JP2013243304A - 波長モニタ、及び波長モニタリング方法 - Google Patents

Abstract

【課題】装置を大型化することなくモニタ波長間隔の狭小化を図る。
【解決手段】波長モニタ１０は、光源３０と、フィルタ５０と、検出器６０とを有している。フィルタ５０は、光の波長に対して周期的な透過率を有する。光源３０から発せられて、フィルタ５０を透過した光は、この光の波長に応じた強度を有する。検出器６０は、フィルタ５０を透過した光を、互いに異なる位置に配置された複数の受光面で検出する。これにより、検出器６０は、フィルタ５０を透過した光の空間分布を検出することができる。この空間分布は、光の波長に依存しており、フィルタ５０の透過率とは異なる特性を示す。したがって、複数の受光面を適当に配置して光の空間分布を検出することにより、装置を大型化することなくモニタ波長間隔の狭小化を図ることができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、波長モニタ、及び波長モニタリング方法に関する。

近年、高速に大容量のデータを送受信するために、ＷＤＭ（Wavelength Division Multiplexing, 波長分割多重方式）技術を中核とする光通信技術が利用されている。ＷＤＭ技術は、波長が異なる複数の光を１本の光ファイバに重畳することにより、多数の信号を同時に伝送する技術である。

ＷＤＭ技術では、保守や運営の効率化の観点から、所望の波長の光を射出することが可能な光源が用いられる。この種の光源を用いる場合には、光源からの射出光の波長をモニタリングする必要がある。そこで、射出光の波長をモニタリングするための波長モニタが提案され、用いられている（例えば、特許文献１を参照）。

特許文献１に記載の技術に代表される一般的な波長モニタは、光を透過させるエタロン等のフィルタを備えている。フィルタを透過した光の強度は、フィルタの透過率に従い、光の波長に依存する。したがって、フィルタを透過した光を受光して、この光の強度を電気信号に変換する受光素子を用いると、光の波長を間接的にモニタリングすることができる。

特開２００３−２５８３６２号公報

光の波長が変化したときにフィルタの透過率等が変動する周期は、フリースペクトルレンジ（以下、ＦＳＲという）と呼ばれる。このＦＳＲが小さいほど、モニタ可能な波長間隔が小さくなる。フィルタの透過率のＦＳＲは、フィルタの大きさに反比例する。このため、波長モニタのモニタ波長間隔を小さくするためにＦＳＲを小さくしようとすると、フィルタのサイズが大きくなり、結果的に装置が大型化するおそれがある。

本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、装置を大型化することなくモニタ波長間隔の狭小化を図ることを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明の波長モニタは、
入射する光の波長に対する透過特性が周期的なフィルタと、
前記フィルタを透過した透過光の進行方向と交差する方向に離間して配置される複数の受光面を有し、前記複数の受光面に入射する前記透過光の強度に応じた信号を出力する第１検出手段と、
を備える。

本発明によれば、第１検出手段は、互いに離間して配置された複数の受光面で光を検出する。そのため、第１検出手段によって検出される光は、フィルタを透過した光の空間分布に応じたものとなる。この空間分布は、光の波長に依存する。したがって、複数の受光面を適当に配置することで、第１検出手段によって検出される光のＦＳＲを、フィルタが有する透過率のＦＳＲよりも短くすることができる。これにより、装置を大型化することなくモニタ波長間隔の狭小化を図ることができる。

第１の実施形態に係る波長モニタの構成を示す図である。 フィルタを透過する光を示す図である。 フィルタの透過率の特性の概形を示す図である。 複数の周波数それぞれについてフィルタを透過した光の強度分布を示す図である。 強度分布と２個の受光面との位置関係を示す図である。 強度分布と単一の受光面との位置関係を示す図である。 単一の受光面で光を検出した結果を示す図である。 ２個の受光面で光を検出した結果を示す図である。 第２の実施形態に係る検出器を示す図である。 第３の実施形態に係る検出器を示す図である。 第４の実施形態に係る波長モニタの構成を示す図である。 第５の実施形態に係る波長モニタの構成を示す図である。 変形例に係る波長モニタの構成を示す図である。

以下、本発明の実施形態を、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、説明にあたっては、相互に直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸からなる座標系を用いる。

（第１の実施形態）
本実施形態に係る波長モニタ１０は、図１に示されるように、キャリア２０、光源３０、レンズ４０、フィルタ５０、及び検出器６０を有している。キャリア２０は、波長モニタ１０の各構成要素を支持する台座である。

光源３０は、例えば、半導体基板上に形成された半導体レーザであって、レーザ光を＋Ｘ方向及び−Ｘ方向の２方向へ向けて射出する。また、光源３０は、射出されるレーザ光の波長を、１．５６９〜１．５７１μｍの範囲内で変更することができる。−Ｘ方向へ射出されたレーザ光は、光通信等に用いられる。一方、＋Ｘ方向へ射出されたレーザ光は、図１に示されるように拡散光Ｂ３０となって、波長のモニタリングに用いられる。以下では、レーザ光を単に光という。

レンズ４０は、光源３０から射出された拡散光Ｂ３０を、平行光Ｂ４０にコリメートする。レンズ４０は、拡散光Ｂ３０の射出点との距離が１ｍｍとなる位置に配置される。なお、レンズ４０の焦点距離は、例えば１ｍｍである。また、Ｙ軸上において、レンズ４０の中心と、拡散光Ｂ３０の射出点とは、同一の位置に配置される。

フィルタ５０は、平行光Ｂ４０を所定の透過率で透過させる光学素子（エタロン、又はファブリペロー型干渉計）である。フィルタ５０は、Ｘ軸上においてレンズ４０の中心との距離が２ｍｍとなる位置に配置される。また、フィルタ５０の形状は、略直方体である。

図１には、平行光Ｂ４０のうち光線Ｒ４０がフィルタ５０に入射する状態が示されている。フィルタ５０に入射した光線Ｒ４０は、フィルタ５０の内部で反射を繰り返しながら、フィルタ５０の＋Ｘ側へ一部を出射させる。フィルタ５０の＋Ｘ側から出射した光は、干渉光Ｂ５０となる。

フィルタ５０を透過する光について、図２を用いて詳細に説明する。図２に示されるフィルタ５０の厚さＤは、例えば２ｍｍである。フィルタ５０は、水晶５１、及び反射面Ｆ５１、Ｆ５２を有している。

水晶５１の屈折率は、例えば１．５である。また、反射面Ｆ５１、Ｆ５２は、例えば、水晶５１に蒸着された誘電体多層膜である。反射面Ｆ５１は、水晶５１の−Ｘ側の面上に形成され、反射面Ｆ５２は、水晶５１の＋Ｘ側の面上に形成される。これにより、反射面Ｆ５１、Ｆ５２は、互いに対向する平行な面となる。光源３０から射出される光の波長において、反射面Ｆ５１、Ｆ５２の反射率は、例えば約０．９５であって、透過率は、例えば約０．０６である。

図２に示されるように、Ｘ軸に沿って空気中を伝播する光線Ｒ４０が、入射角θでフィルタ５０に入射するように、フィルタ５０は配置される。入射角θは、例えば４度（＝０．０７ｒａｄ）である。光線Ｒ４０の一部は、スネルの法則に従い、屈折角ψで屈折して、水晶５１内を伝播する光線Ｒ５１となる。

光線Ｒ５１は、反射面Ｆ５２で反射される光線Ｒ５２と、反射面Ｆ５２を透過する光線Ｒ５３とに分岐する。光線Ｒ５２の一部は反射面Ｆ５１で反射して、光線Ｒ５４となる。光線Ｒ５４の一部は、反射面Ｆ５２を透過して光線Ｒ５５となる。さらに、水晶５１内を伝播する光は、反射及び透過を繰り返す。そして、反射面Ｆ５２を透過した光線は、干渉光Ｂ５０となって、互いに干渉する。

続いて、干渉光Ｂ５０の干渉について、光線Ｒ５３、Ｒ５５を例に説明する。水晶５１の屈折率をｎとし、空気の屈折率を１とすると、光線Ｒ５３、Ｒ５５の光路差ΔＬは、以下の式（１）、（２）を用いて示される。

なお、上記式（１）右辺の第１項は、図２に示される光線Ｒ５２、Ｒ５４の経路長の和を示す。また、上記式（１）右辺の第２項は、図２に示される光線Ｒ５６の一部の経路長Ｐ５６を示す。この経路長Ｐ５６は、光線Ｒ５５の出射点を通り光線Ｒ５３に垂直な直線Ｌ５６により規定される。

光路差ΔＬが波長の整数倍となる場合に、光線Ｒ５３、Ｒ５５は互いに強めあって、干渉光Ｂ５０の強度が大きくなる。この場合の光線Ｒ５３、Ｒ５５の周波数Ｗｉは、光速をｃ、干渉次数（正の整数）をｍとして、以下の式（３）を用いて表される。

上記式（３）を用いて、干渉光Ｂ５０の強度が大きくなる周波数の間隔Ｓｐが導かれる。この間隔Ｓｐは、干渉光Ｂ５０の強度のＦＳＲであって、具体的には、以下の式（４）を用いて表される。

上記式（４）に示されるように、間隔Ｓｐは、フィルタ５０の厚さＤに反比例する。また、上記式（４）から、本実施形態に係る間隔Ｓｐは、約５０ＧＨｚと導かれる。

なお、光線Ｒ５３、Ｒ５５の干渉を例に説明したが、干渉光Ｂ５０を構成する他の光線の組み合わせについても、周波数Ｗｉ及び間隔Ｓｐは、上記式（３）、（４）で示される。また、フィルタ５０に入射した光線Ｒ４０の透過・干渉を例に説明したが、平行光Ｂ４０を構成する他の光線の透過・干渉についても、周波数Ｗｉ及び間隔Ｓｐは、上記式（３）、（４）で示される。

また、干渉光Ｂ５０の強度は、フィルタ５０の透過率を意味する。このため、フィルタ５０の透過率は、干渉光Ｂ５０の強度と同様に、周波数（波長）に対して図３に示されるような特性を有する。フィルタ５０の透過率は、周波数（波長）が変化すると、間隔Ｓｐに応じた周期で周期的に変化する。

続いて、干渉光Ｂ５０の強度の空間分布について、図４を用いて説明する。図４には、周波数Ｗ１〜Ｗ５の光がフィルタ５０に入射したときに、フィルタ５０から射出される干渉光Ｂ５０の強度分布Ｉｄ１〜Ｉｄ５が示されている。周波数Ｗ１と周波数Ｗ５との差は、間隔Ｓｐに相当する。周波数Ｗ２は周波数Ｗ１よりＳｐ／４大きく、周波数Ｗ３は周波数Ｗ２よりＳｐ／４大きく、周波数Ｗ４は周波数Ｗ３よりＳｐ／４大きい。また、周波数Ｗ１は、図３の点Ｐ１における波長に対応している。同様に、周波数Ｗ２〜Ｗ５それぞれは、点Ｐ２〜Ｐ５それぞれにおける波長に対応している。

分布Ｉｄ１、Ｉｄ３、Ｉｄ５それぞれの面積分値は、互いに同程度の値となる。分布Ｉｄ２の面積分値は、最小の値となる。また、分布Ｉｄ４の面積分値は、最大の値となる。面積分値はフィルタの透過率に相当する。このため、干渉光Ｂ５０の周波数が周波数Ｗ１から周波数Ｗ５に変化したとすると、フィルタの透過率は図３の曲線に示されるように増減し、面積分値も透過率の変化に同期するように増減する。

図４に示される分布Ｉｄ１〜Ｉｄ５それぞれのうち白色の部分は、干渉光Ｂ５０の強度が最も大きくなる部分（以下、最大光点という）である。図４を見るとわかるように、干渉光Ｂ５０の最大光点の位置は、光の周波数によって異なっている。ただし、分布Ｉｄ５は、分布Ｉｄ１と同様の分布であるため、分布Ｉｄ１、Ｉｄ５の最大光点は、互いに等しい位置にある。

図１に戻り、検出器６０は、例えばフォトダイオードであって、受光面６１、６２を有している。検出器６０は、受光面６１、６２それぞれに入射した光の強度の和に応じた大きさの電流を出力する。受光面６１、６２それぞれの形状は、一辺が２５０μｍの正方形である。また、受光面６１、６２は、受光面６１、６２の間の距離が１００μｍとなるように配置される。

図５には、干渉光Ｂ５０の強度分布と、受光面６１、６２とが示されている。図５に示されるように、分布Ｉｄ１、Ｉｄ５の最大光点は、受光面６２に含まれる。また、分布Ｉｄ２、Ｉｄ３の最大光点は、受光面６１に含まれる。分布Ｉｄ４の最大光点は、受光面６１、６２のいずれにも含まれない。

ここで、本実施形態に係る波長モニタ１０の効果を説明するために、比較対象となる参考例について説明する。この参考例において、干渉光Ｂ５０は、単一の受光面６６で受光される。受光面６６の形状は長方形であって、この長方形のＹ軸方向の一辺の長さは５００μｍ、Ｚ軸方向の一辺の長さは２５０μｍである。

受光面６６は、図６に示される位置に配置され、分布Ｉｄ１〜Ｉｄ５の最大光点をすべて含んでいる。このため、受光面６６を用いて、分布Ｉｄ１〜Ｉｄ５相互間における空間分布の差異を観測することは、非常に困難である。

図７には、参考例のシミュレーション結果が示されている。図７の縦軸の波長モニタ係数は、受光面６６を有する検出器の出力を示す。すなわち、波長モニタ係数は、受光面６６で受光された干渉光Ｂ５０の強度を示している。このため、波長モニタ係数は、図３に示されるフィルタ５０の透過率とほぼ一致する。その結果、波長モニタ係数のＦＳＲは、図３に示される強度の周期とほぼ等しくなる。

一方、図８には、本実施形態に係る波長モニタ１０のシミュレーション結果が示されている。図８の波長モニタ係数は、検出器６０の出力を示す。すなわち、この波長モニタ係数は、受光面６１、６２で検出された光の強度の和を示している。

図８に示されるように、本実施形態に係る波長モニタ係数は、波長に対して周期的な特性を有している。また、この波長モニタ係数のＦＳＲは、参考例のＦＳＲの約１／２となる。参考例のＦＳＲは、フィルタ５０の光学特性（透過率）により規定された。このため、本実施形態では、フィルタ５０に固有のＦＳＲよりも小さいＦＳＲを有する波長モニタ係数を得ることができる。これにより、フィルタ５０のサイズを変更することなく、波長モニタ１０のモニタ波長間隔を狭小化することができる。

なお、本実施形態に係る波長モニタ係数の周期は、任意に変更することができる。例えば、受光面６１、６２の間の距離や大きさ、または受光面の数を変更することにより、波長モニタ係数の周期を任意に設定することができる。

（第２の実施形態）
続いて、第２の実施形態について、上述の第１の実施形態との相違点を中心に説明する。なお、上記実施形態と同一又は同等の構成については、同等の符号を用いるとともに、その説明を省略又は簡略する。

本実施形態に係る検出器６０は、第１の実施形態に係る受光面６１、６２に代えて、互いに接する受光面６０１〜６０５を有している。

図９に示されるように、受光面６０１、６０３、６０５の形状は正方形であって、この正方形の一辺の長さは２５０μｍである。また、受光面６０２、６０４の形状は、長方形である。この長方形のＹ軸に平行な辺の長さは１００μｍであって、Ｚ軸に平行な辺の長さは２５０μｍである。

ワイヤＷｒ１１、Ｗｒ２１には、受光面６０１で受光された光の強度に応じた大きさの電流が流れる。また、ワイヤＷｒ２２には、受光面６０２で受光された光の強度に大きさの応じた電流が流れる。また、ワイヤＷｒ１３、Ｗｒ２３には、受光面６０３で受光された光の強度に応じた大きさの電流が流れる。また、ワイヤＷｒ２４には、受光面６０４で受光された光の強度に応じた大きさの電流が流れる。また、ワイヤＷｒ１５、Ｗｒ２５には、受光面６０５で受光された光の強度に応じた大きさの電流が流れる。

ワイヤＷｒ１１、Ｗｒ１３、Ｗｒ１５は、配線Ｗｒ１０に接続される。これにより、配線Ｗｒ１０には、受光面６０１、６０３、６０５で受光された光の強度の総和に応じた大きさの電流が流れる。受光面６０１、６０３、６０５それぞれは、互いに１００μｍだけ離間している。このため、配線Ｗｒ１０を流れる電流を検出器６０が出力する場合に、波長モニタ係数は、図８に示されるものと同様となる。

一方、ワイヤＷｒ２１、Ｗｒ２２、Ｗｒ２３、Ｗｒ２４、Ｗｒ２５は、配線Ｗｒ２０に接続される。これにより、配線Ｗｒ２０には、受光面６０１〜６０５それぞれで受光された光の強度の和に応じた大きさの電流が流れる。配線Ｗｒ２０に流れる電流の大きさは、連続した単一の受光面で受光された光の強度に応じたものと等しくなる。そのため、配線Ｗｒ２０を流れる電流を検出器６０が出力する場合に、波長モニタ係数は、図７に示されるものと同様となる。

波長モニタ１０は、検出器６０の出力として用いる電流を、配線Ｗｒ１０、Ｗｒ２０から選択可能であるように構成される。例えば、波長モニタ１０の使用者による操作に応じて、波長モニタ１０は、配線Ｗｒ１０又は配線Ｗｒ２０を流れる電流を選択して、出力する。

以上説明したように、本実施形態に係る波長モニタ１０は、配線Ｗｒ１０、Ｗｒ２０を選択することで、モニタ波長間隔を変更することができる。

（第３の実施形態）
続いて、第３の実施形態について、上述の第２の実施形態との相違点を中心に説明する。なお、上記実施形態と同一又は同等の構成については、同等の符号を用いるとともに、その説明を省略又は簡略する。

本実施形態に係る検出器６０は、第２の実施形態に係る受光面６０２、６０４に代えて、干渉光Ｂ５０を受光しない不感領域６１２、６１４と、受光面６１６とを有している。

不感領域６１２、６１４は、第２の実施形態に係る受光面６０２、６０４と同様の形状を有している。また、図１０に示されるように、受光面６１６の形状は、長方形である。また、この長方形のＺ軸に平行な辺の長さは１００μｍである。

受光面６１６は、受光面６０１、６０３、６０５と接している。また、干渉光Ｂ５０の中心が、受光面６１６と受光面６０１、６０３、６０５との境界上に位置するように、各受光面が配置される。これにより、光の波長が変化した場合に、最大光点は、受光面６１６と受光面６０１、６０３、６０５との境界上を移動する。

ワイヤＷｒ３１には、受光面６０１で受光された光の強度に応じた大きさの電流が流れる。また、ワイヤＷｒ３３には、受光面６０３で受光された光の強度に応じた大きさの電流が流れる。また、ワイヤＷｒ３５には、受光面６０５で受光された光の強度に応じた大きさの電流が流れる。また、ワイヤＷｒ４６には、受光面６１６で受光された光の強度に応じた大きさの電流が流れる。

ワイヤＷｒ３１、Ｗｒ３３、Ｗｒ３５は、配線Ｗｒ３０に接続される。これにより、配線Ｗｒ３０には、受光面６０１、６０３、６０５で受光された光の強度の総和に応じた大きさの電流が流れる。受光面６０１、６０３、６０５それぞれは、互いに１００μｍだけ離間している。このため、配線Ｗｒ３０を流れる電流を検出器６０が出力する場合に、波長モニタ係数は、図８に示されるものと同様となる。

一方、ワイヤＷｒ４６は、配線Ｗｒ４０に接続される。配線Ｗｒ４０に流れる電流の大きさは、連続した単一の受光面６１６で受光された光の強度に応じたものとなる。これにより、配線Ｗｒ４０を流れる電流を検出器６０が出力する場合に、波長モニタ係数は、図７に示されるものと同様となる。

波長モニタ１０は、検出器６０の出力として用いる電流を、配線Ｗｒ３０、Ｗｒ４０から選択可能であるように構成される。

以上説明したように、本実施形態に係る波長モニタ１０は、配線Ｗｒ３０、Ｗｒ４０を選択することで、モニタ波長間隔を変更することができる。

（第４の実施形態）
続いて、第４の実施形態について、上述の第１の実施形態との相違点を中心に説明する。なお、上記実施形態と同一又は同等の構成については、同等の符号を用いるとともに、その説明を省略又は簡略する。

本実施形態は、図１１に示されるように、波長モニタ１０が温調素子７０及びセンサ７１を備える点で、第１の実施形態と異なる。

温調素子７０は、例えばペルチェ素子から構成される。温調素子７０は、センサ７１により計測された温度に従って、フィルタ５０及び検出器６０の温度を一定に保つ。本実施形態に係るフィルタ５０及び検出器６０は、温調素子７０上に配置される。

以上説明したように、温調素子７０によりフィルタ５０の温度が調整される。これにより、フィルタ５０の透過率が温度により変動してしまうことを防ぐことができる。ひいては、モニタ波長間隔を狭小化することができる。

（第５の実施形態）
続いて、第５の実施形態について、上述の第１の実施形態との相違点を中心に説明する。なお、上記実施形態と同一又は同等の構成については、同等の符号を用いるとともに、その説明を省略又は簡略する。

本実施形態は、図１２に示されるように、ビームスプリッタ８０、検出器８１、及びコントローラ８２を備える点で、第１の実施形態と異なっている。

ビームスプリッタ８０は、レンズ４０とフィルタ５０との間に配置される。また、ビームスプリッタ８０は、平行光Ｂ４０を平行光Ｂ４１、Ｂ４２に分岐させる。具体的には、ビームスプリッタ８０は、平行光Ｂ４０の一部を透過させて、平行光Ｂ４１をフィルタ５０に入射させる。また、ビームスプリッタ８０は、平行光Ｂ４０の一部を反射して、−Ｙ方向へ伝播する平行光Ｂ４２とする。

検出器８１は、平行光Ｂ４２を直接受光して、平行光Ｂ４２の強度を検出する。

コントローラ８２は、検出器６０によって検出された光の強度を、検出器８１で検出された強度で規格化する。そして、コントローラ８２は、規格化された強度を波長モニタ係数として出力する。

以上説明したように、検出器８１は、光源３０から射出された光の一部を、フィルタ５０を介さずに直接受光する。このため、検出器８１は、光源３０から射出された光の強度の経時変化を直接検出することができる。

また、検出器６０により検出された光の強度は、コントローラ８２によって、検出器８１により検出された光の強度で規格化される。これにより、波長モニタ１０は、光源３０から射出された光の経時変化に依存しない安定な波長モニタ係数を出力することができる。

なお、本実施形態では、ビームスプリッタ８０を省いて、波長モニタ１０を構成することもできる。例えば、検出器８１に代えて、図１３に示されるように、平行光Ｂ４０の一部が検出器８３に直接入射するように、検出器８３を配置してもよい。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態によって限定されるものではない。

例えば、光源３０、レンズ４０、検出器６０等の寸法や形状、材料、配置、個数は、上記実施形態に限らず、任意に変更可能である。

例えば、上記実施形態に係る波長モニタ１０は、光源３０を１個だけ備えたが、複数の光源３０を有してもよい。また、出射されるレーザ光の波長範囲は１．５６９〜１．５７１μｍである必要はない。また、光源３０は、レーザ光の発振器である必要はない。例えば、波長モニタに接続された光ファイバを通じて、外部から入力されたレーザ光の波長をモニタリングする波長モニタを構成することもできる。

また、レンズ４０の焦点距離は、１ｍｍに限定されない。１ｍｍ以外の焦点距離を有するレンズを用いて波長モニタ１０を構成することもできる。

また、フィルタ５０を構成する水晶５１に代えて、石英を用いることもできる。また、Ｓｉ、ＧａＡｓ、ＩｎＰ等の半導体材料を用いてもよい。あるいは、内部に空間（空気）を有するエアギャップエタロンをフィルタ５０として用いてもよい。また、フィルタ５０の形状は直方体に限らず、平行な面を有する円柱であってもよい。さらに、平行とならない反射面を対向させてフィルタ５０を形成することもできる。

また、上記実施形態に係る受光面６１、６２、６０１、６０３、６０５は、正方形の形状を有し、受光面６０２、６０４、６１６は、長方形の形状を有したが、これには限られない。例えば辺の長さを変更してもよいし、円形の形状としてもよい。

また、第２の実施形態に係る受光面６０１〜６０５は、互いに接していたが、間隙を有してもよい。

本発明は、本発明の広義の精神と範囲を逸脱することなく、様々な実施形態及び変形が可能とされるものである。また、上述した実施形態は、本発明を説明するためのものであり、本発明の範囲を限定するものではない。つまり、本発明の範囲は、実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。そして、特許請求の範囲内及びそれと同等の発明の意義の範囲内で施される様々な変形が、本発明の範囲内とみなされる。

本発明の波長モニタ、及び波長モニタリング方法は、光通信技術に適している。

１０ 波長モニタ
２０ キャリア
３０ 光源
４０ レンズ
５０ フィルタ
５１ 水晶
６０ 検出器
６１、６２、６６、６０１、６０２、６０３、６０４、６０５、６１６ 受光面
６１２、６１４ 不感領域
７０ 温調素子
７１ センサ
８０ ビームスプリッタ
８１、８３ 検出器
８２ コントローラ
θ 入射角
ψ 屈折角
Ｂ３０ 拡散光
Ｂ４０、Ｂ４１、Ｂ４２ 平行光
Ｂ５０ 干渉光
Ｆ５１、Ｆ５２ 反射面
Ｉｄ１、Ｉｄ２、Ｉｄ３、Ｉｄ４、Ｉｄ５ 分布
Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５ 点
Ｒ４０、Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６ 光線
Ｗｒ１０、Ｗｒ２０、Ｗｒ３０、Ｗｒ４０ 配線
Ｗｒ１１、Ｗｒ１３、Ｗｒ１５、Ｗｒ２１、Ｗｒ２２、Ｗｒ２３、Ｗｒ２４、Ｗｒ２５、Ｗｒ３１、Ｗｒ３３、Ｗｒ３５、Ｗｒ４６ ワイヤ

Claims (9)

1. 入射する光の波長に対する透過特性が周期的なフィルタと、
   前記フィルタを透過した透過光の進行方向と交差する方向に離間して配置される複数の受光面を有し、前記複数の受光面に入射する前記透過光の強度に応じた信号を出力する第１検出手段と、
   を備える波長モニタ。
2. 前記複数の受光面は、
   前記透過光の波長が変化したときに、前記透過光のうち強度が最大の光が移動する方向に配置される、
   請求項１に記載の波長モニタ。
3. 前記第１検出手段は、
   前記複数の受光面とは異なる他の受光面を有し、該他の受光面で受光された前記透過光を、前記複数の受光面で受光された透過光とは個別に検出する、
   請求項１又は２に記載の波長モニタ。
4. 前記フィルタは、
   互いに対向する平行な２個の反射面を有する、
   請求項１乃至３のいずれか１項に記載の波長モニタ。
5. 前記フィルタの温度を調整する温度調整手段、
   を備える請求項１乃至４のいずれか１項に記載の波長モニタ。
6. 射出される光の波長を変更可能な発光手段、
   を備え、
   前記発光手段は、半導体レーザである、
   請求項１乃至５のいずれか１項に記載の波長モニタ。
7. 前記発光手段によって射出された光を検出する第２検出手段と、
   前記複数の受光面に入射した透過光の強度を、前記第２検出手段によって検出された光の強度を用いて規格化する規格化手段と、
   を備える請求項６に記載の波長モニタ。
8. 前記発光手段によって射出された光を、第１の光と第２の光に分岐する分岐手段、
   を備え、
   前記第２検出手段は、前記第１の光を検出し、
   前記フィルタは、前記第２の光を透過させる、
   請求項７に記載の波長モニタ。
9. 入射する光の波長に対する透過特性が周期的なフィルタに光を透過させるステップと、
   前記フィルタを透過した透過光の進行方向と交差する方向に離間して配置される複数の受光面で、前記透過光を受光するステップと、
   前記複数の受光面に入射する前記透過光の強度に応じた信号を出力するステップと、
   を含む波長モニタリング方法。

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