JP2013505198A - 誘電体層を含有する低放射ガラスおよびその製造方法 - Google Patents
誘電体層を含有する低放射ガラスおよびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013505198A JP2013505198A JP2012530773A JP2012530773A JP2013505198A JP 2013505198 A JP2013505198 A JP 2013505198A JP 2012530773 A JP2012530773 A JP 2012530773A JP 2012530773 A JP2012530773 A JP 2012530773A JP 2013505198 A JP2013505198 A JP 2013505198A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- low
- dielectric layer
- low emission
- layer
- glass according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 89
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 20
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 25
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 23
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 37
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 26
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 25
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 21
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 17
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 14
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 14
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 10
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims description 7
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 6
- 238000002294 plasma sputter deposition Methods 0.000 claims description 6
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 8
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- 229910004286 SiNxOy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 2
- -1 silicon nitride Nitride Chemical class 0.000 description 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000005344 low-emissivity glass Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910003455 mixed metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000008685 targeting Effects 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
- Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
- Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本発明は、電気伝導性金属を含有する低放射層と、前記低放射層の片面または両面に形成され、一般式１：ＴｉＣｅＯｘで表される複合金属酸化物を含む誘電体層と、を備える低放射ガラスに関する。本発明によれば、低放射ガラスの低放射層を保護して放射率を下げる役割を果たす誘電体層が、上述したように、一般式１で表される複合金属酸化物を含有することから、優れた低放射率を維持した状態で、可視光透過率を一層効率よく上げることができる。
Description
本発明は、誘電体層を含有する低放射ガラスおよびその製造方法に関する。
低放射ガラス（Ｌｏｗ ｅｍｉｓｓｉｖｉｔｙ ｇｌａｓｓ；Ｌｏｗ−ｅｇｌａｓｓ）は、電気伝導性を有する銀（Ａｇ）などの金属をスパッタ蒸着して低い放射率を有するように形成されたガラスであり、ガラスの表面に特殊膜をコーティングして、夏場には太陽輻射熱を反射させ、冬場には室内暖房機で発生する赤外線を保存することにより、建築物のエネルギー節減効果をもたらす機能性ガラスのことをいう。
従来から、上記の低放射ガラスを製造する方法としては、主としてチャンバー内に所定量の酸素を注入して酸素雰囲気を造成し、金属物質をターゲット原料として、低放射層の上に誘電体層を蒸着する方法が用いられている。
前記誘電体層は、一般に、金属酸化物からなる誘電体薄膜を低放射層の片面または両面に蒸着して形成され、これにより、低放射層に含有されている銀の酸化を防ぎ、且つ、可視光透過率を増大させるために主として用いられている。
従来、前記誘電体層を構成する金属酸化物として、主として酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化スズおよび酸化亜鉛の複合金属酸化物などが用いられていたが、上述の金属酸化物からなる誘電体層は、相対的に屈折率が低くて高い可視光透過率が求められる分野においてその活用が制限される、又はスパッタリング蒸着時における蒸着速度が低くて生産性が低下するという問題点があった。
本発明は、前記従来の技術における問題点を解消するためになされたものであり、その目的は、特定の誘電体層を含有することで、低放射率を維持しつつも可視光透過率をなお一層向上させることができ、しかも、蒸着速度を大幅に増大させることで量産に適した低放射ガラス、およびその製造方法を提供するところにある。
本発明は、上記課題を解消するための手段として、電気伝導性金属を含有する低放射層と、前記低放射層の片面または両面に形成され、一般式１：ＴｉＣｅＯｘ［式中、Ｔｉはチタン成分であり、Ｃｅはセリウム成分であり、Ｏｘは酸化物である。］で表される複合金属酸化物を含む誘電体層と、を備える低放射ガラスを提供する。
また、本発明は、上記課題を解消するための他の手段として、電気伝導性金属を含有する低放射層の片面または両面に、上記の一般式１で表される複合金属酸化物をターゲット原料として誘電体層を蒸着するステップを含む、本発明による低放射ガラスの製造方法を提供する。
本発明は、電気伝導性金属を含有する低放射層と、前記低放射層の片面または両面に形成され、一般式１：ＴｉＣｅＯｘ［式中、Ｔｉはチタン成分であり、Ｃｅはセリウム成分であり、Ｏｘは酸化物である。］で表される複合金属酸化物を含む誘電体層と、を備える低放射ガラスに関する。
以下、本発明による低放射ガラスを詳述する。
上述のように、本発明による低放射ガラスは、電気伝導性金属を含有する低放射層と、前記低放射層の片面または両面に形成され、前記一般式１で表される複合金属酸化物と、を備える。
本発明において、『低放射ガラス』とは、省エネ型板ガラスの一種であり、低い放射率を有するＬｏｗ−Ｅガラス（ｌｏｗ ｅｍｉｓｓｉｖｉｔｙ ｇｌａｓｓ）を意味する。すなわち、低放射ガラスは、一般の板ガラスの上に電気伝導性に優れた金属または金属酸化物薄膜を形成することにより、可視光領域では所定の透過特性を維持しつつも、コーティング面の放射率を下げて優れた断熱効果を提供することができる。
また、本発明において、『放射率（Ｅｍｉｓｓｉｖｉｔｙ）』とは、物体が任意の特定の波長を有するエネルギーを吸収、透過および反射する割合を意味し、赤外線波長領域にある赤外線エネルギーの吸収の度合いを示す。より具体的に、本発明における放射率は、強い熱作用を示す約２、５００〜４０、０００ｎｍの波長領域に相当する遠赤外線が印加されたとき、印加される赤外線エネルギーに対して吸収される赤外線エネルギーの割合を意味する。
キルヒホッフの法則によれば、物質に吸収された赤外線エネルギーは再放出されるエネルギーと同じであるため、吸収率は放射率と同じであり、未吸収の赤外線エネルギーは物質の表面から反射されるため、赤外線エネルギー反射が高いほど放射率は低い値を有することとなる。これを数式で表すと、（放射率＝１−赤外線反射率）の関係を有する。
このような放射率は、この分野において通常知られている種々の方法によって測定することができ、その測定方法が特に制限されることはないが、例えば、ＫＳＬ２５１４規格によるＭＫ−３などの設備により測定することができる。
このような強い熱作用を示す遠赤外線に対する吸収率、すなわち、放射率によって、低放射ガラスの断熱性能を測定することができる。
本発明による低放射ガラスの放射率および可視光透過率は、特に制限されないが、例えば、放射率は０．０１〜０．３であってもよく、具体的には、０．０１〜０．２であってもよく、より具体的には、０．０１〜０．１であってもよく、さらに具体的には、０．０１〜０．０８であってもよい。
本発明による低放射ガラスの放射率が０．０１未満である場合、遠赤外線の反射によって断熱効果は向上され得るものの、可視光透過率が低下する虞があり、０．３を超える場合、遠赤外線反射率が低過ぎて断熱性能が低下する虞がある。
また、本発明による低放射ガラスの可視光透過率も、特に制限されないが、例えば、可視光透過率が７５％以上であってもよく、具体的には、８０％以上であってもよく、より具体的には、８５％以上であってもよい。
前記低放射ガラスの可視光透過率が７５％未満である場合、快適な視野を提供することが困難になることがある。
上述のように、本発明の低放射ガラスは、低い放射率とともに高い可視光透過率を示すものであり、優れた断熱効果とともに快適な視野を提供する機能性ガラスとして使用可能である。
一方、本発明による低放射ガラスにおいて、低放射層は電気伝導性金属を含んでいてもよく、このように電気伝導性を有する金属を含むことにより、赤外線領域の輻射線を遮断する役割を果たす。
前記電気伝導性金属の種類は、特に制限されないが、例えば、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）および白金（Ｐｔ）よりなる群から選ばれた１種以上を含んでいてもよく、電気伝導度、値段、カラーおよび低放射特性などを総合的に考慮してみたとき、具体的には銀が使用可能である。
前記低放射層は、上記の例示のような電気伝導性金属そのものをターゲット原料として基板上に蒸着したものであってもよく、具体的には、耐久性の向上などの観点より、上述の電気伝導性金属にニッケル（Ｎｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、銅（Ｃｕ）および金（Ａｕ）よりなる群から選ばれた１種以上の元素がドープされた電気伝導性金属をターゲット原料として蒸着したものであってもよく、様々な機能性を向上させるために、他の添加物質をさらに混合した電気伝導性金属をターゲット原料として蒸着したものであってもよい。
また、前記低放射層の厚さも、特に制限されず、本発明の目的に応じて、低い放射率および優れた可視光透過率を両立できる範囲内において種々の厚さに形成可能であるが、例えば、８〜３５ｎｍであってもよく、具体的には、８〜１５ｎｍであってもよい。
前記低放射層の厚さが８ｎｍ未満である場合、放射率が大幅に向上して断熱効果を発揮することが困難になり、３５ｎｍを超える場合、放射率は下げられるものの、相対的に可視光透過率が大幅に減少して快適な視野を確保することが困難になることがある。
一方、本発明による低放射ガラスは、上述の低放射層の片面または両面に一般式１：ＴｉＣｅＯｘ［式中、Ｔｉはチタン成分であり、Ｃｅはセリウム成分であり、Ｏｘは酸化物である。］で表される複合金属酸化物を含有する誘電体層を備えていてもよい。
具体的に、前記一般式１で表される複合金属酸化物は、酸化チタンに所定量の酸化セリウムを添加して得られる複合物質を意味し、この種の複合金属酸化物は、本発明による低放射ガラスに含まれる誘電体層を形成するターゲット原料として用いられて、高い屈折率を有し、しかも、酸素およびナトリウムイオンの拡散を防ぐ効果を有するだけではなく、スパッタリング蒸着時に顕著に高い蒸着速度を有することができる。
前記複合金属酸化物に含有される成分の含量は、特に制限されないが、例えば、前記複合金属酸化物は、酸化チタン８０重量部〜９０重量部と、酸化セリウム１０重量部〜２０重量部と、を含んでいてもよい。
誘電体層は、低放射層の酸化を防止するとともに、可視光透過率を高めるために蒸着されるが、前記誘電体層の屈折率（Ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ Ｉｎｄｅｘ）が高いほど反射防止効果が向上される。
ここで、前記誘電体層の屈折率は、特に制限されないが、例えば、可視光に対する屈折率が２．４〜２．８であってもよく、具体的には、５５０ｎｍの波長を有する可視光に対する屈折率が２．４５〜２．５であってもよい。
ここで、屈折率の増加は、同じ物理的な厚さにおける光学厚さの増加を意味し、光学設計の自由度を増加させて可視光透過率を増加させることができる。
上述の誘電体層は、低放射ガラス内に含有されて、低放射層の酸化防止および可視光透過率の向上を両立させるだけではなく、耐化学薬品性、耐湿性、耐摩耗性を向上させるとともに、低放射ガラスの放射率を下げる役割を果たす。
また、本発明による低放射ガラスにおける誘電体層は、具体的に、低放射層の上面に形成される第１の誘電体層および低放射層の下面に形成される第２の誘電体層を備えていてもよい。
前記第１の誘電体層は、低放射層の上面に形成されて、低放射層の酸化を防ぐとともに、可視光透過率を向上させる機能をし、第２の誘電体層は、基板と低放射層との間に形成されて、基板の表面汚染だけではなく、Ｎａ＋イオンなどによる低放射層の汚染を防ぐ役割を果たし、基板と低放射層との間の接着力および放射率を向上させる。
前記第１の誘電体層および第２の誘電体層の厚さも、特に制限されないが、例えば、第１の誘電体層および第２の誘電体層は、それぞれ１０ｎｍ〜１００ｎｍであってもよく、具体的には、３０ｎｍ〜４０ｎｍであってもよい。前記誘電体層の厚さが１０ｎｍ未満である場合、ガラス面が変色される虞があり、１００ｎｍを超える場合、可視光透過率が低下する虞がある。
一方、また、本発明による低放射ガラスは、低放射層と第１の誘電体層との間に形成されたバリア層をさらに備えていてもよい。
前記バリア層は、スパッタリング蒸着工程中に工程ガスによって低放射層に含有される電気伝導性金属が損傷されることを防ぐ役割を果たすものであり、この分野における通常の公知の金属などを用いることができ、具体的には、例えば、ニッケルおよびクロムを含有することができる。
また、本発明による低放射ガラスは、第２の誘電体層の上面に形成されるオーバーコート層をさらに備えていてもよい。
前記オーバーコート層は、低放射ガラスの表面を保護するとともに、耐久性を与えるためのものであり、その種類が特に制限されるものではないが、例えば、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、アルミニウム含有窒化ケイ素（ＳｉＡｌＮ）および酸化窒化ケイ素（ＳｉＮＯｘ）などの窒化物が使用可能である。
さらに、本発明による低放射ガラスは、第１の誘電体層の下面に形成されるアンダーコート層をさらに備えていてもよい。
前記アンダーコート層は、低放射ガラスの基板を保護し、且つ、耐久性を与えるためのものであり、その種類が特に制限されるものではないが、例えば、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、アルミニウム含有窒化ケイ素（ＳｉＡｌＮ）および酸化窒化ケイ素（ＳｉＮＯｘ）などの窒化物が使用可能である。
上述のように、本発明による低放射ガラスは、低い放射率によって優れた断熱性能と高い可視光透過率を有するので、断熱効果および快適な視野確保が求められる建築用または自動車用のガラスなどに幅広く活用することができる。
但し、前記本発明の低放射ガラスが前記用途にのみ限定されることはなく、高い断熱性能と快適な視野確保が求められる種々の分野のガラスに適用可能である。
さらに、誘電体層に含有される複合金属酸化物は、従来から用いられている金属または金属酸化物に比べて、スパッタリング蒸着時における蒸着速度が顕著に高くて工程効率を向上させることができるので、量産に一層有用である。
図１は、本発明の一例による低放射ガラスの多層薄膜構造を示す概略図である。
図１に示すように、本発明の一例による低放射ガラス１００は、基板（ガラス（Ｇｌａｓｓ））１１０の上に、アンダーコート層（ＳｉＮｘＯｙ）１２０、第１の誘電体層（ＴｉＣｅＯｘ）１３０、低放射層（Ａｇ）１４０、バリア層（ＮｉＣｒＯｘ）１５０、第２の誘電体層（ＴｉＣｅＯｘ）１６０およびオーバーコート層（ＳｉＮｘＯｙ）１７０がこの順に積層されている薄膜構造を有してもよい。
但し、これは本発明の一例に過ぎず、本発明による低放射ガラスの構造が図１に示す薄膜構造に制限されることはない。
一方、本発明はまた、電気伝導性金属を含有する低放射層の片面または両面に一般式１：ＴｉＣｅＯｘ［式中、Ｔｉはチタン成分であり、Ｃｅはセリウム成分であり、Ｏｘは酸化物である。］で表される複合金属酸化物をターゲット原料として誘導体層を蒸着するステップを含む本発明による低放射ガラスの製造方法に関する。
本発明による低放射ガラスの製造方法は、上述のように、前記一般式１で表される複合金属酸化物をターゲット原料として低放射層の上に誘電体層を蒸着するので、蒸着速度が顕著に高く、これにより、量産に一層好適に使用可能である。
本発明における蒸着は、具体的に、スパッタリング蒸着を意味してもよく、前記蒸着時に具体的な工程条件が特に制限されることはないが、例えば、本発明による低放射ガラスの製造方法において、蒸着は、工程圧力が５×１０−２Ｔｏｒｒ〜５×１０−８Ｔｏｒｒの真空条件下で行うことができる。
本発明における真空条件とは、真空状態の雰囲気を造成する工程圧力条件を意味し、例えば、前記蒸着は、工程圧力が５×１０−２Ｔｏｒｒ〜５×１０−８Ｔｏｒｒの真空条件下で行うことができる。
前記工程圧力が５×１０−２Ｔｏｒｒ未満である場合、高エネルギーを有する蒸着物質が基材に衝撃を加えることにより膜質が低下する虞があり、前記工程圧力が５×１０−８Ｔｏｒｒを超える場合、粒子の平均自由行路が減って蒸着が困難になる虞がある。
また、前記蒸着時に注入する工程ガスは、この分野において通常用いられる様々なガスを単独でまたは２種以上混合して供給することができ、前記工程ガスの種類は、特に制限されないが、例えば、窒素ガスまたはアルゴンガスなどの不活性ガスおよび酸素ガスを含んでいてもよい。
より具体的には、例えば、本発明による低放射ガラスの製造方法において、誘電体層を蒸着するときに注入する工程ガスは、アルゴンガスおよび酸素ガスを含むことができ、その注入量に特に制限はないが、例えば、アルゴンガス２０ｓｃｃｍ（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｃｕｂｉｃ Ｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒ ｐｅｒ ｍｉｎｕｔｅ）〜４０ｓｃｃｍおよび酸素ガス１０ｓｃｃｍ〜２０ｓｃｃｍを注入することができる。
さらに、前記誘電体層を蒸着する方法も特に制限がなく、この分野における公知の蒸着方法として、真空条件下で上述の複合金属酸化物をターゲット原料として低放射層の上に誘電体層を蒸着できるあらゆる方法が挙げられるが、例えば、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、レーザービーム蒸着法、プラズマスパッタリング法などが使用可能であり、具体的には、プラズマスパッタリング法が使用可能である。
前記プラズマスパッタリング法を用いる場合、均一な成膜を行うことができ、薄膜の凝着力が高く、金属、合金、化合物、絶縁体などの種々の材料を成膜することができるだけではなく、ターゲットが冷却可能であり、大きなターゲットを用いることができて、大型化薄膜のガラスを製造するのに用いて好適である。
前記プラズマスパッタリング法の具体例としては、ＤＣスパッタリング、ＲＦスパッタリング、マグネトロンスパッタリング、反応性スパッタリングなどが使用可能である。
一方、前記プラズマを用いたスパッタリング方法を用いる際、前記誘電体層の蒸着は、１Ｗ／ｃｍ２〜５Ｗ／ｃｍ２の入力電力を印加して行うことができる。
前記入力電力が１Ｗ／ｃｍ２未満である場合、蒸着速度が低くて生産性が低下し、蒸着される誘電体材料膜と基板若しくは低放射層との間の接着力が低下する虞があり、５Ｗ／ｃｍ２を超える場合、基板若しくは低放射層に損傷を与え、又はターゲット原料の破損や溶融が発生する虞があり、工程装置に大きな損傷を招くことがある。
上述のプラズマスパッタリング法を用いた低放射ガラスの製造方法は、より具体的に、まず、真空チャンバー内にアルゴンガスおよび酸素ガスを適量注入し、ターゲット原料が設けられたカソード（ｃａｔｈｏｄｅ）に電圧を加えるような方法であってもよい。この場合、前記カソードから発せられた電子がアルゴンガスの気体原子と衝突してアルゴンをイオン化（Ａｒ＋）させるが、このとき、前記アルゴンが励起子（ｅｘｃｉｔｅ）となって電子を放出することによってエネルギーが放出されることにより、グロー放電（ｇｌｏｗ ｄｉｓｃｈａｒｇｅ）が発生する。前記グロー放電により、イオンと電子とが共存するプラズマ（ｐｌａｓｍａ）が形成される。
前記プラズマ内のＡｒ＋イオンは、大きな電位差によって、カソード（ターゲット）、すなわち、複合金属酸化物に向かって加速化してターゲットの表面と衝突し、これにより、ターゲット原子が飛び出て低放射層の上に薄膜を形成するため、誘電体層が蒸着される。
以下、本発明による実施例および本発明によらない比較例を挙げて、本発明を詳述するが、本発明の範囲は下記の実施例によって何ら制限されない。
［実施例１］
厚さが０．７ｍｍのソーダ石灰ガラス基板の上に、下記表１に示す条件下で、ＲＦスパッタリング法を用いてアンダーコート層、第１の誘電体層、低放射層、バリア層、第２の誘電体層およびオーバーコート層をこの順に蒸着することにより、実施例１による低放射ガラスが製造された。
厚さが０．７ｍｍのソーダ石灰ガラス基板の上に、下記表１に示す条件下で、ＲＦスパッタリング法を用いてアンダーコート層、第１の誘電体層、低放射層、バリア層、第２の誘電体層およびオーバーコート層をこの順に蒸着することにより、実施例１による低放射ガラスが製造された。
ここで、スパッタチャンバー内の工程圧力は、初期の５×１０−６Ｔｏｒｒの真空条件まで排気後、工程ガスを注入して工程真空度を５×１０−２Ｔｏｒｒに維持したままで工程を行い、入力電力としては、ＲＦ（ｒａｄｉｏ ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ、１３．５６ＭＨｚ）パワーを印加した。
また、第１の誘電体層および第２の誘電体層のターゲット原料としては、酸化チタン８５重量部および酸化セリウム１５重量部を含む複合金属酸化物（ＴｉＣｅＯｘ）を用いた。
これに従い製造された低放射ガラスの薄膜の厚さは、光学式粗さ計を用いて測定した。
［比較例１］
第１の誘電体層および第２の誘電体層のターゲット原料として、ＴｉＣｅＯｘの代わりに二酸化チタン（ＴｉＯｘ）を用いた以外は、実施例１と同じ条件下で比較例１による低放射ガラスを製造した。
第１の誘電体層および第２の誘電体層のターゲット原料として、ＴｉＣｅＯｘの代わりに二酸化チタン（ＴｉＯｘ）を用いた以外は、実施例１と同じ条件下で比較例１による低放射ガラスを製造した。
［試験例］
１．光学性能および断熱性能の測定
実施例１による低放射ガラスの光学性能を、分光光度計（ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ；ｍｏｄｅｌ Ｓｈｉｍａｚｕ ｓｏｌｉｄ ｓｐｅｃ ３７００）を用いて、３００ｎｍ〜２１００ｎｍ範囲の波長領域において区間幅を１ｎｍにして測定した。可視光透過率および反射率、太陽光透過率および反射率はＫＳＬ２５４１に準拠して計算し、放射率は放射率測定装置（ＩＮＧＬＡＳ ＴＩＲ １００−２）により測定した。
１．光学性能および断熱性能の測定
実施例１による低放射ガラスの光学性能を、分光光度計（ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ；ｍｏｄｅｌ Ｓｈｉｍａｚｕ ｓｏｌｉｄ ｓｐｅｃ ３７００）を用いて、３００ｎｍ〜２１００ｎｍ範囲の波長領域において区間幅を１ｎｍにして測定した。可視光透過率および反射率、太陽光透過率および反射率はＫＳＬ２５４１に準拠して計算し、放射率は放射率測定装置（ＩＮＧＬＡＳ ＴＩＲ １００−２）により測定した。
前記測定により得られた光特性から、Ｗｉｎｄｏｗ ５．２ ｐｒｏｇｒａｍを用いて断熱性能を計算し、その結果を下記表２に示す。
２．色差比較
実施例１および比較例１による低放射ガラスの色差を比較し、これを下記表３に示す。
実施例１および比較例１による低放射ガラスの色差を比較し、これを下記表３に示す。
３．蒸着速度の測定
誘電体層の薄膜蒸着速度を測定するために、３条件の工程時間で蒸着した後、厚さを測定して３点に対するリニアフィットを行った。実施例１および比較例１による低放射ガラスを製造する工程における誘電体層の蒸着速度を図２に示す。
誘電体層の薄膜蒸着速度を測定するために、３条件の工程時間で蒸着した後、厚さを測定して３点に対するリニアフィットを行った。実施例１および比較例１による低放射ガラスを製造する工程における誘電体層の蒸着速度を図２に示す。
その結果、実施例１および比較例１による低放射ガラスを製造する工程における誘電体層の蒸着速度は、図２に示すように、それぞれ０．０１３５ｎｍ／ｓｅｃおよび０．０２５９ｎｍ／ｓｅｃであった。
４．屈折率の測定
エリプソメトリ（Ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｒｙ）を用いて実施例１による低放射ガラスの誘電体層および比較例１による低放射ガラスの誘電体層に対する屈折率を測定した。その結果を図３に示す。
エリプソメトリ（Ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｒｙ）を用いて実施例１による低放射ガラスの誘電体層および比較例１による低放射ガラスの誘電体層に対する屈折率を測定した。その結果を図３に示す。
図３を参照すれば、可視光領域（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）において、実施例１による低放射ガラスに含有されている誘電体層は、比較例１による低放射ガラスに含有されている誘電体層に比べて屈折率が高く、具体的に、５５０ｎｍ波長の可視光を基準として、実施例１による低放射ガラスに含有されている誘電体層の屈折率は２．４７３であり、比較例１による低放射ガラスに含有されている誘電体層の屈折率は２．４５５であった。
５．可視光透過率の比較
実施例１による低放射ガラスおよび比較例１による低放射ガラスの可視光透過率を比較したグラフを図４に示す。図４を参照すれば、比較例１による低放射ガラスの可視光透過率に比べて、実施例１による低放射ガラスの可視光透過率が約５％高く現れた。
実施例１による低放射ガラスおよび比較例１による低放射ガラスの可視光透過率を比較したグラフを図４に示す。図４を参照すれば、比較例１による低放射ガラスの可視光透過率に比べて、実施例１による低放射ガラスの可視光透過率が約５％高く現れた。
１００ 低放射ガラス
１１０ 基板
１２０ アンダーコート層
１３０ 第１の誘電体層
１４０ 低放射層
１５０ バリア層
１６０ 第２の誘電体層
１７０ オーバーコート層
１１０ 基板
１２０ アンダーコート層
１３０ 第１の誘電体層
１４０ 低放射層
１５０ バリア層
１６０ 第２の誘電体層
１７０ オーバーコート層
Claims (15)
- 電気伝導性金属を含有する低放射層と、前記低放射層の片面または両面に形成され、一般式１：ＴｉＣｅＯｘで表され、式中、Ｔｉはチタン成分であり、Ｃｅはセリウム成分であり、Ｏｘは酸化物である、複合金属酸化物を含む誘電体層と、を備える低放射ガラス。
- 前記低放射ガラスの放射率が０．０１〜０．３であり、前記低放射ガラスの可視光透過率が７５％以上である、請求項１に記載の低放射ガラス。
- 前記電気伝導性金属は、銀、銅、金、アルミニウムおよび白金よりなる群から選ばれた１種以上を含む、請求項１に記載の低放射ガラス。
- 前記複合金属酸化物は、酸化チタン８０重量部〜９０重量部と、酸化セリウム１０重量部〜２０重量部とを含む、請求項１に記載の低放射ガラス。
- 前記誘電体層は、可視光に対する屈折率が２．４〜２．８である、請求項１に記載の低放射ガラス。
- 前記誘電体層は、前記低放射層の下面に形成される第１の誘電体層および前記低放射層の上面に形成される第２の誘電体層を備える、請求項１に記載の低放射ガラス。
- 前記第１の誘電体層および前記第２の誘電体層は、それぞれ膜厚が１０ｎｍ〜１００ｎｍである、請求項６に記載の低放射ガラス。
- 前記低放射層と前記第２の誘電体層との間に形成されたバリア層をさらに備える、請求項６に記載の低放射ガラス。
- 前記第２の誘電体層の上面に形成されたオーバーコート層をさらに備える、請求項６に記載の低放射ガラス。
- 前記第１の誘電体層の下面に形成されたアンダーコート層をさらに備える、請求項６に記載の低放射ガラス。
- 前記電気伝導性金属を含有する低放射層の片面または両面に、前記一般式１で表される複合金属酸化物をターゲット原料として用いて、前記誘電体層を蒸着するステップを含む、請求項１から１０のいずれかに記載の低放射ガラスの製造方法。
- 蒸着は、工程圧力が５×１０−２Ｔｏｒｒ〜５×１０−８Ｔｏｒｒの真空条件下で行う、請求項１１に記載の低放射ガラスの製造方法。
- 蒸着は、アルゴンガス２０ｓｃｃｍ〜４０ｓｃｃｍおよび酸素ガス１０ｓｃｃｍ〜２０ｓｃｃｍを含有する工程ガスを注入した状態で行う、請求項１１に記載の低放射ガラスの製造方法。
- 蒸着は、プラズマスパッタリング法を用いて行う、請求項１１に記載の低放射ガラスの製造方法。
- 蒸着は、１Ｗ／ｃｍ２〜５Ｗ／ｃｍ２の入力電力を印加して行う、請求項１４に記載の低放射ガラスの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR20090091327 | 2009-09-25 | ||
| KR10-2009-0091327 | 2009-09-25 | ||
| PCT/KR2010/006354 WO2011037365A2 (en) | 2009-09-25 | 2010-09-16 | Low emissivity glass comprising dielectric layer and method for producing the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013505198A true JP2013505198A (ja) | 2013-02-14 |
| JP5725481B2 JP5725481B2 (ja) | 2015-05-27 |
Family
ID=43796356
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012530773A Expired - Fee Related JP5725481B2 (ja) | 2009-09-25 | 2010-09-16 | 誘電体層を含有する低放射ガラスおよびその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8932723B2 (ja) |
| EP (1) | EP2480509B1 (ja) |
| JP (1) | JP5725481B2 (ja) |
| KR (1) | KR20110033769A (ja) |
| CN (1) | CN102548923B (ja) |
| WO (1) | WO2011037365A2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160147387A (ko) * | 2015-06-15 | 2016-12-23 | 주식회사 케이씨씨 | 내구성이 향상된 열처리 가능한 저방사 유리 및 그 제조방법 |
| WO2018131863A1 (ko) * | 2017-01-10 | 2018-07-19 | 주식회사 케이씨씨 | 코팅유리 및 이를 포함하는 접합유리 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102529210B (zh) * | 2011-12-19 | 2014-10-15 | 林嘉宏 | 具有保护膜层的镀膜玻璃及其制备方法 |
| FR3002240B1 (fr) * | 2013-02-15 | 2015-07-10 | Quertech Ingenierie | Procede de traitement par un faisceau d'ions pour produire des materiaux en verre antireflet durable |
| KR101894112B1 (ko) * | 2013-11-28 | 2018-08-31 | (주)엘지하우시스 | 저방사 유리 창호 및 이로부터 생산된 전력을 이용한 전력 공급 장치 |
| KR101788368B1 (ko) | 2013-12-12 | 2017-10-20 | (주)엘지하우시스 | 저방사 코팅막, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 창호용 기능성 건축 자재 |
| JP6590806B2 (ja) | 2013-12-12 | 2019-10-16 | エルジー・ハウシス・リミテッドＬｇ Ｈａｕｓｙｓ，Ｌｔｄ． | 低放射コーティング膜、その製造方法及びそれを含む窓用機能性建築資材 |
| CN104098276B (zh) * | 2014-07-15 | 2016-08-24 | 江阴沐祥节能装饰工程有限公司 | 一种高平整度的低辐射镀膜玻璃制品及其制备方法 |
| KR102282176B1 (ko) * | 2015-03-09 | 2021-07-28 | 한국전자통신연구원 | 저방사 필름 및 이를 포함하는 창문 |
| KR101934062B1 (ko) | 2015-09-14 | 2019-01-02 | (주)엘지하우시스 | 창호용 기능성 건축 자재 |
| WO2017126875A1 (ko) * | 2016-01-18 | 2017-07-27 | 주식회사 케이씨씨 | 저방사 유리 및 그의 제조방법 |
| KR101873103B1 (ko) * | 2016-09-06 | 2018-06-29 | (주)엘지하우시스 | 창호용 기능성 건축 자재 |
| CN114853360A (zh) * | 2022-05-31 | 2022-08-05 | 长兴旗滨节能玻璃有限公司 | 一种减反射低辐射玻璃及中空玻璃 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08239244A (ja) * | 1995-03-03 | 1996-09-17 | Asahi Glass Co Ltd | 紫外線吸収ガラス |
| JPH11157881A (ja) * | 1997-09-18 | 1999-06-15 | Central Glass Co Ltd | 低放射ガラス積層体 |
| JP2002173343A (ja) * | 2001-09-25 | 2002-06-21 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 低放射率透明積層体の製造方法 |
| JP2002529367A (ja) * | 1998-11-13 | 2002-09-10 | サン−ゴバン ビトラージュ | 低放射率積層体を具備したグレージング |
| WO2008113786A1 (fr) * | 2007-03-19 | 2008-09-25 | Agc Flat Glass Europe Sa | Vitrage à faible émissivité |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4565719A (en) * | 1982-10-08 | 1986-01-21 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Energy control window film systems and methods for manufacturing the same |
| DE19848751C1 (de) * | 1998-10-22 | 1999-12-16 | Ver Glaswerke Gmbh | Schichtsystem für transparente Substrate |
| US6797388B1 (en) * | 1999-03-18 | 2004-09-28 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods of making low haze coatings and the coatings and coated articles made thereby |
| AT502353B1 (de) | 2006-06-29 | 2007-07-15 | Avl List Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur konditionierung eines o2-hältigen gases |
-
2010
- 2010-08-17 KR KR1020100079347A patent/KR20110033769A/ko not_active Application Discontinuation
- 2010-09-16 WO PCT/KR2010/006354 patent/WO2011037365A2/en active Application Filing
- 2010-09-16 CN CN201080042594.2A patent/CN102548923B/zh active Active
- 2010-09-16 US US13/394,774 patent/US8932723B2/en active Active
- 2010-09-16 JP JP2012530773A patent/JP5725481B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-09-16 EP EP10819006.7A patent/EP2480509B1/en not_active Not-in-force
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08239244A (ja) * | 1995-03-03 | 1996-09-17 | Asahi Glass Co Ltd | 紫外線吸収ガラス |
| JPH11157881A (ja) * | 1997-09-18 | 1999-06-15 | Central Glass Co Ltd | 低放射ガラス積層体 |
| JP2002529367A (ja) * | 1998-11-13 | 2002-09-10 | サン−ゴバン ビトラージュ | 低放射率積層体を具備したグレージング |
| JP2002173343A (ja) * | 2001-09-25 | 2002-06-21 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 低放射率透明積層体の製造方法 |
| WO2008113786A1 (fr) * | 2007-03-19 | 2008-09-25 | Agc Flat Glass Europe Sa | Vitrage à faible émissivité |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160147387A (ko) * | 2015-06-15 | 2016-12-23 | 주식회사 케이씨씨 | 내구성이 향상된 열처리 가능한 저방사 유리 및 그 제조방법 |
| KR101714390B1 (ko) * | 2015-06-15 | 2017-03-09 | 주식회사 케이씨씨 | 내구성이 향상된 열처리 가능한 저방사 유리 및 그 제조방법 |
| WO2018131863A1 (ko) * | 2017-01-10 | 2018-07-19 | 주식회사 케이씨씨 | 코팅유리 및 이를 포함하는 접합유리 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20110033769A (ko) | 2011-03-31 |
| WO2011037365A3 (en) | 2011-07-14 |
| WO2011037365A2 (en) | 2011-03-31 |
| US8932723B2 (en) | 2015-01-13 |
| CN102548923A (zh) | 2012-07-04 |
| EP2480509B1 (en) | 2017-03-22 |
| EP2480509A2 (en) | 2012-08-01 |
| EP2480509A4 (en) | 2013-12-25 |
| CN102548923B (zh) | 2015-01-14 |
| US20120171443A1 (en) | 2012-07-05 |
| JP5725481B2 (ja) | 2015-05-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5725481B2 (ja) | 誘電体層を含有する低放射ガラスおよびその製造方法 | |
| JP6526118B2 (ja) | 銀層の熱処理方法 | |
| US11091391B2 (en) | Heat treatable coated glass pane | |
| EP3725751B1 (en) | Heat treatable coated glass pane | |
| RU2561419C2 (ru) | Низкоэмиссионное стекло и способ его получения | |
| EP3055264B1 (en) | Heat treatable coated glass pane | |
| CN102786231B (zh) | 一种可热处理的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品 | |
| KR101768257B1 (ko) | 저방사 코팅 및 이를 포함하는 창호용 건축 자재 | |
| JP3453805B2 (ja) | 透明導電膜 | |
| KR101302259B1 (ko) | 내구성이 우수한 저방사 유리 | |
| JP2000356706A (ja) | 光吸収性反射防止体とその製造方法 | |
| KR101302273B1 (ko) | 저방사 유리 및 이의 제조방법 | |
| CN112194383A (zh) | 一种低辐射玻璃及其制备方法 | |
| US8722210B2 (en) | Low emissivity glass and method for manufacturing the same | |
| KR20130142370A (ko) | 저방사 코팅막 및 이를 포함하는 건축 자재 | |
| KR20170086419A (ko) | 저방사 유리 및 그의 제조방법 | |
| JP3190240B2 (ja) | 光吸収性反射防止体とその製造方法 | |
| CN112225469A (zh) | 一种单银低辐射玻璃及其制备方法 | |
| JPH07249316A (ja) | 透明導電膜および該透明導電膜を用いた透明基体 | |
| WO2010098200A1 (ja) | 積層体物品 | |
| JP5598324B2 (ja) | 低放射膜の製造方法 | |
| KR102259346B1 (ko) | 저방사 유리 | |
| JP2010253921A (ja) | 積層体物品 | |
| KR101367828B1 (ko) | 써모크로믹 윈도우 제조방법 | |
| WO2021019258A1 (en) | Toughenable coated substrate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130725 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130730 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131030 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140630 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140929 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150309 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150324 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5725481 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |