JP2013226373A - 空気清浄装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】除菌対象空気51が上流側から下流側に流れる通気路52を有するハウジング50と、前記通気路52を流れる除菌対象空気に殺菌剤溶液を噴霧する噴霧装置53と、前記通気路52から降下する殺菌剤溶液を受け止める循環槽54と、循環槽54の殺菌剤溶液を噴霧装置に供給する循環系55と、循環槽54と循環系55と噴霧装置53と通気路52とで形成される殺菌剤溶液の巡廻系に殺菌剤用液の原液として微酸性電解水を供給する薬剤供給装置56と、殺菌剤溶液を希釈する希釈水を供給する希釈水系571を備える。
【選択図】図1
Description
特許文献1に記載された除菌脱臭空調システムは、空気を循環させる送風機と、温湿度調整を行う冷却および加熱コイルと、殺菌水を空気と接触させる水膜を形成する除菌脱臭エレメントと、殺菌水を供給するための殺菌水生成装置とを備え、殺菌水生成装置によって生成された殺菌水を除菌脱臭エレメントに供給するものである。
本発明の空気清浄装置において、噴霧装置から噴霧された殺菌剤溶液が循環槽および循環系を通って噴霧装置に再帰するまでの循環時間は、殺菌剤溶液中に存在する次亜塩素酸で殺菌するのに要する必要接触時間を満たすことを特徴とする。
本発明の空気清浄装置において、噴霧装置は、飽和効率80%以上を満たすように、通気路中の除菌対象空気に対して殺菌剤溶液を噴霧することを特徴とする。
この巡廻系の中の循環槽54に殺菌剤溶液の原液である微酸性電解水を供給する薬剤供給装置56は、微酸性電解水を生成する電解槽をなす生成装置561と、生成装置561に薬品搬入容器562から原料薬液の塩酸水を供給する開閉バルブ563dを介装した原料供給系563と、生成装置561に希釈用の水を供給する減圧弁564を介装した給水系565と、循環槽54と生成装置561の間に配置する中継槽566と、生成装置561から微酸性電解水を中継槽566に供給する供給ポンプ567を介装した薬剤供給系568と、中継槽566から循環槽54へ微酸性電解水を供給する中継ポンプ569を介装した中継系570を備えている。
(薬剤生成)
薬剤供給装置56は、開閉バルブ563dを開放した状態で原料供給系563を通して薬品搬入容器562から原料薬液の塩酸水を生成装置561に供給するとともに、給水系565から生成装置561に減圧弁564を介して希釈用の水を供給し、生成装置561において2−21%塩酸水を被電解液とする。
(薬剤供給初期時)
運転初期時等において循環槽54に殺菌剤溶液を満たす場合に、薬剤供給装置56は、初期給水制御バルブ575を開放して希釈水初期給水系574を通して希釈水を循環槽54に供給するとともに、薬剤制御バルブ577を開放して供給ポンプ567により薬剤初期供給系576を通して微酸性電解水を循環槽54に供給し、循環槽54の殺菌剤溶液の有効塩素濃度を0.1−10mg/Lに調整する。
(運転時)
薬剤供給装置56は、中継槽566から循環槽54へ微酸性電解水を供給しつつ、希釈水制御バルブ572を開放する状態で流量調整弁573を通して希釈水を循環槽54に供給し、循環槽54の殺菌剤溶液の有効塩素濃度を0.1−10mg/Lに維持する。
本実施の形態では、生成装置561と循環槽54の間に中継槽566を設けているので、中間槽566に微酸性次亜塩素酸水を貯溜することで、生成装置561を断続運転することができ、電極の過熱を防止して生成装置561の温度上昇を抑えられるので、冷却装置などの付帯設備が不要となる。
循環槽54の容量/循環水量(噴霧水量)=循環時間h>必要接触時間
このように捕捉した菌を確実に殺菌することで、殺菌剤溶液の噴霧に伴って菌が再飛散することがなくなり、安全性のより高い空気を供給できる。
(実施例)
以下に、本発明の有効性を示す実施例を説明する。図5は、有効塩素濃度と大腸菌群を99%殺菌するのに要する時間との関係を示すものである。図5において、次亜塩素酸(HCLO)を主成分とする微酸性電解水は有効塩素濃度0.1mg/Lにおいて1.5分で99%の殺菌を達成し、その殺菌力を回復できる。しかしながら、次亜塩素酸イオン(CLO−)を主成分とする電解次亜水は有効塩素濃度0.1mg/Lにおいて99%の殺菌を達成するのに120分を要する。
設計条件として、風量:10,000m3/h、L/G:0.15、循環水量30L/分、有効塩素濃度0.1mg/Lとする。
本実施の形態では、中継槽566の微酸性電解水を中継ポンプ569で循環槽54に供給する例を説明したが、図2に示すように、中継槽566の水頭を利用して滴下用バルブ578で微酸性電解水の適量を循環槽54に滴下することも可能である。また、図3(a)に示すように、循環系55の循環ポンプ551の下流側に中継ポンプ569で微酸性電解水を注入して循環槽54に供給することも可能である。
また、図4に示すように、微酸性電解水をメディア503の上流側に直接に吹き込んで循環槽54に供給することも可能である。
循環槽54内を流れる殺菌剤溶液は下流側で希釈され、濃度が低くなった殺菌剤溶液が噴霧装置53から噴霧される。噴霧装置53から噴霧した噴霧水は、通気路52から降下あるいはメディア503を伝って再び循環槽54に流入する。
上記実施例では、希釈水系571は循環槽54に希釈水を供給する構成を示したが、循環槽54の殺菌剤溶液を噴霧装置53に供給する循環系循環系55に希釈水を供給する構成であってもよい。あるいは、薬剤供給装置56が供給する殺菌剤溶液の原液と希釈水系571が供給する稀釈水とを混合した後に、噴霧装置53とハウジング50の通気路52と循環槽54と循環系55とで形成される殺菌剤溶液の巡廻系に供給するように構成してあってもよい。
51 除菌対象空気
52 通気路
53 噴霧装置
54 循環槽
55 循環系
56 薬剤供給装置
501 プレフィルター
502 エリミネータ
503 メディア
504 ミストセパレータ
505 中性能フィルタ
531 噴霧ノズル
541 ストレーナ
542 一次領域
543 二次領域
544 排水バルブ
545 排水系
546 オーバーフロー管
551 循環ポンプ
561 生成装置
562 薬品搬入容器
563a 開閉バルブ
563 原料供給系
564 減圧弁
565 給水系
566 中継槽
567 供給ポンプ
568 薬剤供給系
569 中継ポンプ
570 中継系
571 希釈水系
572 希釈水制御バルブ
573 流量調整弁
574 希釈水初期給水系
575 初期給水制御バルブ
576 薬剤初期供給系
577 薬剤制御バルブ
Claims (7)
- 除菌対象空気が上流側から下流側に流れる通気路を有するハウジングと、前記通気路を流れる除菌対象空気に殺菌剤溶液を噴霧する噴霧装置と、前記通気路から降下する殺菌剤溶液を受け止める循環槽と、循環槽の殺菌剤溶液を噴霧装置に供給する循環系と、前記循環槽と前記循環系と前記噴霧装置と前記通気路とで形成される殺菌剤溶液の巡廻系に殺菌剤用液の原液として微酸性電解水を供給する薬剤供給装置と、殺菌剤溶液を希釈する希釈水を供給する希釈水系を備えることを特徴とする空気清浄装置。
- 殺菌剤溶液は、有効塩素濃度が0.1−10mg/Lであることを特徴とする請求項1に記載の空気清浄装置。
- 噴霧装置から噴霧された殺菌剤溶液が循環槽および循環系を通って噴霧装置に再帰するまでの循環時間は、殺菌剤溶液中に存在する次亜塩素酸で殺菌するのに要する必要接触時間を満たすことを特徴とする請求項1または2に記載の空気清浄装置。
- 殺菌剤溶液は、pH5−7.5であることを特徴とする請求項3に記載の空気清浄装置。
- 噴霧装置は、飽和効率80%以上を満たすように、通気路中の除菌対象空気に対して殺菌剤溶液を噴霧することを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の空気清浄装置。
- 通気路中に除菌対象空気の空気流を横切って配置され、噴霧装置から噴霧された殺菌剤溶液を受け止めるメディアを備え、噴霧装置は、通気路中の雰囲気において除菌対象空気の重量Gに対する殺菌剤溶液の重量Lの比L/Gが0.3以下を満たすように、通気路中の除菌対象空気に対して殺菌剤溶液を噴霧することを特徴とする請求項5に記載の空気清浄装置。
- 希釈水系は、循環槽または循環系に希釈水を供給し、薬剤供給装置は、循環槽内の殺菌剤溶液の流れ方向において希釈水の供給位置よりも上流側の位置に未使用領域を形成し、噴霧装置は希釈水で薄められて濃度の低くなった殺菌剤溶液を噴霧することを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の空気清浄装置。
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