JP2013515858A - 処理される材料の湿式化学処理のための方法およびデバイス - Google Patents
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Abstract
Description
一態様によると、連続プロセスプラントにおいて処理される材料の湿式化学処理の方法が提供される。この方法において、処理される材料は処理容器を通して輸送され、そしてその処理容器中で、処理液で処理される。本発明によると、不活性気体が処理容器に供給される。
有することが可能であり、不活性気体は、インレットスロットおよび/またはアウトレットスロットを通して処理容器から放出される。不活性気体は、特に、吸引によって、インレットスロットを通して、そしてアウトレットスロットを通して、処理容器から除去することができる。これによって、処理される材料の通過のために処理容器に提供された1つのスロットを通して、特に、2つのスロットを通して、処理容器から廃物空気を放出することが可能となる。したがって、それらのスロットを通しての処理容器への空気の進入を防ぐことが可能である。
不活性気体を処理容器に供給するために、不活性気体を少なくとも処理液に導入することができる。これによって、不活性気体が処理容器に供給される時に、処理液に溶解した酸素、または処理プロセスの間に形成する処理液に溶解した有害な気体を、処理液から追い出すことが可能となる。
イスは、多孔性フリットを有することができ、これを介して不活性気体が処理液に導入される。また供給デバイスは、小さい穴が配列された供給部分を備えることもでき、これを介して不活性気体が処理液に導入される。フリットまたは送達部分が、管状プラスチック部品の形態であることができる。不活性気体が微小気泡の形態で処理液に導入される場合、高度の不活性気体の使用を達成することができる。加えて、望ましくないスプラッシュ(splashes)を低減することができる。
さらなる態様によると、処理される材料、特に、処理される平坦な材料の湿式化学処理のためのデバイスが提供される。このデバイスは、処理液で処理される材料を処理するための処理容器と、処理容器を通して処理される材料を輸送するための輸送デバイスと、不
活性気体を処理容器に供給するための供給デバイスとを備える。
本発明の様々な例示的な実施形態による方法およびデバイスによって、処理液への酸素の移入が低減される。特に、処理される材料が処理容器に輸送され、そして処理液による処理後、処理容器から輸送される連続プロセスプラントにおいて、様々な例示的な実施形態による方法およびデバイスによって、処理液への酸素の移入によって生じる可能性のある問題を低減することができる。
スズ浴であることが可能である。処理容器2を有する処理モジュールは、処理容器2を有する処理モジュールに隣接して配置され、そして処理される材料10が、種々のプロセス薬品またはリンス液でそれぞれ処理される、さらなる処理モジュール31、32を有するプロセスラインの一部であることが可能である。処理容器2において、処理される材料10を、従来の方法で処理液と接触させることができる。例えば、処理容器2は、処理液9が水位17まで蓄積するサンプ3を有することができる。以下に蒸気空間4として記される処理容器2中のさらなる領域は、処理液で充填されず、様々な気体を含有することができる。実施形態において、蒸気空間4を、液体が充填されていない処理容器2の部分体積として定義することができる。蒸気空間4において、蒸発した処理液が気相に含まれることも可能である。
置でも処理液9に不活性気体16を送達することが可能であるように配置することができる。不活性気体は、処理容器2の縦方向で、インレットスロット26およびアウトレットスロット27から間隔を置いて配置される位置で、供給要素12bによって処理容器2に供給される。また、供給デバイス11の供給要素12a、12cも、処理容器2の縦方向で、輸送方向25で処理容器2を区切る2枚の分離壁35、36から離れて配置され、そして、処理容器2の縦方向でインレットスロット26およびアウトレットスロット27から遠く離れた位置で、不活性気体16を処理容器に供給する。
酸素濃度が達成されるように選択することができる。ゼロの酸素濃度が必ず達成されなくてもよいように、不活性気体の供給を調節することができる。例えば、浴水位17より高い蒸気空間4の酸素濃度が10体積%未満、特に5体積%未満、特に2体積%未満である場合、処理液への酸素の移入に関する満足な結果を達成することができることが示された。また不活性気体の供給を、浴水位17より高い蒸気空間4の酸素濃度が、0.1〜15体積%の範囲、特に、3〜12体積%の範囲、特に、4〜8体積%の範囲であるように、調節することもできる。
例示的な実施形態に関して、処理される材料が水平に輸送されるデバイスが記載されているが、さらなる例示的な実施形態において、処理される材料が垂直面で輸送されることも可能である。
Claims (14)
- 連続プロセスプラントにおける、処理される材料(10)、特に、処理される平坦な材料(10)の湿式化学処理のための方法であって、
前記処理される材料(10)が処理容器(2)を通って輸送され、そして前記処理容器(2)中で処理液(9)で処理され、
不活性気体が前記処理容器(2)に供給される、方法。 - 前記不活性気体(16)が、前記処理容器(2)の少なくとも1つの第1の領域(12a、12b、12c)において、前記処理容器(2)に供給され、そして前記不活性気体(16)が、前記第1の領域から間隔を置いて配置された前記処理容器(2)の第2の領域(29、30)において、前記処理容器(2)から放出される、請求項1に記載の方法。
- 前記不活性気体(16)が、前記処理容器(2)のエッジ領域(35、36)を介して、前記処理容器(2)から除去される、請求項1または2に記載の方法。
- 前記処理容器(2)が、前記処理される材料(10)がそれを通して前記処理容器(2)に輸送されるインレットスロット(26)、および前記処理される材料(10)がそれを通して前記処理容器(2)から輸送されるアウトレットスロット(27)を有し、前記不活性気体(16)が、前記インレットスロット(26)および/または前記アウトレットスロット(27)を通して前記処理容器(2)から放出される、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記不活性気体(16)を前記処理容器(2)に供給するために、前記不活性気体(16)が少なくとも前記処理液(9)に導入される、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記処理容器(2)がサンプ(3)を有し、その中で、前記処理液(9)が少なくとも水位(17)まで蓄積され、そしてそこから、前記処理液(9)が処理部材(7、8)へ運搬され、前記不活性気体(16)が前記水位(17)より低い位置で前記処理容器(2)に導入される、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記処理容器(2)の蒸気空間(4)における酸素濃度が、0.1〜15体積%の範囲、特に、3〜12体積%の範囲、特に4〜8体積%の範囲であるように、前記処理容器(2)に供給される前記不活性気体(16)の体積流量率が確立される、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- 処理される材料(10)、特に、処理される平坦な材料(10)の湿式化学処理のためのデバイスであって、
前記処理される材料(10)を処理液(9)で処理するための処理容器(2)と、
前記処理される材料(10)を前記処理容器(2)を通して輸送するための輸送デバイス(24)と、
不活性気体(16)を前記処理容器(2)に供給するための供給デバイス(11)と
を備えるデバイス。 - 前記処理容器(2)の少なくとも1つの供給領域(12a、12b、12c)で前記不活性気体(16)が前記処理容器(2)に供給されるように、前記供給デバイス(11)が構成され、そして前記処理容器(2)が、前記処理容器(2)から廃物空気(29、30)を放出するための少なくとも1つの放出開口部(26、27)を有し、前記少なくと
も1つの放出開口部(26、27)が、前記少なくとも1つの供給領域(12a、12b、12c)から離れて備えられている、請求項8に記載のデバイス。 - 前記少なくとも1つの放出開口部(26、27)が、前記処理容器(2)のエッジ領域(35、36)に備えられている、請求項9に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つの放出開口部(26、27)が、前記処理容器(2)に前記処理される材料(10)を導入するためのインレットスロット(26)および/または前記処理容器(2)から前記処理される材料(10)を放出するためのアウトレットスロット(27)備える、請求項9または10に記載のデバイス。
- 前記供給デバイス(11)が、前記不活性気体(16)を前記処理液(9)に導入するように構成および配置される、請求項8〜10のいずれか一項に記載のデバイス。
- 前記処理容器(2)が、サンプ(3)と、前記サンプ(3)から前記処理容器(2)の処理部材(7、8)に処理液(9)を運搬するためのコンベアデバイス(5)とを有し、前記供給デバイス(11)が、前記不活性気体(16)を、前記サンプ(3)に蓄積された処理液(9)に導入するように構成される、請求項8〜12のいずれか一項に記載のデバイス。
- 前記処理容器(2)の蒸気空間(4)において、0.1〜15体積%の範囲、特に、3〜12体積%の範囲、特に4〜8体積%の範囲の酸素濃度を確立するために、前記不活性気体(16)の体積流量率を確立するための制御または調節デバイス(13、15、37)を備える、請求項8〜13のいずれか一項に記載のデバイス。
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