JP2013241455A - 7員ヘテロ環を有するオキサゾリジノン誘導体 - Google Patents
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Abstract
Description
式:
A環は、
(A−1)3個のN原子を含有する、7員の単環性複素環;
(A−2)2個のN原子と1個のO原子を含有する、7員の単環性複素環または
(A−3)2個のN原子と1個のS原子、SO、またはSO2を含有する、7員の単環性複素環
であって、該単環性複素環は、置換されていてもよく、不飽和結合を有していてもよく、かつ該単環性複素環にはさらに環が縮合していてもよく、
X1は、単結合、または-O-、-S-、-NR2-、-CO-、-CS-、-CONR3-、-NR4CO-、-SO2NR5-、および-NR6SO2-(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンであり、
B環は、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環であり;
R1は、水素、またはオキサゾリジノン系抗菌剤のオキサゾリジノン環の5位に結合可能な有機残基である)
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物(但し、国際出願PCT/JP2007/057060号の国際出願日における明細書の実施例に記載の化合物を除く)。
Y1は、NRb、O、S、SO、またはSO2であり;
RaおよびRbは、それぞれ独立に、水素または置換基群S1から選択される置換基であって、該置換基群S1は、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシチオカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、置換されていてもよいカルバモイルカルボニル、置換されていてもよいチオカルバモイル、置換されていてもよい低級アルキルチオカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルチオカルボニル、置換されていてもよいアリールチオカルボニル、置換されていてもよい複素環式基チオカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基スルホニル、置換されていてもよいアミノスルホニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよい複素環式基、シアノ、置換されていてもよいチオホルミル、置換されていてもよい低級アルケニルカルボニル、および置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニルからなり、または
RaおよびRbは、隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよい複素環を形成し;
X1は、単結合、−O−、−S−、−NR2−、−CO−、−CS−、−CONR3−、−NR4CO−、−SO2NR5−、および−NR6SO2−(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンであり、
B環は、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環であり;
R1は、水素、またはオキサゾリジノン系抗菌剤のオキサゾリジノン環の5位に結合可能な有機残基である)
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物(但し、国際出願PCT/JP2007/057060号の国際出願日における明細書の実施例に記載の化合物を除く)である、上記(1)記載の化合物。
式:
上記(1)〜(3)の化合物における好ましい態様の1つは、R1が、−CH2NHCSOCH3である。
上記(1)〜(3)の化合物における別の好ましい態様の1つは、R1が、−CH2NHCSCH3、−CH2NHCSCH2CH3、−CH2NHCSCHF2、−CH2NHCSNHCH3、−CH2NHCSNHCH2CH3、または−CH2NHCSSCH3である。
上記(1)〜(3)の化合物における別の好ましい態様の1つは、R1が、−CH2−複素環式基または−CH2NH−複素環式基(該複素環式基は、好ましくは5〜7員であり、低級アルキル等で置換されていてもよい)である。
R1が、置換されていてもよいアミノメチレン、置換されていてもよいヒドロキシメチレン、置換されていてもよいチオールメチレン、または置換されていてもよい複素環式基メチレン、である、上記(1)〜(3)のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
R1が、−CH2NHCOR7(R7は、水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルキルオキシ、シクロアルキル、置換されていてもよい複素環式基、アミノ、低級アルキルアミノまたは置換されていてもよいフェニル)、−CH2NHCSR8(R8は、水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルキルオキシ、置換されていてもよい低級アルキルチオ、シクロアルキル、置換されていてもよい複素環式基、アミノ、低級アルキルアミノまたは置換されていてもよいフェニル)、−CH2NHR9(R9は、水素または複素環式基)、−CH2R10(R10は、複素環式基)、−CH2OR11(R11は、水素、低級アルキルカルボニルまたは複素環式基)、−CH2SR12(R12は、水素または複素環式基)または−CH2SCNである、上記(1)〜(3)のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
実施例A1〜A97のいずれかに記載のオキサゾリジノン誘導体、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物である、上記(1)記載の化合物。
実施例B1〜B53のいずれかに記載のオキサゾリジノン誘導体、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物である、上記(1)記載の化合物。
式:
A1環は、
(A−1)3個のN原子および1個の二重結合を含有する、7員の単環性複素環;
(A−2)2個のN原子、1個のO原子および1個の二重結合を含有する、7員の単環性複素環;または
(A−3)2個のN原子、1個のS原子、SO、またはSO2、および1個の二重結合を含有する、7員の単環性複素環;
であって、該単環性複素環は置換されていてもよく、また該単環性複素環にはさらに環が縮合していてもよく、
X1は、単結合、または-O-、-S-、-NR2-、-CO-、-CS-、-CONR3-、-NR4CO-、-SO2NR5-、および-NR6SO2-(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンであり、
B環は、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環であり;
R1は、水素、またはオキサゾリジノン系抗菌剤のオキサゾリジノン環の5位に結合可能な有機残基である)
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物である、上記(1)記載の化合物。
A1環は、(A−1)3個のN原子および1個の二重結合を含有する、7員の単環性複素環である、上記(8)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
A1環は、2個のN原子、1個の−NRa−(Raは、上記(2)と同意義)で示される基および1個の二重結合を含有する、7員の単環性複素環である、上記(8)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
A1環は、(A−2)2個のN原子、1個のO原子および1個の二重結合を含有する、7員の単環性複素環である、上記(8)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
A1環は、(A−3)2個のN原子、1個のS原子、SO、またはSO2、および1個の二重結合を含有する、7員の単環性複素環である、上記(8)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
Y1は、NRa、O、S、SO、またはSO2であり;
Raは、それぞれ独立に、水素または置換基群S1から選択される置換基であって、該置換基群S1は、上記(2)の場合と同意義であり、好ましくは、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、置換されていてもよい低級アルキルチオカルボニル、シクロアルキルチオカルボニル、置換されていてもよいアリールチオカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基スルホニル、置換されていてもよいアミノスルホニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよい複素環式基、シアノ、置換されていてもよいチオホルミル、置換されていてもよい低級アルケニルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニルからなり、
X1は、単結合、−O−、−S−、−NR2−、−CO−、−CS−、−CONR3−、−NR4CO−、−SO2NR5−、および−NR6SO2−(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンであり、
B環は、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環であり;
R1は、水素、またはオキサゾリジノン系抗菌剤のオキサゾリジノン環の5位に結合可能な有機残基である)
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物である、上記(8)記載の化合物。
Y1がNRa(式中、Raは上記(13)と同意義)である、上記(13)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
Y1がNRaであり、
Raが、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、置換されていてもよい(低級アルキル)チオカルボニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよい複素環式基、シアノ、チオホルミル、置換されていてもよい低級アルケニルカルボニルまたは置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニルである、上記(13)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
X1が単結合である、上記(13)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
B環が、置換されていてもよいベンゼン環または置換されていてもよい5〜7員の芳香族複素環である、上記(13)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
B環が、置換されていてもよいベンゼン環である、上記(13)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
B環が、1または2個のハロゲンで置換されていてもよいベンゼン環である、上記(13)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
R1が、置換されていてもよいアミノメチレン、置換されていてもよいヒドロキシメチレン、置換されていてもよいチオールメチレンまたは置換されていてもよい複素環式基メチレンである、上記(13)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
R1が、置換されていてもよいアミノメチレンまたは置換されていてもよい複素環式基メチレンである、上記(13)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
R1が、置換アミノメチレンまたは非置換複素環式基メチレンである、上記(13)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
R1が−CH2NHCOR7(R7は、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルキルオキシ、シクロアルキル、置換されていてもよい複素環式基、低級アルキルアミノまたは置換されていてもよいフェニル)、−CH2NHCSR8(R8は、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルキルオキシ、置換されていてもよい低級アルキルチオ、シクロアルキル、置換されていてもよい複素環式基、低級アルキルアミノまたは置換されていてもよいフェニル)、−CH2NHR9(R9は、複素環式基)、または−CH2R10(R10は、複素環式基)である、上記(13)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
R1が、−CH2NHCOR7(R7がメチル)、−CH2NHCSR8(R8は、メチル、エチル、ジフルオロメチル、メトキシ、またはメチルチオ)、−CH2NHR9(R9は、イソキサゾリル)、または−CH2R10(R10は、1,2,3−トリアゾリル)である、上記(13)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
Y1がNRaであり、Raが式:
X1が単結合であり、
B環が、式:
R1が、−CH2NHCOR7(R7は、メチル)、−CH2NHCSR8(R8は、メチル、エチル、ジフルオロメチル、メトキシ、またはメチルチオ)、−CH2NHR9(R9は、イソキサゾリル)、または−CH2R10(R10は、1,2,3−トリアゾリル)である、上記(13)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
式:
Y1は、NRa、O、S、SO、またはSO2;
Raは、水素、置換基群S1またはアミノ保護基;
置換基群S1は、上記(2)の場合と同意義であり、好ましくは置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、置換されていてもよい低級アルキルチオカルボニル、シクロアルキルチオカルボニル、置換されていてもよいアリールチオカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基スルホニル、置換されていてもよいアミノスルホニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよい複素環式基、シアノ、置換されていてもよいチオホルミル、置換されていてもよい低級アルケニルカルボニル、または置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル;
X1は、単結合、−O−、−S−、−NR2−、−CO−、−CS−、−CONR3−、−NR4CO−、−SO2NR5−、および−NR6SO2−(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンであり、
B環は、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環である)で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
X1が単結合であり、B環が置換されていてもよい炭素環である、上記(28)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
X1が単結合であり、B環が置換されていてもよい複素環である、上記(28)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
X1が単結合であり、B環がニトロまたは所望によりその他の置換基で置換されているベンゼン環である、上記(28)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
Y1がNRaである、上記(28)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
Y1がNRaであり、Raが水素である、上記(28)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
Y1がNRaであり、Raがアミノ保護基である、上記(28)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
Y1がNRaであり、Raが置換されていてもよい低級アルキルである、上記(28)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
式:
Y1は、NRa、O、S、SO、またはSO2;
Raは、水素、置換基群S1またはアミノ保護基;
X1は、単結合、−O−、−S−、−NR2−、−CO−、−CS−、−CONR3−、−NR4CO−、−SO2NR5−、および−NR6SO2−(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンであり、
B環は、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環である)で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
X1が単結合であり、B環が置換されていてもよい炭素環である、上記(36)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
X1が単結合であり、B環が置換されていてもよい複素環である、上記(36)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
X1が単結合であり、B環がニトロまたは所望によりその他の置換基で置換されているベンゼン環である、上記(36)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
Y1がNRaである、上記(36)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
Y1がNRaであり、Raが水素である、上記(36)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
Y1がNRaであり、Raがアミノ保護基である、上記(36)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
Y1がNRaであり、Raが置換されていてもよい低級アルキルである、上記(36)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
式:
Y1はNP2またはO;
P1およびP2は、それぞれ独立して水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基;
置換基群S1は、上記(2)の場合と同意義であり、好ましくは置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、低級アルキルチオ、シクロアルキルチオ、アリールチオ、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基低級アルキル、置換されていてもよいアリール、および置換されていてもよい複素環基からなり;
B環は、置換されていてもよく縮合していてもよいベンゼン環または置換されていてもよい複素環であり;
但し、以下の化合物を除く
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
B環が、ハロゲン、ニトロ、アミノ、アミノ保護基で保護されたアミノ、置換されていてもよいアミド、ホルミル、カルボキシル、カルボキサミド、置換されていてもよいアルキル基、低級アルコキシ、およびヒドロキシイミノからなる群から選択される1または2以上の置換基で置換されている、上記(44)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
式:
P1およびP2は、水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基であり;
置換基群S1は、上記(2)の場合と同意義であり、好ましくは置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、低級アルキルチオ、シクロアルキルチオ、アリールチオ、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基低級アルキル、置換されていてもよいアリール、および置換されていてもよい複素環基からなり;
B環は、置換されていてもよいベンゼン環または置換されていてもよい5〜7員の複素環である]
で示される上記(44)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
B環が、ハロゲン、ニトロ、ホルミル、もしくはカルボキシルでそれぞれ置換されていてもよい、ベンゼン環、ピリジン環、またはチオフェン環である、上記(46)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1およびP2が、互いに独立して、アミノ保護基である、上記(46)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1およびP2が、互いに独立して、tert−ブトキシカルボニルまたはベンジルオキシカルボニルである、上記(46)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
以下の式:
式:
P1は、水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基であり;
置換基群S1は、上記(2)の場合と同意義であり、好ましくは、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、低級アルキルチオ、シクロアルキルチオ、アリールチオ、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基低級アルキル、置換されていてもよいアリール、および置換されていてもよい複素環基からなり;
B環は、置換されていてもよく縮合していてもよいベンゼン環または置換されていてもよい複素環である]
で示される、上記(44)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
B環が、ハロゲン、ニトロ、ホルミル、もしくはカルボキシルでそれぞれ置換されていてもよい、ベンゼン環、ピリジン環、またはチオフェン環である、上記(51)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1が、アミノ保護基である、上記(51)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1が、tert−ブトキシカルボニルまたはベンジルオキシカルボニルである、上記(51)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
式:
Y1は、NP2またはO;
P1、P2は、それぞれ独立して水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基であり;
R11は、水素、置換基群S1およびアミノ保護基(但しR11から、−CO(CH2)3−CO2H、−Ph、−CH2Ph(Ph:フェニル)、および−(CH2)3CH(4−F−Ph)2(Ph:フェニル)を除く)から選択される置換基であり;
置換基群S1は、上記(2)の場合と同意義であり、好ましくは、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、低級アルキルチオ、シクロアルキルチオ、アリールチオ、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基低級アルキル、置換されていてもよいアリール、および置換されていてもよい複素環基からなり;
但し以下の化合物を除く
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
式:
P1、P2は、それぞれ独立して水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基であり;
R11は、水素、置換基群S1およびアミノ保護基(但しR11から、−CO(CH2)3−CO2H、−Ph、−CH2Phおよび−(CH2)3CH(4−F−Ph)2(Ph:フェニル)を除く)から選択される置換基であり;
置換基群S1は、上記(2)の場合と同意義であり、好ましくは置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、低級アルキルチオ、シクロアルキルチオ、アリールチオ、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基低級アルキル、置換されていてもよいアリール、および置換されていてもよい複素環基からなり;
但し以下の化合物を除く
で示される上記(56)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1、P2およびR11のうち、いずれか1つのみが水素である、上記(57)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1およびP2のいずれか一方のみが水素であり、R11は水素でない、上記(57)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
R11は水素であり、P1およびP2は共に水素ではない、上記(57)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1、P2およびR11が、互いに独立して、水素、低級アルキル、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、ヒドロキシで置換された低級アルキル、アミノ保護基、置換されていてもよいフェニル、または置換されていてもよい複素環式基である、上記(57)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1、P2およびR11が、互いに独立して、水素、低級アルキル、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、ヒドロキシで置換された低級アルキル、tert−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、置換されていてもよいフェニル(置換基;ニトロ、カルボキシ、ハロゲン、ホルミル、またはヒドロキシ)、または置換されていてもよい複素環式基(置換基;ニトロ、カルボキシ、ハロゲン、ホルミル、またはヒドロキシ)である、上記(57)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1が水素であり;P2がアミノ保護基であり;R11が、低級アルキル、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、ヒドロキシで置換された低級アルキル、アミノ保護基、置換されていてもよいフェニル、または置換されていてもよい複素環式基である、上記(57)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1が水素であり;P2がアミノ保護基であり;R11がアミノ保護基である、上記(57)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
R11が水素であり;P1およびP2がそれぞれ独立して、低級アルキル、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、ヒドロキシで置換された低級アルキル、アミノ保護基、置換されていてもよいフェニル、または置換されていてもよい複素環式基である、上記(57)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
R11が水素であり;P1およびP2がそれぞれ独立してアミノ保護基である、上記(57)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
アミノ保護基が独立して、tert−ブトキシカルボニルまたはベンジルオキシカルボニルである、上記(63)〜(66)に記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
式:
で示される化合物群から選択される、上記(57)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
式:
P1は、水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基であり;
R11は、水素、置換基群S1およびアミノ保護基(但し、−CO(CH2)3−CO2H、−Phおよび−CH2Ph(Ph:フェニル)を除く)から選択される置換基であり;
置換基群S1は、上記(2)の場合と同意義であり、好ましくは、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、低級アルキルチオ、シクロアルキルチオ、アリールチオ、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基低級アルキル、置換されていてもよいアリール、および置換されていてもよい複素環基からなる)
で示される上記(56)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1およびR11が、それぞれ独立して、水素、アミノ保護基、またはヒドロキシで置換されていてもよい低級アルキルである、上記(69)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1が水素であり;R11がアミノ保護基またはヒドロキシで置換されていてもよい低級アルキルである、上記(69)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1が水素であり;R11がtert−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルアミノ保護基またはヒドロキシで置換されていてもよい低級アルキルである、上記(69)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
R11が水素であり;P1がアミノ保護基またはヒドロキシで置換されていてもよい低級アルキルである、上記(69)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
R11が水素であり;P1が、ヒドロキシで置換されていてもよい低級アルキル、tert−ブトキシカルボニル、またはベンジルオキシカルボニルである、上記(69)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
Y1は、NRa、O、S、SO、またはSO2であり;
Raは、それぞれ独立に、水素または置換基群S1から選択される置換基であって、該置換基群S1は、上記(2)と同意義であり、
X1は、単結合、−O−、−S−、−NR2−、−CO−、−CS−、−CONR3−、−NR4CO−、−SO2NR5−、および−NR6SO2−(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンであり、
B環は、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環であり;
R1は、水素、またはオキサゾリジノン系抗菌剤のオキサゾリジノン環の5位に結合可能な有機残基である)
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物である、上記(8)記載の化合物。
Y1は、NRb、O、S、SO、またはSO2であり;
RaおよびRbは、それぞれ独立に、水素または置換基群S1から選択される置換基であって、該置換基群S1は、上記(2)と同意義、
または
RaおよびRbは、隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよい複素環を形成し;
X1は、単結合、−O−、−S−、−NR2−、−CO−、−CS−、−CONR3−、−NR4CO−、−SO2NR5−、および−NR6SO2−(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンであり、
B環は、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環であり;
R1は、水素、またはオキサゾリジノン系抗菌剤のオキサゾリジノン環の5位に結合可能な有機残基である)
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物である、上記(1)記載の化合物。
さらに本発明の合成中間体は、7員ヘテロ環を有する種々の医薬や農薬等の中間体として有用である。特にオキサゾリジノン系抗菌剤の部分構造として当該中間体を活用した場合、上記の通り、好ましい薬理作用の発現、副作用の低減、体内動態の改善に寄与し得る。
(A−1)3個のN原子を含有する、7員の単環性複素環;
(A−2)2個のN原子と1個のO原子を含有する、7員の単環性複素環または
(A−3)2個のN原子と1個のS原子を含有する、7員の単環性複素環
であって、該単環性複素環は置換されていてもよく、不飽和結合を有していてもよく、かつ該単環性複素環にはさらに環が縮合していてもよい。
で示される7員の単環性複素環である。該単環性複素環は置換されていてもよく、さらに環、好ましくは5〜7員の置換されていてもよくさらに縮合していてもよい環が縮合していてもよい。
で示される7員の単環性複素環である。
で示される、化合物(I−14)を包含する。
X1は好ましくは単結合である。
Y1は、好ましくはOまたはNRb、Rbは好ましくは、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル(置換基の例:ハロゲン、低級アルコキシ)、置換されていてもよいカルバモイル(置換基の例:低級アルキル、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル)である。
Rbは水素;
Raは、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルケニルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員)低級アルキルオキシカルボニル、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アミノカルバモイル、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員)カルボニル、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員)カルバモイル、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員)低級アルキルカルバモイル、ヒドロキシカルバモイル、ヒドロキシ低級アルキルカルバモイル、低級アルキルオキシカルボニル、低級アルコキシカルボニルアミノ、ヒドロキシ低級アルキルカルボニル、(ハロゲン化)低級アルキルカルボニル、(ハロゲン化)低級アルコキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員)オキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員)カルボニルアミノ低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員)オキシ低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員)オキシ低級アルケニルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員)低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員)低級アルケニルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員)チオ低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員)オキシ低級アルキルカルボニルまたは置換されていてもよく、複素環式基と縮合していてもよいフェニルオキシカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニルアミノ低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員)カルボニルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員)低級アルキルカルボニルアミノ低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員)アミノカルボニルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニルアミノ低級アルキルカルボニルである。
RaおよびRbは、好ましくは、隣接するN原子と一緒になって、1又は2個のオキソによって置換されていてもよい5または6員の複素環Dを形成し、該複素環Dのその他の部分はさらに置換基Rで置換されていてもよい。置換基Rとしては、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、低級アルコキシ、シクロアルキル、置換されていてもよい、フェニルもしくは複素環式基(好ましくは5〜6員芳香族複素環式基;置換基の例:カルボキシ、アミノ、ハロゲン、低級アルコキシ、ハロゲン化低級アルキル)またはそれらの縮合環式基、置換されていてもよいフェニル低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、アシル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルスルホニル、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、低級アルキルアミノ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、ニトロ等から選択される。
上記A環が縮合環である場合、1〜4個の5〜8員の炭素環(5〜8員の芳香族炭素環)及び/又は他の5〜8員の複素環(酸素原子、硫黄原子、および/又は窒素原子を環内に1〜4個含んでいてもよい)が縮合していてもよい。縮合する環は、5員又は6員の環が好ましい。
R1はまた好ましくは、−CH2NHR9(R9が水素、複素環式基、好ましくは、含窒素5〜7員環、−SO2NH2)、または−CH2R10(R10が複素環式基、好ましくは、含窒素5〜7員環)、−CH2OR11(R11が水素、低級アルキルカルボニル、複素環式基、好ましくは、含窒素5〜7員環)、−CH2SR12(R12が水素、複素環式基、好ましくは、含窒素5〜7員環)、−CH2SCNである。
R1の好ましい態様の一つは、−CH2NHCOR7(R7が水素、メチル)、−CH2NHCSR8(R8が水素、メチル、エチル、ジフルオロメチル、メトキシ、またはメチルチオ、アミノ、メチルアミノ)、−CH2NHR9(R9がイソキサゾリル、ピリジル)、または−CH2R10(R10が、チアゾール、1,2,3−トリアゾリル、低級アルキルで置換されていてもよいテトラゾール、ピリジル)、−CH2OR11(R11が水素、チアゾール、1,2,3−トリアゾリル、低級アルキルで置換されていてもよいテトラゾール、ピリジル)、−CH2SR12(R12が水素、チアゾール、1,2,3−トリアゾリル、低級アルキルで置換されていてもよいテトラゾール、ピリジル)である。
式:
A1環は、
(A−1)3個のN原子および1個の二重結合を含有する、7員の単環性複素環;
(A−2)2個のN原子、1個のO原子および1個の二重結合を含有する、7員の単環性複素環;または
(A−3)2個のN原子、1個のS原子および1個の二重結合を含有する、7員の単環性複素環;
であって、該単環性複素環は置換されていてもよく、また該単環性複素環にはさらに環が縮合していてもよい。その他の記号は前記に準ずる)
で示される7員の単環性複素環であり、該単環性複素環は置換されていてもよく、さらに環(例:5〜7員の炭素環または複素環)が縮合していてもよい。
で示される7員の単環性複素環である。
Y1は、NRa、O、S、SO、またはSO2であり;
Raは、それぞれ独立に、水素または置換基群S1から選択される置換基であって、該置換基群S1は、置換基群S1−1(置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、置換されていてもよい低級アルキルチオカルボニル、シクロアルキルチオカルボニル、アリールチオカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基スルホニル、置換されていてもよいアミノスルホニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよい複素環式基、シアノ、置換されていてもよいチオホルミル、置換されていてもよい低級アルケニルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル)からなる。さらに置換基群S1は、置換基群S1−2(置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシチオカルボニル、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル、置換されていてもよいカルバモイルカルボニル、置換されていてもよいチオカルバモイル、置換されていてもよいシクロアルキルチオカルボニル、および置換されていてもよい複素環式基チオカルボニル)を包含する。
X1は、単結合、−O−、−S−、−NR2−、−CO−、−CS−、−CONR3−、−NR4CO−、−SO2NR5−、および−NR6SO2−(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンであり、
B環は、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環であり;
R1は、水素、またはオキサゾリジノン系抗菌剤のオキサゾリジノン環の5位に結合可能な有機残基である)
Y1は、NRa、O、S、SO、またはSO2であり;
Raは、それぞれ独立に、水素または置換基群S1から選択される置換基であって、該置換基群S1は、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシチオカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、置換されていてもよいカルバモイルカルボニル、置換されていてもよいチオカルバモイル、置換されていてもよい低級アルキルチオカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルチオカルボニル、置換されていてもよいアリールチオカルボニル、置換されていてもよい複素環式基チオカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基スルホニル、置換されていてもよいアミノスルホニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよい複素環式基、シアノ、置換されていてもよいチオホルミル、置換されていてもよい低級アルケニルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニルからなり、
X1は、単結合、−O−、−S−、−NR2−、−CO−、−CS−、−CONR3−、−NR4CO−、−SO2NR5−、および−NR6SO2−(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンであり、
B環は、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環であり;
R1は、水素、またはオキサゾリジノン系抗菌剤のオキサゾリジノン環の5位に結合可能な有機残基である)。
また同様にして、上記化合物cから、オキゾリジノン環5位末端に種々にヘテロ環を有する誘導体を合成できる。
化合物aをアルコール系溶媒(例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール等)、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等の適当な溶媒中、トリエチルアミン等の適当な塩基の存在下に、化合物bまたはその塩と反応させて、化合物cを得る。化合物aは、商業的に入手可能であるか、または当業者が容易に調製することができる。化合物bは、WO99/47525に記載の方法等により、当業者が容易に調製することができる。
化合物cをジクロロメタン、テトラヒドロフラン等の適当な溶媒中、ジメチルスルホキシドおよび塩化オキザリル等の適当なDMSO酸化用の酸化剤で酸化した後、トリエチルアミン等の適当な塩基で処理して、化合物dを得る。反応温度は、通常約−78〜約25℃、好ましくは約−78〜約−50℃である。反応時間は、数分〜数十時間、好ましくは数分〜1時間である。またその他の酸化法も可能である。例えば、ハロゲン類による酸化(例:Br2)の場合、溶媒としては、四塩化炭素、クロロホルム、酢酸等が例示され、反応温度は通常約0〜約100℃、好ましくは約25〜約80℃である。反応時間は、数分〜数十時間、好ましくは数分〜3時間である。酸素酸化(例:O2)の場合、溶媒としては、KOH−エタノールが例示され、反応温度は通常約25〜約100℃、好ましくは約25〜約80℃である。反応時間は、数分〜数十時間、好ましくは数分〜3時間である。
化合物dを適当な還元方法、例えば、酸化白金、ラネーニッケル、パラジウム炭素等の触媒を用いた水素化還元法、鉄粉と塩酸、酢酸等を用いた還元法等の方法により、ニトロ基を還元して、化合物eを得る。
化合物eをメタノール、テトラヒドロフラン等の適当な有機溶媒を用い、二炭酸ジ−tert−ブチルでウレタン化するか、水またはアセトン、メタノール、テトラヒドロフラン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒を用い、トリエチルアミン、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の塩基の存在下、ベンジルオキシカルボニルクロリドを用いてウレタン化する。次いで、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等の適当な非プロトン性有機溶媒中、−78℃から溶媒の加熱還流温度までの範囲で、n−ブチルリチウム等の塩基で処理した後、グリシジルブチレートと反応させることにより、化合物fを得る。
式:
Y1は、NRa、O、S、SO、またはSO2;
Raは、水素、置換基群S1またはアミノ保護基;
X1は、単結合、−O−、−S−、−NR2−、−CO−、−CS−、−CONR3−、−NR4CO−、−SO2NR5−、および−NR6SO2−(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンであり、
B環は、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環である)
化合物(I−5)、(I−6)の各置換基の好ましい形態は、化合物(I−4)の場合に準じるが、より好ましい形態は以下の通りである。
(1)X1は、単結合、B環は、置換されていてもよい炭素環である。B環上の置換基は好ましくはハロゲン、ニトロ、OH、COOH、アミノ等の官能基である。OH、COOH、アミノ等は保護基で保護されていてもよい。
(2)X1は、単結合、B環は、置換されていてもよい複素環(好ましくは5〜7員環)である。
(3)X1は、単結合、B環は、ニトロおよび所望によりその他の置換基(例:ハロゲン)で置換されているベンゼン環である。
(4)Y1はNRa、である。Raは好ましくは、水素、アミノ保護基、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、置換されていてもよい(低級アルキル)チオカルボニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよい複素環式基、シアノ、置換されていてもよいチオホルミル、置換されていてもよい低級アルケニルカルボニル、または置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニルである。
Y1はNP2またはO;
P1およびP2は、それぞれ独立して水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基;
B環は、置換されていてもよく縮合していてもよいベンゼン環または置換されていてもよい複素環(好ましくは5〜7員環、より好ましくは芳香族環)である)
B環は、より好ましくは、ハロゲン、ニトロ、アミノ、アミノ保護基で保護されたアミノ、置換されていてもよいアミド、ホルミル、カルボキシル、カルボキサミド、置換されていてもよいアルキル基、低級アルコキシ、およびヒドロキシイミノからなる群から選択される1または2以上の置換基で置換されている。さらに好ましくは、ハロゲン、ニトロ、ホルミル、カルボキシルからなる群から選択される1または2以上の置換基で置換されている。
B環は、より好ましくは、ハロゲン、ニトロ、ホルミル、もしくはカルボキシルでそれぞれ置換されていてもよい、ベンゼン環、ピリジン環、またはチオフェン環である。
P1およびP2は、より好ましくは、互いに独立して、アミノ保護基(例:低級アルコキシカルボニル(例:tert−ブトキシカルボニル)、置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル(例:ベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル))である。
B環は、より好ましくは、ハロゲン、ニトロ、ホルミル、もしくはカルボキシルでそれぞれ置換されていてもよい、ベンゼン環、ピリジン環、またはチオフェン環である。
P1は、より好ましくはアミノ保護基(例:低級アルコキシカルボニル(例:tert−ブトキシカルボニル)、置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル(例:ベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル))である。
さらに好ましくは、P1およびP2のいずれか一方だけが水素であり、R11は水素でない。
別に好ましくは、R11は水素であり、P1およびP2は共に水素ではない。
別に好ましくは、P1、P2およびR11が、互いに独立して、水素、低級アルキル、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、ヒドロキシで置換された低級アルキル、アミノ保護基(例:低級アルコキシカルボニル(例:tert−ブトキシカルボニル)、置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル(例:ベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル)、置換されていてもよいフェニル、または置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員環、より好ましくは芳香族環)である。
さらに好ましくは、P1、P2およびR11が、互いに独立して、水素、低級アルキル、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、ヒドロキシで置換された低級アルキル、tert−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、置換されていてもよいフェニル(置換基;ニトロ、カルボキシ、ハロゲン、ホルミル、またはヒドロキシ)、または置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜7員環、より好ましくは芳香族環;置換基;ニトロ、カルボキシ、ハロゲン、ホルミル、またはヒドロキシ)である。
より好ましくは、P1が水素;P2がアミノ保護基;R11が低級アルキル、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、ヒドロキシで置換された低級アルキル、アミノ保護基、置換されていてもよいフェニル、または置換されていてもよい複素環式基である。さらに好ましくは、P1が水素;P2がアミノ保護基;R11がアミノ保護基である。
P1およびR11は、より好ましくは、それぞれ独立して、水素、アミノ保護基(例:低級アルコキシカルボニル(例:tert−ブトキシカルボニル)、置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル(例:ベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル)、またはヒドロキシで置換されていてもよい低級アルキルである。
さらに好ましくは、P1は水素;R11はアミノ保護基、またはヒドロキシで置換されていてもよい低級アルキルである。
別に好ましくは、R11は水素;P1はアミノ保護基、またはヒドロキシで置換されていてもよい低級アルキルである。さらに好ましくは、R11は水素;P1が、ヒドロキシで置換されていてもよい低級アルキル、tert−ブトキシカルボニル、またはベンジルオキシカルボニルである。
(略語)
Ac=アセチル基、Et=エチル基、Me=メチル基、Ph=フェニル基、Boc=t−ブトキシカルボニル基、Cbz=ベンジルオキシカルボニル基、Bn=ベンジル基。
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.14 (2H, q, J = 5.8 Hz), 3.64 (1H, t, J = 6.6 Hz), 3.76-3.80 (2H, m), 3.85-3.88 (2H, m), 3.94 (2H, t, J = 4.4 Hz), 7.55 (1H, t, J = 9.1 Hz), 7.88 (1H, dd, J = 13.6, 2.5 Hz), 7.95 (1H, dd, J = 9.1, 2.5 Hz).
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.74 (2H, dq, J = 5.6, 1.8 Hz), 3.97-4.00 (2H, m), 4.36 (2H, d, J = 3.7 Hz), 7.05 (1H, t, J = 3.7 Hz), 7.86-8.03 (3H, m).
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.40-3.46 (2H, m), 3.63 (2H, br s), 3.81-3.86 (2H, m), 4.26 (2H, d, J = 3.9 Hz), 6.39-6.44 (2H, m), 6.90 (1H, t, J = 3.9 Hz), 7.40-7.32 (1H, m).
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.45-3.50 (2H, m), 3.85-3.91 (2H, m), 4.28 (2H, d, J = 3.9 Hz), 5.20 (2H, s), 6.63 (1H, br s), 6.90-6.97 (2H, m), 7.29-7.41 (6H, m), 7.59 (1H, t, J = 9.1 Hz).
1H-NMR (CD3OD) δ: 3.51 (2H, td, J = 4.4, 1.2 Hz), 3.68 (1H, dd, J = 12.2, 4.4 Hz), 3.80-3.94 (4H, m), 4.11 (1H, t, J = 8.2 Hz), 4.29 (2H, d, J = 3.7 Hz), 4.68-4.78 (1H, m), 6.92 (1H, t, J = 3.7 Hz), 7.17-7.24 (1H, m), 7.51-7.67 (2H, m).
ナスフラスコにNaH(ミネラルオイル中60%;1.2714g,31.79mmol)を入れ、n−ヘキサンで3回洗浄した(5cm3×3)。残存するn−ヘキサンを減圧下蒸発させ、ジメチルホルムアミド(50cm3)を加えた。室温にて化合物1(3.6313g,13.64mmol)を加え、同温で30分間撹拌した。次に、化合物2(5.6310g,15.22mmol)を室温にて滴加し、同温で20時間撹拌した。水(200cm3)中に注ぎ込み、酢酸エチル (100cm3)を加えて分液後、酢酸エチルで2回抽出し、水で1回、飽和塩化ナトリウム水溶液.で1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過後、溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,120g,溶離液:20%→40%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物3を4.9678 g(10.47mmol)得た。収率:77%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.32-1.48(9H,t-Bu),3.21-4.32(8H),5.03-5.25(2H,m,CH2Ph),6.74-6.85(1H,m),7.22-7.42(5H,m),および7.84-7.95(2H,m).
化合物3(4.9678g,10.47mmol)をエタノール(200cm3)に溶かし、そこへSnCl2・2H2O(13.0278g,57.73mmol)を加え80〜90℃に加熱して2時間撹拌した。次に、同温度にてNaBH4(0.2778g,7.34mmol)をエタノール(10cm3)に溶かした溶液をゆっくりと滴加し、さらに1時間撹拌した。エタノールの3分の2程度を留去したのち、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注意深く発泡しなくなるまで加え、酢酸エチルで4回抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過後、溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,80g,溶離液:10%→20%→50%→100%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物4を1.6021 g(3.60mol)得た。また、Boc基が除去された化合物(M = 344.38,1.6304g,4.73mmol,45%)も得た。収率:34%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.32-1.50(9H,Boc),3.00-3.58(8H,m),3.90-4.24(2H,m),5.05-5.30(2H,m,CH2Ph),6.30-6.45(2H,m),6.72-6.82(1H,m),および7.28-7.37(5H,m,CH2Ph).
化合物4(1.6021g,3.60mmol)をメタノール(20cm3)に溶かし、炭酸ナトリウム(0.5856g,5.53mmol)およびBoc2O(1.1708g,5.36mmol)を加え、室温にて17時間撹拌した。水(30cm3)、酢酸エチル(50cm3)を加えて分液し、さらに酢酸エチルで2回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過後、溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,50g,溶離液:10%→20%→30%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物5を1.8683 g(3.43mmol)を得た。収率:95%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.34-1.52(18H,Boc),3.10-3.52(6H,m),3.95-4.28(2H,m),5.05-5.29(2H,m,CH2Ph),6.38(1H,br s,NHBoc),6.77-6.89(2H,m),および7.21-7.36(6H,m).
化合物5(1.8683g,3.43mmol)を乾燥テトラヒドロフラン(20cm3)に溶かし、アリール置換して-78 ℃に冷却した。この溶液にn−BuLi(1.54 M溶液in n−ヘキサン;2.5cm3,3.85mmol)をゆっくりと滴加し、滴加終了後、同温にて10分間撹拌した。次に、乾燥テトラヒドロフラン(3cm3)に溶かした(R)-グリシジルブチレート(0.6084g,4.22mmol)をゆっくりと滴加し、室温に戻して20時間撹拌した。水(30cm3)を加え、酢酸エチルで5回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、溶媒を留去し、残渣(2.2370g)を得た。この残渣をメタノール(20cm3)に溶かし、炭酸カリウム(5.0776g,36.74mmol)を加えて室温で6時間撹拌した。水(30cm3)を加え、酢酸エチルで5回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過後、溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,30g,溶離液:50%→100%酢酸エチル/n−ヘキサン→2%メタノール/ジクロロメタン)で精製し、化合物6を1.5838 g(3.01mmol)得た。収率:88%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.34-1.47(9H,Boc),2.59(1H,br,OH),3.16-3.40(6H,m),3.70-3.82(1H,m),3.89-4.27(5H,m),4.68-4.78(1H,m,CH2CHC H2OH),5.06-5.30(2H,m,CH2Ph),6.83-6.93(1H,m),7.02-7.13(1H,m),および7.27-7.46(6H,m).
化合物6(1.5834g,3.01mmol)、トリエチルアミン(0.65cm3,4.62mmol)および乾燥ジクロロメタン(30cm3)の溶液を0℃に冷却したのち、乾燥ジクロロメタン(3cm3)で希釈したメタンスルホニルクロリド(0.3cm3,3.88mmol)を滴加し、0℃で20分間撹拌した。飽和 NaHCO3水溶液(50cm3)を加えてトリクロロメタンで3回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、溶媒を留去し、残渣(1.9525 g)を得た。この残渣をジメチルホルムアミド(15cm3)に溶かし、アジ化ナトリウム(0.5870g,9.03mmol)を加えて80〜90℃にて2時間撹拌した。水(50cm3)を加え、酢酸エチルで3回抽出し、有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液.の順で洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、溶媒を留去し、残渣を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,40g,溶離液:25%→30%→50%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物7 を1.5894 g(2.79mmol)を得た。収率:93%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.34-1.47(9H,Boc),3.18-4.28(12H,m),4.73-4.83(1H,m,CH2CHCH2N3),5.06-5.28(2H,m,CH2Ph),6.85-6.93(1H,m),7.02-7.13(1H,m),および7.28-7.45(6H,m).
化合物7(1.5894g,2.79mmol)をテトラヒドロフラン(20cm3)に溶かし、室温にてトリフェニルフォスフィン(1.1128g,4.240mmol)および水(1cm3)を加え、室温で16時間撹拌し、60℃前後に加熱してさらに2時間撹拌した。原料消失を確認後、溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,30g,溶離液:酢酸エチル→5%→15%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物8を1.4394 g(2.65mmol)得た。収率:95%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.34-1.48(9H,Boc),2.95(1H,dd,J = 5.8,13.7 Hz),3.11(1H,dd,J = 4.0,13.7 Hz),3.16-3.59(6H,m),3.76-3.84(1H,m),3.94-4.27(3H,m),4.62-4.72(1H,m,CH2CHCH2N3),5.06-5.29(2H,m,CH2Ph),6.84-6.92(1H,m),7.03-7.14(1H,m),および7.25-7.48(6H,m).
化合物8(1.4394g,2.65mmol)を ピリジン(20cm3)に溶かし、無水酢酸(2.0cm3)を入れ、室温で1時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,30g,溶離液:0%→3%→5%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物9を1.4769 g(2.52mmol)得た。収率:95%
化合物9(1.1139g,1.902mmol)を95%エタノール(50cm3)に溶かし、10%Pd/C(0.2073 g)を加えて注意深くH2置換し、そのまま室温で90時間撹拌した。セライトろ過を行い、溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,30g,溶離液:0%→2%→4%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物10を0.8159 g(1.807mmol)得た。収率:95%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.38(9H,br s,Boc),2.03(3H,s,Ac),3.08-3.16(2H,m),3.40-3.48(2H,m),3.53-3.77(8H,m),4.00(1H,t,J = 9.0Hz),4.72-4.81(1H,m),6.45(1H,br s,NHAc),6.87(1H,t,J = 9.0Hz),6.99(1H,dd,J = 2.4,9.0Hz),および7.36(1H,dd,J = 2.4,15.1 Hz).
化合物10(0.2016g,0.477mmol)をピリジン(5cm3)に溶かし、無水酢酸(3cm3)を加えて室温で18時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,15g,溶離液:50%→100%酢酸エチル/n−ヘキサン→4%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物11を0.2055 g(0.416mmol)得た。収率:93%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.48(9H,s,Boc),2.03(3H,s,NHAc),2.05(3H,s,NNAc),3.08-3.78(10H,m),4.01(1H,dt,J = 3.0,9.1 Hz),4.25-4.40(1H,m),4.72-4.82(1H,m),6.08(1H,t,J = 6.0Hz,NHAc),6.89(1H,t,J = 9.1 Hz),7.05(1H,br d,J = 9 Hz),および7.40(1H,dd,J = 2.5,14.6 Hz).
化合物11(0.1462g,0.296mmol)をジクロロメタン(5cm3)に溶かし、トリフロロ酢酸(1cm3)を加えて室温で2時間撹拌した。ほぼ中性となるまで飽和炭酸カリウム 水溶液を加え、トリクロロメタンで5回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,15g,溶離液:0%→5%→10%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物12を0.1034 g(0.263mmol)得た。収率:89%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.97(3H,s,NNAc),2.03(3H,s,NHAc),3.06-3.14(1H,m),3.16-3.23(1H,m),3.34-3.44(3H,m),3.54-3.80(6H,m),3.88-3.94(1H,m),4.01(1H,t,J = 8.8 Hz),4.72-4.81(1H,m),6.08-6.16(1H,br),6.84-6.93(1H,m),6.96-6.75(1H,m),および7.37-7.48(1H,m).
2-アミノチアゾール(135.6 mg,1.354mmol)をジクロロメタン(10cm3)に溶かし、0℃にてトリホスゲン(138.1 mg,0.465mmol)を加え、さらにトリエチルアミン(0.4cm3,2.846mmol)をゆっくりと滴加し、化合物10(154.4 mg,0.342mmol)を加え、室温に戻して75時間撹拌した。10%クエン酸水溶液(20cm3)を加え、トリクロロメタンで2回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去して得られた残渣をジクロロメタン(10cm3)に溶かし、トリフロロ酢酸(1.0cm3)を加えて室温で24時間撹拌した。飽和炭酸ナトリウム 水溶液で中和し、10%メタノール/トリクロロメタンで5回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,10g,溶離液:1%→3%→5%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物13を80.0mg(0.168mmol)得た。収率:49%
1H NMR(CDCl3)δ= 2.02(3H,s,Ac),3.22-4.25(12H,m),4.70-4.81(1H,m),6.73(1H,t,J = 6.1 Hz,NHAc),6.84-7.03(3H,m),7.33-7.43(2H,m),および9.84(1H,s,N=C-NHC=O).
市販のビス(クロロエチル)アミン一水和物(5.7974g,32.48mmol)と炭酸ナトリウム(3.6300g,34.25mmol)の、メタノール(80cm3)と水(40cm3)の懸濁液に、0℃にて、ベンジルクロロフォメート(6.0cm3,33.77mmol)をゆっくりと滴加し、同温で3時間撹拌した。メタノールを半分程度留去し、水(50cm3)を加え、ジクロロメタンで4回抽出して飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過、濃縮して、化合物14が主成分の残渣(10.674 g)を得た。別のナスフラスコにNaH(ミネラルオイル中60%;2.0544g,51.36mmol)を入れ、n−ヘキサンで3回(5cm3×3)洗浄した。残存するn−ヘキサンを減圧下蒸発させ、ジメチルホルムアミド(80cm3)を加えてアリール置換した。0℃に冷却し、化合物15(4.1983g,18.07mmol)を加え、同温で10分間撹拌した。次に、ジメチルホルムアミド(20cm3)に化合物14を主成分とする残渣(10.674 g)を溶かしてこれを滴加し、ゆっくりと室温に戻しながら41時間撹拌した。水(400cm3)中に注ぎ込み、酢酸エチルで3回抽出し、水で1回、飽和塩化ナトリウム水溶液.で洗浄し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,150g,溶離液:15%→20%→30%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、所望の7員環化合物(5位Cbz体)が主成分の残渣を7.1642 g得た。この残渣をメタノール(120cm3)およびジクロロメタン(40cm3)に溶かし、10%Pd/C(0.7241 g)を加えてH2置換し、室温で23時間撹拌した。セライトろ過ののち、ろ液を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,100g,溶離液:酢酸エチル→メタノール:トリエチルアミン:ジクロロメタン = 10: 2 : 88)で精製し、化合物16を3.4838 g(11.56mmol)得た。収率:64%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.43-1.51(18H,Boc×2),2.96-3.54(6H,m),および3.98-4.26(2H,m),および6.62(1H,br s,NH).
化合物16(5.6532g,18.76mmol)をCH3CN(40cm3)に溶かし、炭酸カリウム(2.8864g,20.88mmol)および2-chloro-5-nitroピリジン(3.5675g,22.50mmol)を加えて19時間加熱還流した。水(50cm3)を加え、酢酸エチルで4回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,120g,溶離液:10%→20%→30%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、固形の化合物17を5.0881 g(12.02mmol)得た。収率:64%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.43(18H,s,Boc×2),3.12-3.45(2H,m),3.66-4.31(6H,m),6.53(1H,d,J = 9.6 Hz),8.23(1H,dd,J = 2.8,9.6 Hz),および9.04(1H,m).
化合物17(5.2346g,12.36mmol)をエタノール(100cm3)に溶かし、10%Pd/C(1.4253 g)を加えて懸濁液としたのちに水素置換し、室温で3.5時間撹拌した。セライトろ過を行い、溶媒を留去し、得られた残渣(0.8354 g)をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,80g,溶離液:30%→50%→100%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物18を4.7463 g(12.06mmol)得た。収率:98%
化合物18(4.7463g,12.06mmol)をアセトン(40cm3)および水(20cm3)に溶かし、炭酸ナトリウム(1.7605g,16.61mmol)およびベンジルクロロフォメート(2.60cm3,14.63mmol)を加えて室温で1時間撹拌した。アセトンを留去し、酢酸エチル(100cm3)を加えて分液して無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,90g,溶離液:10%→35%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物19を6.2841 g(11.91mmol)得た。
化合物19(6.2841g,11.91mmol)を乾燥テトラヒドロフラン(50cm3)に溶かし、アリール置換して-78 ℃に冷却した。この溶液にn−BuLi(1.58 M溶液(n−ヘキサン中);8.0cm3,12.64mmol)をゆっくりと滴加し、滴加終了後、同温にて5分間撹拌した。次に、乾燥テトラヒドロフラン(2cm3)に溶かした(R)-グリシジルブチレート(1.9001g,13.18mmol)をゆっくりと滴加し、室温に戻して21時間撹拌した。水(50cm3)を加え、酢酸エチルで4回抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液.で1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して乾燥剤をろ過後、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,80g,溶離液:50%→100%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物20を4.0759 g(8.258mmol)得た。収率:69%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.43(18H,s,Boc×2),2.75(1H,br s,OH),3.10-4.26(12H,m),4.69-4.79(1H,m),6.53(1H,d,J = 9.3 Hz),7.82-7.92(1H,m),および8.07-8.12(1H,m).
化合物20(4.0759g,8.26mmol)、トリエチルアミン(1.8cm3,12.81mmol)および乾燥ジクロロメタン(80cm3)を入れ、0℃に冷却したのち、メタンスルホニルクロリド(0.8cm3,10.34mmol)を滴加し、0℃で20分間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液.(50cm3)を加えて分液し、さらに水層をトリクロロメタンで2回抽出し、合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、溶媒を留去した。得られた残渣(4.8528 g)をジメチルホルムアミド(40cm3)に溶かし、アジ化ナトリウム(1.0125g,15.57mmol)を加えて40〜50℃にて15時間撹拌した。水(150cm3)を加え、酢酸エチルで3回抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液.で1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して乾燥剤をろ過後、溶媒を留去した。得られた残渣(4.4467 g)をテトラヒドロフラン(40cm3)に溶かし、室温にてトリフェニルフォスフィン(3.2983g,12.58mmol)および水(2.0cm3)を加え、50℃にて2時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,100g,溶離液:酢酸エチル →15%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物21を3.8884 g(7.89mmol)得た。収率:96%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.43(18H,s,Boc×2),2.88-4.26(12H,m),4.63-4.75(1H,m),6.55(1H,d,J = 9.3 Hz),7.86-7.96(1H,m),および8.06-8.12(1H,m).
化合物21(1.0932g,2.219mmol)を ジクロロメタン(10cm3)に溶かし、ピリジン(1.0cm3)および無水酢酸(1.0cm3)を加えて室温で25時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,40g,溶離液:50%酢酸エチル/n−ヘキサン→3%メタノール/酢酸エチル→3%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物22を0.9087 g(1.700mmol)得た。収率:77%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.43(18H,s,Boc×2),2.03(3H,s,Ac),3.10-4.26(12H,m),4.73-4.82(1H,m),6.02(1H,t,J = 6.2 Hz,NHAc),6.55(1H,d,J = 9.3 Hz),7.76-7.83(1H,m),および8.07-8.11(1H,m).
化合物22(0.2444g,0.457mmol)をジクロロメタン(10cm3)に溶かし、トリフロロ酢酸(1.0cm3)を加えて室温で3時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をジクロロメタン(10cm3)に溶かし、トリエチルアミン(0.5cm3)およびジクロロメタン(2cm3)に溶かしたBnOCH2COCl(0.1293g,0.700mmol)を加えて室温で21時間撹拌した。水(20cm3)を加え、10%メタノール/トリクロロメタンで5回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,10g,溶離液:3%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物23を0.1010g(0.209mmol)得た。収率:46%
化合物23(0.1010g,0.209mmol)をエタノール(5cm3)に溶かし、10%Pd/C(0.0981 g)を加えて懸濁液としたのちに水素置換し、室温で64時間撹拌した。セライトろ過を行い、溶媒を留去し、得られた残渣(0.8354 g)をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,80g,溶離液:3%→10%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物24を0.0190g(0.0484mmol)得た。収率:23%
1H NMR(CDCl3)δ= 2.03(3H,s,Ac),3.00-4.04(12H,m),4.33(2H,s,CH2OH),4.73-4.83(1H,m),6.37(1H,t,J = 6.0Hz,NHAc),6.51-6.57(1H,m),7.75-7.82(1H,m),および8.09-8.12(1H,m).
ヒドロキシラミン-BOC化合物(4.01g)のDMF溶液(40ml)に60%NaH(2.61g)を室温でポーションワイズに加える、そのとき細かな泡が発生する。15分後、メシル化合物(11.59g)のDMF溶液(40ml)をゆっくり滴下し、室温で15分攪拌する。さらに100-110℃に温度を上げ、注意深く15分間攪拌する。反応後、減圧下溶媒を留去し、NH4Cl水溶液を加え、酢酸エチルで抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、シリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル(2:1))にて精製する。無色油状の化合物(44)を6.11g(62%)得た。
44:無色油状物質; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.48(s, 9H), 3.56-3.75(m, 6H), 3.94-4.05(m, 2H), 5.14(s, 2H), 7.32(s, 5H); IR(CHCl3) νmax 1693cm-1; MS e/m 277 (3), 206(3), 115(10), 101(29), 91(99), 57(100).
オキサジアゼパン化合物(44、6.84g)のメタノール溶液(70ml)に10%Pd-C(1.01g)を加え、6時間水素添加を行う。反応後、濾過し、ロ液の溶媒を留去する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール(9:1))にて精製する。エタノールより再結晶して、無色アモルファス状の化合物(45)を2.80g(68%)得た。
45:無色アモルファス状物質 mp:156.5-157.5℃(EtOH)(発泡分解する); 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 3.41-3.53(m, 4H), 3.99(t, 6, 2H), 4.32(t, 5, 2H) ); IR(KBr) νmax 1705, 1667 cm-1; MS e/m 202(M+, 1), 129(9), 99(12), 72(17), 57(100), 43(86).
アミン化合物(45、6.84g)と3,4,5-トリフロロニトロベンゼン(3.11g)のアセトニトリル溶液(60ml)に炭酸カリウム(3.19g)を加え、15時間加熱還流する。反応後、NH4Cl水溶液を加え、クロロホルム-メタノール(9:1)で抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル(2:1))にて精製する。ヘキサンから再結晶して、黄色針状晶の化合物(46)を3.31g(52%)得た。
46:黄色針状晶 mp:87-88℃(Hexane); 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 3.63-3.71(m, 4H), 3.84(t, 6, 2H), 4.13(t, 5, 2H), 7.72-7.84(m, 2H); IR(KBr) νmax 1678cm-1; MS e/m 359 (M+, 0.3), 303(1), 286(1), 256(4), 201(7), 172(7), 57(100).
ニトロ化合物(46、2.90g)のメタノール溶液(40ml)に10%Pd-C(646mg)を加え、2時間水素添加を行う。反応後、濾過し、ロ液の溶媒を留去する。乾燥残渣とカルボベンゾキシクロリド(3.0ml)のTHF溶液(50ml)に炭酸カリウム(4.6g)を加え、15時間攪拌する。反応後氷水を加え、クロロホルムで抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル(2:1))にて精製する。クロロホルム-ヘキサンから再結晶して、無色プリズム晶の化合物(47)を3.19g(85%)得た。
47: 無色プリズム晶 mp:100-101℃(CHCl3-Hexane); 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 3.63-3.71(m, 4H), 3.84(t, 6, 2H), 4.13(t, 5, 2H), 7.72-7.84(m, 2H); IR(KBr) νmax 1731, 1687cm-1; MS e/m 463(M+, 4), 334(4), 305(4), 225(6), 197(6), 165(14), 108 (10), 91(91), 79(12), 57(100).
カルボベンゾキシ化合物(47、363mg)のTHF溶液(10ml)に1.54M BuLiヘキサン溶液(0.60ml)を加え、アルゴン雰囲気下−78℃にて攪拌する。10分間後、(R)-グリシジルブチレート(241mg)のTHF溶液(2ml)を添加し、同温で10分間、さらに室温で19時間攪拌する。反応後NH4Cl水溶液を加え、クロロホルム-メタノール(9:1)で抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣のメタノール溶液(10ml)に炭酸カリウム(173mg)を加え、15分間攪拌した後、NH4Cl水溶液を加え、クロロホルム-メタノール(9:1)で抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール(9:1))にて精製する。無色シロップ状の化合物(48)を291mg(87%)得た。
48: 無色シロップ状物質; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 3.33-3.43(m, 4H), 3.71-3.82(m, 3H), 3.90-4.02(m, 3H), 4.07(t, 5, 2H), 4.70-4.79(m, 1H), 7.06-7.17(m, 2H) ; IR(CHCl3) νmax 1752, 1705, 1690 cm-1; MS e/m 429 (M+, 6), 326 (5), 299(9), 271(17), 242(11), 168(10), 154(8), 57(100).
ヒドロキシ化合物(48、364mg)とトリエチルアミン(0.5ml)のクロロホルム溶液(10ml)にメタンスルフォニルクロリド(0.2ml)を加え、氷冷下15分間攪拌する。反応後、NaHCO3水溶液を加え、クロロホルム-メタノール(9:1)で抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール(19:1))にて精製する。無色シロップ状の化合物(49)を409mg(95%)得た。
49: 無色シロップ状物質; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 3.11(s, 3H), 3.33-3.45(m, 4H), 3.77(t, 6, 2H), 3.89(dd, 9, 6, 1H), 4.07(t, 5, 2H), 4.13(dd, 9, 9, 1H), 4.43(dd, 12, 3.5, 1H), 4.53(dd, 12, 3, 1H), 4.96(dddd, 9, 6, 3.5, 3, 1H), 7.07-7.18(m, 2H) ; IR(CHCl3) νmax 1760, 1702, 1688 cm-1; MS e/m 507 (M+, 6), 404(4), 378(10), 349(10), 335(16), 320(10), 180(12), 79(9), 57(100).
メシル化合物(49)、406mg)と18-Crown-6(77mg)のDMF溶液(3ml) にNaN3(213mg)を加え、100-110℃に加熱する。1時間後、溶媒を留去し、水を加え、クロロホルムで抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール(19:1))にて精製する。無色ガム状の化合物(50)を360mg(99%)得た。
50: 無色ガム状物質; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 3.34-3.44(m, 4H), 3.60(dd, 13.5, 4, 1H), 3.71-3.85(m, 4H), 4.01-4.13(m, 3H), 4.78-4.88(m, 1H), 7.08-7.19(m, 2H) ; IR(CHCl3) νmax 2105, 1757, 1690 cm-1; MS e/m 454 (M+, 5), 404(4), 325(4), 267(5), 154(11), 57(100).
アジド化合物(50、101mg)とトリフェニルホスフィン(123mg)のTHF(5ml)と水(0.5ml)の混合溶液を加熱還流する。1時間後、溶媒を留去し、乾燥残渣とトリエチルアミン(1ml)のクロロホルム溶液(10ml)に無水酢酸(0.25ml)を滴下し、1時間攪拌する。反応後、NaHCO3水溶液を加え、クロロホルム-メタノール(9:1)で抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣を分取薄層クロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール(19:1))にて精製する。無色ガム状の化合物(51)を101mg(97%)得た。
51:無色ガム状物質; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 2.03(s, 3H), 3.34-3.43(m, 4H), 3.60-3.71(m, 2H), 3.72-3.81(m, 3H), 4.01(dd, 9, 9, 1H), 4.07(t, 5, 2H), 4.76-4.85(m, 1H), 6.99(br t, 6, NH), 7.04-7.15(m, 2H) ) ; IR(CHCl3) νmax 1750, 1673 cm-1; MS e/m 470 (M+, 14), 367(6), 341(9), 312(10), 298(10), 239(14), 183(9), 180 (13), 154(9), 57(100).
アジド化合物(50、633mg)とトリフェニルホスフィン(579mg)のTHF(10ml)と水(1ml)の混合溶液を加熱還流する。30分後、溶媒を留去し、乾燥残渣とトリエチルアミン(2ml)のメタノール溶液(10ml)にCHF2COOEt(1ml)を滴下し、3時間攪拌する。反応後、溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール(19:1))にて精製する。無色ガム状の化合物(52)を587mg(83%)得た。
52:無色ガム状物質; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 3.33-3.43(m, 4H), 3.63-3.82(m, 5H), 4.02-4.11(m, 3H), 4.80-4.90(m, 1H), 5.96(t, 54, 1H), 7.02-7.14(m, 2H), 7.65-7.84(br, NH) ; IR(CHCl3) νmax 1758, 1706cm-1; MS e/m 506 (M+, 5), 403(4), 377(9), 348(9), 334(12), 319(7), 180 (11), 57(100).
50cm3ナスフラスコに化合物81(3.1291g、10.38mmol)、4−フルオロベンズアルデヒド(1.9321g、15.57mmol)、K2CO3(2.9080g、21.04mmol)を入れ、ピリジン(10cm3)を加えて懸濁液とした。これを88時間加熱還流した。ピリジンを留去して得られた残渣にH2O(100cm3)を加え、AcOEtで3回抽出し、飽和NaCl水溶液で洗浄後、Na2SO4で乾燥し、ろ過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW−200、30g、溶出液;5%→10%→50%AcOEt/n−ヘキサン→10%MeOH/CH2Cl2)で精製し、化合物82(0.7581g、1.87mmol)および化合物83(0.3143g、1.03mmol)を得た。なお、化合物82および83のホルミル基が酸化されたカルボキシル体もそれぞれ微量ながら得られた。
収率:18%(化合物82)、10%(化合物83)、未反応の化合物81を65%回収
化合物82: 1H NMR (CDCl3) δ = 1.33 & 1.36 & 1.41 (18H, three singlet peaks of the conformers, t-Bu×2), 3.14-3.91 (6H, m), 4.10-4.32 (2H, m), 6.77 (2H, d, J = 9.1 Hz), 7.74 (2H, d, J = 9.1 Hz), and 9.75 (1H, s, CHO)
化合物83: 1H NMR (CDCl3) δ = 1.20 (9H, s, t-Bu), 3.09 (2H, t, J = 5.2 Hz), 3.70 (2H, t, J = 5.2 Hz), 3.70-3.86 (4H, m), 4.82 (1H, br s, NH), 6.76 (2H, d, J = 8.5 Hz), 7.73 (2H, d, J = 8.5 Hz), and 9.73 (1H, s, CHO).
100cm3ナスフラスコに、化合物82(1.2082g、2.98mmol)を入れ、ピリジン(1cm3)とMeOH(10cm3)とで溶液とした。HONH2.HCl(0.3584g、5.16mmol)を加え、室温で21時間撹拌した。ピリジン、MeOHを留去後、残渣にH2O(50cm3)およびAcOEt(100cm3)を加え、分液してさらに水層をAcOEtで1回抽出し、合わせた有機層をH2Oで1回、飽和NaCl水溶液で1回洗浄し、Na2SO4で乾燥し、ろ過、濃縮して化合物84が主成分の残渣(1.1838g)を得た。
100cm3ナスフラスコに、化合物84が主成分の残渣(1.1838g)を入れ、ピリジン(3cm3)およびCH2Cl2(15cm3)に溶かして溶液とした。これに0℃にてNCS(0.5020g、3.76mmol)を加え、同温で3時間撹拌したのちに室温で15時間撹拌した。残渣にH2O(50cm3)およびAcOEt(100cm3)を加え、分液してさらに水層をAcOEtで1回抽出し、合わせた有機層をH2Oで1回、飽和NaCl水溶液で1回洗浄し、Na2SO4で乾燥し、ろ過、濃縮して化合物85が主成分の残渣を得た。
100cm3ナスフラスコに、化合物85が主成分の残渣(1.1838g)を入れ、Et3N(0.80cm3、5.69mmol)およびCH2Cl2(20cm3)に溶かして溶液とした。これに室温にてアリルアルコール(0.40cm3、5.85mmol)を加え、同温で24時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW−200、30g、溶出液;AcOEt→5%MeOH/CH2Cl2)で精製しようとしたが副生成物が多く、化合物86を含むフラクションのみを回収した。
1H NMR (CDCl3) δ= 1.34-1.42 (18H, t-Bu), 2.19 (1H, br s, OH), 3.13-3.86 (10H), 4.09-4.28 (2H), 4.74-4.86 (1H, m), 6.71 (2H, d, J = 8.8 Hz), and 7.53 (2H, d, J = 8.8 Hz).
上記化合物86を含むフラクションを濃縮したもの(1.0953g)を、CH2Cl2(20cm3)に溶かして溶液とし、それにEt3N(0.80cm3、5.69mmol)を加えた。0℃にてMsCl(0.40cm3、5.17mmol)をCH2Cl2(5cm3)に溶かしたものを滴下し、室温に戻して2.5時間撹拌した。飽和NaHCO3水溶液(30cm3)でクエンチし、CH2Cl2で4回抽出し、飽和NaCl水溶液で1回洗浄し、Na2SO4で乾燥後、ろ過、濃縮して残渣(1.2848g)を得た。これをDMF(20cm3)に溶かし、NaN3(0.6000g、9.23mmol)を加えて60℃で3時間撹拌したのちに室温で40時間撹拌した。H2O(50cm3)およびAcOEt(40cm3)を加えて分液し、さらに水層をAcOEtで1回抽出し、合わせた有機層をH2Oで1回、飽和NaCl水溶液で1回ずつ洗浄し、Na2SO4で乾燥し、ろ過、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW−200、30g、溶出液;50%→80%AcOEt/n−ヘキサン)で精製し、化合物87を0.3171g(0.632mmol)得た。
82からの収率:21%
1H NMR (CDCl3) δ= 1.34-1.48 (18H, t-Bu), 3.06-3.86 (10H), 4.07-4.28 (2H), 4.78-4.91 (1H, m), 6.65-6.73 (2H, m), and 7.44-7.56 (2H, m).
50cm3ナスフラスコに化合物87(0.3171g、0.632mmol)を入れ、THF(3cm3)に溶かして溶液とした。これに室温でPh3P(0.2525g、0.963mmol)およびH2O(0.20cm3、11.1mmol)を加え、室温で52時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW−200、30g、溶出液;50%→100%AcOEt/n−ヘキサン→10%MeOH/CHCl3)で精製し、アミン体を0.2413g(0.507mmol、80%)得た。50cm3ナスフラスコにアミン体(0.2413g、0.507mmol)を入れ、ピリジン(5cm3)に溶かして溶液とした。これに室温でAc2O(2.0cm3)を加え、同温にて15時間撹拌した。溶媒を留去し、得られた残渣(0.2556g)を化合物88とした。
収率:78%
1H NMR (CDCl3) δ= 1.27-1.41 (18H, t-Bu), 1.90 (3H, s, Ac), 2.80-3.68 (10H), 4.02-4.20 (2H), 4.66-4.78 (1H, m), 6.10 (1H, t, J = 6.0 Hz), 6.63 (2H, d, J = 8.8 Hz), and 7.42 (2H, d, J = 8.8 Hz).
化合物94の合成
200cm3ナスフラスコにNaH(ミネラルオイル中60%;3.4311g、85.8mmol)を入れ、n−ヘキサンで3回洗浄した。残存するn−ヘキサンを減圧下蒸発させ、DMF(150cm3)を加えた。室温にて化合物90(10.26g、34.2mmol)を加え、同温で10分間撹拌した。次に、DMF(50cm3)に溶かした化合物89(9.8497g、40.7mmol)を室温にて滴下し、同温で18時間撹拌した。H2O(500cm3)中に注ぎ込み、AcOEtで3回抽出し、水で1回、飽和NaCl水溶液で洗浄し、無水Na2SO4で乾燥後、ろ過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW−200、150g、溶出液;10%→20%→30%→50%AcOEt/n−ヘキサン)で精製し、化合物91を3.9235g(8.36mmol)得た。
収率:25%
1H NMR (CDCl3) δ= 1.31-1.43 (9H, t-Bu), 3.08-3.74 (6H), 4.00-4.28 (2H), 4.98-5.24 (4H, m, CH2Ph), and 7.20-7.38 (10H, m).
500cm3ナスフラスコに化合物91(3.9235g、8.36mmol)、10%Pd/C(0.7777g)を入れ、MeOH(60cm3)とCH2Cl2(20cm3)を加えて懸濁液とした。これをH2置換し、7日間撹拌した。反応溶液をCelite Padでろ過し、ろ液を濃縮して粗生成物(92)とした。この粗生成物(2.2861g)をMeCN(50cm3)に溶かし、K2CO3(3.3520g、24.25mmol)、3,4−ジフルオロニトロベンゼン(3.6271g、22.80mmol)を入れて14時間加熱還流した。H2O(50cm3)を加え、AcOEtで5回抽出し、飽和NaCl水溶液で洗浄し、無水Na2SO4で乾燥後、ろ過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW−200、60g、溶出液;10%→20%→30%→40%AcOEt/n−ヘキサン)で精製し、化合物93を0.5019g(1.47mmol)、化合物94を0.4347g(0.91mmol)得た。
収率:18%(化合物93)、11%(化合物94)
化合物93: 1H NMR (CDCl3) δ = 1.45 (9H, s, t-Bu), 3.00-3.14 (2H), 3.36-3.74 (7H), 7.48 (1H, t = 9.1 Hz), and 7.84-8.01 (2H, m).
化合物94: 1H NMR (CDCl3) δ = 1.53-1.57 (9H, t-Bu), 3.38-5.76 (8H), 6.61 (2H, t, J = 8.6 Hz), and 7.84-8.01 (4H, m).
BOC化合物(101、1.01g)のクロロホルム溶液(25ml)にトリフロロ酢酸(2ml)を添加し、室温にて19時間撹拌する。反応後飽和NaHCO3水溶液を加え、クロロホルム‐メタノール(9:1)にて抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン‐酢酸エチル(1:1))にて精製する。無色シロップ状の化合物(102)を526mg(74%)得た。
102: 無色シロップ状物質; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ3.09(t, 5.5, 1H), 3.14(t, 5.5, 1H), 3.54-3.70(m, 4H), 3.82(t, 5.5, 1H), 3.91(t, 5.5, 1H), 5.16(s, 2H), 5.84(br, NH), 7.29-7.40(m, 5H)
アミノ化合物(102、321mg)と3,4,5−トリフロロニトロベンゼン(487mg)のアセトニトリル溶液(12ml)にK2CO3(561mg)を加え、21時間加熱還流する。反応後、NH4Cl水溶液を加え、クロロホルム−メタノール(9:1)で抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル(2:1))にて精製する。初流出部から淡黄アメ状物質の化合物(103)を45mg(8%)得た。ヘキサン−酢酸エチル(1:1)流出部より原料を258mg(80%)回収した。
103:淡黄色アメ状物質;1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ3.55(br t, 5.5, 1H), 3.62(br t, 5.5, 1H), 3.70-3.81(m, 4H), 4.01(t, 5.5, 1H), 4.09(t, 5.5, 1H), 5.19(s, 2H), 7.31-7.39(m, 5H), 7.75-7.84(m, 2H)
化合物1(参考例2の化合物6に相当)30.0g(55.1mM)をMeOH300ml、水9mlに溶解し、10%Pd/C(50%含水品)3.04g(5wt%)を加えて、水素雰囲気下、常圧、室温で7.5時間攪拌する。Pd/Cをろ別後、ろ液を減圧濃縮することにより、化合物2 21.3gを得る。(収率94%)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.38 (9H, s), 3.12 (2H, t, J = 5.22 Hz), 3.43 (2H, t, J = 5.22 Hz), 3.52-3.79 (5H, m), 3.87-4.03 (3H, m), 4.66-4.79 (1H, m), 6.88 (1H, t, J = 9.34 Hz), 7.04 (1H, dd, J = 8.79, 1.65 Hz), 7.37 (1H, dd, J = 15.38, 2.47 Hz).
化合物2 22.7g(55.3mM)をMeOH300mlに溶解し、Boc2O72.4g(6eq)、炭酸ナトリウム11.7g(2eq)を加え、室温で24時間攪拌する。氷水(150ml)、酢酸エチル(150ml)を加え、有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製(酢酸エチル‐ヘキサン系)することにより、化合物3 26.7gを得る。(収率95%)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.48 (18H, s), 3.18-3.59 (5H, m), 3.78 (1H, dd, J = 12.64, 3.85 Hz), 3.90-4.07 (4H, m), 4.10-4.26 (2H, m), 4.70-4.82 (1H, m), 6.92 (1H, t, J = 9.34 Hz), 7.11 (1H, t, J = 9.75 Hz), 7.35-7.50 (1H, m).
化合物3 19.5g(38mM)をTHF150mlに溶解し、氷冷下、トリエチルアミン6.9ml(1.3eq)、塩化メタンスルホニルクロリド3.5ml(1.2eq)を加え20分攪拌する。約1/2に減圧濃縮後、氷水(100ml)、酢酸エチル(200ml)を加え、有機層を分取し、水、飽和食塩水で順次洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮することにより、化合物4 23.3gを得る。(収率104%)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.48 (18H, s), 3.13 (3H, s), 3.23-3.40 (4H, m), 3.47-3.56 (3H, m), 3.87-4.23 (3H, m), 4.40-4.56 (2H, m), 4.87-4.99 (1H, m), 6.93 (1H, t, J = 9.20 Hz), 7.02-7.15 (1H, m), 7.33-7.50 (1H, m).
化合物4 23.27g(38mM)をDMF100mlに溶解し、アジ化ナトリウム3.72g(1.5eq)を加え、60℃で10時間攪拌する。室温まで冷却し、水(200ml)、酢酸エチル(400ml)を加え、有機層を分取し、水(×3)、飽和食塩水で順次洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製(酢酸エチル‐ヘキサン系)することにより、化合物5 16.95gを得る。(収率83%)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.48 (18H, s), 3.20-3.41 (4H, m), 3.42-3.89 (4H, m), 3.94-4.26 (4H, m), 4.73-4.87 (1H, m), 6.93 (1H, t, J = 9.06 Hz), 7.04-7.19 (1H, m), 7.33-7.50 (1H, m).
化合物5 16.94g(31.6mM)をTHF180mlに溶解し、水5ml、トリフェニルホスフィン9.95g(1.2eq)を加え、50℃で1.5時間攪拌する。反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製(クロロホルム‐メタノール系)することにより、化合物6 15.46gを得る。(収率96%)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.50 (18H, s), 2.97-3.60 (8H, m), 3.79-3.90 (1H, m), 3.98-4.25 (3H, m), 4.67-4.78 (1H, m), 6.93 (1H, t, J = 9.40 Hz), 7.06-7.19 (1H, m), 7.35-7.45 (1H, m).
化合物6 13.46g(26mM)をTHF150mlに溶解し、トリエチルアミン7.2ml(2.0eq)、二硫化炭素3.9ml(2.5eq)を加え、室温で1時間攪拌する。その後、クロロギ酸エチル2.7ml(1.1eq)を加え、室温で15分攪拌後、約1/2に減圧濃縮後、氷水(200ml)、酢酸エチル(200ml)を加え、有機層を分取し、水、飽和食塩水で順次洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮することにより、濃縮残渣 14.36gを得る。
前記濃縮残渣12.0g(21.5mM)をMeOH100mlに溶解し、氷冷下、1NNaOMe/MeOH21.5ml(1eq)を加え、0℃で1時間攪拌する。飽和塩化アンモニウム水溶液40mlを加え、約1/2に減圧濃縮する。氷水(200ml)、酢酸エチル(200ml)を加え、有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製(酢酸エチル‐ヘキサン系)することにより、化合物7 9.50gを得る。(収率76%)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.50 (18H, s), 3.19-3.78 (6H, m), 3.81-3.91 (1H, m), 3.95-4.29 (5H, m), 4.74-5.01 (1H, m), 6.79 (1H, t, J = 6.04 Hz), 6.94 (1H, t, J = 9.06 Hz), 7.13-7.03 (1H, m), 7.50-7.35 (1H, m).
化合物7 9.32g(16mM)を1、4−ジオキサン51ml、H2O10mlに溶解し、氷冷下、4NHCl/1、4−ジオキサン溶液44mlを加え、室温で3時間攪拌する。トルエン120mlを加え、減圧濃縮することにより、化合物8 8.51gを得る。(収率104%1.5HClとして)
1H-NMR (D2O) δ: 3.50-3.53 (8H, m), 3.75-3.75 (3H, m), 3.91-4.04 (4H, m), 4.16-4.28 (1H, m), 7.21-7.12 (2H, m), 7.36 (1H, d, J = 14.4 Hz).
化合物8 200mg(0.4mM)をジメチルホルムアミド2mlに溶解し、氷冷下、1−エチル−3−(3’−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩119mg(1.3eq)、N−ヒドロキシベンゾトリアゾール84mg(1.3eq)、3−(5−ニトロ−2−フリル)アクリル酸113mg(1.3eq)、ジイソプロピルエチルアミン0.17ml(2eq)を加え、室温で1.5時間攪拌する。飽和重曹水(20ml)、酢酸エチル(20ml)を加え、有機層を分取し、水(×3)、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製(クロロホルム‐メタノール系)することにより、所望の化合物9 205mgを得る。(収率93%)
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.12 (2H, s), 3.50 (2H, s), 3.73-3.85 (3H, m), 3.86-3.97 (3H, m), 4.06-4.18 (1H, m), 4.70-4.96 (1H, m), 5.62 (1H, t, J = 5.77 Hz), 6.99-7.25 (3H, m), 7.32-7.51 (2H, m), 7.61 (1H, d, J = 15.93 Hz), 7.75-7.80 (1H, m), 9.60-9.41 (1H, m).
50 cm3ナスフラスコに原料化合物(64.8 mg, 0.145 mmol)を入れてCH2Cl2 (5 cm3)に溶かし、活性MnO2 (328.6 mg)を加えて1時間撹拌した。Celiteろ過、溶媒濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200, 6 g, eluent; 3%→5% MeOH/CHCl3)で精製してC1を59.6 mg (0.134 mmol, 92%)得た。
1H NMR (CDCl3) δ 2.02 (3H, s), 3.63-3.79 (5H, m), 3.86-3.92 (2H, m), 4.01 (1H, t, J = 9.1 Hz), 4.35-4.41 (2H, m), 4.74-4.84 (1H, m), 6.16 (0.5H, t, J = 53.6 Hz), 6.18 (0.5H, t, J = 53.6 Hz), 6.33 (1H, br t, J = 6 Hz), 6.93 (0.5H, t, J = 4.1 Hz), 6.94 (0.5H, t, J = 4.1 Hz), および7.17 (2H, d, J = 10.2 Hz).
T−2
T−29
O−9
1H NMR (CDCl3) δ 3.56-3.62 (2H, m), 3.80-3.86 (2H, m), 3.90 (1H, dd, J = 6.0, 9.1 Hz), 4.06 (2H, d, J = 3.8 Hz), 4.10 (1H, t, J = 9.1 Hz), 4.79 (2H, d, J = 4.1 Hz), 5.02-5.12 (1H, m), 6.98 (2H, d, J = 10.5 Hz), 7.07 (1H, t, J = 3.8 Hz), 7.75 (1H, br s), 7.77 (1H, br s), 7.87 (1H, t, J = 9.1 Hz), および7.92-8.02 (2H, m).
1H NMR (CDCl3) δ 2.02 (3H, s), 3.11-3.20 (2H, m), 3.33-3.44 (2H, m), 3.62-3.91 (7H, m), 3.99 (1H, t, J = 9.1 Hz), 4.73-4.83 (1H, m), 6.17 (0.5H, t, J = 53.8 Hz), 6.18 (0.5H, t, J = 53.8 Hz), 6.50 (0.5H, br t, J = 6 Hz), 6.51 (0.5H, br t, J = 6 Hz), 7.10 (1H, d, J = 10.4 Hz), および7.11 (1H, d, J = 10.4 Hz).
DMSO (0.4 cm3)のクロロホルム溶液(10 cm3)にオキザリルクロリド(0.30 cm3)を-78℃にて添加し攪拌した。15分後、アミノ化合物(288 mg)のクロロホルム(10 cm3)溶液を加え、-78℃にて15分間攪拌した。さらにトリエチルアミン(0.50 cm3)を加え、-78℃から室温まで7時間攪拌した。反応後NaHCO3水溶液を加え、クロロホルム-メタノール(9:1)にて抽出して水洗乾燥後、溶媒を留去した。残渣を分取薄層クロマトグラフィー(メタノール-クロロホルム(3:47))にて精製し、化合物(G1)を188 mg(66%)得た。
1H NMR (CDCl3) δ 3.42-3.50 (2H, m), 3.87-3.96 (3H, m), 4.11-4.21 (3H, m), 4.80 (1H, dd, 5, 15 Hz), 4.84 (1H, dd, 4, 15 Hz), 5.07-5.16 (1H, m), 6.96-7.07 (2H, m), 7.66 (1H, t, J = 5 Hz), 7.72 (1H, d, J = 1 Hz), および7.82 (1H, d, J = 1 Hz).
本発明化合物の抗菌活性について調べた。
(試験方法)
CLSI(clinical and labatory standards institute)にて推奨されている標準法に準じ、種々の細菌に対する最小発育阻止濃度(MIC:μg/ml)を測定した。
検体は、試験化合物をDMSOに溶解して1280μg/mLの溶液とした後、DMSOにより2倍系列希釈することにより調製した。検体を細菌懸濁液に5%濃度で加え、MICを測定した。試験培地としてカチオン濃度を調整したMueller Hinton Brothを用いた。接種源濃度は、いずれも約5×105 CFU/mLとした。
(結果)
本発明化合物は、MRSA(メチシリン耐性黄色ブドウ球菌)、PRSP(ペニシリン耐性肺炎球菌)、VRE(バンコマイシ耐性腸球菌)、VISA(バンコマイシン低感受性MRSA)を含む種々の細菌に対し、リネゾリドやバンコマイシンと同等またはそれ以上(例えば4倍以上)の強い抗菌活性を示した。例えば、実施例A91や実施例B38の化合物は、これらの菌に対するMIC値が1μg/ml以下であった。
Claims (20)
- 式:
Y1は、NP2またはO;
P1、P2は、それぞれ独立して水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基であり;
R11は、水素、置換基群S1およびアミノ保護基(但しR11から、−CO(CH2)3−CO2H、−Ph、−CH2Ph(Ph:フェニル)、および−(CH2)3CH(4−F−Ph)2(Ph:フェニル)を除く)から選択される置換基であり;
置換基群S1は、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシチオカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、置換されていてもよいカルバモイルカルボニル、置換されていてもよいチオカルバモイル、置換されていてもよい低級アルキルチオカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルチオカルボニル、置換されていてもよいアリールチオカルボニル、置換されていてもよい複素環式基チオカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基スルホニル、置換されていてもよいアミノスルホニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよい複素環式基、シアノ、置換されていてもよいチオホルミル、置換されていてもよい低級アルケニルカルボニル、および置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニルからなり;
但し以下の化合物を除く
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。 - P1、P2およびR11のうち、いずれか1つのみが水素である、請求項2記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- P1およびP2のいずれか一方のみが水素であり、R11は水素でない、請求項2記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- R11は水素であり、P1およびP2は共に水素ではない、請求項2記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- P1、P2およびR11が、互いに独立して、水素、低級アルキル、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、ヒドロキシで置換された低級アルキル、アミノ保護基、置換されていてもよいフェニル、または置換されていてもよい複素環式基である、請求項2記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- P1、P2およびR11が、互いに独立して、水素、低級アルキル、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、ヒドロキシで置換された低級アルキル、tert−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、置換されていてもよいフェニル(置換基;ニトロ、カルボキシ、ハロゲン、ホルミル、またはヒドロキシ)、または置換されていてもよい複素環式基(置換基;ニトロ、カルボキシ、ハロゲン、ホルミル、またはヒドロキシ)である、請求項2記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- P1が水素であり;P2がアミノ保護基であり;R11が、低級アルキル、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、ヒドロキシで置換された低級アルキル、アミノ保護基、置換されていてもよいフェニル、または置換されていてもよい複素環式基である、請求項2記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- P1が水素であり;P2がアミノ保護基であり;R11がアミノ保護基である、請求項2記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- R11が水素であり;P1およびP2がそれぞれ独立して、低級アルキル、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、ヒドロキシで置換された低級アルキル、アミノ保護基、置換されていてもよいフェニル、または置換されていてもよい複素環式基である、請求項2記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- R11が水素であり;P1およびP2がそれぞれ独立してアミノ保護基である、請求項2記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- アミノ保護基が独立して、tert−ブトキシカルボニルまたはベンジルオキシカルボニルである、請求項8〜11のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- P1およびR11が、それぞれ独立して、水素、アミノ保護基、またはヒドロキシで置換されていてもよい低級アルキルである、請求項14記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- P1が水素であり;R11がアミノ保護基またはヒドロキシで置換されていてもよい低級アルキルである、請求項14記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- P1が水素であり;R11がtert−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルアミノ保護基またはヒドロキシで置換されていてもよい低級アルキルである、請求項14記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- R11が水素であり;P1がアミノ保護基またはヒドロキシで置換されていてもよい低級アルキルである、請求項14記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- R11が水素であり;P1が、ヒドロキシで置換されていてもよい低級アルキル、tert−ブトキシカルボニル、またはベンジルオキシカルボニルである、請求項14記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
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