工程;
aii)溶解した界面活性剤に水性相又は有機相を加える工程;及び
下記の工程:
aiii)pHを調節してコア形成反応を開始させる工程;
aiv)試薬を導入してコア形成反応を開始させる工程;
av)照射又は加熱してコア形成反応を開始させる工程;
avi)pHを調節して系を安定化させる工程;
avii)逆ミセル又はミセルに1又は複数のコア構造を直接加える工程;
aviii)工程aiii)の材料にコア材料を加えて逆ミセル又はミセルの水性部分中に分散されたコア材料のナノ粒子を形成する工程;
aix)工程aiv)の材料にコア材料を加えて逆ミセルの水性部分中に分散されたコア材料のナノ粒子を形成する工程;及び
aix)工程av)の材料にコア材料を加えて逆ミセルの水性部分中に分散されたコア材料のナノ粒子を形成する工程;
から成る群から選ばれる工程;
を含む、請求項1に記載の方法。 - シェル材料のマイクロエマルジョンを形成する工程が、
bi)溶剤又は水溶液に界面活性剤を溶解させる工程;
bii)溶解した界面活性剤にシェル材料を加えて少なくとも1つのシェルを含む溶剤又は水性部分を有する逆ミセル又はミセルを形成する工程;
を含む、請求項4に記載の方法。 - シェル材料のマイクロエマルジョンを形成する工程が、
ci)溶剤又は水溶液に界面活性剤を溶解させる工程;
cii)溶解した界面活性剤にさらなるシェル材料を加えてさらなるシェル材料を含む水性部分を有する別のマイクロエマルジョンを形成する工程;
を含む、請求項14に記載の方法。 - 熱電コンポジットナノ粒子が、SiO2、金属、半導体、絶縁体、セラミック、カーボン、ポリマー又はそれらの組み合わせ、及びアルミナ、二酸化チタン、酸化ジルコニウムなどのセラミック材料から選ばれるコアと、Bi2Te3、カルコゲナイド半導体、例えばテルル化ビスマス及びテルル化鉛など、金属、半金属、例えば導体、半導体及び絶縁体の二元、三元又は四元合金など、ケイ素とゲルマニウムの化合物、スクテッルダイト材料、例えばCoSb3材料など、希土類金属間化合物、例えばYbAl3など、クラスレート構造材料、例えばシリコンゲルマニウムなど又はSN骨格に基づく材料、Mg2Si及びMg2Siのドープ形、ハーフホイスラー合金、例えばMNiSn材料(MはZr、Hf及びTiを表すことがある)など、多成分金属化合物、例えばNaCo2O4、Ca3Co4O9など、並びに熱電材料及びドーピング材料、例えば、第III族、第IV族、第V族、第VI族及び第VII族元素、かかる元素の酸化物、合金及び塩などから選ばれるシェルを含む、請求項1に記載の方法。
- コア材料のマイクロエマルジョンを形成する工程が、
q)溶剤に界面活性剤を溶解させる工程;
r)溶解した界面活性剤に水酸化アンモニウムを加える工程;
s)工程r)の材料にテトラメチルオルトシリケートを加えてマイクロエマルジョンの水性部分中に分散されたSiO2ナノ粒子を形成する工程;
を含む、請求項16に記載の方法。 - シェルのマイクロエマルジョンを形成する工程が、
t)溶剤に界面活性剤を溶解させる工程;
u)溶解した界面活性剤にBiCl3を加えてBiCl3を含む水性部分を有する第2のマイクロエマルジョンを形成する工程;
を含む、請求項16に記載の方法。 - シェルのマイクロエマルジョンを形成する工程が、
v)溶剤に界面活性剤を溶解させる工程;
w)NaTeH材料を形成し、溶解した界面活性剤に当該NaTeH材料を加えてNaTeHを含む水性部分を有する第2のシェルのマイクロエマルジョンを形成する工程;
を含む、請求項18に記載の方法。 - BiCl3を加える工程を含み、当該BiCl3のビスマスイオンがテルルの存在下でビスマス金属に還元され、SiO2コアナノ粒子の周りで自発的な合金化が起こる、請求項19に記載の方法。
- 前記コア材料のナノ粒子が、直径で1.5〜50ナノメートルのサイズを有する、請求項1に記載の方法。
- 前記コンポジット熱電ナノ粒子が、直径で1.5ナノメートル〜10ミクロンのサイズを有する、請求項1に記載の方法。
- 前記コンポジット熱電ナノ粒子が1〜100ナノメートルのシェル厚さを有する、請求項1に記載の方法。
- 前記コンポジット熱電ナノ粒子をデカントする工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記コンポジット熱電ナノ粒子を洗浄する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記洗浄工程が、前記コンポジット熱電ナノ粒子を有機溶剤で洗浄し、水で複数回洗浄し、各洗浄工程の後にナノ粒子を単離する工程を含む、請求項25に記載の方法。
- コンポジット熱電ナノ粒子の形成後にナノコンポジット材料を形成する工程を含み、ナノコンポジット材料は網目構造を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記形成工程が、コンポジット熱電ナノ粒子を焼成してコア材料のナノ粒子の包接物を含むシェル材料の網目構造を形成することを含む、請求項27に記載の方法。
- a)コア材料のマイクロエマルジョンを形成する工程;
b)前記コア材料のマイクロエマルジョンに少なくとも1種のシェル材料を加えてコア−シェル構造を有するコンポジット熱電ナノ粒子を形成する工程;
c)コンポジット熱電ナノ粒子の形成後にナノコンポジット材料を形成する工程;
を含み、前記ナノコンポジット材料がコア材料のナノ粒子の包接物を含むシェル材料の網目構造を含む、熱電材料の形成方法。 - 少なくとも1種のシェル材料を加える工程が、少なくとも1種のシェル材料のマイクロエマルジョンを形成することを含む、請求項29に記載の方法。
- 前記コンポジット熱電ナノ粒子が1.5ナノメートル〜10ミクロンのサイズを有する、請求項29に記載の方法。
- 前記コア材料のマイクロエマルジョンと前記少なくとも1種のシェル材料のマイクロエマルジョンを組み合わせる工程を含む、請求項30に記載の方法。
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