JP2006352031A - Device and method of dividing platy member - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device and method of dividing a platy member capable of keeping mutual distances of each chip proper after divided into pieces, and capable of preventing the pieces from being damaged by avoiding mutual contacts of the chips. <P>SOLUTION: The device cuts or polishes a wafer W affixed to a dicing tape DT or a protective sheet PS each having an ultraviolet curing adhesive layer US into pieces; and includes a table 11 supporting the wafer W, a rotary cutter 13 that cuts or a grinder 50 that polishes the wafer W, and a ultraviolet irradiating device 15 juxtaposed therewith. A hardened portion US1 is formed from the ultraviolet curing adhesive layer US appearing by cutting or polishing with the device 15, and the distances of the chips C after being divided into the pieces are designed to be kept constant with the cured portion US1. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は板状部材の分割装置及び分割方法に係り、更に詳しくは、接着シートに貼付された板状部材を分割したときに、個片化された各チップ相互間の隙間を一定に保ってチップの損傷防止を図ることのできる板状部材の分割装置及び分割方法に関する。   The present invention relates to a plate member dividing apparatus and a dividing method, and more specifically, when a plate member attached to an adhesive sheet is divided, a gap between individual chips is kept constant. The present invention relates to a plate-like member dividing device and a dividing method capable of preventing chip damage.

従来より、半導体ウエハ(以下、単に、「ウエハ」と称する)は、所定のストリートラインに沿って賽の目状にダイシングすることが行われている。このダイシングは、ウエハの裏面研削を行った後に、回路面側からロータリーカッターで切削して賽の目状に切削溝を形成して行う方法(例えば、特許文献1参照)と、ウエハの回路面側に賽の目状の切削溝を形成しておき、その後にウエハの裏面を研削して行う方向(例えば、特許文献2参照)が知られている。   Conventionally, semiconductor wafers (hereinafter simply referred to as “wafers”) have been diced along a predetermined street line in a grid pattern. This dicing is performed by grinding the back surface of the wafer and then cutting with a rotary cutter from the circuit surface side to form cutting grooves in the shape of ridges (for example, see Patent Document 1), and on the circuit surface side of the wafer. A direction (for example, refer to Patent Document 2) is known in which a ridge-like cutting groove is formed and then the back surface of the wafer is ground.

図10には、裏面研削後に切削溝を形成する従来例のダイシング工程図が示されている。同図において、裏面研削が行われて極薄に形成されたウエハWの回路面側には保護シートPSが貼付され(図10(A)参照)、ベースシートBS上に紫外線硬化型の接着剤層USを積層して構成されたダイシングテープDTを介してリングフレームRFにマウントされる(図10(B)参照)。マウントされたウエハW上の保護シートPSは、剥離用シートPT及び剥離用チャック100を介して剥離され(図10(C)参照)、テーブル101上に移載された状態で固定用フック102を介してリングフレームRFが固定される(図10(D)参照)。そして、テーブル101の領域内に昇降可能に配置された内側テーブル103を上昇させてダイシングテープDTに張力を付与し、この状態でロータリーカッター105を用いた切削により、賽の目状に切削溝CLを形成して個片化されたチップCを得ることができる。   FIG. 10 shows a dicing process diagram of a conventional example in which a cutting groove is formed after the back surface grinding. In FIG. 10, a protective sheet PS is attached to the circuit surface side of a wafer W formed by grinding the back surface (see FIG. 10A), and an ultraviolet curable adhesive is applied on the base sheet BS. It is mounted on the ring frame RF via a dicing tape DT formed by laminating the layers US (see FIG. 10B). The protective sheet PS on the mounted wafer W is peeled off via the peeling sheet PT and the peeling chuck 100 (see FIG. 10C), and the fixing hook 102 is moved on the table 101. Through this, the ring frame RF is fixed (see FIG. 10D). Then, the inner table 103 arranged so as to be movable up and down in the region of the table 101 is raised to apply tension to the dicing tape DT, and in this state, the cutting grooves CL are formed in a grid shape by cutting using the rotary cutter 105. Thus, the chip C separated into pieces can be obtained.

図11には、裏面研削に先立って切削溝を形成する、いわゆる先ダイシング法と称される従来例のダイシング工程図が示されている。同図において、ウエハWの裏面研削を行う前の段階で、回路面側にウエハWの厚さよりも浅い切削溝CLが賽の目状に形成され、当該回路面に保護シートPSが貼付される(図11(A),(B)参照)。このウエハWは、保護シートPSを介して吸着テーブル200に吸着保持され(図11(C)参照)、グラインダー201による裏面研削を切削溝CLに達する位置まで行うことにより(図11(D)参照)、個片化したチップCを形成することができる(図11(E)参照)。   FIG. 11 shows a dicing process diagram of a conventional example called a so-called tip dicing method in which a cutting groove is formed prior to back surface grinding. In the figure, before the back surface grinding of the wafer W, cutting grooves CL shallower than the thickness of the wafer W are formed on the circuit surface side in the shape of ridges, and the protective sheet PS is attached to the circuit surface (FIG. 11 (A) and (B)). The wafer W is sucked and held on the suction table 200 via the protective sheet PS (see FIG. 11C), and the back grinding by the grinder 201 is performed up to a position reaching the cutting groove CL (see FIG. 11D). ), A chip C can be formed (see FIG. 11E).

特開平9−266182号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-266182 特開2002−16021号公報JP 2002-16021 A

しかしながら、特許文献1に記載された方法では、図10(D)に示されるように、ダイシングテープDTがテーブル101上で引き延ばされた状態となるため、当該テーブル101からウエハWをリングフレームRFと共に取り外した際に、図10(E)に示されるようにダイシングテープDTが弛むこととなり、これによってチップC間の隙間を詰まらせてしまうという不都合がある。かかる不都合は、チップC同士の端縁相互の接触をもたらし、これがチップCの破損原因となる。   However, in the method described in Patent Document 1, since the dicing tape DT is stretched on the table 101 as shown in FIG. 10D, the wafer W is transferred from the table 101 to the ring frame. When it is removed together with the RF, the dicing tape DT is loosened as shown in FIG. 10 (E), which causes a disadvantage that the gap between the chips C is clogged. Such inconvenience results in contact between the edges of the chips C, which causes damage to the chips C.

また、特許文献2に記載された方法にあっても同様に、ウエハWは極薄に研削されることで剛性が低下するため、保護シートPSに張力を付与した状態でウエハWに貼付した際の残留応力を受け易くなって、反りや縮み変形を生じたり、切削溝CLの隙間を狭める傾向を生じ、これに起因してチップC同士の端縁相互の接触で当該チップCの端縁損傷を招来する、という不都合がある。   Similarly, even in the method described in Patent Document 2, since the rigidity of the wafer W is reduced by being extremely thinly ground, when the wafer W is applied to the protective sheet PS with tension applied thereto, The residual stress of the chip C tends to be warped and contracted, and the gap of the cutting groove CL is narrowed. Due to this, the edge damage of the chip C is caused by contact between the edges of the chips C. Inconvenience of inviting.

また、前述した何れのダイシング方法においても、図11(F)に示されるように、チップCの相互間隔が狭まってしまう位置的変化に起因して、ボンディングを行う際の吸着コレット300がチップC間に跨ってしまう場合を生ずる、という不都合もある。   In any of the dicing methods described above, as shown in FIG. 11 (F), the suction collet 300 during bonding is caused by the chip C due to the positional change in which the mutual distance between the chips C is narrowed. There is also an inconvenience that a case where the time spans between them occurs.

[発明の目的]
本発明は、このような不都合に着目して案出されたものであり、その目的は、個片化後の各チップの相互間隔を適正に保ち、チップ相互の接触を回避して損傷を防止することのできる板状部材の分割装置及び分割方法を提供することにある。
[Object of invention]
The present invention has been devised by paying attention to such inconveniences, and its purpose is to keep the distance between the chips after separation into individual pieces and to avoid damage by avoiding contact between the chips. An object of the present invention is to provide a plate-like member dividing apparatus and dividing method that can be used.

前記目的を達成するため、本発明は、エネルギー線硬化型の接着シートに貼付された板状部材を切削して当該板状部材を個片化する板状部材の分割装置において、
前記板状部材を支持するテーブルと、当該テーブルに支持された板状部材を切削するカッターと、このカッターに併設されたエネルギー線照射装置とを備え、
前記エネルギー線照射装置は、前記カッターによる切削で切削後に表出する接着シート部分にエネルギー線を照射して当該接着シート部分を硬化させる、という構成を採っている。
In order to achieve the above object, the present invention provides a plate-like member dividing device that cuts a plate-like member attached to an energy ray-curable adhesive sheet and separates the plate-like member into pieces.
A table that supports the plate-like member, a cutter that cuts the plate-like member supported by the table, and an energy beam irradiation device that is attached to the cutter,
The energy ray irradiating apparatus employs a configuration in which the adhesive sheet portion exposed after cutting by the cutting by the cutter is irradiated with energy rays to cure the adhesive sheet portion.

また、本発明は、エネルギー線硬化型の接着シートに板状部材の厚さよりも浅い切削溝が形成された板状部材の切削面側を貼付し、前記切削面の反対側面を研削して前記板状部材を個片化する板状部材の分割装置において、
前記板状部材を支持するテーブルと、当該テーブルに支持された板状部材を研削するグラインダーと、このグラインダーに併設されたエネルギー線照射装置とを備え、
前記エネルギー線照射装置は、前記グラインダーの研削で研削後に表出する接着シート部分にエネルギー線を照射して当該接着シート部分を硬化させる、という構成を採っている。
Further, the present invention attaches the cutting surface side of the plate-like member in which the cutting groove shallower than the thickness of the plate-like member is formed on the energy ray curable adhesive sheet, and grinds the opposite side of the cutting surface to In the plate-like member dividing device for dividing the plate-like member into pieces,
A table that supports the plate-like member, a grinder that grinds the plate-like member supported by the table, and an energy beam irradiation device that is attached to the grinder,
The energy beam irradiating apparatus employs a configuration in which the adhesive sheet portion exposed after grinding by the grinding of the grinder is irradiated with energy rays to cure the adhesive sheet portion.

前記板状部材の分割装置において、前記板状部材の切削屑若しくは研削屑を除去する除去装置を前記照射装置に併設することが好ましい。   In the plate-like member dividing device, it is preferable that a removing device for removing cutting waste or grinding waste of the plate-like member is provided in the irradiation device.

また、前記エネルギー線の照射は、前記切削若しくは研削に追従して略同時に行われる、という構成を採っている。   Further, the energy beam irradiation is configured to be performed substantially simultaneously following the cutting or grinding.

また、前記板状部材は半導体ウエハであり、前記エネルギー線硬化型の接着シートは、ベースシート上にエネルギー線硬化型の接着剤層を設けて構成されている。   The plate-like member is a semiconductor wafer, and the energy ray curable adhesive sheet is configured by providing an energy ray curable adhesive layer on a base sheet.

更に、本発明は、エネルギー線硬化型の接着シートに貼付された板状部材を切削して当該板状部材を個片化する板状部材の分割方法において、
前記接着シートを介して板状部材をテーブル上に支持しておき、
前記板状部材の上面側から当該板状部材をカッターで切削し、
前記切削によって切削後に表出する接着シート部分にエネルギー線を照射し、
前記エネルギー線の照射によって前記接着シート部分を硬化させた状態で前記板状部材を個片化する、という方法を採っている。
Furthermore, the present invention relates to a method for dividing a plate-like member that cuts a plate-like member attached to an energy ray curable adhesive sheet and separates the plate-like member into pieces.
The plate-like member is supported on the table via the adhesive sheet,
The plate member is cut with a cutter from the upper surface side of the plate member,
Irradiate energy rays to the adhesive sheet portion exposed after cutting by the cutting,
A method is adopted in which the plate-like member is singulated in a state where the adhesive sheet portion is cured by irradiation with the energy beam.

また、本発明は、エネルギー線硬化型の接着シートに板状部材の厚さよりも浅い切削溝が形成された板状部材の切削面側を貼付し、前記切削面の反対側面を研削して前記板状部材を個片化する板状部材の分割方法において、
前記接着シートを介して前記板状部材をテーブル上に支持しておき、
前記板状部材の切削面の反対側から当該板状部材をグラインダーで研削し、
前記研削によって研削後に表出する接着シート部分にエネルギー線を照射し、
前記エネルギー線の照射によって前記接着シート部分を硬化させた状態で前記板状部材を個片化する、という方法を採ることもできる。
Further, the present invention attaches the cutting surface side of the plate-like member in which the cutting groove shallower than the thickness of the plate-like member is formed on the energy ray curable adhesive sheet, and grinds the opposite side of the cutting surface to In the dividing method of the plate-shaped member that separates the plate-shaped member,
The plate-like member is supported on a table via the adhesive sheet,
Grinding the plate member from the opposite side of the cutting surface of the plate member with a grinder,
Irradiate the energy sheet to the adhesive sheet portion exposed after grinding by the grinding,
A method of dividing the plate-like member into pieces in a state where the adhesive sheet portion is cured by irradiation with the energy rays can also be adopted.

前記板状部材の分割方法において、前記板状部材の切削屑若しくは研削屑の除去を切削若しくは研削に追従して行うことが好ましい。   In the method for dividing the plate-like member, it is preferable to remove the cutting waste or grinding waste of the plate-like member following cutting or grinding.

また、前記板状部材の前記分割方法において、前記エネルギー線の照射は、前記切削若しくは研削に追従して略同時に行われる、という方法を採っている。   Moreover, in the said division | segmentation method of the said plate-shaped member, the method that the irradiation of the said energy ray is performed substantially simultaneously following the said cutting or grinding is taken.

また、前記板状部材の分割方法における板状部材は半導体ウエハであり、前記エネルギー線硬化型の接着シートは、ベースシート上にエネルギー線硬化型の接着剤層を設けたものを対象とすることができる。   Further, the plate-like member in the method for dividing the plate-like member is a semiconductor wafer, and the energy ray curable adhesive sheet is intended to be provided with an energy ray curable adhesive layer on a base sheet. Can do.

本発明によれば、切削や研削に伴ってエネルギー線硬化型の接着剤層がチップ間に表出するようになり、当該表出した接着シート部分にエネルギー線を照射して硬化させながら板状部材を分割することができる。そのため、板状部材の分割を終了した際に、接着シートが弛んだり、反り、縮み変形することがあっても、チップ間距離、すなわち切削溝の隙間は一定に保たれるようになり、これにより、チップ端縁相互の接触を防止して損傷等を回避することが可能となる。
また、切削、研削に伴って生ずる屑を除去することができるので、後工程における洗浄処理を簡略化したり、あるいは省略することも可能となる。
According to the present invention, an energy ray curable adhesive layer is exposed between chips along with cutting and grinding, and the exposed adhesive sheet portion is irradiated with energy rays and cured to form a plate shape. The member can be divided. For this reason, even when the adhesive sheet is loosened, warped, or contracted when the division of the plate-like member is finished, the distance between the chips, that is, the gap of the cutting groove is kept constant. Thus, contact between the chip edges can be prevented and damage or the like can be avoided.
In addition, since it is possible to remove the debris generated by cutting and grinding, it is possible to simplify or omit the cleaning process in the subsequent process.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

[第1実施形態]
図1ないし図4には、本発明の第1実施形態が示されている。ここで、図1(A)には、分割装置として作用するダイシング装置10の概略斜視図が示され、図1(B)には板状部材としてのウエハWがリングフレームRFにマウントされた状態の断面図が示されている。これらの図において、ダイシング装置10は、ウエハWを支持するテーブル11と、ウエハWに切削溝CLを形成するように切削することで個片化されたチップCを形成するロータリーカッター13と、当該ロータリーカッター13に併設されたエネルギー線としての紫外線を照射する紫外線照射装置15と、ロータリーカッター13でウエハWを切削する際の切削屑を吸引する除去装置16とを備えて構成されている。
[First Embodiment]
1 to 4 show a first embodiment of the present invention. Here, FIG. 1A shows a schematic perspective view of a dicing apparatus 10 acting as a dividing apparatus, and FIG. 1B shows a state in which a wafer W as a plate member is mounted on a ring frame RF. A cross-sectional view is shown. In these drawings, a dicing apparatus 10 includes a table 11 that supports a wafer W, a rotary cutter 13 that forms chips C separated by cutting so as to form a cutting groove CL on the wafer W, An ultraviolet irradiating device 15 that irradiates ultraviolet rays as energy rays attached to the rotary cutter 13 and a removing device 16 that sucks cutting waste when the wafer W is cut by the rotary cutter 13 are configured.

前記ウエハWは、図1(B)に示されるように、接着シートとしてのダイシングテープDTを介してリングフレームRFにマウントされた状態でダイシングされる。ダイシングテープDTは、ベースシートBSに紫外線硬化型の接着剤層USを積層して構成されており、当該紫外線硬化型の接着剤層USの面にウエハWの裏面側(回路面とは反対側)が貼付されている。なお、ここでは、図示省略しているが、ウエハWは、ロータリーカッター13で切削を行う迄の段階では、回路面が図示しない保護シートで保護されるようになっている。   As shown in FIG. 1B, the wafer W is diced in a state of being mounted on the ring frame RF via a dicing tape DT as an adhesive sheet. The dicing tape DT is configured by laminating an ultraviolet curable adhesive layer US on a base sheet BS, and the back surface side of the wafer W (the side opposite to the circuit surface) on the surface of the ultraviolet curable adhesive layer US. ) Is affixed. Although not shown here, the circuit surface of the wafer W is protected by a protective sheet (not shown) until the wafer W is cut by the rotary cutter 13.

前記テーブル11は、図2に示されるように、リングフレームRFを支持する外側テーブル11Aと、当該外側テーブル11Aに対して昇降可能に設けられてウエハWの面位置を上昇させてダイシングテープDTに一定の張力を付与する内側テーブル11Bとにより構成されている。このテーブル11は、スライダ20の上面側に回転機構21を介して支持されており、当該スライダ20はガイドレール22,22に支持されているとともに、図示しない駆動機構を介して図1中X軸方向に移動可能に設けられている。また、回転機構21は、テーブル11を平面内で回転させてテーブル11を90度回転させることで略方形のチップCが形成できるようになっている。なお、前記外側テーブル11Aにおいて、図1中X軸方向における相対位置には、先端が自由端として回転可能に設けられた固定用フック25、25が設けられており、これら固定用フック25によってリングフレームRF、ひいてはウエハWを一定の位置に保持できるように設けられている。   As shown in FIG. 2, the table 11 is provided with an outer table 11A that supports the ring frame RF and a table that can be moved up and down relative to the outer table 11A to raise the surface position of the wafer W to form the dicing tape DT. It is comprised by the inner side table 11B which provides a fixed tension | tensile_strength. The table 11 is supported on the upper surface side of the slider 20 via a rotating mechanism 21. The slider 20 is supported by guide rails 22 and 22, and the X axis in FIG. It is provided to be movable in the direction. The rotation mechanism 21 can form a substantially square chip C by rotating the table 11 in a plane and rotating the table 11 by 90 degrees. In addition, in the outer table 11A, fixing hooks 25 and 25 are provided at their relative positions in the X-axis direction in FIG. The frame RF and thus the wafer W are provided so as to be held at a fixed position.

前記ロータリーカッター13は、カッター刃13Aと、当該カッター刃13Aを回転可能に支持する軸状の刃ホルダ13Bとにより構成され、当該ロータリーカッター13は、カッター支持体30に支持されている。カッター支持体30は、図1中Y軸方向に向けられた一対のレール31,31に沿って移動可能なベース32と、このベース32から起立するロボット本体33と、当該ロボット本体33の前面側に配置された一対の上下方向ガイドレール35,35と、図3に示されるロボット本体33のスライダ33Aに取り付けられ、上下方向ガイドレール35、35に沿って昇降可能に設けられるとともに、前記刃ホルダ13Bの基部を支持する昇降スライダ36とにより構成され、これにより、前記カッター刃13Aが図1中Y、Zの直交二軸方向に移動可能となっている。   The rotary cutter 13 includes a cutter blade 13A and a shaft-shaped blade holder 13B that rotatably supports the cutter blade 13A. The rotary cutter 13 is supported by a cutter support 30. The cutter support 30 includes a base 32 that can move along a pair of rails 31, 31 oriented in the Y-axis direction in FIG. 1, a robot body 33 that stands up from the base 32, and the front side of the robot body 33. 3 and a slider 33A of the robot body 33 shown in FIG. 3. The blade holder is provided so as to be movable up and down along the vertical guide rails 35, 35. It is comprised with the raising / lowering slider 36 which supports the base of 13B, Thereby, the said cutter blade 13A can move to the orthogonal biaxial direction of Y and Z in FIG.

前記紫外線照射装置15は、図示しない支持部材を介して前記昇降スライダ36に支持されている。この紫外線照射装置15は、カッター刃13Aで切削溝CLが形成されて線状に表出する紫外線硬化型の接着剤層US部分に紫外線を照射して当該部分を硬化させるようになっている。そのため、本実施形態における紫外線照射装置15は、部分的に紫外線を照射するために、スポットタイプとされている。   The ultraviolet irradiation device 15 is supported by the lift slider 36 via a support member (not shown). The ultraviolet irradiation device 15 is configured to irradiate the ultraviolet curable adhesive layer US portion, which is formed in a linear shape with a cutting groove CL formed by the cutter blade 13A, to cure the portion. Therefore, the ultraviolet irradiation device 15 in the present embodiment is a spot type in order to partially irradiate ultraviolet rays.

前記除去装置16は、前記紫外線照射装置15とカッター刃13Aとの間に配置されているとともに、図示しない支持部材を介して前記昇降スライダ36に支持され、紫外線照射装置15に併設されている。この除去装置16は、下端側が開口する吸引筒40と、この吸引筒40に連なるバキュームホース41とを備え、カッター刃13がウエハWを切削したときの切削屑を吸引して当該切削屑を除去するように構成され、これにより、ウエハWに形成される切削溝CL内に切削屑を残存させることなく、線状に表出する紫外線硬化型の接着剤層USが切削屑で埋まってしまうことを防止し、紫外線照射の妨げとならないようになっている。   The removal device 16 is disposed between the ultraviolet irradiation device 15 and the cutter blade 13A, is supported by the lift slider 36 via a support member (not shown), and is attached to the ultraviolet irradiation device 15. The removing device 16 includes a suction cylinder 40 having an opening at the lower end side, and a vacuum hose 41 connected to the suction cylinder 40, and removes the cutting waste by suctioning cutting waste when the cutter blade 13 cuts the wafer W. As a result, the ultraviolet curable adhesive layer US that appears linearly is filled with the cutting waste without leaving the cutting waste in the cutting groove CL formed in the wafer W. Is prevented and does not interfere with ultraviolet irradiation.

このような第1実施形態に係るダイシング装置10でダイシングを行う場合、すなわち、ウエハWを分割して個片化されたチップCを形成する場合には、前工程において、リングフレームRFにマウントされたウエハWのアライメントを行っておき、これが図示しないロボットアームを介してテーブル11上に移載される。そして、リングフレームRFを固定用フック25,25で固定してウエハWを所定位置にセットした状態で内側テーブル11Bが所定量上昇し、ダイシングテープDTに張力が付与される。
次いで、テーブル11の移動とカッター刃13Aの回転により、カッター刃13Aが予め設定された軌跡に沿ってウエハWに切削溝CLを形成し、略方形の平面形状となるように、ウエハWを個片化してチップCが形成される。これにより生ずる切削屑は除去装置16によって吸引除去され、切削溝CLを通じて紫外線が照射されてダイシングテープDTの紫外線硬化型の接着剤層USに硬化部分US1が形成される(図4参照)。
When dicing is performed by the dicing apparatus 10 according to the first embodiment as described above, that is, when the wafer C is divided to form individual chips C, it is mounted on the ring frame RF in the previous step. The wafer W is aligned, and this is transferred onto the table 11 via a robot arm (not shown). Then, with the ring frame RF fixed by the fixing hooks 25 and 25 and the wafer W being set at a predetermined position, the inner table 11B is raised by a predetermined amount, and tension is applied to the dicing tape DT.
Next, by moving the table 11 and rotating the cutter blade 13A, the cutter blade 13A forms a cutting groove CL on the wafer W along a preset trajectory, and the wafer W is separated into a substantially square planar shape. Chip C is formed by singulation. The cutting waste generated thereby is sucked and removed by the removing device 16 and irradiated with ultraviolet rays through the cutting grooves CL to form a cured portion US1 in the ultraviolet curable adhesive layer US of the dicing tape DT (see FIG. 4).

ダイシングを終了して分割、個片化された各チップCは、ダイシングテープDTを介してリングフレームRFにマウントされた状態を保っており、リングフレームRFを図示しない吸着パッドでテーブル11から取り出して後工程に移載されることとなる。この際、ダイシングテープDTは、前述したダイシングの際に内側テーブル11Bの上昇によって一時的に張力が付与された状態となるため、この張力が解除されることによって弛みを生ずることになるが、当該弛みが切削溝CLの形成部位に及ぶことはない。   Each chip C divided and separated after dicing is kept mounted on the ring frame RF via the dicing tape DT, and the ring frame RF is taken out from the table 11 by a suction pad (not shown). It will be transferred to a later process. At this time, the dicing tape DT is in a state in which a tension is temporarily applied by the rise of the inner table 11B during the dicing described above, and the slack is caused by releasing the tension. The slack does not reach the formation site of the cutting groove CL.

すなわち、前記第1実施形態によれば、チップC相互間に表出する紫外線硬化型の接着剤層USの硬化部分US1の存在によって、チップCの相互間隔を保つことができるようになり、切削溝CLに対応した隙間の間隔が一定に保たれてチップC同士の接触による端縁破損を防止することができる。また、チップCをボンディングする際の吸着コレットとの相対位置ずれも防止できるため、吸着コレットがチップC間に跨ってしまうような不都合も回避可能となる。   That is, according to the first embodiment, the mutual spacing between the chips C can be maintained by the presence of the cured portion US1 of the ultraviolet curable adhesive layer US that is exposed between the chips C. The gaps corresponding to the grooves CL are kept constant, and edge damage due to contact between the chips C can be prevented. Further, since it is possible to prevent the relative position shift with the suction collet when the chip C is bonded, it is possible to avoid the disadvantage that the suction collet straddles between the chips C.

[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態について図5ないし図8を参照しながら説明する。なお、以下の説明において、第1実施形態と同一若しくは同等の構成部分については同一符号を用いるものとし、説明を省略若しくは簡略にする。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the following description, the same reference numerals are used for the same or equivalent components as in the first embodiment, and the description is omitted or simplified.

第2実施形態は、いわゆる先ダイシングが行われたウエハWの裏面を研削することで当該ウエハWを分割して個片化する分割装置45であり、当該分割装置45による分割の対象となるウエハWは、図5(B)に示されるように、裏面研削を行う前の段階で回路面側にウエハWの厚さよりも浅い切削溝CLが予め形成され、当該回路面側に保護シートPSが貼付されている。また、第2実施形態では、ウエハWの裏面研削用のグラインダー50が採用され、これに伴って、紫外線照射装置15及び除去装置16は、グラインダー50の外周に沿う形状を備えた構造となっている。   The second embodiment is a dividing device 45 that divides the wafer W into pieces by grinding the back surface of the wafer W that has been so-called pre-diced, and the wafer to be divided by the dividing device 45. 5B, as shown in FIG. 5B, a cutting groove CL shallower than the thickness of the wafer W is formed in advance on the circuit surface side before the back surface grinding, and the protective sheet PS is formed on the circuit surface side. It is affixed. Further, in the second embodiment, the grinder 50 for grinding the back surface of the wafer W is adopted, and accordingly, the ultraviolet irradiation device 15 and the removal device 16 have a structure along the outer periphery of the grinder 50. Yes.

前記グラインダー50は、図6及び図7に示されるように、モータMと、当該モータMの出力軸に固定された回転部材51と、当該回転部材51の下端に取り付けられた砥石ホルダ53と、この砥石ホルダ53の下面に取り付けられた砥石55と、前記モータMを支持する支持アーム57とを備えて構成されている。   As shown in FIGS. 6 and 7, the grinder 50 includes a motor M, a rotating member 51 fixed to the output shaft of the motor M, a grindstone holder 53 attached to the lower end of the rotating member 51, A grindstone 55 attached to the lower surface of the grindstone holder 53 and a support arm 57 that supports the motor M are provided.

前記紫外線照射装置15は、図8にも示されるように、砥石ホルダ53の外周部分を囲む略1/4円弧の平面形状をなし、その下端側領域が紫外線照射領域となるように形成されている。   As shown in FIG. 8, the ultraviolet irradiation device 15 has a substantially ¼ arc planar shape surrounding the outer periphery of the grindstone holder 53, and its lower end side region is formed as an ultraviolet irradiation region. Yes.

また、除去装置16は、砥石ホルダ53と紫外線照射装置15との間に配置されている。この除去装置16は、紫外線照射装置15の内周に沿う平面形状を備えて下面側に吸引口を備えた吸引管60と、この吸引管60に接続されたバキュームホース61とにより構成されている。   The removal device 16 is disposed between the grindstone holder 53 and the ultraviolet irradiation device 15. The removing device 16 includes a suction tube 60 having a planar shape along the inner periphery of the ultraviolet irradiation device 15 and having a suction port on the lower surface side, and a vacuum hose 61 connected to the suction tube 60. .

第2実施形態では、ウエハWは、保護シートPSを介してテーブル11上に吸着固定され、グラインダー50によってウエハWの裏面側が研削される。この研削は、予め形成された切削溝CLに達するまでの研削であり、これにより、ウエハWを個片化してチップCを形成できるようになっている。研削に際して生ずる研削屑は除去装置16によって吸引除去される一方、チップCを形成する切削溝CL間に表れる紫外線硬化型の接着剤層US部分は紫外線が照射されて硬化部分US1(図9参照)を形成する。   In the second embodiment, the wafer W is sucked and fixed onto the table 11 via the protective sheet PS, and the back side of the wafer W is ground by the grinder 50. This grinding is performed until the cutting groove CL formed in advance is reached, whereby the wafer C can be separated into individual chips C. Grinding debris generated during grinding is removed by suction by the removing device 16, while the ultraviolet curable adhesive layer US portion appearing between the cutting grooves CL forming the chip C is irradiated with ultraviolet rays to be cured portion US1 (see FIG. 9). Form.

従って、このような第2実施形態によっても、チップC間に表出する紫外線硬化型の接着剤層US部分に硬化部分US1を形成できるので、分割終了後において、切削溝CLの隙間が狭まってチップCの端縁が損傷してしまうことを防止可能な分割装置45を提供することができる。これを更に詳述すると、保護シートPSをウエハWに貼付する際には、当該保護シートPSが一定の張力を付与された状態で貼付されるが、この場合のウエハWは、研削前であるから、その厚みによる剛性で反り若しくは縮み変形等は生じない状態となっている。しかし、研削を行うことで極薄化したチップCの集合体になると、初期の剛性を維持することができないので、保護シートPSには縮もうとする応力が作用することとなる。この場合でも、本実施形態によれば、各チップC間の紫外線硬化型の接着剤層USは、硬化部分US1が形成された状態に保たれるため、これによって切削溝CLの隙間を一定に保つことが可能となり、チップC同士の接触による端縁破損を防止することができる。   Accordingly, even in such a second embodiment, the cured portion US1 can be formed in the ultraviolet curable adhesive layer US portion exposed between the chips C, so that the gap of the cutting groove CL is narrowed after the division is completed. It is possible to provide the dividing device 45 that can prevent the edge of the chip C from being damaged. More specifically, when the protective sheet PS is attached to the wafer W, the protective sheet PS is attached in a state where a certain tension is applied. In this case, the wafer W is before grinding. Therefore, no warpage or shrinkage deformation occurs due to the rigidity of the thickness. However, when an aggregate of chips C that has been made extremely thin by grinding, the initial rigidity cannot be maintained, so that the stress to be reduced acts on the protective sheet PS. Even in this case, according to the present embodiment, the ultraviolet curable adhesive layer US between the chips C is kept in a state in which the cured portion US1 is formed, thereby making the gap of the cutting groove CL constant. It becomes possible to maintain the edge, and damage to the edge due to contact between the chips C can be prevented.

以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更を加えることができるものである。
As described above, the best configuration, method, and the like for carrying out the present invention have been disclosed in the above description, but the present invention is not limited to this.
That is, the present invention has been illustrated and described mainly with respect to specific embodiments, but the shape, position, or position of the above-described embodiments can be reduced without departing from the scope of the technical idea and object of the present invention. With respect to the arrangement and the like, those skilled in the art can make various changes as necessary.

例えば、前記実施形態におけるエネルギー線は紫外線である場合を説明したが、その他のエネルギー線であってもよく、これに対応した照射装置を採用することができる。また、紫外線照射装置15,除去装置16は、図示構成例に限定されるものではなく、実質的に同等の作用を奏する限り、種々の変更を行うことができる。
また、個片化される対象はウエハ以外の板状部材も対象とすることができる。
For example, although the energy ray in the said embodiment demonstrated the case where it was an ultraviolet-ray, another energy ray may be sufficient and the irradiation apparatus corresponding to this can be employ | adopted. Further, the ultraviolet irradiation device 15 and the removal device 16 are not limited to the illustrated configuration example, and various modifications can be made as long as they exhibit substantially the same operation.
The object to be separated can also be a plate-like member other than a wafer.

(A)は、本発明の第1実施形態に係るダイシング装置の概略斜視図、(B)は同実施形態における分割対象となるウエハがリングフレームにマウントされた状態を示す断面図。(A) is a schematic perspective view of the dicing apparatus according to the first embodiment of the present invention, and (B) is a cross-sectional view showing a state in which a wafer to be divided in the same embodiment is mounted on a ring frame. 前記ダイシング装置の概略正面図。The schematic front view of the said dicing apparatus. 前記ダイシング装置の概略平面図。The schematic plan view of the said dicing apparatus. 分割と紫外線照射が行われた状態を示す断面図。Sectional drawing which shows the state by which division | segmentation and ultraviolet irradiation were performed. (A)は、本発明の第2実施形態に係る板状部材の分割装置の概略斜視図、(B)は同実施形態における分割対象となるウエハが先ダイシングされて回路面側に保護シートが貼付された状態を示す断面図。(A) is a schematic perspective view of a plate-like member dividing device according to a second embodiment of the present invention, and (B) is a wafer to be divided in the same embodiment is diced first, and a protective sheet is provided on the circuit surface side. Sectional drawing which shows the state stuck. 紫外線照射装置と除去装置を省略した状態を示す図5(A)と同様の斜視図。The perspective view similar to FIG. 5 (A) which shows the state which abbreviate | omitted the ultraviolet irradiation device and the removal apparatus. 第2実施形態に係る板状部材の分割装置の概略正面図。The schematic front view of the division apparatus of the plate-shaped member which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る板状部材の分割装置の概略平面図。The schematic plan view of the dividing apparatus of the plate-shaped member which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る板状部材の分割装置で裏面研削と紫外線照射が行われた状態を示す断面図。Sectional drawing which shows the state by which back surface grinding and ultraviolet irradiation were performed with the division apparatus of the plate-shaped member which concerns on 2nd Embodiment. (A)〜(E)は、従来のダイシング方法を説明するための工程図。(A)-(E) are process drawings for demonstrating the conventional dicing method. (A)〜(F)は、従来のダイシング方法の他の例を説明するための工程図。(A)-(F) are process drawings for demonstrating the other example of the conventional dicing method.

符号の説明Explanation of symbols

10 ダイシング装置
11 テーブル
13 ロータリーカッター
15 紫外線照射装置
16 除去装置
45 分割装置
50 グラインダー
CL 切削溝
W ウエハ(板状部材)
PS 保護シート
DT ダイシングテープ(接着シート)
US 紫外線硬化型の接着剤層
US1 硬化部分
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Dicing apparatus 11 Table 13 Rotary cutter 15 Ultraviolet irradiation apparatus 16 Removal apparatus 45 Dividing apparatus 50 Grinder CL Cutting groove W Wafer (plate-shaped member)
PS protective sheet DT dicing tape (adhesive sheet)
US UV curable adhesive layer US1 Cured part

Claims (10)

エネルギー線硬化型の接着シートに貼付された板状部材を切削して当該板状部材を個片化する板状部材の分割装置において、
前記板状部材を支持するテーブルと、当該テーブルに支持された板状部材を切削するカッターと、このカッターに併設されたエネルギー線照射装置とを備え、
前記エネルギー線照射装置は、前記カッターによる切削で切削後に表出する接着シート部分にエネルギー線を照射して当該接着シート部分を硬化させることを特徴とする板状部材の分割装置。
In the plate-like member dividing apparatus that cuts the plate-like member attached to the energy ray curable adhesive sheet and separates the plate-like member into pieces,
A table that supports the plate-like member, a cutter that cuts the plate-like member supported by the table, and an energy beam irradiation device that is attached to the cutter,
The said energy ray irradiation apparatus irradiates an energy ray to the adhesive sheet part exposed after cutting by the cutting with the said cutter, and hardens the said adhesive sheet part, The division | segmentation apparatus of the plate-shaped member characterized by the above-mentioned.
エネルギー線硬化型の接着シートに板状部材の厚さよりも浅い切削溝が形成された板状部材の切削面側を貼付し、前記切削面の反対側面を研削して前記板状部材を個片化する板状部材の分割装置において、
前記板状部材を支持するテーブルと、当該テーブルに支持された板状部材を研削するグラインダーと、このグラインダーに併設されたエネルギー線照射装置とを備え、
前記エネルギー線照射装置は、前記グラインダーの研削で研削後に表出する接着シート部分にエネルギー線を照射して当該接着シート部分を硬化させることを特徴とする板状部材の分割装置。
The cutting surface side of the plate-like member in which the cutting groove shallower than the thickness of the plate-like member is formed is pasted on the energy ray curable adhesive sheet, and the opposite side of the cutting surface is ground to separate the plate-like member into pieces. In the plate-shaped member dividing apparatus to be
A table that supports the plate-like member, a grinder that grinds the plate-like member supported by the table, and an energy beam irradiation device that is attached to the grinder,
The said energy beam irradiation apparatus irradiates an energy ray to the adhesive sheet part exposed after grinding by grinding of the said grinder, and hardens the said adhesive sheet part, The division | segmentation apparatus of the plate-shaped member characterized by the above-mentioned.
前記板状部材の切削屑若しくは研削屑を除去する除去装置が前記エネルギー線照射装置に併設されていることを特徴とする請求項1又は2記載の板状部材の分割装置。 3. The plate-shaped member dividing device according to claim 1, wherein a removal device for removing cutting waste or grinding waste of the plate-like member is provided in the energy beam irradiation device. 前記エネルギー線の照射は、前記切削若しくは研削に追従して略同時に行われることを特徴とする請求項1,2又は3記載の板状部材の分割装置。 4. The plate member dividing device according to claim 1, wherein the irradiation with the energy beam is performed substantially simultaneously with the cutting or grinding. 前記板状部材は半導体ウエハであり、前記エネルギー線硬化型の接着シートは、ベースシート上にエネルギー線硬化型の接着剤層を設けて構成されていることを特徴とする請求項1,2,3又は4記載の板状部材の分割装置。 The plate member is a semiconductor wafer, and the energy ray curable adhesive sheet is configured by providing an energy ray curable adhesive layer on a base sheet. The plate-like member dividing device according to 3 or 4. エネルギー線硬化型の接着シートに貼付された板状部材を切削して当該板状部材を個片化する板状部材の分割方法において、
前記接着シートを介して板状部材をテーブル上に支持しておき、
前記板状部材の上面側から当該板状部材をカッターで切削し、
前記切削によって切削後に表出する接着シート部分にエネルギー線を照射し、
前記エネルギー線の照射によって前記接着シート部分を硬化させた状態で前記板状部材を個片化することを特徴とする板状部材の分割方法。
In the dividing method of the plate-like member that cuts the plate-like member attached to the energy ray curable adhesive sheet and separates the plate-like member,
The plate-like member is supported on the table via the adhesive sheet,
The plate member is cut with a cutter from the upper surface side of the plate member,
Irradiate energy rays to the adhesive sheet portion exposed after cutting by the cutting,
The plate-like member dividing method, wherein the plate-like member is divided into pieces in a state where the adhesive sheet portion is cured by irradiation with the energy rays.
エネルギー線硬化型の接着シートに板状部材の厚さよりも浅い切削溝が形成された板状部材の切削面側を貼付し、前記切削面の反対側面を研削して前記板状部材を個片化する板状部材の分割方法において、
前記接着シートを介して前記板状部材をテーブル上に支持しておき、
前記板状部材の切削面の反対側から当該板状部材をグラインダーで研削し、
前記研削によって研削後に表出する接着シート部分にエネルギー線を照射し、
前記エネルギー線の照射によって前記接着シート部分を硬化させた状態で前記板状部材を個片化することを特徴とする板状部材の分割方法。
The cutting surface side of the plate-like member in which the cutting groove shallower than the thickness of the plate-like member is formed is pasted on the energy ray curable adhesive sheet, and the opposite side of the cutting surface is ground to separate the plate-like member into pieces. In the method of dividing the plate-like member to be converted,
The plate-like member is supported on a table via the adhesive sheet,
Grinding the plate member from the opposite side of the cutting surface of the plate member with a grinder,
Irradiate the energy sheet to the adhesive sheet portion exposed after grinding by the grinding,
The plate-like member dividing method, wherein the plate-like member is divided into pieces in a state where the adhesive sheet portion is cured by irradiation with the energy rays.
前記板状部材の切削屑若しくは研削屑の除去が切削若しくは研削に追従して行われることを特徴とする請求項6又は7記載の板状部材の分割方法。 The method for dividing a plate-like member according to claim 6 or 7, wherein removal of cutting waste or grinding waste of the plate-like member is performed following cutting or grinding. 前記エネルギー線の照射は、前記切削若しくは研削に追従して略同時に行われることを特徴とする請求項6,7又は8記載の板状部材の分割方法。 9. The plate member dividing method according to claim 6, 7 or 8, wherein the irradiation of the energy beam is performed substantially simultaneously with the cutting or grinding. 前記板状部材は半導体ウエハであり、前記エネルギー線硬化型の接着シートは、ベースシート上にエネルギー線硬化型の接着剤層を設けて構成されていることを特徴とする請求項6,7,8又は9記載の板状部材の分割方法。 The plate member is a semiconductor wafer, and the energy ray curable adhesive sheet is configured by providing an energy ray curable adhesive layer on a base sheet. The method for dividing a plate-like member according to 8 or 9.
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