JP2013254959A - 液処理装置および液処理方法 - Google Patents
液処理装置および液処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013254959A JP2013254959A JP2013128957A JP2013128957A JP2013254959A JP 2013254959 A JP2013254959 A JP 2013254959A JP 2013128957 A JP2013128957 A JP 2013128957A JP 2013128957 A JP2013128957 A JP 2013128957A JP 2013254959 A JP2013254959 A JP 2013254959A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lift pin
- substrate
- plate
- pin plate
- holding plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】基板洗浄装置10には、基板Wを保持する保持プレート30と、保持プレート30の上方に設けられ、基板Wを下方から支持するリフトピン22を有するリフトピンプレート20と、保持プレート30により保持された基板Wの裏面に処理液を供給する処理液供給部40とが設けられている。処理液供給部40は、リフトピンプレート20の貫通穴20aを塞ぐよう設けられたヘッド部分42を有している。処理液供給部40およびリフトピンプレート20は保持プレート30に対して相対的に昇降するようになっている。
【選択図】図2A
Description
20 リフトピンプレート
20a 貫通穴
22 リフトピン
24 接続部材
26 バネ
30 保持プレート
30a 貫通穴
30b 貫通穴
31 基板支持部
31a 軸
31b 基板支持部分
31c 被押圧部材
31d バネ部材
32 収容部材
33 軸受け部
33a 軸受け孔
33b 内壁面
34 回転軸
36 回転カップ
37 固定保持部
38 接続部材
39 回転駆動部
40 洗浄液供給管
40a、40b 洗浄液供給路
42 ヘッド部分
42a〜42d ノズル
44 第1の連動部材
46 第2の連動部材
50 昇降駆動部
52 接続部材
56 外カップ
58 排液管
60 フィン部材
60a フィン部分
70 洗浄液供給ノズル
101 載置台
102 搬送アーム
103 棚ユニット
104 搬送アーム
W ウエハ
Claims (13)
- 中心部分に貫通穴が形成され、基板を保持する保持プレートと、
前記保持プレートの上方に設けられ、中心部分に貫通穴が形成され、基板を下方から支持するリフトピンを有するリフトピンプレートと、
前記保持プレートを回転させる回転駆動部と、
前記保持プレートの貫通穴および前記リフトピンプレートの貫通穴を通るよう設けられ、前記保持プレートにより保持された基板の裏面に処理液を供給する処理液供給部であって、前記リフトピンプレートの貫通穴を塞ぐよう設けられたヘッド部分を有する処理液供給部と、
前記処理液供給部および前記リフトピンプレートを前記保持プレートに対して相対的に昇降させる昇降機構と、
を備えたことを特徴とする液処理装置。 - 前記リフトピンプレートは前記保持プレートと連動して回転することを特徴とする請求項1記載の液処理装置。
- 前記昇降機構は、前記処理液供給部および前記リフトピンプレートを一体的に昇降させることを特徴とする請求項1または2記載の液処理装置。
- 前記昇降機構は、前記処理液供給部および前記リフトピンプレートを互いに独立して昇降させることを特徴とする請求項1または2記載の液処理装置。
- 前記リフトピンプレートは、下方位置にあるときに前記保持プレートに隣接し、上方位置にあるときに前記保持プレートから上方に離間し前記リフトピン上への基板の受け渡しおよび前記リフトピン上からの基板の取り出しを行うことができるようになることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 前記保持プレートに設けられ、前記処理液供給部および前記リフトピンプレートが下方位置にあるときに前記保持プレートにより保持された基板の外周縁を囲うような回転カップを更に備えたことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 前記保持プレートに、基板を側方から支持する基板支持部が設けられており、
前記基板支持部は、前記リフトピンプレートが下方位置にあるときに基板を側方から支持し、前記リフトピンプレートが上方位置にあるときに基板から離間するようになっていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の液処理装置。 - 前記基板支持部は前記保持プレートに軸支されており、当該基板支持部は軸を中心として揺動するようになっており、
前記基板支持部は、基板を側方から支持する基板支持部分と、前記リフトピンプレートと前記保持プレートとの間に設けられ前記リフトピンプレートが下方位置にあるときに当該リフトピンプレートの下面により下方に押圧される被押圧部分とを有し、
前記基板支持部は、前記リフトピンプレートが上方位置から下方位置に移動したときに当該リフトピンプレートの下面により前記被押圧部分が下方に押圧されることにより前記軸を中心として回転し、前記基板支持部分が基板に向かって当該基板の側方から移動するよう構成されていることを特徴とする請求項7記載の液処理装置。 - 前記保持プレートに、前記基板支持部の前記軸を受け入れる軸受け孔が設けられた軸受け部が設けられており、前記軸は前記軸受け孔に沿って水平方向に移動可能となっており、
前記軸には、当該軸を前記保持プレートの中心に向かって押圧する押圧部が設けられていることを特徴とする請求項8記載の液処理装置。 - 前記押圧部はバネ部材であることを特徴とする請求項9記載の液処理装置。
- 前記リフトピンプレートの下面には、当該リフトピンプレートから下方に延びる接続部材が設けられ、
前記保持プレートには、前記接続部材が通るような接続部材貫通穴が設けられ、
前記接続部材により前記リフトピンプレートと前記保持プレートとが連動して回転するようになっており、
前記昇降機構は、前記リフトピンプレートを下方位置から上方位置まで移動させる際に前記接続部材を上方に押し上げるようになっていることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか一項に記載の液処理装置。 - 前記保持プレートの下面には、当該保持プレートから下方に延び、前記接続部材を収容する中空の収容部材が設けられ、
前記収容部材の中空部分には、前記接続部材に接続されたバネが圧縮された状態で収容されており、前記バネにより前記接続部材が下方に付勢されていることを特徴とする請求項11記載の液処理装置。 - 中心部分に貫通穴が形成され、基板を保持する保持プレートと、前記保持プレートの上方に設けられ、中心部分に貫通穴が形成され、基板を下方から支持するリフトピンを有するリフトピンプレートと、前記保持プレートを回転させる回転駆動部と、前記保持プレートの貫通穴および前記リフトピンプレートの貫通穴を通るよう設けられ、前記保持プレートにより保持された基板の裏面に処理液を供給する処理液供給部であって、前記リフトピンプレートの貫通穴を塞ぐよう設けられたヘッド部分を有する処理液供給部と、を備え、前記処理液供給部および前記リフトピンプレートが前記保持プレートに対して相対的に昇降するようになっているような液処理装置により基板を洗浄するような液処理方法であって、
前記処理液供給部および前記リフトピンプレートをそれぞれ上方位置に位置させた状態で、前記リフトピンプレートの前記リフトピン上に基板を載置する工程と、
前記処理液供給部および前記リフトピンプレートをそれぞれ上方位置から下方位置に移動させる工程と、
前記処理液供給部および前記リフトピンプレートをそれぞれ下方位置に位置させた状態で、前記処理液供給部によって前記保持プレートにより保持された基板の裏面に処理液を供給する工程と、
前記処理液供給部および前記リフトピンプレートをそれぞれ下方位置から上方位置に移動させる工程と、
前記処理液供給部および前記リフトピンプレートをそれぞれ上方位置に位置させた状態で、前記リフトピンにより支持された基板を取り出す工程と、
を備えたことを特徴とする液処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013128957A JP5758445B2 (ja) | 2009-08-27 | 2013-06-19 | 液処理装置および液処理方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009196902 | 2009-08-27 | ||
JP2009196902 | 2009-08-27 | ||
JP2013128957A JP5758445B2 (ja) | 2009-08-27 | 2013-06-19 | 液処理装置および液処理方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010137305A Division JP5301505B2 (ja) | 2009-08-27 | 2010-06-16 | 液処理装置および液処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013254959A true JP2013254959A (ja) | 2013-12-19 |
JP5758445B2 JP5758445B2 (ja) | 2015-08-05 |
Family
ID=49952187
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013128957A Active JP5758445B2 (ja) | 2009-08-27 | 2013-06-19 | 液処理装置および液処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5758445B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180051418A (ko) | 2016-11-08 | 2018-05-16 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 |
JP2019021725A (ja) * | 2017-07-14 | 2019-02-07 | 株式会社荏原製作所 | 基板保持装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08335624A (ja) * | 1995-06-06 | 1996-12-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転式基板処理装置 |
JPH09199456A (ja) * | 1996-01-18 | 1997-07-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2000269311A (ja) * | 1999-03-16 | 2000-09-29 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ハンドのウェハ把持機構 |
JP2003017452A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-17 | Ebara Corp | 基板処理方法及び基板処理装置 |
JP2003197718A (ja) * | 2001-12-26 | 2003-07-11 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP2003282678A (ja) * | 2002-03-25 | 2003-10-03 | Tokyo Electron Ltd | 位置決め機能を有する基板処理装置及び位置決め機能を有する基板処理方法 |
JP2007335758A (ja) * | 2006-06-16 | 2007-12-27 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
-
2013
- 2013-06-19 JP JP2013128957A patent/JP5758445B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08335624A (ja) * | 1995-06-06 | 1996-12-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転式基板処理装置 |
JPH09199456A (ja) * | 1996-01-18 | 1997-07-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2000269311A (ja) * | 1999-03-16 | 2000-09-29 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ハンドのウェハ把持機構 |
JP2003017452A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-17 | Ebara Corp | 基板処理方法及び基板処理装置 |
JP2003197718A (ja) * | 2001-12-26 | 2003-07-11 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP2003282678A (ja) * | 2002-03-25 | 2003-10-03 | Tokyo Electron Ltd | 位置決め機能を有する基板処理装置及び位置決め機能を有する基板処理方法 |
JP2007335758A (ja) * | 2006-06-16 | 2007-12-27 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180051418A (ko) | 2016-11-08 | 2018-05-16 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 |
US10460962B2 (en) | 2016-11-08 | 2019-10-29 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus |
JP2019021725A (ja) * | 2017-07-14 | 2019-02-07 | 株式会社荏原製作所 | 基板保持装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5758445B2 (ja) | 2015-08-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5301505B2 (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
JP4889785B2 (ja) | スピンドライヤで用いるためのエンドエフェクタ | |
JP5864232B2 (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
KR20120083841A (ko) | 액 처리 장치 및 액 처리 방법 | |
JPWO2007080707A1 (ja) | 基板洗浄装置、基板洗浄方法、基板処理システムならびに記録媒体 | |
JP5220839B2 (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
JP6746471B2 (ja) | 基板処理装置 | |
CN106816399B (zh) | 基板处理装置及方法 | |
JP2018163913A (ja) | 基板処理装置 | |
JP4850952B2 (ja) | 液処理装置、液処理方法および記憶媒体 | |
JP5758445B2 (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
KR20140073463A (ko) | 액처리 장치 및 액처리 방법 | |
JP2013026369A (ja) | 洗浄処理装置および洗浄処理方法 | |
JP5676362B2 (ja) | 液処理装置および液処理装置の洗浄方法 | |
JP5220838B2 (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
JP6491900B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
KR20120138697A (ko) | 액처리 장치 및 액처리 방법 | |
JP6416652B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5248633B2 (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
KR101909476B1 (ko) | 브러시 유닛 및 이를 가지는 기판처리장치. | |
JP2008034872A (ja) | 洗浄処理方法および洗浄処理装置 | |
JP6405259B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP5507438B2 (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
KR101570161B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP2018195857A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140522 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140527 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140722 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150127 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150325 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150508 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150603 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5758445 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |