JP2013231310A - 真空弁及び真空弁ユニット - Google Patents
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Abstract
【課題】真空弁内の夾雑物を容易に除去することができる真空弁及びこの真空弁を備えた真空弁ユニットを提供する。
【解決手段】貯留槽2から下水を吸引する吸込み管3と真空源に連通した真空下水管4との間に配設される配管9と、配管9の流路を開閉する弁体10と、弁体10を配管9内に着座させる弁座とを備えた真空弁において、弁体10により流路Rを閉じた状態で、貯留槽2内の下水Wを真空下水管4に向けて排出可能とするバイパス管6を接続させるバイパス管用分岐部30が、弁座の形成位置に隣接して配管9の周壁部に設けられていることを特徴とする。
【選択図】図1
【解決手段】貯留槽2から下水を吸引する吸込み管3と真空源に連通した真空下水管4との間に配設される配管9と、配管9の流路を開閉する弁体10と、弁体10を配管9内に着座させる弁座とを備えた真空弁において、弁体10により流路Rを閉じた状態で、貯留槽2内の下水Wを真空下水管4に向けて排出可能とするバイパス管6を接続させるバイパス管用分岐部30が、弁座の形成位置に隣接して配管9の周壁部に設けられていることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
本発明は、各家庭や工場等の建物から排出された下水を、真空圧により下水本管に排出する真空弁及びこの真空弁を用いた真空弁ユニットに関する。
近年、下水道の排水システムとして、各家庭や工場等の建物から排出された下水を高所から低所に向けて流下させる自然流下式に代えて、真空圧を利用して低所から高所にも流水可能とし、地形及び地下埋設物の配置等の諸条件に好適に対応可能な真空式下水システムが広く採用されている。従来より、真空式下水システムでは、例えば下記特許文献1に記載された真空ユニットが用いられ、下水を真空ユニットに一時的に貯留し、断続的に下水本管に排水できるようになっている。
図5に示すように、特許文献1に記載の真空ユニットUは、下水Wを一時的に貯留する貯留槽50と、貯留槽50内に貯留された下水Wを吸引する吸込み管51と、吸込み管51と真空源に連通された真空下水管52との間に設置され、これらの間を連通又は遮断させる真空弁53及び仕切弁54と、仕切弁54よりも真空下水管52側に接続され、真空弁53又は仕切弁54を閉じた状態で貯留槽50内の下水Wを真空下水管52に排出させることのできるバイパス管55とを備えている。
ところで、真空弁53は、油類等の液体その他の夾雑物を含む下水Wを流動させるものであるため、不図示の弁体を着座させる弁座の周辺に夾雑物が堆積してその開弁又は閉弁に支障が生じたり、下水Wの流動性が低下したりすることがあった。しかし、真空弁53内の夾雑物の除去は、真空弁53を分解して行う必要があるため、作業負担が過大であるという問題があった。
そこで、本発明は、上記課題に鑑み、真空弁内の夾雑物を容易に除去することができる真空弁及びこの真空弁を備えた真空弁ユニットを提供することを課題とする。
そこで、本発明は、上記課題に鑑み、真空弁内の夾雑物を容易に除去することができる真空弁及びこの真空弁を備えた真空弁ユニットを提供することを課題とする。
本発明は、貯留槽に貯留された下水を吸引する吸込み管と真空源に連通した真空下水管との間に配設される配管と、前記配管の流路を開閉する弁体と、この弁体を前記配管内に着座させる弁座とを備えた真空弁において、前記弁体により前記流路を閉じた状態で、前記貯留槽内の下水を真空下水管に排出可能とするバイパス管を接続させるバイパス管用分岐部が、前記弁座の形成位置に隣接して前記配管の周壁部に設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、前記弁座の形成位置に隣接して設けられたバイパス管用分岐部に、バイパス管を接続させることができる。したがって、下水内に含まれた夾雑物が弁座の周辺に堆積した場合に、バイパス管用分岐部から噴出する水流で前記夾雑物を除去することが可能となる。
また、本発明は、前記配管には、前記弁体を駆動する駆動部が支持された弁体用分岐管が設けられ、前記バイパス管用分岐部は、前記弁体用分岐管に隣接して、上方に突出して設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、バイパス管用分岐部が、弁体用分岐管に隣接して、上方に突出して設けられているため、下水を弁座周辺に向けて強力に流下させることができる。したがって、バイパス用分岐管から噴出する下水により、弁座の周辺に堆積した夾雑物を効果的に除去することができる。また、下水を流下させるため、バイパス管用分岐部内又はバイパス管の接続部近傍に夾雑物を堆積させ難くすることができる。
また、本発明は、前記バイパス管用分岐部が、前記真空下水管側に傾斜する方向に突出していることを特徴とする。
本発明によれば、前記バイパス管用分岐部が、前記真空下水管側に傾斜する方向に突出しているため、このバイパス管用分岐部内を流動する前記下水を、弁座の周辺に堆積した夾雑物に向かうように噴出させることができる。したがって、弁座周辺に堆積した夾雑物を好適に除去することができる。
また、本発明は、各建物からの下水を一時的に貯留する貯留槽と、この貯留槽内に設置された請求項1〜3のいずれかに記載の真空弁と、前記真空弁が閉じられた状態で、前記貯留槽内の下水を真空下水管に向けて排出可能とするバイパス管とを備えていることを特徴とする。
本発明によれば、真空弁ユニットが、弁座の周辺に堆積した夾雑物を、バイパス管用分岐部から噴出する水流で除去することが可能な真空弁を備えている。したがって、バイパス管を用いて下水を排出するだけで夾雑物の堆積により低下した真空ユニットの排水機能を容易に回復させることができる。
本発明によれば、前記弁座の形成位置に隣接して設けられたバイパス管用分岐部に、バイパス管を接続させることができる。したがって、下水内に含まれた夾雑物が弁座の周辺に堆積した場合に、バイパス管用分岐部から噴出する水流で前記夾雑物を除去することが可能となる。
また、本発明は、前記配管には、前記弁体を駆動する駆動部が支持された弁体用分岐管が設けられ、前記バイパス管用分岐部は、前記弁体用分岐管に隣接して、上方に突出して設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、バイパス管用分岐部が、弁体用分岐管に隣接して、上方に突出して設けられているため、下水を弁座周辺に向けて強力に流下させることができる。したがって、バイパス用分岐管から噴出する下水により、弁座の周辺に堆積した夾雑物を効果的に除去することができる。また、下水を流下させるため、バイパス管用分岐部内又はバイパス管の接続部近傍に夾雑物を堆積させ難くすることができる。
また、本発明は、前記バイパス管用分岐部が、前記真空下水管側に傾斜する方向に突出していることを特徴とする。
本発明によれば、前記バイパス管用分岐部が、前記真空下水管側に傾斜する方向に突出しているため、このバイパス管用分岐部内を流動する前記下水を、弁座の周辺に堆積した夾雑物に向かうように噴出させることができる。したがって、弁座周辺に堆積した夾雑物を好適に除去することができる。
また、本発明は、各建物からの下水を一時的に貯留する貯留槽と、この貯留槽内に設置された請求項1〜3のいずれかに記載の真空弁と、前記真空弁が閉じられた状態で、前記貯留槽内の下水を真空下水管に向けて排出可能とするバイパス管とを備えていることを特徴とする。
本発明によれば、真空弁ユニットが、弁座の周辺に堆積した夾雑物を、バイパス管用分岐部から噴出する水流で除去することが可能な真空弁を備えている。したがって、バイパス管を用いて下水を排出するだけで夾雑物の堆積により低下した真空ユニットの排水機能を容易に回復させることができる。
本発明によれば、弁座の形成位置に隣接した配管の周壁部にバイパス管用分岐部を設けており、このバイパス管用分岐部にバイパス管を接続させることができる。したがって、弁座の周辺に堆積した夾雑物をバイパス管用分岐部から噴出する下水の水流で除去することが可能となり、真空弁内の詰まりや水流の低下を容易に解消することができるという効果を奏する。
以下、本発明に係る真空弁及び真空弁ユニットの実施形態について、図1,図2を参照して説明する。
図1は、本発明の一実施形態として示した真空弁ユニット1であり、不図示の一又は複数戸の建物の排水管33に接続され、地中に埋設されるものである。
図1は、本発明の一実施形態として示した真空弁ユニット1であり、不図示の一又は複数戸の建物の排水管33に接続され、地中に埋設されるものである。
真空弁ユニット1は、各家庭や工場等の建物から排出された下水Wを一時的に貯留する貯留槽2と、貯留槽2内に貯留された下水Wを吸引する吸込み管3と、この吸込み管3と不図示の真空源に連通した真空下水管4との間に接続され、これらの間で開弁又は閉弁して連通又は遮断させる真空弁5と、真空弁5に接続されたバイパス管6とを備えている。
貯留槽2は、上方が開口した略有底円筒状の槽2Aと、槽2Aの開口部を封止する蓋部材7とを備えている。
貯留槽2内の上部側は、真空弁5の設置スペース2aとされ、設置スペース2aの下部側は、下水Wを貯留するタンク部2bとされている。
吸込み管3は、一端部3aがタンク部2bの底部8近傍に配置され、他端部3bが真空弁5の設置スペース2aまで引き上げられて真空弁5に接続されている。真空下水管4は、貯留槽2に形成された開口部に一端部4aが挿入されて真空弁5に接続され、他端が不図示の真空源に接続されている。
貯留槽2内の上部側は、真空弁5の設置スペース2aとされ、設置スペース2aの下部側は、下水Wを貯留するタンク部2bとされている。
吸込み管3は、一端部3aがタンク部2bの底部8近傍に配置され、他端部3bが真空弁5の設置スペース2aまで引き上げられて真空弁5に接続されている。真空下水管4は、貯留槽2に形成された開口部に一端部4aが挿入されて真空弁5に接続され、他端が不図示の真空源に接続されている。
図2に示すように、真空弁5は、配管9と、配管9の流路Rを開閉させる弁体10と、弁体10を支持する弁軸11と、弁体10及び弁軸11を駆動する駆動機構Fとを備え、吸込み管3と真空下水管4との間に配設されている。
配管9は、吸込み管3と真空下水管4との間に管軸方向L3が水平方向を向くように配置され、カップリング12,12を用いて一端部9aが吸込み管3に、他端部9bが真空下水管4に接続されている。
配管9の内壁面9sには、弁体10を着座させる弁座13が突出して形成されている。また、配管9の周壁部9tには、弁体10及び弁軸11が収容されるとともに駆動機構Fが支持される弁体用分岐管15が、吸込み部3側に傾いて突出している。
配管9は、吸込み管3と真空下水管4との間に管軸方向L3が水平方向を向くように配置され、カップリング12,12を用いて一端部9aが吸込み管3に、他端部9bが真空下水管4に接続されている。
配管9の内壁面9sには、弁体10を着座させる弁座13が突出して形成されている。また、配管9の周壁部9tには、弁体10及び弁軸11が収容されるとともに駆動機構Fが支持される弁体用分岐管15が、吸込み部3側に傾いて突出している。
弁体用分岐管15は、小径部15Aと大径部15Bとを備え、配管9の流路Rと連通している。大径部15Bには、その内壁面に沿って弁体用分岐管15を塞ぐようにインナーハウジング16が設置されている。このインナーハウジング16には、弁軸11を挿通させる挿通孔16aが形成されている。また、大径部15Bの開口部15kには、端部が径方向に張り出したフランジY1が形成されている。
弁体用分岐管15には、略有底円筒形状の筐体18がその開口部18kに形成されたフランジY2をフランジY1に対向させて設置されている。そして、筐体18側には、内部空間Sが形成されている。
内部空間Sには、軸線L1方向に付勢するスプリング19、スプリング19を筐体18内に保持し、かつ、弁軸11の端部11aを挿通させて固定する有底円筒状のダイヤフラムカップ20、スプリング19が配置された内部空間Sを気密に封止するシール部材21及びシール部材21をダイヤフラムカップ20と共に挟み込むダイヤフラム押さえ22が配されている。
筐体18には、バイパス管6の後述する真空管側管路6Pに連通したパイプ23が接続されており、筐体18の先端部に設置されたコントローラ24により適時に内部空間Sとバイパス管6の真空管側管路6P内との間が連通又は遮断されるようになっている。
内部空間Sには、軸線L1方向に付勢するスプリング19、スプリング19を筐体18内に保持し、かつ、弁軸11の端部11aを挿通させて固定する有底円筒状のダイヤフラムカップ20、スプリング19が配置された内部空間Sを気密に封止するシール部材21及びシール部材21をダイヤフラムカップ20と共に挟み込むダイヤフラム押さえ22が配されている。
筐体18には、バイパス管6の後述する真空管側管路6Pに連通したパイプ23が接続されており、筐体18の先端部に設置されたコントローラ24により適時に内部空間Sとバイパス管6の真空管側管路6P内との間が連通又は遮断されるようになっている。
上記の構成の下に、弁体用分岐管15と筐体18とは、それぞれのフランジY1,Y2を対向させるとともに、フランジY1,Y2同士の間にインナーハウジング16及びシール部材21の各端部を挟み込んだ状態で、かつ、弁体用分岐管15、筐体18、インナーハウジング16、スプリング19及び弁軸11の軸線L1を共通にして、不図示のボルト及びナットにより緊締されている。
そして、スプリング19、ダイヤフラムカップ20、ダイヤフラム押さえ22、コントローラ24及びこれらを保持する筐体18は、弁体10及び弁軸11を駆動させる駆動機構Fを構成している。駆動機構Fは、弁体10及び弁軸11を弁体用分岐管15の軸線L1に沿って弁座13に向かって進出及び退避させるよう構成されている。
また、配管9の周壁部9tには、バイパス管6を接続させるバイパス管用分岐部30が、その先端を鉛直方向上方に向け、弁体用分岐管15の下流側に隣接して設けられている。すなわち、バイパス管用分岐部30は、弁座13の形成位置に隣接した位置、言い換えると、このバイパス管用分岐部30に接続させたバイパス管6から噴出する下水Wを、配管9の弁座13の周辺に向けて流下させ、下水Wを弁座13の周辺に及ばせて乱流させ、弁座13の周辺に滞留した不図示の夾雑物を除去し得る位置に形成されている。
バイパス管6は、真空弁5の弁体10の開閉に関わらず、タンク部2bに貯留された下水W(図1参照)を真空下水管4に排出できるように設置されたものであり、一端部6aがバイパス管用分岐部30に接続されて上方に向かって延び、図1に示すように貯留槽2の蓋部材7近傍で折曲して水平方向に延び、その後下方に向かって折曲し、他端部6bがタンク部2bの底部8近傍に配置されている。
バイパス管6が蓋部材7近傍で水平方向に延びた部分には、手動でバイパス管6の流路を開閉できる手動バルブ31が設けられており、真空弁5の弁体10が配管9の流路Rを閉じた状態においても手動バルブ31を開弁させることにより、タンク部2b内の下水Wを排出できるようになっている。手動バルブ31は、定常時において閉じられており、この状態においては手動バルブ31よりも真空下水管4側に接続された真空管側管路内6Pだけに真空圧が作用するようになっている。
タンク部2bの周壁32には、不図示の建物に設けられた排水機構から延び、下水Wを貯留槽2内に流入させる排水管33の一端部33aが、タンク部2bに貯留させる所定の最高水位よりも上方に挿入されて固定されており、下水Wをタンク部2bに随時流入させ、貯留できるようになっている。
また、排水管33が固定されたタンク部2bの周壁32よりも更に高所には、通気用配管34の一端部34aが挿入されており、貯留された下水Wが真空下水管4に吸引された場合に、タンク部2b内に空気が補充されるようになっている。
更に、タンク部2b内には、水位検知管35が設置され、下水Wの水圧及び水位を常時検出できるようになっており、検出結果の信号を不図示のホースにより真空弁5のコントローラ24に送信するようになっている。
また、排水管33が固定されたタンク部2bの周壁32よりも更に高所には、通気用配管34の一端部34aが挿入されており、貯留された下水Wが真空下水管4に吸引された場合に、タンク部2b内に空気が補充されるようになっている。
更に、タンク部2b内には、水位検知管35が設置され、下水Wの水圧及び水位を常時検出できるようになっており、検出結果の信号を不図示のホースにより真空弁5のコントローラ24に送信するようになっている。
次に、真空弁ユニット1の作用機能について説明する。
図1に示すように、真空弁ユニット1は、建物から排出された下水Wを排水管33を介してタンク部2bに流入させ、所定水位に至るまで一時的に貯留する。下水Wの水位が、所定水位に至ると、水位検知管35がこれを検出し、その検出結果をコントローラ24に伝達する。
図2に示すように、コントローラ24は、図1に示す水位検知管35からの伝達を受けて、スプリング19を配置させた内部空間Sとパイプ23とを連通させ、内部空間Sを真空引きする。これにより、内部空間Sがスプリング19の付勢力に抗して真空圧によって圧縮され、ダイヤフラムカップ20に固定された弁軸11が筐体18内に引き込まれ、弁体10が弁体用分岐管15内に退避する。
図1に示すように、真空弁ユニット1は、建物から排出された下水Wを排水管33を介してタンク部2bに流入させ、所定水位に至るまで一時的に貯留する。下水Wの水位が、所定水位に至ると、水位検知管35がこれを検出し、その検出結果をコントローラ24に伝達する。
図2に示すように、コントローラ24は、図1に示す水位検知管35からの伝達を受けて、スプリング19を配置させた内部空間Sとパイプ23とを連通させ、内部空間Sを真空引きする。これにより、内部空間Sがスプリング19の付勢力に抗して真空圧によって圧縮され、ダイヤフラムカップ20に固定された弁軸11が筐体18内に引き込まれ、弁体10が弁体用分岐管15内に退避する。
弁体10が弁体用分岐管15内に退避することで配管9が開口し、配管9の流路Rを介して吸込み管3と真空下水管4とを連通させるため、真空下水管4内の真空圧により、真空弁5の配管9及び吸込み管3内の空気が真空下水管4に向かって引き込まれる。その後、下水Wが、図1に示す吸込み管3の先端3aから吸い上げられるとともに、配管9の流路Rを経由して真空下水管4に排出される。タンク部2b内の下水Wの水位が所定位置まで下がると、コントローラ24がこれを検知し、パイプ23と内部空間Sとを遮断し、内部空間Sを漸次大気圧に戻す。内部空間Sの真空圧が減少すると、真空弁5のスプリング19が弾性復帰し、弁体10が弁座13に向けて前進し、弁座13に着座することにより配管9の流路Rが再び閉じられる。
真空弁ユニット1は、定常時に上記の動作を繰り返し、真空弁ユニット1のタンク部2bに貯留された下水Wを真空下水管4を介して不図示の下水本管に排水する。
一方、弁体10が配管9の流路Rを閉じた状態で真空弁5が作動しない場合や、真空弁ユニット1が一定期間使用された後で、真空弁5内に夾雑物が溜まる頃には、手動バルブ31を閉弁し、バイパス6を用いて下水Wを排水する。
一方、弁体10が配管9の流路Rを閉じた状態で真空弁5が作動しない場合や、真空弁ユニット1が一定期間使用された後で、真空弁5内に夾雑物が溜まる頃には、手動バルブ31を閉弁し、バイパス6を用いて下水Wを排水する。
バイパス管6の手動バルブ31を開弁すると、配管9を介して真空下水管4の真空圧がバイパス管6内に作用するため、バイパス管6の他端部6bから下水Wが強制的に吸引され、バイパス管用分岐部30を介して下水Wが配管9の流路Rに噴出する。この際、下水Wは、バイパス管用分岐部30が弁座13の形成位置に隣接して弁座13の下流に設けられているため、バイパス管用分岐部30から噴出して弁座13に至り、弁座13及びその周辺に堆積した不図示の夾雑物を流路R内に舞い上がらせて、この夾雑物と共に真空下水管4に向かって流動する。
このように、真空弁5の動作を停止し、バイパス管6を用いてタンク部2b内の下水Wを排出すると、同時に配管9の流路Rの夾雑物が除去される。そして、真空弁5が修理され、又は、真空弁5内が清掃された後にバイパス管6の手動バルブ31を閉弁させてバイパス管6からの排水を止め、真空弁5を用いた定常時の動作を回復させる。
以上のように、真空弁5及びこれを用いた真空弁ユニット1によれば、弁座13の形成位置に隣接してこの弁座13の下流側にバイパス用分岐部30が形成されているため、バイパス6を用いてタンク部2b内の下水Wを排出すると同時に、弁座13周辺に下水Wを噴出し、弁座13の周辺に堆積した夾雑物を除去して配管9の流路Rの詰まりを解消させることができるという効果が得られる。
また、バイパス用分岐部30が、配管9に設けられているため、真空弁5とバイパス管6の設置スペース2aをコンパクトにすることができ、真空弁ユニット1をコンパクトに形成することができるという効果が得られる。
また、バイパス用分岐部30が、配管9に設けられているため、真空弁5とバイパス管6の設置スペース2aをコンパクトにすることができ、真空弁ユニット1をコンパクトに形成することができるという効果が得られる。
次に、真空弁5の変形例について図3を用いて説明する。本変形例において、上述した実施形態と同一の構成については同一の符号を付してその説明を省略し、相違する点についてのみ説明する。
図3に示すように、本変形例の真空弁5においては、真空弁5のバイパス管用分岐部40が、配管9の周壁部9tから真空下水管4側に傾いて突出しており、バイパス管6を用いてタンク部2b内の下水Wを排出する際に、下水Wが弁座13及びその周辺に向けてダイレクトに排出されるようになっている。
図3に示すように、本変形例の真空弁5においては、真空弁5のバイパス管用分岐部40が、配管9の周壁部9tから真空下水管4側に傾いて突出しており、バイパス管6を用いてタンク部2b内の下水Wを排出する際に、下水Wが弁座13及びその周辺に向けてダイレクトに排出されるようになっている。
本変形例では、バイパス管用分岐部40が、上記のように形成されていることにより、バイパス管6を経由して排出される下水Wが、弁座13に着座した弁体10の板面10aに沿って流動し、弁座13に向けて真っ直ぐに噴出され、弁座13及び下水Wの噴出方向に対向する配管9の内壁面9sに衝突して乱流となる。したがって、弁座13及びその周辺に堆積した不図示の夾雑物を強力に分散させて舞い上がらせ、下水Wと共に真空下水管4に効率的に排出することができるという効果が得られる。
以上、本発明の一実施形態とその変形例について説明したが、図2,図3に示すバイパス用分岐部30,40は、上記した位置及び向きに形成されたものに限定されない。
すなわち、例えば、図4(a)において二点鎖線で示されたバイパス用分岐部41,42,43,44のいずれかに示すように、弁座13よりも下流側であって、バイパス管6を介してタンク部2b内の下水Wを排水する際に、下水Wが弁座13及びその周辺に達して、弁座13の周辺に堆積した夾雑物を除去し得る周壁部9tに突設されていればよい。
すなわち、例えば、図4(a)において二点鎖線で示されたバイパス用分岐部41,42,43,44のいずれかに示すように、弁座13よりも下流側であって、バイパス管6を介してタンク部2b内の下水Wを排水する際に、下水Wが弁座13及びその周辺に達して、弁座13の周辺に堆積した夾雑物を除去し得る周壁部9tに突設されていればよい。
特に、図4(a),(b)のバイパス用分岐部41〜44のいずれかに示すように、弁座13の下部側により近い位置から上方に向けてバイパス用分岐部を突出させた場合には、夾雑物が堆積しやすい弁座13の下部側により強い水流を噴射させ、夾雑物に当てることができる。また、バイパス用分岐部を配管9の内壁面9sの接線方向に設けた場合には、水流を渦流にすることができ、効果的に夾雑物を除去することが可能となる。
また、バイパス用分岐部30,40の突出方向は、吸込み部3側又は真空下水管4側のいずれ側に傾斜していてもよい。
また、バイパス用分岐部30,40の突出方向は、吸込み部3側又は真空下水管4側のいずれ側に傾斜していてもよい。
また、上記の実施形態とその変形例において、バイパス管用分岐部30,40〜44は、配管9に一体成形されているが、上述した位置及び向きで配置されたものであれば、配管9に一体成形されたものでなくともよく、例えば、配管9にソケットを取り付けてバイパス管用分岐部としたもの等であってもよい。
1 真空弁ユニット
2 貯留槽
3 吸込み管
4 真空下水管
5 真空弁
6 バイパス管
9 配管
9t 周壁部
10 弁体
11 弁軸
13 弁座
15 弁体用分岐管
30,40〜44 バイパス管用分岐部
L1〜L3 軸線
R 流路
W 下水
2 貯留槽
3 吸込み管
4 真空下水管
5 真空弁
6 バイパス管
9 配管
9t 周壁部
10 弁体
11 弁軸
13 弁座
15 弁体用分岐管
30,40〜44 バイパス管用分岐部
L1〜L3 軸線
R 流路
W 下水
Claims (4)
- 貯留槽に貯留された下水を吸引する吸込み管と真空源に連通した真空下水管との間に配設される配管と、前記配管の流路を開閉する弁体と、この弁体を前記配管内に着座させる弁座とを備えた真空弁において、
前記弁体により前記流路を閉じた状態で、前記貯留槽内の下水を真空下水管に排出可能とするバイパス管を接続させるバイパス管用分岐部が、前記弁座の形成位置に隣接して前記配管の周壁部に設けられていることを特徴とする真空弁。 - 前記配管には、前記弁体を駆動する駆動部が支持された弁体用分岐管が設けられ、
前記バイパス管用分岐部は、前記弁体用分岐管に隣接して、上方に突出して設けられていることを特徴とする請求項1に記載の真空弁。 - 前記バイパス管用分岐部は、前記真空下水管側に傾斜する方向に突出していることを特徴とする請求項1又は2に記載の真空弁。
- 各建物からの下水を一時的に貯留する貯留槽と、この貯留槽内に設置された請求項1〜3のいずれかに記載の真空弁と、前記真空弁が閉じられた状態で、前記貯留槽内の下水を真空下水管に向けて排出可能とするバイパス管とを備えていることを特徴とする真空弁ユニット。
Priority Applications (1)
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JP2012104061A JP2013231310A (ja) | 2012-04-27 | 2012-04-27 | 真空弁及び真空弁ユニット |
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---|---|---|---|---|
JPH03247827A (ja) * | 1990-02-23 | 1991-11-06 | Ebara Corp | 真空弁付き汚水ますの仕切り弁 |
JPH05187056A (ja) * | 1992-01-14 | 1993-07-27 | Sekisui Chem Co Ltd | 真空バルブの異物除去装置 |
JPH11181869A (ja) * | 1997-12-17 | 1999-07-06 | Hitachi Metals Ltd | 真空式汚水収集設備 |
-
2012
- 2012-04-27 JP JP2012104061A patent/JP2013231310A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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