JP2013236098A - Wafer processing sheet - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a mounter, a peeling adhesive tape, and the like from adhering to a wafer processing sheet in a semiconductor manufacturing process.SOLUTION: The wafer processing sheet of the present invention, which comprises a dicing sheet in which an adhesive layer is laminated on a base material and a ring-shaped double-sided adhesive sheet, is characterized in that: an adhesion part is provided at the center on a surface of the base material; and a non-adhesion part is provided therearound. It is preferable that the ring-shaped double-sided adhesive sheet is laminated on the outer edge of the same surface of the base material where the adhesion part is provided.

Description

本発明は、ウェハ加工用シートに関する。より詳しくは、本発明は、基材上に接着剤層が積層されたダイシングシートとリング状両面粘着シートとからなるウェハ加工用シートに関する。   The present invention relates to a wafer processing sheet. More specifically, the present invention relates to a wafer processing sheet comprising a dicing sheet having an adhesive layer laminated on a substrate and a ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet.

半導体装置の製造工程の一つに、所要の前処理を経て回路が形成された半導体ウェハを複数のチップに切断分離するダイシング工程がある。
この工程に用いるウェハ加工用シートとして、ダイシング加工(ウェハの固定)およびダイボンディング加工の機能を発揮する接着剤層を備えたダイシングシート上に、リング状の付着防止用粘着シートが積層されたウェハ加工用シートが開発されている(特許文献1参照)。より具体的には、上記ウェハ加工用シート800では、基材801上に接着剤層802が設けられたダイシングシート803と、基材フィルム804上に感圧接着剤層(粘着剤層)805が設けられた付着防止用粘着シート806とが、接着剤層802および基材フィルム804を介して積層されている(図8参照)。
One of the manufacturing processes of a semiconductor device is a dicing process of cutting and separating a semiconductor wafer on which a circuit is formed through a required pretreatment into a plurality of chips.
As a wafer processing sheet used in this process, a wafer in which a ring-shaped adhesion preventing adhesive sheet is laminated on a dicing sheet having an adhesive layer that performs dicing processing (wafer fixation) and die bonding processing functions. Processing sheets have been developed (see Patent Document 1). More specifically, in the wafer processing sheet 800, a dicing sheet 803 in which an adhesive layer 802 is provided on a base material 801 and a pressure-sensitive adhesive layer (adhesive layer) 805 on a base film 804 are provided. The provided adhesion preventing pressure-sensitive adhesive sheet 806 is laminated via an adhesive layer 802 and a base film 804 (see FIG. 8).

ウェハ加工用シート800を用いる場合は、ダイシング工程に先立って、付着防止用粘着シート806の感圧接着剤層805を介して、リングフレーム300にウェハ加工用シート800が貼着され、ウェハ加工用シート800のダイシングシート803にウェハ807が貼付される。その後、回路毎にウェハがダイシングされてチップが製造される。   When the wafer processing sheet 800 is used, the wafer processing sheet 800 is attached to the ring frame 300 via the pressure-sensitive adhesive layer 805 of the adhesion preventing adhesive sheet 806 prior to the dicing process. A wafer 807 is attached to the dicing sheet 803 of the sheet 800. Thereafter, the wafer is diced for each circuit to manufacture a chip.

このウェハ加工用シート800は、ウェハが貼付されてからチップをピックアップするまでリングフレーム300に固定されているが、ピックアップが終了するとリングフレーム300から人手により剥離される。ウェハ加工用シート800が剥離されたリングフレーム300は必要に応じて洗浄され再使用され得る。   The wafer processing sheet 800 is fixed to the ring frame 300 until the chip is picked up after the wafer is attached, but is manually peeled off from the ring frame 300 when the pickup is completed. The ring frame 300 from which the wafer processing sheet 800 has been peeled can be cleaned and reused as necessary.

なお、ウェハ加工用シート800は、接着剤層802を介してではなく、感圧接着剤層805を介してリングフレーム300に貼着されるため、リングフレーム300から剥離するときに、リングフレーム300に接着剤層802が残留せず、汚染しないという利点がある。   The wafer processing sheet 800 is attached to the ring frame 300 not via the adhesive layer 802 but via the pressure-sensitive adhesive layer 805, so that when the wafer processing sheet 800 is peeled from the ring frame 300, the ring frame 300 is removed. Therefore, there is an advantage that the adhesive layer 802 does not remain and is not contaminated.

特開平8−213349号公報JP-A-8-213349

ウェハ加工用シート800にウェハ807を貼付する際には、図8に示すようなマウンター808が用いられる。このとき、ウェハ加工用シート800をウェハ807およびリングフレーム300に押し付けるように貼付するため、ウェハ加工用シート800の接着剤層802がマウンター808に付着し(図8の点線部分)、マウンター808が汚染されることがあった。また、マウンター808がウェハ807を吸引して保持する機構の場合には、図8の点線部分の接着剤層802も吸引され、この接着剤層802とマウンター808とが付着し(図8の点線部分)、マウンター808が汚染されることがあった。   When attaching the wafer 807 to the wafer processing sheet 800, a mounter 808 as shown in FIG. 8 is used. At this time, since the wafer processing sheet 800 is affixed so as to be pressed against the wafer 807 and the ring frame 300, the adhesive layer 802 of the wafer processing sheet 800 adheres to the mounter 808 (dotted line portion in FIG. 8). It was sometimes contaminated. In the case where the mounter 808 sucks and holds the wafer 807, the adhesive layer 802 in the dotted line portion of FIG. 8 is also sucked, and the adhesive layer 802 and the mounter 808 adhere (see the dotted line in FIG. 8). Part), the mounter 808 was sometimes contaminated.

また、回路が形成された半導体ウェハの表面に表面保護シートを貼付した後、裏面研削を行って、ウェハの厚さを薄くすることがある。このような表面保護シート901が貼付されたウェハ807の場合も、ダイシング工程に先立って、上記マウンター808により、ウェハ加工用シート800を介してリングフレーム300に固定される(図9参照)。その後、ダイシングの前に、図9に示すように感熱接着タイプの剥離用粘着テープ902を表面保護シート901に貼付し、剥離用粘着テープ902を剥離方向に移動させることによって剥離用粘着テープ902と共に表面保護シート901が剥離される。   In some cases, a surface protective sheet is attached to the surface of a semiconductor wafer on which a circuit is formed, and then the back surface is ground to reduce the thickness of the wafer. Also in the case of the wafer 807 to which such a surface protection sheet 901 is attached, prior to the dicing process, the wafer is fixed to the ring frame 300 by the mounter 808 via the wafer processing sheet 800 (see FIG. 9). Thereafter, before dicing, a heat-sensitive adhesive type peeling adhesive tape 902 is applied to the surface protective sheet 901 as shown in FIG. 9, and the peeling adhesive tape 902 is moved in the peeling direction together with the peeling adhesive tape 902. The surface protection sheet 901 is peeled off.

しかしながら、剥離用粘着テープ902を表面保護シート901に貼付するとき、剥離用粘着テープ902が接着剤層802に、図9の点線部分で付着し、表面保護シート901が剥離できないことがあった。また、剥離用粘着テープ902と共に表面保護シート901を剥離するとき、剥離用粘着テープ902が接着剤層802を基材801から剥がしてしまうことがあった。   However, when the peeling adhesive tape 902 is applied to the surface protective sheet 901, the peeling adhesive tape 902 may adhere to the adhesive layer 802 at the dotted line portion in FIG. 9, and the surface protective sheet 901 may not be peeled off. Further, when the surface protective sheet 901 is peeled off together with the peeling adhesive tape 902, the peeling adhesive tape 902 may peel off the adhesive layer 802 from the substrate 801.

とくに、近年ウェハの厚さが薄くなるにしたがって、上述したような問題は深刻になってきた。
そこで、本発明の目的は、マウンターや剥離用粘着テープなどがウェハ加工用シートに付着しないようにすることにある。
In particular, as the thickness of the wafer becomes thinner in recent years, the above-mentioned problems have become serious.
Accordingly, an object of the present invention is to prevent a mounter, a peeling adhesive tape, and the like from adhering to a wafer processing sheet.

本発明者らは鋭意研究した結果、特定の構造を有するウェハ加工用シートによって上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明に係るウェハ加工用シートは、
基材上に接着剤層が積層されたダイシングシートと、リング状両面粘着シートとからなるウェハ加工用シートであって、上記基材の面上における中央部に接着部を有しており、その周囲に非接着部を有していることを特徴とする。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by a wafer processing sheet having a specific structure, and have completed the present invention.
That is, the wafer processing sheet according to the present invention,
A wafer processing sheet comprising a dicing sheet in which an adhesive layer is laminated on a base material and a ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet, and having an adhesive portion at the center on the surface of the base material, It has a non-adhesive part around it.

上記接着部を有している基材の同一面上における外縁部にリング状両面粘着シートが積層されていることが好ましい。
上記接着剤層は、ウェハの径と略同一の径を有することが好ましい。
It is preferable that a ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet is laminated on the outer edge portion on the same surface of the substrate having the adhesive portion.
The adhesive layer preferably has a diameter substantially the same as the diameter of the wafer.

本発明のウェハ加工用シートによれば、マウンターや剥離用粘着テープなどがウェハ加工用シートに付着することを防止できる。具体的には、マウンターを用いてウェハ加工用シートにウェハを貼付する際に、ウェハ加工用シートの接着剤層とマウンターとが付着せず、マウンターが汚染されない。また、ウェハ加工用シートを介してリングフレームに固定されており、かつ、表面保護シートが貼付されたウェハについて、剥離用粘着テープによって表面保護シートを剥離する際に、ウェハ加工用シートの接着剤層と剥離用粘着テープとが付着せず、表面保護シートが容易に剥離できる。   According to the wafer processing sheet of the present invention, it is possible to prevent the mounter, the peeling adhesive tape, and the like from adhering to the wafer processing sheet. Specifically, when a wafer is attached to a wafer processing sheet using the mounter, the adhesive layer and the mounter of the wafer processing sheet do not adhere and the mounter is not contaminated. In addition, when the surface protection sheet is peeled off with the peeling adhesive tape for the wafer fixed to the ring frame via the wafer processing sheet and the surface protection sheet is affixed, the adhesive for the wafer processing sheet The layer and the adhesive tape for peeling do not adhere, and the surface protective sheet can be easily peeled off.

図1は、本発明のウェハ加工用シートの斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a wafer processing sheet of the present invention. 図2は、図1のX−X線断面図である。2 is a cross-sectional view taken along line XX of FIG. 図3は、リングフレームの斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of the ring frame. 図4は、本発明のウェハ加工用シートを説明するための図である。FIG. 4 is a view for explaining the wafer processing sheet of the present invention. 図5は、本発明のウェハ加工用シートを説明するための図である。FIG. 5 is a view for explaining the wafer processing sheet of the present invention. 図6は、本発明のウェハ加工用シートの斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of the wafer processing sheet of the present invention. 図7は、図6のX−X線断面図である。7 is a cross-sectional view taken along line XX of FIG. 図8は、従来のウェハ加工用シートを説明するための図である。FIG. 8 is a view for explaining a conventional wafer processing sheet. 図9は、従来のウェハ加工用シートを説明するための図である。FIG. 9 is a view for explaining a conventional wafer processing sheet.

以下、本発明の一形態について具体的に説明する。
本発明のウェハ加工用シートの斜視図を図1に、そのX−X線断面図を図2に示す。 図1および2に示すように、本発明のウェハ加工用シートは、基材101上に接着剤層102が積層されたダイシングシート103と、リング状両面粘着シート107とからなるウェハ加工用シート100であって、上記基材101の面上における中央部に上記接着剤層102が積層されて接着部となっており、上記接着剤層102の周囲に上記基材101が表出されて非接着部となっていることを特徴とする。そして、上記接着剤層102が積層されている基材101の同一面上における外縁部(接着部を有している基材の同一面上における外縁部)にリング状両面粘着シート107が積層されている。すなわち、基材101において、上記接着剤層102が積層されている面と同一面上であって、その外縁部にリング状両面粘着シート107が積層されている。また、上記接着剤層102は、ウェハ807の径と略同一の径を有する(後述する図4および5参照)。これは、接着剤層102の径がウェハ807の径より必要以上に大きいと、マウンターや剥離用粘着テープと、ウェハ807周囲に表出される接着剤層102とが付着する場合があり、接着剤層102の径がウェハ807の径より必要以上に小さいと、ウェハ807を安定して保持できない場合やウェハ807の裏面の必要な部分に接着剤層102がない場合があり、これらの問題を回避するためである。また、接着剤層102およびウェハ807の径が略同一であると、従来のウェハ加工用シート800と比較して接着剤層を構成する接着剤の使用量を少なくできる利点もある。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be specifically described.
FIG. 1 is a perspective view of the wafer processing sheet of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along line XX. As shown in FIGS. 1 and 2, the wafer processing sheet of the present invention is a wafer processing sheet 100 comprising a dicing sheet 103 in which an adhesive layer 102 is laminated on a substrate 101 and a ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet 107. The adhesive layer 102 is laminated at the central portion on the surface of the base material 101 to form an adhesive portion, and the base material 101 is exposed around the adhesive layer 102 to be non-adhered. It is characterized by being part. And the ring-shaped double-sided adhesive sheet 107 is laminated | stacked on the outer edge part (outer edge part on the same surface of the base material which has an adhesion part) on the same surface of the base material 101 with which the said adhesive bond layer 102 was laminated | stacked. ing. That is, in the base material 101, the ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet 107 is laminated on the same surface as the surface on which the adhesive layer 102 is laminated, and on the outer edge thereof. The adhesive layer 102 has a diameter substantially the same as the diameter of the wafer 807 (see FIGS. 4 and 5 described later). This is because when the diameter of the adhesive layer 102 is larger than necessary than the diameter of the wafer 807, the mounter or the peeling adhesive tape and the adhesive layer 102 exposed around the wafer 807 may adhere. If the diameter of the layer 102 is smaller than necessary than the diameter of the wafer 807, the wafer 807 may not be stably held or the adhesive layer 102 may not be present on a necessary portion of the back surface of the wafer 807, thus avoiding these problems. It is to do. Further, when the diameters of the adhesive layer 102 and the wafer 807 are substantially the same, there is an advantage that the amount of the adhesive constituting the adhesive layer can be reduced as compared with the conventional wafer processing sheet 800.

本発明のウェハ加工用シート100においては、ダイシングシート103の接着剤層102は、ダイシング加工およびダイボンディング加工の機能を発揮するように形成されている。すなわち、ダイシングシート103としては、ダイシング加工およびダイボンディング加工の機能を発揮するダイシングシート(本明細書において「ダイシング・ダイボンディングシート」ともいう。)が用いられる。まず、このようなダイシングシート103について説明する。ダイシングシート103では、基材101上に接着剤層102が剥離可能に積層されている。具体的には、ダイシングシート103に使用される基材や接着剤としては、特開昭60−35531号公報、特開平2−32181号公報に記載のダイシングシートと同様のものが挙げられる。   In the wafer processing sheet 100 of the present invention, the adhesive layer 102 of the dicing sheet 103 is formed so as to exhibit dicing processing and die bonding processing functions. That is, as the dicing sheet 103, a dicing sheet (also referred to as a “dicing / die bonding sheet” in this specification) that exhibits dicing and die bonding functions is used. First, such a dicing sheet 103 will be described. In the dicing sheet 103, the adhesive layer 102 is detachably laminated on the substrate 101. Specifically, examples of the base material and adhesive used for the dicing sheet 103 include the same dicing sheets as described in JP-A-60-35531 and JP-A-2-32181.

基材101としては、ポリオレフィンなどの汎用の単層フィルムや積層フィルムが挙げられる。基材101の厚さは、通常10〜300μm、好ましくは50〜200μmである。   Examples of the substrate 101 include general-purpose single-layer films such as polyolefin and laminated films. The thickness of the base material 101 is 10-300 micrometers normally, Preferably it is 50-200 micrometers.

また、基材101の表面張力は、好ましくは40dyn/cm以下、さらに好ましくは35dyn/cm以下であることが望ましい。表面張力が上記範囲にあると、接着剤層102との剥離性が向上し、接着剤層付きチップのピックアップ適性が向上できる。このような表面張力の低い基材は、材質を適宜選択して得ることもでき、または基材101の表面にシリコーン樹脂などを塗布する離型処理を施して得ることもできる。   The surface tension of the substrate 101 is preferably 40 dyn / cm or less, more preferably 35 dyn / cm or less. When the surface tension is in the above range, the peelability from the adhesive layer 102 is improved, and the pickup suitability of the chip with the adhesive layer can be improved. Such a base material having a low surface tension can be obtained by appropriately selecting a material, or can be obtained by performing a mold release treatment by applying a silicone resin or the like on the surface of the base material 101.

接着剤層102は、常温で粘着性を有するか、または加熱により粘着性を有するようになるため、ダイシング工程の際に半導体ウェハに貼着できるとともに、チップマウント工程の際にチップとリードフレームとを接着できる。さらに、その後の加熱硬化により強固に接着固定化できる。接着剤層102は、Bステージ(半硬化状)の熱硬化型接着成分からなっていても、低分子量の熱硬化性接着成分とポリマー成分とからなっていてもよい。また、接着剤層102の構成成分として、紫外線硬化性成分がさらに配合されていてもよい。このような接着剤層102は、紫外線照射により基材101との剥離性が向上するため、ダイシング後のピックアップ時に、接着剤層付きチップがピックアップしやすくなる。   Since the adhesive layer 102 is sticky at room temperature or becomes sticky by heating, it can be attached to a semiconductor wafer during the dicing process, and the chip and lead frame can be attached to the chip mounting process. Can be glued. Further, it can be firmly fixed by subsequent heat curing. The adhesive layer 102 may be composed of a B-stage (semi-cured) thermosetting adhesive component, or may be composed of a low molecular weight thermosetting adhesive component and a polymer component. Further, an ultraviolet curable component may be further blended as a constituent component of the adhesive layer 102. Such an adhesive layer 102 has improved peelability from the base material 101 by irradiation of ultraviolet rays, so that the chip with the adhesive layer can be easily picked up at the time of picking up after dicing.

接着剤層102の厚さは、通常5〜200μmであり、好ましくは10〜100μmである。
なお、本発明のウェハ加工用シート100において、ダイシングシート103として、ダイシング加工のみの機能を発揮するダイシングシート(本明細書において「ダイシング加工専用のダイシングシート」ともいう。)を用いてもよい。ダイシング加工専用のダイシングシートの接着剤層を形成するためには、常に低粘着力を示す低粘着力型の粘着剤、ピックアップの前にエネルギー線照射により粘着力が低下するエネルギー線硬化型の粘着剤が用いられる。
The thickness of the adhesive layer 102 is usually 5 to 200 μm, preferably 10 to 100 μm.
In the wafer processing sheet 100 of the present invention, as the dicing sheet 103, a dicing sheet that exhibits a function of only dicing processing (also referred to as “dicing sheet dedicated to dicing processing” in this specification) may be used. In order to form an adhesive layer for dicing sheets exclusively for dicing, a low-adhesive-type adhesive that always shows low adhesive strength, an energy-ray-curable adhesive that decreases in adhesive strength by irradiation with energy rays before pick-up An agent is used.

上記低粘着力型の粘着剤は、低粘着力に調整された粘着剤であり、アクリル系、ゴム系、シリコーン系などの粘着性を発現しうるポリマーを構成成分とする。本発明においては、汎用性、粘着特性の制御の容易性などを考慮すると、アクリル系粘着剤が好適に用いられる。   The low pressure-sensitive adhesive is a pressure-sensitive adhesive adjusted to have a low adhesive strength, and has a constituent component such as an acrylic, rubber-based, or silicone-based polymer. In the present invention, an acrylic pressure-sensitive adhesive is suitably used in consideration of versatility, ease of control of pressure-sensitive adhesive properties, and the like.

ダイシング加工専用のダイシングシートにおける接着剤層の厚さは、通常1〜100μmであり、好ましくは5〜30μmである。ダイシング加工専用のダイシングシートの基材としては、ダイシング・ダイボンディングシートと同様の基材が用いられる。接着剤層の基材からの剥離性は必要とされないので、基材の低表面張力性は要求されない。   The thickness of the adhesive layer in the dicing sheet dedicated to dicing is usually 1 to 100 μm, preferably 5 to 30 μm. As the base material of the dicing sheet dedicated to the dicing process, the same base material as that of the dicing die bonding sheet is used. Since the peelability of the adhesive layer from the substrate is not required, the low surface tension of the substrate is not required.

次に、本発明のウェハ加工用シート100を構成するリング状両面粘着シート107について説明する。リング状両面粘着シート107は、芯材フィルム104とその片面に形成される積層用粘着剤層105と、他方の面に形成される固定用粘着剤層106からなる(図1および2参照)。すなわち、リング形状を有する芯材フィルム104と、該フィルム104におけるダイシングシート103に貼付される側の面に形成された積層用粘着剤層105と、該フィルム104におけるリングフレームに貼付される側の面に形成された固定用粘着剤層106とからなる。   Next, the ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet 107 constituting the wafer processing sheet 100 of the present invention will be described. The ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet 107 includes a core material film 104, a laminating pressure-sensitive adhesive layer 105 formed on one surface thereof, and a fixing pressure-sensitive adhesive layer 106 formed on the other surface (see FIGS. 1 and 2). That is, a core film 104 having a ring shape, a laminating pressure-sensitive adhesive layer 105 formed on the surface of the film 104 to be affixed to the dicing sheet 103, and a side of the film 104 to be affixed to the ring frame It consists of a fixing adhesive layer 106 formed on the surface.

また、リング状両面粘着シート107は、リングフレームに固定可能な大きさを有する。このリングフレーム300とは、通常は金属製またはプラスチック製の成形体である( 図3参照)。リングフレーム300の内部開口301の内径はダイシングするウェハの径よりも大きいが、たとえば図4および5に示すように、内部開口301の径はリング状両面粘着シート107の内径と略同一である。このようなリングフレーム300は、本発明に係るウェハ加工用シート100を用いるときは、後述するように、下面をリング状両面粘着シート107の固定用粘着剤層106に貼付し、このリング状両面粘着シート107を介してダイシングシート103に貼付された構成となる(後述する図4および5参照)。   The ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet 107 has a size that can be fixed to the ring frame. The ring frame 300 is usually a molded body made of metal or plastic (see FIG. 3). The inner diameter of the inner opening 301 of the ring frame 300 is larger than the diameter of the wafer to be diced. For example, as shown in FIGS. 4 and 5, the inner opening 301 has a diameter substantially the same as the inner diameter of the ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet 107. When using the wafer processing sheet 100 according to the present invention, such a ring frame 300 has a lower surface attached to the fixing adhesive layer 106 of the ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet 107 as will be described later. It becomes the structure affixed on the dicing sheet 103 via the adhesive sheet 107 (refer FIG. 4 and 5 mentioned later).

芯材フィルム104としては、たとえばポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体フィルム、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルム、アイオノマー樹脂フィルム等のポリオレフィンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等が用いられる。中でも、エキスパンド性の観点から、ポリオレンフィルム、可塑化したポリ塩化ビニルフィルムが好ましく、両面に積層される粘着剤に可塑剤による接着力の影響が出ないため、ポリオレフィンフィルムが特に好ましい。   Examples of the core film 104 include a polyethylene film, a polypropylene film, an ethylene-vinyl acetate copolymer film, an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer film, an ethylene- (meth) acrylic acid ester copolymer film, and an ionomer resin. A polyolefin film such as a film, a polyvinyl chloride film, a polyethylene terephthalate film, or the like is used. Among these, from the viewpoint of expandability, a polyolefin film and a plasticized polyvinyl chloride film are preferable, and a polyolefin film is particularly preferable because the adhesive that is laminated on both sides is not affected by the adhesive force of the plasticizer.

芯材フィルム104の厚さは、通常15〜200μm、好ましくは30〜150μm、より好ましくは40〜100μmである。15μm未満では、リング状両面粘着シート107をダイシングシート103に貼り合わせる際に形状を維持できず、変形して積層されてしまう場合がある。200μmを超えると、ウェハ加工用シート100をロール状として保管等するときに、段差が大きいため巻跡がつくことがある。   The thickness of the core material film 104 is usually 15 to 200 μm, preferably 30 to 150 μm, and more preferably 40 to 100 μm. If the thickness is less than 15 μm, the shape cannot be maintained when the ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet 107 is bonded to the dicing sheet 103 and may be deformed and stacked. When the thickness exceeds 200 μm, when the wafer processing sheet 100 is stored in a roll shape or the like, a winding mark may be formed due to a large step.

積層用粘着剤層105および固定用粘着剤層106は、ともに感圧接着性を有していればよく、同じ粘着剤からなる層であっても異なる粘着剤からなる層であってもよい。このような粘着剤としては、たとえばアクリル、ゴム、シリコーン粘着剤が挙げられる。より好ましくは、固定用粘着剤層106とリングフレーム300との接着力が、接着剤層102と積層用粘着剤層105との接着力よりも小さくできるような粘着剤が適宜選択される。これらのうちで、固定用粘着剤層106としては、リングフレーム300からの再剥離性を考慮するとアクリル粘着剤が好ましい。固定用粘着剤層106を形成する粘着剤は、単独で用いても、2種以上混合して用いてもよい。積層用粘着剤層105についても同様である。   The laminating pressure-sensitive adhesive layer 105 and the fixing pressure-sensitive adhesive layer 106 only need to have pressure-sensitive adhesive properties, and may be a layer made of the same pressure-sensitive adhesive or a layer made of different pressure-sensitive adhesives. Examples of such an adhesive include acrylic, rubber, and silicone adhesive. More preferably, a pressure-sensitive adhesive that can make the adhesive force between the fixing pressure-sensitive adhesive layer 106 and the ring frame 300 smaller than the adhesive force between the adhesive layer 102 and the laminating pressure-sensitive adhesive layer 105 is appropriately selected. Among these, as the pressure-sensitive adhesive layer 106 for fixation, an acrylic pressure-sensitive adhesive is preferable in consideration of removability from the ring frame 300. The pressure-sensitive adhesive forming the fixing pressure-sensitive adhesive layer 106 may be used alone or in combination of two or more. The same applies to the adhesive layer 105 for lamination.

積層用粘着剤層105および固定用粘着剤層106の厚さは、それぞれ通常2〜20μm、好ましくは3〜15μm、より好ましくは4〜10μmである。2μm未満では、充分な接着力が発現しないことがあり、20μmを超えると、リングフレーム300に粘着剤が残り、汚染することがある。   The thickness of the laminating pressure-sensitive adhesive layer 105 and the fixing pressure-sensitive adhesive layer 106 is usually 2 to 20 μm, preferably 3 to 15 μm, and more preferably 4 to 10 μm. If it is less than 2 μm, sufficient adhesive strength may not be exhibited. If it exceeds 20 μm, the pressure-sensitive adhesive remains on the ring frame 300 and may be contaminated.

図1および2に示す本発明のウェハ加工用シート100は、たとえば以下のようにして作製される。まず、所定の形状とする前のダイシングシートおよび両面粘着シートは、それぞれ公知の塗工方法に基づき製造される。ダイシングシートの接着剤層の表面ならびに両面粘着シートの粘着剤層(積層用粘着剤層および固定用粘着剤層)の表面には、粘着剤層の保護のためにそれぞれ剥離フィルムを積層しておく。    The wafer processing sheet 100 of the present invention shown in FIGS. 1 and 2 is produced, for example, as follows. First, the dicing sheet and the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet before being formed into a predetermined shape are each produced based on a known coating method. A release film is laminated on the surface of the adhesive layer of the dicing sheet and the surface of the adhesive layer (laminating adhesive layer and fixing adhesive layer) of the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet to protect the adhesive layer. .

両面粘着シートに対し、積層用粘着剤層上の剥離フィルムから固定用粘着剤層の層まで、固定用粘着剤層上の剥離フィルムを残すようにして、リング形状の内形をかたどる打ち抜きを行う。打ち抜かれた両面粘着シートの内側部分は除去される。ダイシングシートに対し、接着剤層上の剥離フィルムから接着剤層の層まで基材を残すようにしてウェハの形状にあわせて打ち抜きを行う。打ち抜かれたダイシングシートの外側部分は除去される。ダイシングシートの接着剤層上の剥離フィルムを剥離し、次いで、両面粘着シートの積層用粘着剤層上の剥離フィルムを剥離し、両面粘着シートの積層用粘着剤層をダイシングシートの基材の接着剤層が積層された面に、積層用粘着剤層と基材とが接するように積層する。次いで、ダイシングシートの基材から固定用粘着剤層まで、固定用粘着剤層上の剥離フィルムを残すようにして、リング形状の外形をかたどる打ち抜きを行う。   The double-sided PSA sheet is punched to form a ring-shaped inner shape, leaving the release film on the adhesive layer for fixing, from the release film on the adhesive layer for lamination to the layer of the adhesive layer for fixing. . The inner part of the punched double-sided pressure-sensitive adhesive sheet is removed. The dicing sheet is punched in accordance with the shape of the wafer so as to leave the substrate from the release film on the adhesive layer to the layer of the adhesive layer. The outer portion of the punched dicing sheet is removed. The release film on the adhesive layer of the dicing sheet is peeled off, then the release film on the adhesive layer for laminating the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet is peeled off, and the adhesive layer for laminating the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet is bonded to the base material of the dicing sheet It laminates | stacks so that the adhesive layer for lamination | stacking and a base material may contact | connect the surface where the agent layer was laminated | stacked. Next, punching is performed in a ring shape to leave the release film on the fixing adhesive layer from the base material of the dicing sheet to the fixing adhesive layer.

以上により、剥離フィルムにより保護された本発明のウェハ加工用シート100が得られる。
こうして得られた本発明のウェハ加工用シート100は、半導体装置の製造工程において好適に用いられる。
As described above, the wafer processing sheet 100 of the present invention protected by the release film is obtained.
The wafer processing sheet 100 of the present invention thus obtained is suitably used in the semiconductor device manufacturing process.

具体的には、ウェハ加工用シート100を用いる場合は、ダイシング工程に先立って、リング状両面粘着シート107の固定用粘着剤層106を介して、リングフレーム300にウェハ加工用シート100が貼着され、ダイシングシート103の接着剤層102を介してウェハ807にウェハ加工用シート100が貼付される。ウェハ807にウェハ加工用シート100を貼付する際には、図4に示すようなマウンター808が用いられる。マウンターでの貼付は、マウンター808上にリングフレーム300とウェハ807を保持し、剥離フィルムを剥がしたウェハ加工用シート100をゴムローラーなどで押し付けるようにして貼付する。このとき、図4の点線部分のウェハ加工用シート100がマウンター808と接触することがある。とくに、近年ウェハの厚さが薄くなるにしたがって、接触する場合が多い。しかし、この接触し得る部分(図4、点線部分)では、基材101が表出されているため両者は付着することがない。また、リングフレーム300とウェハ807とをマウンター808からの吸引によって保持することがあるが、この場合、図4の点線部分のウェハ加工用シート100も吸引され得る。とくに、近年ウェハの厚さが薄くなるにしたがって、強く吸引される場合が多い。しかし、この吸引され得る部分(図4、点線部分)では、基材101が表出されているため、本発明のウェハ加工用シート100とマウンター808とが吸引により接触しても両者は付着することがない。したがって、マウンター808が汚染されない。なお、その後、ウェハ加工用シート100によりリングフレーム300に保持されたウェハ807は、回路毎にダイシングされてチップが製造される。   Specifically, when the wafer processing sheet 100 is used, the wafer processing sheet 100 is attached to the ring frame 300 via the fixing adhesive layer 106 of the ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet 107 prior to the dicing process. Then, the wafer processing sheet 100 is attached to the wafer 807 through the adhesive layer 102 of the dicing sheet 103. When the wafer processing sheet 100 is attached to the wafer 807, a mounter 808 as shown in FIG. 4 is used. The mounting with the mounter is performed by holding the ring frame 300 and the wafer 807 on the mounter 808 and pressing the wafer processing sheet 100 from which the release film has been peeled off with a rubber roller or the like. At this time, the wafer processing sheet 100 shown by the dotted line in FIG. 4 may come into contact with the mounter 808. In particular, as the thickness of the wafer becomes thinner in recent years, it often comes into contact. However, since the base material 101 is exposed in this contactable part (FIG. 4, a dotted line part), both do not adhere. Further, the ring frame 300 and the wafer 807 may be held by suction from the mounter 808. In this case, the wafer processing sheet 100 in the dotted line portion of FIG. 4 can also be sucked. In particular, as the wafer becomes thinner in recent years, it is often attracted strongly. However, since the base material 101 is exposed at the portion that can be sucked (FIG. 4, the dotted line portion), even if the wafer processing sheet 100 of the present invention and the mounter 808 come into contact with each other by suction, both adhere to each other. There is nothing. Therefore, the mounter 808 is not contaminated. Thereafter, the wafer 807 held on the ring frame 300 by the wafer processing sheet 100 is diced for each circuit to manufacture a chip.

また、回路が形成された半導体ウェハの表面に表面保護シートを貼付した後、裏面研削を行って、ウェハの厚さを薄くすることがある。このような表面保護シート901が貼付されたウェハ807の場合も、ウェハの裏面研削後、ダイシング工程に先立って、上記マウンター808により、ウェハ加工用シート100を介してリングフレーム300に固定される(図5参照)。その後、ダイシングの前に、5に示すように表面保護シート901に剥離用粘着テープ902を貼付し、感熱接着タイプの剥離用粘着テープ902を利用して表面保護シート901を剥離する。このとき、剥離用粘着テープ902がウェハ加工用シート100と、図5の点線部分で接触することがある。とくに、近年ウェハの厚さが薄くなるにしたがって、接触する場合が多い。しかし、この接触し得る部分(図5、点線部分)では、基材101が表出されているため、本発明のウェハ加工用シート100と剥離用粘着テープ902とが接触しても両者は付着することがない。したがって、表面保護シート901が容易に剥離できる。なお、その後、ウェハ加工用シート100によりリングフレーム300に保持されたウェハ807は、回路毎にダイシングされてチップが製造される。   In some cases, a surface protective sheet is attached to the surface of a semiconductor wafer on which a circuit is formed, and then the back surface is ground to reduce the thickness of the wafer. Also in the case of the wafer 807 to which such a surface protection sheet 901 is attached, the wafer is ground to the ring frame 300 via the wafer processing sheet 100 by the mounter 808 prior to the dicing process after the backside grinding of the wafer ( (See FIG. 5). Then, before dicing, as shown in 5, the adhesive tape 902 for peeling is stuck to the surface protective sheet 901, and the surface protective sheet 901 is peeled using the heat-sensitive adhesive type adhesive tape 902 for peeling. At this time, the peeling adhesive tape 902 may come into contact with the wafer processing sheet 100 at the dotted line portion in FIG. In particular, as the thickness of the wafer becomes thinner in recent years, it often comes into contact. However, since the base material 101 is exposed in the contactable part (FIG. 5, dotted line part), both adhere to each other even if the wafer processing sheet 100 of the present invention and the peeling adhesive tape 902 are in contact with each other. There is nothing to do. Therefore, the surface protection sheet 901 can be easily peeled off. Thereafter, the wafer 807 held on the ring frame 300 by the wafer processing sheet 100 is diced for each circuit to manufacture a chip.

なお、本発明のウェハ加工用シートは、斜視図を図6に、そのX−X線断面図を図7に示すようなウェハ加工用シート600であってもよい。このウェハ加工用シート600では、上記接着剤層102が積層されている基材101の反対面上における外縁部にリング状両面粘着シート107が積層されている。すなわち、基材101において、上記接着剤層102が積層されている面と異なる面上であって、その外縁部にリング状両面粘着シート107が積層されている。このような構成のものであっても、上記と同様の効果が得られる。   The wafer processing sheet of the present invention may be a wafer processing sheet 600 as shown in FIG. 6 in a perspective view and in FIG. In this wafer processing sheet 600, a ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet 107 is laminated on the outer edge portion on the opposite surface of the base material 101 on which the adhesive layer 102 is laminated. That is, the ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet 107 is laminated on the outer edge of the base material 101 on a different surface from the surface on which the adhesive layer 102 is laminated. Even if it is a thing of such a structure, the effect similar to the above is acquired.

なお、半導体回路が形成されたウェハ表面からウェハの厚さより小さい所定の深さの溝(カーフ)を形成し、該回路面に表面保護シートを貼着し、該ウェハの裏面を研削して、ウェハの厚みを薄くするとともに、個々のチップに分割することもある(このような方法を先ダイシング法ともいう。)。この場合、得られた複数のチップを表面保護シートに貼着した状態のまま、複数のチップの裏面に本発明のウェハ加工用シートを貼付して、保管、移送などを行ってもよく、その後必要に応じて、複数のチップ上の表面保護シートを剥離する。このような先ダイシング法を行った場合も、本発明のウェハ加工用シートによれば、本発明のウェハ加工用シートを複数のチップの裏面に貼付する際および表面保護シートを剥離する際には、上記で説明した場合と同様に、マウンターや剥離用粘着テープがウェハ加工用シートの接着剤層に付着しないという利点が得られる。   In addition, a groove (kerf) having a predetermined depth smaller than the thickness of the wafer is formed from the wafer surface on which the semiconductor circuit is formed, a surface protection sheet is attached to the circuit surface, and the back surface of the wafer is ground, In addition to reducing the thickness of the wafer, it may be divided into individual chips (this method is also referred to as a pre-dicing method). In this case, the wafer processing sheet of the present invention may be attached to the back surface of the plurality of chips while keeping the obtained plurality of chips attached to the surface protective sheet, and then stored, transported, etc. If necessary, the surface protective sheets on the plurality of chips are peeled off. Even when such a tip dicing method is performed, according to the wafer processing sheet of the present invention, when the wafer processing sheet of the present invention is applied to the back surface of a plurality of chips and when the surface protection sheet is peeled off, As in the case described above, there is an advantage that the mounter and the peeling adhesive tape do not adhere to the adhesive layer of the wafer processing sheet.

また、本発明のウェハ加工用シートの形状は、図1および図2に示すような円形以外であってもよい。具体的には、リング状両面粘着シート、接着剤層および基材の形状は、図1および図2に示すような円以外の形状であってもよく、具体的には、楕円、四角形等の多角形などであってもよい。たとえば、リングフレームおよびその内部開口の形状としては、図3に示す円以外の形状(楕円、四角形等の多角形など)も採用されうるため、これにあわせてウェハ加工用シートの形状を適宜選択すればよい。   Further, the shape of the wafer processing sheet of the present invention may be other than a circle as shown in FIGS. Specifically, the shape of the ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet, the adhesive layer and the substrate may be a shape other than a circle as shown in FIGS. 1 and 2, and specifically, an ellipse, a quadrangle, etc. It may be a polygon. For example, as the shape of the ring frame and its internal opening, shapes other than the circle shown in FIG. 3 (ellipses, polygons, etc.) can be adopted, and accordingly the shape of the wafer processing sheet is appropriately selected. do it.

本発明のその他の形態として、ダイシングシートの接着剤層における中央部(接着部)の周囲上に非接着性の層(非接着部)が設けられており、接着剤層が積層されている基材の同一面上における外縁部にリング状両面粘着シートが積層されているウェハ加工用シートであってもよい。また、ダイシングシートの接着剤層がエネルギー線硬化型の接着剤からなり、この接着剤層の中央部(接着部)の周囲に、エネルギー線の照射により形成された硬化部(非接着部)が設けられており、接着剤層が積層されている基材の同一面上における外縁部にリング状両面粘着シートが積層されているウェハ加工用シートであってもよい。なお、第二、第三の形態において、上記接着剤層が積層されている基材の反対面上における外縁部にリング状両面粘着シートが積層されていてもよい。いずれの形態であっても上述したような効果が得られる。すなわち、基材上に接着剤層が積層されたダイシングシートと、リング状両面粘着シートとからなるウェハ加工用シートであって、該基材の面上における中央部に接着部を有しており、その周囲に非接着部を有しているウェハ加工用シートであれば、上述したような効果が得られる。   As another embodiment of the present invention, a non-adhesive layer (non-adhesive portion) is provided around the center portion (adhesive portion) of the adhesive layer of the dicing sheet, and the adhesive layer is laminated. It may be a wafer processing sheet in which a ring-shaped double-sided PSA sheet is laminated on the outer edge portion on the same surface of the material. Moreover, the adhesive layer of the dicing sheet is made of an energy ray curable adhesive, and a cured portion (non-adhesive portion) formed by irradiation of energy rays is formed around the central portion (adhesive portion) of the adhesive layer. It may be a wafer processing sheet in which a ring-shaped double-sided PSA sheet is laminated on the outer edge portion on the same surface of the base material on which the adhesive layer is laminated. In the second and third embodiments, a ring-shaped double-sided PSA sheet may be laminated on the outer edge portion on the opposite surface of the substrate on which the adhesive layer is laminated. In any form, the effects as described above can be obtained. That is, a wafer processing sheet comprising a dicing sheet in which an adhesive layer is laminated on a base material and a ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet, and has an adhesive portion in the center on the surface of the base material If the wafer processing sheet has a non-bonded portion around it, the above-described effects can be obtained.

100: ウェハ加工用シート
101: 基材
102: 接着剤層
103: ダイシングシート
104: 芯材フィルム
105: 積層用粘着剤層
106: 固定用粘着剤層
107: リング状両面粘着シート
300: リングフレーム
301: 内部開口
600: ウェハ加工用シート
800: ウェハ加工用シート
801: 基材
802: 接着剤層
803: ダイシングシート
804: 基材フィルム
805: 感圧接着剤層
806: 付着防止用粘着シート
807: ウェハ
808: マウンター
901: 表面保護シート
902: 剥離用粘着テープ
100: Wafer processing sheet 101: Base material 102: Adhesive layer 103: Dicing sheet 104: Core film 105: Laminating adhesive layer 106: Fixing adhesive layer 107: Ring-shaped double-sided adhesive sheet 300: Ring frame 301 : Internal opening 600: Wafer processing sheet 800: Wafer processing sheet 801: Base material 802: Adhesive layer 803: Dicing sheet 804: Base film 805: Pressure sensitive adhesive layer 806: Adhesion prevention adhesive sheet 807: Wafer 808: Mounter 901: Surface protective sheet 902: Peeling adhesive tape

Claims (4)

基材上に接着剤層が剥離可能に積層されており、ダイシング加工およびダイボンディング加工の機能を発揮するダイシングシートと、リング状両面粘着シートとからなるウェハ加工用シートであって、
前記基材の面上における中央部に接着部を有しており、その周囲に非接着部を有しており、
前記接着部を有している基材の同一面上における外縁部にリング状両面粘着シートが積層されていることを特徴とするウェハ加工用シート。
The adhesive layer is peelably laminated on the base material, and is a wafer processing sheet comprising a dicing sheet that exhibits the functions of dicing processing and die bonding processing, and a ring-shaped double-sided adhesive sheet,
It has an adhesive part at the center on the surface of the substrate, and has a non-adhesive part around it,
A wafer processing sheet, wherein a ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet is laminated on an outer edge portion on the same surface of a substrate having the adhesive portion.
前記接着剤層がエネルギー線硬化型の接着剤から得られ、前記基材の面上における非接着部が、前記接着剤にエネルギー線を照射し硬化して形成されていることを特徴とする請求項1に記載のウェハ加工用シート。   The adhesive layer is obtained from an energy ray curable adhesive, and the non-adhesive portion on the surface of the base material is formed by irradiating the adhesive with an energy ray and curing. Item 2. A wafer processing sheet according to Item 1. 前記接着剤層が、ウェハの径と略同一の径を有することを特徴とする請求項1または2に記載のウェハ加工用シート。   The wafer processing sheet according to claim 1, wherein the adhesive layer has a diameter substantially the same as a diameter of the wafer. 回路が形成された半導体ウェハの表面に表面保護シートを貼付した後、裏面研削を行って、該ウェハの厚さを薄くするウェハの裏面研削工程と、
前記ウェハの裏面研削工程後、ウェハ加工用シートを介して前記ウェハをリングフレームに固定し、次いで、前記表面保護シートに剥離用粘着テープを貼付し、該剥離用粘着テープとともに前記表面保護シートを剥離する表面保護シートの剥離工程と、
前記表面保護シートの剥離工程後、前記ウェハをダイシングしてチップを製造するチップ製造工程とを含む半導体装置の製造方法であって、
前記ウェハ加工用シートが、基材上に接着剤層が剥離可能に積層されており、ダイシング加工およびダイボンディング加工の機能を発揮するダイシングシートと、リング状両面粘着シートとからなるウェハ加工用シートであって、
前記基材の面上における中央部に接着部を有しており、その周囲に非接着部を有しており、
前記接着部を有している基材の同一面上における外縁部にリング状両面粘着シートが積層されているウェハ加工用シートであることを特徴とする半導体装置の製造方法。
After pasting the surface protection sheet on the surface of the semiconductor wafer on which the circuit is formed, the back surface grinding step of performing the back surface grinding to reduce the thickness of the wafer,
After the backside grinding process of the wafer, the wafer is fixed to a ring frame via a wafer processing sheet, and then a peeling adhesive tape is attached to the surface protection sheet, and the surface protection sheet is attached together with the peeling adhesive tape. Peeling process of the surface protection sheet to peel off,
A chip manufacturing process for manufacturing a chip by dicing the wafer after the surface protection sheet peeling process,
The wafer processing sheet is a wafer processing sheet comprising a dicing sheet that exhibits a dicing process and a die bonding function, and a ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet, wherein the adhesive layer is detachably laminated on the substrate. Because
It has an adhesive part at the center on the surface of the substrate, and has a non-adhesive part around it,
A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: a wafer processing sheet in which a ring-shaped double-sided pressure-sensitive adhesive sheet is laminated on an outer edge portion on the same surface of a base material having the adhesive portion.
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